JP7342757B2 - ヘテロ型単分散ポリエチレングリコール誘導体の製造方法 - Google Patents

ヘテロ型単分散ポリエチレングリコール誘導体の製造方法 Download PDF

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Description

本発明は、医薬用用途に用いられるヘテロ型単分散ポリエチレングリコールの製造方法に関するものである。
近年、医薬品分野においては、リンカーを介して薬剤と抗体とを結合させ、抗原提示細胞に薬物を能動的に運搬することが可能な抗体結合医薬（Antibody-Drug Conjugate：ADC）が実用化されて高い注目を集めている（Toxins、２０１１年、３月、p.８４８-８８３（非特許文献１）、J.Med.Chem.、２０１１年、５４、ｐ．３６０６-３６２３（非特許文献２）。
このADCのリンカー材料として利用が進められているものの１つが、ヘテロ型単分散ポリエチレングリコールである。ヘテロ型単分散ポリエチレングリコールは、両末端に互いに異なる官能基を有するヘテロ型ポリエチレングリコールを主成分として含有し、かつ分子量が一定である単分散ポリエチレングリコールである。
前記ADCでは、前記へテロ型単分散ポリエチレングリコールをリンカーとして、その各末端に抗体と薬剤とを区別して結合させるため、前記へテロ型単分散ポリエチレングリコール中に、両末端に互いに同じ官能基を有する化合物（ホモ型ポリエチレングリコール等）が不純物として存在すると、抗体が２つ結合した化合物または薬剤が２つ結合した化合物が生成する。抗体が２つ結合した化合物は薬剤が結合していないためにADCとしての効果が奏されず、薬剤が２つ結合した化合物は抗体が結合してないために抗原提示細胞以外の箇所に運搬されて副作用を引き起こす原因となる。また、目的の官能基を有するヘテロ型単分散ポリエチレングリコールと異なる組み合わせで官能基を有する他のヘテロ型化合物が不純物として含有する場合も、目的とする抗体または薬剤の一方が欠損した化合物が生成するため、上記と同様な問題が生じる。したがって、薬剤の使用、効果の観点から、前記へテロ型単分散ポリエチレングリコールとしては、両末端に互いに異なる官能基を有するヘテロ型単分散ポリエチレングリコールを１種のみ、高純度で含有することが重要である。
また、前記ADCの効果を向上させることを目的として、抗体に対して複数個の薬剤を結合させたADCを使用することが試みられている。このADCを製造する際は、通常、薬剤の結合個数を質量分析計やHPLCを用いて確認するため、リンカー材料として用いる前記へテロ型単分散ポリエチレングリコール中にエチレングリコール鎖長の異なる化合物が存在すると、その確認が困難になるという製造上の問題が生じる。その他にも前記エチレングリコール鎖長の異なる化合物が不純物として存在する場合、前記ADC製造時に添加する抗体や薬剤の当量が不明確になるために高価な抗体や薬剤を過剰に使用する必要が生じるという問題や、前記エチレングリコール鎖長の異なる化合物は医薬品申請の際に主の薬剤とは別の化合物として取り扱われるために、化合物の同定や各種試験の実施、許容量の評価等が更に必要になるという問題がある。従って、前記ヘテロ型単分散ポリエチレングリコールとしては、エチレングリコール鎖長が同じポリエチレングリコールを１種のみ、高純度で含有することが重要である。
このように、ADCのリンカー材料として用いるヘテロ型単分散ポリエチレングリコールとしては、主成分として両末端に互いに異なる官能基を有するヘテロ型ポリエチレングリコールであって、前記ヘテロ型ポリエチレングリコール間でエチレングリコール鎖長が同じである化合物を特に高純度で含有することが望まれていた。
前記官能基として、アミノ基およびカルボキシル基をそれぞれ末端に有するヘテロ型単分散ポリエチレングリコールは、前記ADCのリンカーとしてそのまま使用可能であり、さらにこれを原料として官能基変換して得られたヘテロ型単分散ポリエチレングリコールもADCのリンカーとして使用することが可能である。
前記へテロ型単分散ポリエチレングリコールを製造する上で、効率よく末端官能基化を行うことが必要である。末端官能基化工程として、特許文献１および特許文献２には、モノメトキシポリエチレングリコールの末端にカルボキシル基を導入する方法が開示されている。特許文献１では、モノメトキシポリエチレングリコールとアクリロニトリルとをマイケル付加反応させ、濃塩酸条件下でニトリルをアミドに変換し、水酸化カリウム水溶液条件下でアミドを加水分解することでカルボキシル基に変換している。しかし、このような強酸、強塩基条件下では、マイケル付加反応の逆反応によってカルボキシル基ではなく水酸基を有する化合物の生成やエチレングリコール鎖の切断によってエチレングリコール鎖長が短い化合物等の生成により、純度や収率が低下する。特許文献２では、モノメトキシポリエチレングリコールとtert-ブチルアクリレートとをマイケル付加反応させ、トリフルオロ酢酸条件下でカルボキシル基に変換している。しかし、同文献中に開示されている方法では、tert-ブチルアクリレートの導入率は70％以下と低く、末端が水酸基である化合物が残存する問題がある。
また、アミノ基を導入する方法として、特許文献３では、末端ビニル基を有するオクタエチレングリコール誘導体をオゾン酸化によりビニル基をアルデヒド基に変換し、塩化アンモニウム溶液中でシアノホウ素化ナトリウムによる還元的アミノ化反応によりアミノ基に変換している。しかし、オゾン酸化による爆発性のある過酸化物の生成やシアノホウ素化ナトリウムの毒性の観点から、工業的な生産には課題がある。また、特許文献４では、オクタエチレングリコール誘導体の水酸基とトシルクロリドとを反応させトシル基を導入し、フタルイミドカリウムとを反応させてフタルイミド基に変換し、ヒドラジン一水和物を用いた脱保護反応によりアミノ基に変換している。このようなガブリエルアミン合成は一般的なアミノ基の変換方法であるが、アミノ基を導入するために、一度水酸基にトシル基などの脱離基を導入する工程が必要となる。このような反応工程では、未反応原料の残存や反応副生物の生成が避けられず、一般的に反応工程が多くなるほど、目的の化合物の収率が低下する。
また、非特許文献３では、エチレングリコール鎖長が８の片末端４，４’－ジメトキシトリチル基、他方の片末端が水酸基である、両末端が互いに異なる化合物を合成する方法が開示されている。前記合成経路の一部は次式：
DmtrO-(CH2CH2O)4-Ts + HO-(CH2CH2O)4-H
→ DmtrO-(CH2CH2O)8-H + DmtrO-(CH2CH2O)12-Dmtr
(式中、Dmtrは４，４’－ジメトキシトリチル基を示す)
で表され、片末端トシル体とテトラエチレングリコールとの１：１の反応により８量体の片末端Dmtr体が得られる際に、片末端トシル体とテトラエチレングリコールとの２：１の反応により１２量体の両末端Dmtr体が生成することが記載されている。
しかし、このような両末端にDｍｔｒ基を有する化合物を含む混合物を用いて両末端にそれぞれアミノ基とカルボキシル基とを有するヘテロ型ポリエチレングリコールを合成すると、両末端にアミノ基を有する化合物または両末端にカルボキシル基を有する化合物が不純物として生成する。そのため、このような不純物を含有するヘテロ型単分散ポリエチレングリコールをADCの製造に用いると、薬剤が２つ結合したまたは抗体が２つ結合した化合物が生成し、薬剤としての有効性が低下する原因になる。
また、両末端の官能基が互いに異なる前記へテロ型ポリエチレングリコール製造する方法として、特許文献３では、片末端がアミノ保護基を有するトリエチレングリコール誘導体と片末端がカルボキシル保護基を有するエチレングリコール誘導体とをカップリングし、片末端ごとに脱保護をし、アミノ基およびカルボキシル基をそれぞれ末端に有するヘテロ型単分散ポリエチレングリコールを得ることが記載されている。しかし、このような保護基を導入したポリエチレングリコール誘導体同士のカップリングにおいて、一方を過剰に使用するため、コストが増加する。
また、特許文献４では、容易に入手可能な市販のテトラエチレングリコールを出発物質として逐次合成によって、片末端に脱離基を有し、他方の片末端に水酸基を有するヘテロ型単分散ポリエチレングリコールを中間体にして、アミノ基およびカルボキシル基をそれぞれ末端に有するヘテロ型単分散ポリエチレングリコールを高純度に得る方法が記載されている。
しかし、この製法では目的のエチレングリコール鎖長まで逐次合成を繰り返した後に、片末端に保護基を有し、他方の片末端に水酸基を有するヘテロ型単分散ポリエチレングリコールから両末端保護基を有する単分散ポリエチレングリコール不純物を除去するために、水酸基をトシル基に一度変換している。前述のように、このような反応工程を追加するほど目的の化合物の収率が低下する。そのため工業的な生産には更なる改良の余地がある。
米国特許第５６７２６２２号明細書 特表２００７-５３８１１１号公報 国際特許９２０１４７４号公報 特開２０１７-１４３７１号公報
Toxins、２０１１年、３月、p.８４８-８８３ J.Med.Chem.、２０１１年、５４、ｐ．３６０６-３６２３ Polym. Chem.、２０１４年、５、ｐ．６９４-６９７
本発明の課題は、医薬用用途に用いられるヘテロ型単分散ポリエチレングリコール誘導体を工業的に収率良く製造できる製法を提供することにある。
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、下記の構成からなるヘテロ型単分散ポリエチレングリコール誘導体の製造方法を確立した。
即ち、本発明は以下の通りである。
（１） 式（１）で表されるヘテロ型単分散ポリエチレングリコールを製造する方法であって、下記工程（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）、（Ｅ）および（Ｆ）を有することを特徴とする、ヘテロ型単分散ポリエチレングリコールの製造方法。

