JP7348580B2 - 半導体iq変調器 - Google Patents
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Description
本構成においては、差動駆動のドライバと集積することから、変調器自体も差動駆動をベースとした構成であることが望ましい。
図5、6、7に、本発明の第1の実施形態に係るIQ変調器に関するチップの、光導波路と電極のレイアウトの一例を示す。代表して図5を用いて説明する。
図5は本実施形態の偏波多重型のIQ変調器のチップレイアウトの基本形を示している。
小型化の観点からは、位相変調のための高周波線路は、SS差動結合線路をベースとしたデザインとすることが望ましい。
図8には、図5の偏波多重型のIQ光変調器800の、X偏波チャネル側のIQ変調器の各部電極の位置関係を説明する図を示す。図5の光導波路は省略しており、図8にはX偏波チャネル側の容量装荷型の2対の差動変調電極804XIa、804XIb、804XQa、804XQbと、親MZMのDC位相調整器808XI、808XQ、子MZMのDC位相調整器808XIa~808XQbのヒーター電極が示されており、電極の位置の距離関係(電極間の距離の制限)を示している。
高周波損失を考えると引出し線路部は極力短くする必要があるが、特に本光学レイアウト構成であれば引出線の長さは短くすることができる。
次にDC位相調整電極(DC位相調整器のヒーター電極、DC位相調整器はヒーターからの熱効果により位相調整する)の配置について説明する。
PADを減らすこともできるが、レイアウト例1、2と兼ねることを考えると残すこともできる。
具体的には、DC位相調整電極の電圧印加用PADは、半導体基板上に形成されたシリコン酸化膜(SiO2)やシリコン窒化膜(SiNやSiON)の直上に形成されていることが望ましい。
図15には、子MZのDC位相調整器808XIa、bのヒーター電極と、ヒーター電圧印加用PADを横断する断面の位置を示す平面図(a)と、その基板断面図(b)を示す。ヒーター電極808XIa、808XIbとヒーター電圧印加用のPAD1504をつなぐ配線1505は、半導体基板上1501に形成された少なくとも1層以上の誘電体材料(図15の基板断面図ではBCB層1503等で図示)の上に形成する。このようにすることで、DC位相調整電極と同一平面上にフラットに形成することができ、これにより導波路構造を跨ぐことができ、本レイアウトの実現が可能となる。
例えばIQ間の熱XT(クロストーク)があると、子MZの電極(XI)を調整した後、子電極(XQ)を調整中に、子MZ(XI)が熱XTにより最適値からずれると、位相状態の調整がうまく出来なくなる可能性がある。
(HB-CDM形態:ドライバIC集積)
次に本発明の第2の実施形態として、ドライバICと変調器チップを集積したHB-CDMの形態について説明する。
ドライバICと変調器を接続する場合には、ドライバICと変調器の高周波線路(少なくともドライバICと接続する高周波線路用PAD)のチャネルピッチを揃えておくことが必須である。
また本変調器の高周波線路はSS線路構成であるため、同相モードが変調器に入力された場合には伝搬することができず、同相モードは放射されてしまう。
図16、図17には、本発明の第3の実施形態として、偏波多重型のIQ変調器のチップ基板の、DC位相調整電極周りのPAD配置を示す図(図16、図17の下段)、PADから引き出すワイヤを中継する展開基板の図(図16、図17の中段)および変調器モジュールのパッケージテラスに配列されたパッケージPADのレイアウト図(図16、図17の上段)の例を2例示す。各図の3段の基板において、対応するPADはワイヤで接続されている。
Claims (8)
- 差動信号からなる高周波変調信号を伝送するための2つの信号線が結合した差動伝送線路を用いて構成された少なくとも2つ以上のマッハツェンダ変調器を含むIQ変調器であって、
前記差動伝送線路はSS線路構成を有し、前記SS線路構成は、直線で接続された引出し線路と、位相変調部と、終端抵抗とで構成されており、
前記位相変調部は、差動容量装荷型進行波電極構造の前記差動伝送線路を位相変調電極として構成されており、
隣接チャネル間の前記位相変調部の位相変調電極が、少なくとも400μm以上離れており、前記差動容量装荷型進行波電極構造の主信号線の間の距離が60μm以下であり、
Iチャネル側の前記位相変調部とQチャネル側の前記位相変調部との間に、前記マッハツェンダ変調器の動作点を調整するためのDC位相調整電極およびDC位相調整電極用のPADを有しており、
前記DC位相調整電極が、前記位相変調部の前記位相変調電極から少なくとも80μm以上離れており、隣接チャネル間の差動信号のNEAR-ENDおよびFAR-ENDクロストーク特性が必要な周波数帯域内において-30dB以下である