Figure 0007342757000001

（式（１）中、aは６～１２の整数を示す）

工程（Ａ）： 式(２)の化合物と式(３)の化合物を式（Ｆ１）の条件を満たすように求核置換反応させ、式（４）の化合物を得る工程
Figure 0007342757000002

（式（２）中、bは３～９の整数を示す）
Figure 0007342757000003

（式(３）中、Lはメシル基またはトシル基を示し、R1はトリチル基またはベンジル基を示し、cは３～９の整数を示す）

６≦ｂ＋ｃ≦１２ （F１)

Figure 0007342757000004

（式（４）中、R1はトリチル基またはベンジル基を示し、aは６～１２の整数を示す）

工程（Ｂ）： 前記工程（Ａ）で得られた前記式（４）の化合物に式（５）の化合物を10℃以下の温度条件でマイケル付加反応させ、式（６）の化合物を得る工程
Figure 0007342757000005

（式（５）中、R2は炭素数１～６の炭化水素基を示す）

Figure 0007342757000006

（式（６）中、R1はトリチル基またはベンジル基を示し、R2は炭素数１～６の炭化水素基を示し、aは６～１２の整数を示す）

工程（Ｃ）： 前記工程（Ｂ）で得られた前記式（６）の化合物を脱トリチル化または脱ベンジル化し、式（７）の化合物を含む反応生成物を得る工程
Figure 0007342757000007

（式（７）中、R2は炭素数１～６の炭化水素基を示し、aは６～１２の整数を示す）

工程（Ｄ）： 前記工程（Ｃ）で得られた前記反応生成物から前記式（７）の化合物を精製する工程

工程（Ｅ）： 前記工程（Ｄ）で得られた前記式（７）の化合物とフタルイミドを反応させて脱フタルイミド化し、式（８）の化合物を得る工程
Figure 0007342757000008

（式（８）中、R2は炭素数１～６の炭化水素基を示し、aは６～１２の整数を示す）

工程（Ｆ）： 前記工程（Ｅ）で得られた前記式（８）の化合物を酸加水分解処理し、前記式（１）で表される化合物を得る工程。
（２） 前記工程（Ｄ）において、前記式（７）の化合物をジクロロメタンまたはクロロホルムを用いて精製することを特徴とする、（１）の方法。
（３） 前記工程（Ｄ）において、前記式（７）の化合物を水または無機塩の濃度が１０重量％以下である水溶液を用いて精製することを特徴とする、（１）または（２）の方法。
（４） 前記工程（Ｄ）が、１～２５℃の温度での洗浄工程を有することを特徴とする、（１）～（３）のいずれかの方法。
（５） 式（１）で表されるヘテロ型単分散ポリエチレングリコールを製造する方法であって、下記工程（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｅ）、（Ｆ）および（Ｇ）を有することを特徴とする、ヘテロ型単分散ポリエチレングリコールの製造方法。
Figure 0007342757000009

（式（１）中、aは１３～４０の整数を示す）

工程（Ａ）： 式(２)の化合物と式(３)の化合物を式（Ｆ１）の条件を満たすように求核置換反応させ、式（４）の化合物を得る工程
Figure 0007342757000010

（式（２）中、bは３～３７の整数を示す）

Figure 0007342757000011

（式(３）中、Lはメシル基またはトシル基を示し、R1はトリチル基またはベンジル基を示し、cは３～３７の整数を示す）

１３≦ｂ＋ｃ≦４０ （Ｆ１）

Figure 0007342757000012

（式（４）中、R1はトリチル基またはベンジル基を示し、aは１３～４０の整数を示す）

工程（Ｂ）： 前記工程（Ａ）で得られた前記式（４）の化合物に式（５）の化合物を１０℃以下の温度条件でマイケル付加反応させ、式（６）の化合物を得る工程
Figure 0007342757000013

（式（５）中、R2は炭素数１～６の炭化水素基を示す）

Figure 0007342757000014

（式（６）中、R1はトリチル基またはベンジル基を示し、R2は炭素数１～６の炭化水素基を示し、aは１３～４０の整数を示す）

工程（Ｃ）： 前記工程（Ｂ）で得られた化合物を脱トリチル化または脱ベンジル化し、式（７）の化合物を得る工程
Figure 0007342757000015

（式（７）中、R2は炭素数１～６の炭化水素基を示し、aは１３～４０の整数を示す）

工程（Ｅ）： 前記工程（Ｃ）で得られた前記式（７）の化合物とフタルイミドを反応させ、脱フタルイミド化し、式（８）で表される化合物を得る工程
Figure 0007342757000016

（式（８）中、R2は炭素数１～６の炭化水素基を示し、aは１３～４０の整数を示す）

工程（Ｆ）： 前記工程（Ｅ）で得られた前記式（８）の化合物を酸加水分解処理し、前記式（１）の化合物を含む反応生成物を得る工程

工程（Ｇ）： 前記工程（Ｆ）で得られた前記反応生成物から前記式（１）の化合物を精製する工程
（６） 前記工程（Ｇ）において、精製に使用する有機溶媒がジクロロメタンまたはクロロホルムであることを特徴とする、（５）の方法。
（７） 前記工程（Ｇ）において、精製に使用する水溶液がｐＨ８以上の塩基性水溶液であることを特徴とする、（５）または（６）の方法。
（８） 前記工程（Ｂ）において、前記式（５）の化合物のＲ２がイソプロピル基またはｔｅｒｔ－ブチル基であることを特徴とする、（１）～（７）のいずれかの方法。
（９） 前記工程（Ｂ）において、塩基として、フレーク状の水酸化カリウムまたはパウダー状の水酸化カリウムを用いることを特徴とする、（１）～（８）のいずれかの方法。
本発明は、両末端にそれぞれアミノ基およびカルボキシル基を有する高純度なヘテロ型単分散ポリエチレングリコールの新規な製造方法である。この製造方法では、工程中にカラムクロマトグラフィー等の精製方法を用いなくとも、簡便な分液抽出により、高純度なヘテロ型単分散ポリエチレングリコールを製造することができる。さらに、従来の鎖長延長工程で副生する鎖長の異なる特定分子量の両末端保護体不純物を精製するために、一度水酸基をトシル基に変換する工程を経ずに当該不純物を除去することが可能である。このように、従来よりも工程数が少ないことで、収率低下の原因となる未反応原料の残存や反応副生物の生成を抑制することが可能であるため、収率良く、両末端にそれぞれアミノ基およびカルボキシル基を有する高純度なヘテロ型単分散ポリエチレングリコールの工業的な製造方法として提供することが可能である。
本発明に係るヘテロ型単分散ポリエチレングリコール誘導体は、下式（１）で示される。「単分散ポリエチレングリコール」とは、特定のエチレングリコール鎖長を有する成分が９０％以上含まれる化合物のことである。
Figure 0007342757000017
本発明の式（１）におけるaは、エチレングリコールの繰り返し単位を表す６～１２または１３～４０の整数である。ADC用のリンカーとして使用する観点からは、aとしては６～１２または１３～２４の整数であることが好ましい。
両末端にそれぞれアミノ基およびカルボキシル基を有する高純度なヘテロ型単分散ポリエチレングリコール（１）は、以下のようにして製造できる。
（工程（Ａ））
本発明に係る工程（Ａ）は、下記式（２）：
HO-(CH2CH2O)b-H ・・・（２）
で表される化合物と下記式（３）：
R1O-(CH2CH2O)c-L ・・・（３）
で表される化合物を下記式（Ｆ１）：
６≦ｂ+ｃ≦１２または１３≦ｂ+ｃ≦４０・・・（F１）
で表される条件を満たすように求核置換反応させ、下記式（４）：
R1O-(CH2CH2O)a-H ・・・（４）
で表される化合物を得る工程である。
前記式（２）中におけるｂは、３～９または３～３７の整数を示し、好ましくは３～９または１０～２１の整数である。前記式（３）中におけるR1は、トリチル基またはベンジル基を示し、Lはメシル基またはトシル基を示し、ｃは３～９または３～３７の整数を示し、好ましくは３～９または１０～２１の整数である。また、前記式（２）中のｂおよび式（３）中のｃは、ｂ+ｃ＝６～１２または１３～４０であり、前記式（Ｆ１）で表される条件を満たし、好ましくは、ｂ+ｃ＝６～１２または１３～２４である。
前記式（２）で表される化合物および式（３）で表される化合物は、市販品を利用できる他、公知の合成方法により得ることができる。また、前記式（３）で表される化合物としては、本工程（Ａ）で得られる前記式（４）で表される化合物をメシル化またはトシル化した化合物を利用することで、エチレングリコール鎖長の長い、すなわち前記式（４）におけるaの値が大きい化合物を合成することが可能である。
前記式（２）で表される化合物と前記式（３）で表される化合物とを塩基存在下で求核置換反応させることで、前記式（４）で表される化合物を含む反応混合物を得ることができる。前記式（４）中、R１はトリチル基またはベンジル基を示し、aは６～１２または１３～４０の整数を示し、好ましくは６～１２または１３～２４の整数を示す。また、前記式（４）中のR1と前記式（３）中のR1は同一の置換基を示す。なお、前記反応混合物中には、下記式（９）：
R1O-(CH2CH2O)d-R1 ・・・（９）
で表される化合物を不純物として含有する。
前記式（９）におけるR１はトリチル基またはベンジル基を示し、dは３～８０の整数を示す。また、前記式（９）中のR1と前記式（３）中のR1は同一の置換基を示す。
前記求核置換反応は、溶媒中で反応を行うことができる。前記溶媒として、前記式（２）で表される化合物および前記式（３）で表される化合物と反応しない溶媒であれば特に制限はないが、具体的には、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、クロロホルムなどの非プロトン性極性溶媒、およびこれらの混合溶媒を用いることができ、好ましくはアセトニトリル、ジメチルホルムアミドである。前記溶媒の使用量としては、前記式（３）で表される化合物に対して、通常、重量比で1～１００倍、好ましくは２～５０倍、より好ましくは３～３０倍量である。前記溶媒量の使用量が前記下限値未満である場合には、前記式（２）で表される化合物の両末端に前記式（３）で表される化合物が結合した前記式（９）で表される化合物の生成量が多くなる傾向にあり、他方、前記上限を超える場合には、求核置換反応の進行が遅くなる傾向にある。
前記求核置換反応において、前記式（２）で表される化合物の使用量としては、前記式（３）で表される化合物に対して、通常、モル比で１．１～５０倍、好ましくは５．０～３０倍、より好ましくは５．０～２０倍である。前記式（２）で表される化合物の使用量が前記未満である場合には、前記式（２）で表される化合物の両末端に前記式（３）で表される化合物が結合した、前記式（９）で表される化合物の生成量が多くなる傾向にあり、他方、前記上限を超える場合には、求核置換反応の進行が遅くなる傾向にある。
前記求核置換反応において、使用する塩基としては、反応が進行するものであれば特に制限はないが、具体的には、水素化ナトリウム、金属ナトリウム、カリウムｔert-ブトキシドであり、好ましくは水素化ナトリウム、金属ナトリウムである。前記塩基の使用量としては、前記式（３）で表される化合物に対して、通常、モル比で１．１～１０倍、好ましくは１．２～５倍量である。
反応温度としては、使用する溶媒等により異なるが、通常０～１００℃、好ましくは、５０～９０℃である。反応温度が前記下限未満である場合は、反応が遅くなる恐れがあり、他方、前記上限超過の場合は、過剰な温度によって副反応が進行する恐れがある。また、反応時間としては、前記反応温度等の条件により異なるが、通常０．２～４８時間、好ましくは２～２４時間である。反応時間が短いと反応が不十分となる。
工程（Ａ）においては、このような求核置換反応により、前記式（４）で表される化合物および前記式（９）で表される化合物を含有する反応混合物は、そのまま未精製で次の工程（Ｂ）に用いてもよく、シリカゲルカラムクロマトグラフィーや分液抽出処理および吸着処理等によって前記式（４）で表される化合物を精製してから使用してもよい。前記式（９）で表される化合物は、次の工程（B）における反応において反応性がなく、また、後述する工程で精製除去が可能であるため、未精製で用いることができる。
（工程（Ｂ））
本発明に係る工程（Ｂ）は、前記式（４）で表される化合物に、下記式（５）：
Figure 0007342757000018