ことを特徴とする半導体IQ変調器。 - 前記2つ以上のマッハツェンダ変調器は、入れ子構造の親MZおよび2つの子MZを含み、
前記DC位相調整電極のうちの前記親MZ用の前記DC位相調整電極は、前記子MZ用のDC位相調整電極よりも前記主信号線から離れた位置に配置されており、
前記DC位相調整電極のうちの前記子MZ用のDC位相調整電極の電圧印加用PADは、前記2つの子MZ間に形成されており、
前記親MZ用のDC位相調整電極の電圧印加用PADは、
一部が前記2つの子MZ間に形成されており、
残りの一部が、前記子MZ用の前記DC位相調整電極よりも前記主信号線から離れた位置に配置されている
ことを特徴とする請求項1に記載の半導体IQ変調器。 - 偏波の異なるチャネルに対応した前記請求項1または2に記載の半導体IQ変調器を2つ備えた偏波多重型の半導体IQ変調器であって、
4つのマッハツェンダ変調器を構成する差動容量装荷型進行波電極構造で構成されているRF高周波線路が等ピッチで配置されており、前記2つの半導体IQ変調器が鏡対称で配置されており、隣り合う前記2つの半導体IQ変調器のRF線路間には、誘電体のみで形成された領域を有する
ことを特徴とする偏波多重型の半導体IQ変調器。 - 前記DC位相調整電極の電圧印加用PADは、半導体基板直上に形成されたシリコン酸化膜またはシリコン窒化膜の直上、若しくは、半導体基板上に積層された少なくとも1層以上の半導体層直上に形成されており、
前記DC位相調整電極のヒーター電極と前記電圧印加用PADとを接続する配線部は、
前記シリコン酸化膜または前記シリコン窒化膜、若しくは、前記少なくとも1層以上の半導体層以外に形成されており、または
少なくとも1層以上の誘電体材料上に形成されている、または、半絶縁性の半導体基板直上に形成されており、
前記電圧印加用PADが前記配線部に比べ基板側に作製されている
ことを特徴とする特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の半導体IQ変調器。 - 前記DC位相調整電極がヒーター電極であり、
前記ヒーター電極を形成する抵抗体の抵抗値が100ohm以上であり、
前記Iチャネルの前記ヒーター電極と前記Qチャネルの前記ヒーター電極との間の距離が少なくとも100μm以上離れており、
前記抵抗体がシリコン酸化膜またはシリコン窒化膜で覆われている
ことを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の半導体IQ変調器。 - 前記位相変調部がドライバICと接続されており、
前記DC位相調整電極がヒーター電極であり、
前記ドライバICを駆動するための電圧を印加する任意の固定電圧の電圧源は、前記位相変調部毎に1つのみのプッシュプル駆動を実現するように構成可能であり、前記ヒーター電極は前記電圧源に接続されており、
前記少なくとも2つ以上のマッハツェンダ変調器は、2つの子MZおよび親MZを有し、
(1)前記2つの子MZのうちの前記Iチャネル側の変調器および前記Qチャネル側の変調器がそれぞれ2つの子電極PADを有し、前記親MZが3つの親電極PADを有する、
(2)前記2つの子電極PADと前記親電極PADの合計が5つである、または
(3)前記2つの子MZがそれぞれ2つの子電極PADを有し、前記親MZが3つの親電極PADを有し、および前記電圧源は、展開基板の配線パターンにより,前記プッシュプル駆動を実現するように構成されるまたは前記位相変調部毎に1つまたは2つの位相調整用の電圧供給する個別駆動を実現するように構成される
ことを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載の半導体IQ変調器。 - 前記SS線路構成の前記主信号線は、GSSGまたはGSGSG構成のPADおよび高周波線路を有したオープンコレクタまたはオープンドレイン型のドライバICの対応する信号線とワイヤで接続されており、
前記ワイヤの上部を覆う形で、前記ドライバICの同一チャネル間のグラウンドPadが少なくとも1本のワイヤで結線されており、クロストーク特性が抑圧されている
ことを特徴とする請求項1から6のいずれか1項に記載の半導体IQ変調器。 - 請求項1から7のいずれか1項に記載の半導体IQ変調器が、リッドを有するパッケージ内に実装されて気密封止されている光モジュールであって、
前記半導体IQ変調器を気密封止する際の前記リッドの内側に放出されたノイズ信号が、前記主信号線に結合することを防ぎ、前記ノイズ信号を吸収するための広帯域な電波吸収体が形成されている
ことを特徴とする光モジュール。
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