で表される化合物を１０℃以下の温度条件でマイケル付加させ、下記式（６）：
Figure 0007342757000019

で表される化合物を得る工程である。
前記式（５）におけるR２は炭素数１～６の炭化水素基を示す。前記炭素数１～６の炭化水素基としては、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、tert-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基が挙げられる。塩基性条件下での安定性から、R2としてはイソプロピル基またはtert-ブチル基が好ましい。さらにより好ましくは、後述する精製工程の効率を上げる観点から、R2としてはtert-ブチル基である。
また、前記式（６）中、R１はトリチル基またはベンジル基を示し、R２は炭素数１～６の炭化水素基を示し、aは６～１２または１３～４０の整数を示し、好ましくは６～１２または１３～２４の整数を示す。前記式（６）中のR1と前記式（４）中のR1は同一の置換基であり、前記式（６）中のR2と前記式（５）中のR2は同一の置換基である。
前記マイケル付加反応は、溶媒中で反応を行うことができる。前記溶媒として、前記式（４）で表される化合物および前記式（５）で表される化合物と反応しない溶媒であれば特に制限はないが、具体的には、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、ジクロロメタン、クロロホルム、トルエンなどの有機溶媒、およびこれらの混合溶媒を用いることができ、好ましくはジクロロメタン、クロロホルムである。前記溶媒の使用量としては、前記式（４）で表される化合物に対して、通常、重量比で1～１００倍、好ましくは３～５０倍、より好ましくは５～３０倍量である。前記溶媒量の使用量が前記下限値未満である場合には、前記式（６）で表される化合物に前記式（５）で表される化合物が更にマイケル付加反応した化合物が生成するといった過剰反応が生じる恐れがあり、他方、前記上限を超える場合には、マイケル付加反応の進行が遅くなる傾向にある。
前記マイケル付加反応において、前記式（５）で表される化合物の使用量としては、前記式（４）で表される化合物に対して、通常、モル比で１～５０倍、好ましくは１．５～２５倍である。前記式（５）で表される化合物の使用量が前記下限値未満である場合には、マイケル付加反応が完結しない可能性があり、他方、前記上限を超える場合には、前記式（５）で表される化合物の重合体が生成するといった副反応が生じる恐れがある。
前記マイケル付加反応において、使用する塩基としては、反応が進行するものであれば特に制限はないが、具体的には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの無機触媒であり、好ましくは水酸化カリウム、反応性の観点から、より好ましくはフレーク状の水酸化カリウムまたはパウダー状の水酸化カリウムである。前記塩基触媒の使用量としては、前記式（４）で表される化合物に対して、通常、モル比で０．１～１０倍、好ましくは０．1～５倍量である。
反応温度としては、通常、１０℃以下、好ましくは５℃以下である。反応温度が前記上限超過の場合は、前記式（６）で表される化合物に前記式（５）で表される化合物が更にマイケル付加反応した化合物が生成するといった過剰反応が生じる恐れがある。また、反応時間としては、前記反応温度、前記塩基触媒等の条件により異なるが、通常０．２～１２時間、好ましくは０．５～６時間である。
工程（Ｂ）において、このようなマイケル付加反応により得られた前記式（６）で表される化合物および工程（Ａ）で生成した前記式（９）で表される化合物を含有する反応混合物は、そのまま未精製で次の工程（Ｃ）に用いてもよく、シリカゲルカラムクロマトグラフィーや分液抽出処理および吸着処理等によって前記式（６）で表される化合物を精製してから使用してもよいが、本発明においては、後述する工程で精製が可能であるため、未精製で使用することができる。
（工程（Ｃ））
本発明に係る工程（Ｃ）は、前記式（６）で表される化合物を脱トリチル化または脱ベンジル化し、下記式（７）：
Figure 0007342757000020

で表される化合物を得る工程である。
前記式（６）中における、R１がトリチル基である場合には脱トリチル化を、R1がベンジル基である場合には脱ベンジル化をすることにより、前記式（７）で表される化合物を含む反応生成物を得ることができる。なお、前記反応生成物中には、工程（Ａ）で生成した前記式（９）で表される化合物が脱トリチル化または脱ベンジル化された、下記式（１０）：
HO-(CH2CH2O)d-H ・・・（１０）
で表される化合物を不純物として含有する。前記式（１０）中、dは３～８０の整数を示す。
前記脱トリチル化および脱ベンジル化の方法としては、公知の方法が利用可能であり、例えば、GREENE WUTS著、Protective Groups in Organic
Synthesisに記載されている方法が有効である。また、前記式（６）および（９）中のR１がトリチル基である場合は、酸性条件下での変換反応、接触水素添加などにより脱トリチル化させることが可能である。前記酸性条件下での変換反応としては、目的の化合物（７）を分解しない酸性条件下であれば問題ないが、具体的にはメタノール溶媒中、触媒量のp-トルエンスルホン酸・１水和物を添加することで脱トリチル化反応を行う方法がある。
また、前記接触水素添加による方法としては、メタノール溶媒中、水素雰囲気下、触媒量のパラジウム／炭素を加えて脱ベンジル化反応を行う方法がある。他方、前記式（６）および（９）中のR2がベンジル基である場合は、接触水素添加により脱ベンジル化させることが可能であり、具体的には、メタノール溶媒中、水素雰囲気下、触媒量のパラジウム／炭素に加えることで脱ベンジル化させることができる。
工程（Ｃ）において、このような脱トリチル化または脱ベンジル化により、前記式（７）で表される化合物および前記式（１０）で表される化合物を含有する反応混合物を得ることができる。この反応混合物は、未精製のままで次の工程（Ｄ）に用いてもよく、シリカゲルカラムクロマトグラフィーや分液抽出処理および吸着処理等によって前記式（６）で表される化合物を精製してから使用してもよいが、本発明においては、後述する工程で精製が可能であるため、未精製で使用することができる。
（工程（Ｄ））
本発明に係る工程（Ｄ）は、前記工程（Ｃ）で得られた前記式（７）で表される、特にaが６～１２の整数である化合物を含有する反応混合物を精製する工程である。この精製工程は、前記工程（Ｃ）で不純物として生成した前記式（１０）で表される化合物を除去する工程であり、反応に使用する適正な試薬添加量の決定や精製工程の煩雑化の抑制などの観点から、この工程（Ｄ）において、式（１０）で表される不純物化合物を除去することが工業的な製造方法としても好ましい。
前記工程（Ｃ）で不純物として生成した前記式（１０）で表される化合物は、両末端がどちらも水酸基であることから、前記式（７）で表されるaが６～１２の整数である化合物と比較して極性差が生じるため、シリカゲルクロマトグラフィーによる精製をしなくとも、簡便な分液抽出のみで、前記式（１０）の不純物を除去することができる。一方で、前記式（７）で表されるaが１３～４０の整数である化合物では前記式（１０）で表される化合物不純物との極性差が小さくなるため、除去効率が低下する。
工程（Ｄ）において、前記工程（Ｃ）で得られた反応生成物を有機溶媒に溶解させた後に、２５℃以下において水または水溶液で分液洗浄する工程である。前記有機溶媒としてはジクロロメタン、クロロホルム、トルエンがあり、好ましくは前記式（７）で表される化合物の溶解性の観点から、ジクロロメタン、クロロホルムである。前記有機溶媒の使用量としては、前記式（７）で表される化合物と前記式（１０）で表される化合物とを含む前記反応混合物に対して、通常、重量比で２～３０倍、好ましくは３～２０倍である。前記有機溶媒の使用量が前記下限未満である場合は、前記式（７）で表される化合物が水層に溶け込む恐れがあり、他方、前記上限超過の場合は、前記式（１０）で表される化合物が有機層に溶け込む恐れがあり、分液洗浄効率が低下する。
また、前記洗浄に使用する水または水溶液としては、前記式（１０）で表される化合物を溶解可能であれば特に制限はないが、具体的には、イオン交換水や蒸留水などの水、塩化ナトリウムおよび塩化カリウムなどの無機塩の水溶液がある。無機塩の濃度としては、無機塩が水溶液に溶解すれば特に限定されないが、好ましくは１０重量％以下、より好ましくは５重量％以下である。前記水溶液の無機塩の濃度が前記上限超過の場合は、前記式（１０）で表される化合物の洗浄効率が低下する。前記水または水溶液の使用量としては、前記式（７）で表される化合物と前記式（１０）で表される化合物とを含む前記反応混合物に対して、通常、重量比で２～３０倍、好ましくは３～２０倍である。前記水または水溶液の使用量が前記下限未満である場合は、前記式（１０）で表される化合物の洗浄効率が低下し、他方、前記上限超過の場合は、前記式（７）で表される化合物が水層に溶け込む恐れがあり、目的の化合物の収率が低下する。
工程（Ｄ）において、前記有機溶媒と前記水または水溶液との比率としては、通常、重量比で有機溶媒／水または水溶液の値が、０．２～３．５であり、好ましくは１．０～３．５である。
工程（Ｄ）において、洗浄温度としては、１～２５℃であり、好ましくは５～２０℃である。前記温度が前記下限未満である場合は、水または水溶液が固まり精製が困難になり、他方、前記温度が前記上限超過の場合には、前記式（１０）で表される化合物が有機層に溶解して除去することが困難になる傾向にある。また、前記分液洗浄を行う回数としては、特に限定はなく、TLCやMS測定などによって有機溶媒中に含まれる前記式（１０）で表される化合物を確認しながら複数回行うことが好ましい。
工程（Ｄ）において、このような簡便な分液抽出処理によって、工程（Ａ）～（Ｃ）で生成する不純物を除去することが可能であるため、各工程において、シリカゲルクロマトグラフィー等による精製が不要である。なお、得られた前記式（７）で表される化合物は、そのまま工程（Ｅ）に用いることが可能であり、さらに晶析、吸着剤処理、シリカゲルクロマトグラフィー等の処理により精製をして用いてもよい。
（工程（Ｅ））
本発明に係る工程（Ｅ）は、工程（Ｃ）または工程（Ｄ）で得られた前記式（７）で表される化合物の水酸基とフタルイミドを光延反応で結合させ、多価アミンで脱保護することで、下記式（８）：
Figure 0007342757000021

で表される化合物を得る工程である。
なお、工程（Ｄ）の精製工程を経ていない場合（式（７）のａが１３～４０の場合）、前記反応生成物中には、工程（Ｃ）で生成した前記式（１０）で表される化合物とフタルイミドが結合し、脱保護された、下記式（１１）：
H2N-(CH2CH2O)d-1-CH2CH2-NH2 ・・・（１１）
で表される化合物を不純物として含有する。前記式（１１）中、dは３～８０の整数を示す。
工程（Ｅ）のフタルイミドとの反応は、溶媒中で行うことができる。前記溶媒として、前記式（７）で表される化合物とフタルイミドと反応しない溶媒であれば特に制限はないが、具体的には、ジクロロメタン、クロロホルム、トルエンなどの有機溶媒、およびこれらの混合溶媒を用いることができ、好ましくはジクロロメタン、クロロホルムである。前記溶媒の使用量としては、前記式（７）で表される化合物に対して、通常、重量比で1～５０倍、好ましくは３～３０倍、より好ましくは５～２０倍量である。
工程（Ｅ）のフタルイミドとの反応において、フタルイミドの使用量としては、前記式（７）で表される化合物に対して、通常、モル比で１．０～１０倍、好ましくは１．３～５倍である。フタルイミドの使用量が前記下限値未満である場合には、反応が完結しない可能性があり、他方、前記上限を超える場合には、未反応のフタルイミドが残存するため、これを除去する工程が必要となり、収率が低下する。
工程（Ｅ）のフタルイミドとの反応において、使用するアゾ系試薬としては、１，１’-アゾビス（N ，N－ジメチルホルムアミド）、１，１’-（アゾジカルボニル）ジピペリジン、アゾジカルボン酸ジベンジル、アゾジカルボン酸ジエチル、アゾジカルボン酸ジイソプロピル、アゾジカルボン酸ジメチル、１，１’-アゾビス（N ，N－ジイソプロピルホルムアミド）、１，６-ジメチル－１，５，７－ヘキサヒドロ－１，４，６，７－テトラゾシン－２，５－ジオンなどが挙げられ、好ましくはアゾジカルボン酸ジエチル、アゾジカルボン酸ジイソプロピル、より好ましくはアゾジカルボン酸ジイソプロピルである。アゾ系試薬の使用量としては、前記式（７）で表される化合物に対して、通常、モル比で１．０～１０倍、好ましくは１．１～５倍である。また、使用するホスフィン系試薬としてはジシクロヘキシルフェニルホスフィン、ジエチルフェニルホスフィン、４－（ジメチルアミノ）フェニルジフェニルホスフィン、ジフェニル－２－ピリジルホスフィン、イソプロピルジフェニルホスフィン、トリイソブチルホスフィン、トリ－ｎ－ブチルホスフィン、トリ－ｔ－ブチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリ－ｎ－ヘキシルホスフィン、トリ－ｎ－オクチルホスフィン、トリフェニルホスフィンなどが挙げられ、好ましくはトリフェニルホスフィンである。ホスフィン系試薬の使用量としては、前記式（７）で表される化合物に対して、通常、モル比で１．０～１０倍、好ましくは１．３～５倍である。
また、反応温度としては、通常、０℃～１００℃、好ましくは１０℃～５０℃である。また、反応時間としては、通常、１０分～１２時間、好ましくは０．５～６時間である。
工程（Ｅ）の脱保護において、GREENE WUTS著、Protective Groups in Organic
Synthesisに記載されている方法であれば、特に制限はないが、多価アミンを用いることが好ましい。
工程（Ｅ）の脱保護においては、使用する溶媒としては、ジクロロメタン、クロロホルム、メタノール、エタノールなどが挙げられ、好ましくはメタノールである。前記溶媒の使用量としては、前記式（７）で表される化合物に対して、通常、重量比で1～５０倍、好ましくは２～３０倍、より好ましくは３～２０倍量である。
工程（Ｅ）の脱保護においては、使用する多価アミンとしては、ヒドラジン・１水和物、エチレンジアミン、エチレンジアミン・１水和物がある。多価アミンの使用量としては、前記式（７）で表される化合物に対して、通常、モル比で１～５０倍、好ましくは５～３０倍である。多価アミンの使用量が前記下限値未満である場合には、脱保護反応が不十分となる。また、反応温度としては、通常、１０℃～８０℃、好ましくは２０℃～６０℃である。また、反応時間としては、通常、０．５～２４時間、好ましくは１．０～１２時間である。
工程（Ｅ）において、このような光延反応および脱保護により得られた前記式（８）で表される化合物および前記式（１１）で表される化合物を含有する反応混合物は、そのまま未精製で次の工程（Ｆ）に用いてもよく、シリカゲルカラムクロマトグラフィーや分液抽出処理および吸着処理等によって前記式（８）で表される化合物を精製してから使用してもよいが、本発明においては、後述する工程で精製が可能であるため、未精製で使用することができる。
（工程（Ｆ））
本発明に係る工程（Ｆ）は、工程（Ｅ）で得られた前記式（８）で表される反応生成物に酸加水分解処理を行い、前記式（１）で表される化合物を含有する前記へテロ単分散ポリエチレングリコールを得る工程である。
前記加水分解処理は、溶媒中で反応を行うことができる。前記溶媒としては、水、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、クロロホルム、ジクロロメタン等の溶媒、およびこれらの混合溶媒である。好ましくは、水またはジクロロメタンである。前記溶媒量の使用量としては、前記式（８）で表される化合物に対して、通常、重量比で０．５倍～５０倍、好ましくは０．８倍～４０倍、より好ましくは１～３０倍量である。前記溶媒の使用量が前記下限未満である場合は反応溶液の粘度が高くなって、撹拌効率が低下し反応が完了しない恐れがあり、他方、前記上限超過の場合は、反応の進行が遅くなる傾向にある。
前記加水分解においては、酸触媒を用いる。前記酸触媒としては、反応が進行すれば特に制限はなく、具体的には、塩酸、リン酸、トリフルオロ酢酸等である。副反応を抑制する観点から、好ましくは塩酸が好ましい。前記酸触媒の使用量としては、使用する酸触媒の種類により異なるが、具体的には、1M塩酸を使用する場合、前記式（８）で表される化合物に対して、通常、重量比で０．５～１０倍量である。
前記酸加水分解の反応温度としては、使用する酸触媒により異なるが、通常１０～１００℃である。また、前記酸加水分解の反応時間としては、反応温度等の条件により異なるが、通常０．５～１２時間程度である。
工程（Ｆ）において、このような酸加水分解処理、前記式（１）で表される化合物および前記式（１１）で表される化合物を含有する反応混合物を得ることができる。この反応混合物は、後述する工程で精製が可能であるため、未精製で使用することができる。
（工程（Ｇ））
本発明に係る工程（Ｇ）は、前記工程（Ｆ）で得られた前記式（１）で表される化合物を含有する反応混合物を精製する工程である。前記式（１）中のaが６～１２の整数である化合物は前記工程（Ｄ）に精製していれば、この工程（Ｇ）を必ずしも実施する必要はないが実施しても良い。しかし、工程（Ｇ）は、前記式（１）中のａが１３～４０の整数である化合物に対しては必要な精製工程である。
工程（Ｇ）において、前記工程（Ｆ）で得られた反応生成物を水溶液に溶解させた後に、３０℃以下において有機溶媒で分液洗浄する工程である。前記水溶液としてはpH８以上の塩基性水溶液であり、具体的には、pH９～１１に調整した水酸化ナトリウム水溶液や水酸化カリウム水溶液等が好ましい。前記塩基性水溶液の使用量としては、前記式（１）で表される化合物と前記式（１１）で表される化合物とを含む前記反応混合物に対して、通常、重量比で２～３０倍、好ましくは３～２０倍である。前記塩基性水溶液の使用量が前記下限未満である場合は、前記式（１）で表される化合物が有機溶媒中に溶け込む恐れがあり、他方、前記上限超過の場合は、分液洗浄効率が低下する恐れがある。
また、前記洗浄に使用する有機溶媒としては、前記式（１１）で表される不純物化合物を溶解可能であれば特に制限はないが、具体的には、酢酸エチル、トルエン、クロロホルム、ジクロロメタンであり、不純物の溶解性の観点からは、クロロホルム、ジクロロメタンが好ましい。前記有機溶媒の使用量としては、前記式（８）で表される化合物と前記式（１１）で表される化合物とを含む前記反応混合物に対して、通常、重量比で２～３０倍、好ましくは３～２０倍である。前記有機溶媒の使用量が前記下限未満である場合は、前記式（１１）で表される化合物の除去効率が低下し、他方、前記上限超過の場合は、前記式（１）で表される化合物が有機層に溶け込む恐れがあり、目的の化合物の収率が低下する。
工程（Ｇ）において、前記有機溶媒と前記塩基性水溶液との比率としては、通常、重量比で有機溶媒／塩基性水溶液の値が、０．２～３．０であり、好ましくは０．５～２．０である。前記分液洗浄を行う回数としては、特に限定はなく、TLCやMS測定などによって水溶液中に含まれる前記式（１１）で表される化合物を確認しながら複数回行うことが好ましい。
本発明により、工程中にカラムクロマトグラフィー等の精製方法を用いなくとも、簡便な分液抽出により、高純度なヘテロ型単分散ポリエチレングリコールを製造することができる。さらに、従来の鎖長延長工程で副生する鎖長の異なる特定分子量の両末端保護体不純物を精製するために、一度水酸基をトシル基に変換する工程を経ずに当該不純物を除去することが可能である。このように、従来よりも工程数が少ないことで、収率低下の原因となる未反応原料の残存や反応副生物の生成を抑制することが可能であるため、収率良く、両末端にそれぞれアミノ基およびカルボキシル基を有する高純度なヘテロ型単分散ポリエチレングリコールの工業的な製造方法として提供することが可能である。
以下に、実施例に挙げて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
本発明で得られる単分散ポリエチレングリコールの測定については、1Ｈ-ＮＭＲ分析では、日本電子データム（株）製JNM-ECP４００またはJNM-ECP６００を用いた。測定にはφ５mmチューブを用い、重水素化溶媒としてCDCl3またはCDOD3を使用し、内部標準物質としてテトラメチルシラン（ＴＭＳ）を使用した。
工程（Ａ）の製造方法にて得られた、aが８、１２の前記式（４）で表される化合物（Ｒ１がトリチル基）である片末端トリチル基単分散ポリエチレングリコールには、前記式（９）で表される化合物である両末端トリチル基単分散ポリエチレングリコール不純物が含まれ、含有量の正確な定量は困難であるが、片末端トリチル基単分散ポリエチレングリコールの水酸基を、塩化メタンスルホニルと反応させて、得られた化合物の1Ｈ-ＮＭＲ測定結果から、各段階で含まれる両末端トリチル基単分散ポリエチレングリコール不純物の含量を概算した。
なお各実施例の反応においては、片末端トリチル基単分散ポリエチレングリコールの正確なモル数が不明であるため、全量が片末端トリチル基単分散ポリエチレングリコールあると仮定し、試薬当量を算出した。
（実施例１）
式（１）中のaが８である化合物１０の合成
Figure 0007342757000022
（実施例１－１）
式（３）中のaが４であり、Ｒ １ がトリチル基であり、Ｌがメシル基である化合物４の合成
Figure 0007342757000023
温度計、窒素吹き込み管、撹拌機を付した反応器にテトラエチレングリコール１（３４１６ｇ、１７．６mol）、トルエン（３．７Ｌ）を加えて窒素雰囲気下で溶解させた後、１１０～１２０℃で、共沸脱水した。共沸脱水後に冷却し、トリエチルアミン（７３６ｍｌ、５．３mol）、DMAP（５４ｇ、０．４４mol）およびトリチルクロリド（ＴｒｔＣｌ、１２２６ｇ、４．４mol）を加え、室温で３時間撹拌した。３時間後、薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）を用いてＴｒｔＣｌの消失を確認し、5％リン酸二水素ナトリウム水溶液（６．１Ｌ）を加え、分液した。有機層を5％リン酸二水素ナトリウム水溶液（６．１Ｌ）で１回、飽和重曹水（６．１Ｌ）で１回、飽和食塩水（６．１Ｌ）で１回洗浄した。有機層に硫酸ナトリウムを加え脱水後、ろ過した。ろ液を減圧濃縮し、淡黄色透明液体の化合物２を含有する反応生成物を得た。また、ＴＬＣ分析および1Ｈ-ＮＭＲ測定結果により、得られた反応生成物には上記化合物３が含まれていることを確認した。

化合物２
1Ｈ-ＮＭＲ（CDCl3、内部標準ＴＭＳ）；δ(ppm)：
２．４ （１H, t, -C-（ＯCH2CH2）4-ＯH)、
３．２３ (２H, t, (C6H5)3C-OCH 2CH2-、化合物３由来を含む)、
３．４５-３．８５ (１４H, m, -OCH2CH 2-(OCH 2CH 2)3-OH、化合物３由来を含む)、
７．２１-７．４７ (１５H, m, (C6 H 5)3C-OCH2CH2-、化合物３由来を含む)
収量：１６８７ｇ
Figure 0007342757000024
次いで、温度計、窒素吹き込み管、撹拌機を付した反応容器に化合物２を含有する反応生成物（化合物２：１６７２ｇ、３．８３mol未満）、トルエン（８．４Ｌ）を加えて窒素雰囲気下で溶解させた後、トリエチルアミン（６４３ｍｌ、４．６２mol）を加えた。１０℃で塩化メタンスルホニル（３２６ｍＬ、４．２２mol）を滴下し、室温で２時間撹拌した。２時間後、ＴＬＣ分析により化合物２の消失を確認し、5％リン酸二水素ナトリウム水溶液（８．４Ｌ）を加え、分液した。有機層を5％リン酸二水素ナトリウム水溶液（８．４Ｌ）で１回、飽和重曹水（８．４Ｌ）で２回、飽和食塩水（８．４Ｌ）で１回洗浄した。有機層に硫酸ナトリウムを加え脱水後、ろ過した。ろ液を減圧濃縮し、淡黄色透明液体の化合物４を含有する反応生成物を得た。また、ＴＬＣ分析および1Ｈ-ＮＭＲ測定結果により、得られた反応生成物には上記化合物３が含まれていることを確認した。

化合物４
1Ｈ-ＮＭＲ（CDCl3、内部標準ＴＭＳ）；δ(ppm)：
２．９８ （３H, s, -ＯCH2CH2-Ｏ-SO2CH 3)、
３．２３ (２H, t, (C6H5)3C-OCH 2CH2-、化合物３由来を含む)、
３．４５-３．８５ (１２H, m, -OCH2CH 2-(OCH 2CH 2)2-OCH 2CH2-、化合物３由来を含む)、
４．３３ （２H, t, -ＯCH2CH 2-Ｏ-SO2CH3)、
７．２１-７．４７ (１５H, m, (C6 H 5)3C-OCH2CH2-、化合物３由来を含む)
収量：１９４２ｇ
実施例１－１の化合物４の1Ｈ-ＮＭＲ測定結果から、化合物３は約6.2mol％含まれていることを確認した。
なお、δ３．２３ピークを基準とした場合の化合物３含有量算出式は下式で表される。
(((２-[δ４．３２])/４H)/( [δ４．３２]/２H))×１００ (mol％)
また、実施例１－１にて得られた反応生成物２には化合物３を約８．８wt％含有していることになる。
（実施例１－２、工程（Ａ））
式（４）中のaが８であり、Ｒ １ がトリチル基である化合物５の合成
Figure 0007342757000025
温度計、窒素吹き込み管、撹拌機を付した反応器に水素化ナトリウム（２１５ｇ）を入れ、窒素置換後、MeCN（３．９Ｌ）を加えて、0℃に冷却した。トルエン（１．８Ｌ）で共沸脱水したテトラエチレングリコール１（３６６０ｇ、１８．８mol）にMeCN（２．１Ｌ）を混合して、この混合溶液を２時間かけて滴下した。滴下終了後、化合物４を含有する反応生成物（化合物４：１９４２ｇ、３．７７mol未満）にMeCN（２．１Ｌ）を混合し、この混合溶液を２０分かけて滴下した。滴下終了後、反応混合液を７５℃に昇温し、３時間撹拌した。３時間後ＴＬＣを用いて化合物４が消失したことを確認し、４０℃以下になるまで放冷した。反応混合溶液に飽和塩化アンモニウム水溶液（３．９Ｌ）、ヘキサン（３Ｌ）を加えて分液した。ヘキサン層（上層）を除去した下層を減圧濃縮し、残渣にトルエン（９．７Ｌ）を加えた。このトルエン溶液を飽和塩化アンモニウム水溶液（５．８Ｌ）で１回、飽和食塩水（９．７Ｌ）で３回洗浄した。有機層に硫酸ナトリウムを加え脱水後、ろ過した。ろ液を減圧濃縮し、淡黄色透明液体の化合物５を含有する反応生成物を得た。また、ＴＬＣ分析および1Ｈ-ＮＭＲ測定結果により、得られた反応生成物には上記化合物３、６が含まれていることを確認した。

化合物４
1Ｈ-ＮＭＲ（CDCl3、内部標準ＴＭＳ）；δ(ppm)：
２．５２ （１H, t, -C-（ＯCH2CH2）8-ＯH)、
３．２３ (２H, t, (C6H5)3C-OCH 2CH2-、化合物３，６由来を含む)、
３．４５-３．８５ (３０H, m, -OCH2CH 2-(OCH 2CH 2)7-OH、化合物３，６由来を含む)、
７．２１-７．４７ (１５H, m, (C6 H 5)3C-OCH2CH2-、化合物３，６由来を含む)
収量：２１９５ｇ
（実施例１－３、工程（Ｂ））
式（６）中のaが８であり、Ｒ １ がトリチル基であり、Ｒ ２ がtert-ブチル基である化合物７の合成
Figure 0007342757000026
温度計、窒素吹き込み管、撹拌機を付した反応容器に化合物５を含有する反応生成物（化合物５：２１９０ｇ、３．５８mol未満）、ジクロロメタン（１１Ｌ）を加えて窒素雰囲気下で溶解させた後、パウダー状の水酸化カリウム（２１ｇ、０．３７mol）を加えた。５℃まで冷却した後、アクリル酸tert-ブチル（式（５）のＲ２がtert-ブチル基である化合物、７８０mL、5.38mol）を滴下し、５℃で1時間反応させた。反応後、飽和塩化アンモニウム水溶液（４．０Ｌ）を加え、分液した。有機層を飽和食塩水（５．５Ｌ）で１回洗浄した。有機層を減圧濃縮し、淡黄色透明液体の化合物４を含有する反応生成物を得た。また、ＴＬＣ分析および1Ｈ-ＮＭＲ測定結果により、得られた反応生成物には上記化合物３、６が含まれていることを確認した。

化合物７
1Ｈ-ＮＭＲ（CDCl3、内部標準ＴＭＳ）；δ(ppm)：
１．４４ （９H, s, -CH2CH2-CＯＯ-C(CH 3)3)、
２．４９ (２H, t, -CH2CH 2-CＯＯ-C(CH3)3)、
3.23 (2H, t, (C6H5)3C-OCH 2CH2-、化合物３，６由来を含む)、
3.45-3.85 (32H, m, -OCH2CH 2-(OCH 2CH 2)7-OCH 2CH2-、化合物３，６由来を含む)、
7.21-7.47 (15H, m, (C6 H 5)3C-OCH2CH2-、化合物３，６由来を含む)
収量：2588ｇ (収率：９８％)
（実施例１－４、工程（Ｃ）、（Ｄ））
式（７）中のaが８であり、Ｒ ２ がtert-ブチル基である化合物８の合成
Figure 0007342757000027
温度計、窒素吹き込み管、撹拌機を付した反応容器に化合物７を含有する反応生成物（化合物７：２５８８ｇ、３．４９mol未満）、メタノール（１２．９Ｌ）を加えて窒素雰囲気下で溶解させた後、p-トルエンスルホン酸・1水和物（３３８ｇ、1．７８mol）、ヘキサン（１０Ｌ）を加えた。室温で３０分撹拌した後、ヘキサン層を除去し、再度ヘキサン（６．５Ｌ）を加えて３０分撹拌した。同様の操作を５回行った後、1Ｈ-ＮＭＲ測定の結果、化合物７および３、６の消失を確認し、飽和重曹水（５.２Ｌ）を加えた。この混合溶液をヘキサン（６．５Ｌ）で１回洗浄し、トリチルメチルエーテルを除去した。メタノール溶液を減圧濃縮し、化合物８を含む粗生成物を得た。ＴＬＣ分析および1Ｈ-ＮＭＲ測定結果により、得られた粗生成物には上記化合物１、９が含まれていることを確認した。
次いで、上記粗生成物にジクロロメタン（１２．９Ｌ）を加え、１０℃の条件下、イオン交換水（１２．９Ｌ）で３回、飽和食塩水（１２．９Ｌ）で１回洗浄し、TLC分析により、化合物１および９の消失を確認した。有機層に硫酸マグネシウムを加え脱水後、ろ過した。ろ液を減圧濃縮し、淡黄色透明液体の化合物８を含有する精製物を得た。

化合物８
1Ｈ-ＮＭＲ（CDCl3、内部標準ＴＭＳ）；δ(ppm)：
１．４４ （９H, s, -CH2CH2-CＯＯ-C(CH 3)3)、
２．５０ (２H, t, -CH2CH 2-CＯＯ-C(CH3)3)、
２．６ （１H, t, H-（ＯCH2CH2）8-ＯCH2CH2-)、
３．４５-３．８５ (３４H, m, H-(OCH 2CH 2)8-OCH 2CH2-)
収量：１２２９ｇ （収率：７１％）
（実施例１－５、工程（Ｅ））
式（８）中のaが８であり、Ｒ ２ がtert-ブチル基である化合物９の合成
Figure 0007342757000028
温度計、窒素吹き込み管、撹拌機を付した反応容器に化合物８（１２２９ｇ、２．４６mol）、ジクロロメタン（４．９Ｌ）を加えて窒素雰囲気下で溶解させた後、フタルイミド（５０８ｇ、３．４５mol）、トリフェニルホスフィン（９０６ｇ、３．４５mol）を加えた。室温で３０分撹拌した後、ジクロロメタン（１．２Ｌ）で希釈したアゾジカルボン酸ジイソプロピル（５９９ｇ、２．９６mol）を滴下し、１時間撹拌した。１時間後、ＴＬＣにより化合物８の消失を確認し、減圧にて溶剤を留去し、メタノール（５．４Ｌ）、エチレンジアミン一水和物（２Ｌ、２４．７mol）を加え、４０℃で２時間反応した。これに６Ｎ塩酸水溶液を加え中和し、減圧にて溶媒を留去し、食塩、クロロホルム（６．１Ｌ）を加え抽出を行い、この抽出溶液に飽和食塩水（６．２Ｌ）を加えて２回洗浄した。この有機層に１％リン酸二水素ナトリウム水溶液（６．２Ｌ）を加えて３回抽出した。抽出した水溶液にクロロホルム（２．２Ｌ）とトルエン（４Ｌ）の混合溶媒を加えて７回洗浄した。これに５Ｎ水酸化ナトリウム水溶液を加え中和後、食塩を加え、ジクロロメタン（６．２Ｌ）で４回抽出を行った。有機層に硫酸ナトリウムを加え脱水後、ろ過した。ろ液を減圧濃縮し、淡黄色透明液体の化合物９を得た。

化合物９
1Ｈ-ＮＭＲ（CDCl3、内部標準ＴＭＳ）；δ(ppm)：
１．４４ （９H, s, -CH2CH2-CＯＯ-C(CH 3)3)、
２．５０ （２H, t, -CH2CH 2-CＯＯ-C(CH3)3)、
３．１ （２H, t, H2N-CH 2CH2O-(CH2CH2O)7-)、
３．４５-３．８５ (３２H, m, H2N-CH2CH 2O-(CH 2CH 2O)7-CH 2CH2-)
収量：１１４９ｇ （収率：９４％）
（実施例１－６、工程（Ｆ））
式（１）中のaが８であり、化合物１０の合成
Figure 0007342757000029
温度計、窒素吹き込み管、撹拌機を付した反応容器に化合物9（８５０ｇ、１．７１mol）、1Ｍ塩酸（４．２Ｌ）を加えて溶解させた後、５０～５５℃で１時間撹拌した。１５℃に冷却後、１０Ｍ水酸化ナトリウム水溶液で中和し、食塩、ジクロロメタン（４．３Ｌ）を加え洗浄した。さらに、この水層をジクロロメタン（４．３Ｌ）で２回洗浄し、６Ｍ塩酸にてpＨ２に調整し、減圧濃縮した。ジクロロメタン（２．６Ｌ）、エタノール（２．２Ｌ）を加え撹拌し、ろ過後、減圧濃縮した。次いで、ジクロロメタン（２．６Ｌ）を加えて減圧濃縮する操作を３回繰り返した後、ジクロロメタン（２．６Ｌ）を加えて溶解後、ろ過した。ろ液を減圧濃縮し、淡黄色透明液体の化合物１０を得た。

化合物１０
1Ｈ-ＮＭＲ（CD3OD、内部標準ＴＭＳ）；δ(ppm)：
２．５６ (２H, t, -CH2CH 2-CＯＯH)、
３．１７ （２H, t, H2N-CH 2CH2O-)、
３．６-３．９ (３２H, m, -CH2CH 2O-(CH 2CH 2O)7-CH 2CH2-)
収量：７１０ｇ （収率：８７％）
純度：９９．８％
(HPLC-RI)
純度測定に用いたHPLC測定条件を以下に示す。
装置：Waters社製のalliance
カラム：ジーエルサイエンス社製のInertsil ODS-３ （カラムサイズ：４．６mm×２５cm,粒子径５μm）
検出器：ＲＩ
展開溶媒：メタノール/５mM酢酸アンモニウム溶液 = １５/８５
流速：１．０mL/min
カラム温度：４０℃
サンプル濃度：１mg/mL
注入量：５０μL
（実施例２）
式（１）中のaが１２である化合物１８の合成
Figure 0007342757000030
（実施例２－１）
式（３）中のaが８であり、Ｒ １ がトリチル基であり、Ｌがメシル基である化合物１１の合成
Figure 0007342757000031
温度計、窒素吹き込み管、撹拌機を付した反応容器に化合物５を含有する反応生成物（化合物５：８４１ｇ、１．３７mol未満）、トルエン（４．２Ｌ）を加えて窒素雰囲気下で溶解させた後、トリエチルアミン（２６７ｍｌ、１．９２mol）を加えた。１０℃で塩化メタンスルホニル（１２８ｍＬ、１．６５mol）を滴下し、室温で２時間撹拌した。２時間後、ＴＬＣ分析により化合物５の消失を確認し、5％リン酸二水素ナトリウム水溶液（４．２Ｌ）を加え、分液した。有機層を5％リン酸二水素ナトリウム水溶液（４．２Ｌ）で１回、飽和重曹水（４．２Ｌ）で２回、飽和食塩水（４．２Ｌ）で１回洗浄した。有機層に硫酸ナトリウムを加え脱水後、ろ過した。ろ液を減圧濃縮し、淡黄色透明液体の化合物１１を含有する反応生成物を得た。また、ＴＬＣ分析および1Ｈ-ＮＭＲ測定結果により、得られた反応生成物には上記化合物３、６が含まれていることを確認した。

化合物１１
1Ｈ-ＮＭＲ（CDCl3、内部標準ＴＭＳ）；δ(ppm)：
３．０７ （３H, s, -ＯCH2CH2-Ｏ-SO2CH 3)、
３．２３ (２H, t, (C6H5)3C-OCH 2CH2-、化合物３，６由来を含む)、
３．４５-３．８５ (２８H, m, -OCH2CH 2-(OCH 2CH 2)6-OCH 2CH2-、化合物３，６由来を含む)、
４．３７ （２H, t, -ＯCH2CH 2-Ｏ-SO2CH3)、
７．２１-７．４７ (１５H, m, (C6 H 5)3C-OCH2CH2-、化合物３，６由来を含む)
収量：９４５ｇ
実施例２－１の化合物１１の1Ｈ-ＮＭＲ測定結果から、化合物３および６は約１１mol％（化合物３： ６mol％、化合物６： ５mol％、概算）含まれていることを確認した。
なお、δ３．２３ピークを基準とした場合の化合物３、６含有量算出式は下式で表される。
(((２-[δ４．３２])/４H)/([δ４．３２]/２H))×１００ (mol％)
化合物３の含有量は実施例１－１で算出した値を適用
また、実施例２－１で使用した反応生成物５には化合物３および６が約１２．６wt％含有していることになる。
（実施例２－２、工程（Ａ））
式（４）中のaが１２であり、Ｒ １ がトリチル基である化合物１２の合成
Figure 0007342757000032
温度計、窒素吹き込み管、撹拌機を付した反応器に水素化ナトリウム（７８ｇ）を入れ、窒素置換後、MeCN（１．９Ｌ）を加えて、０℃に冷却した。トルエン（６６０mＬ）で共沸脱水したテトラエチレングリコール１（１３２７ｇ、６．８３mol）にMeCN（９４０mＬ）を混合して、この混合溶液を２時間かけて滴下した。滴下終了後、化合物１１を含有する反応生成物（化合物１１：９４４ｇ、１．３７mol未満）にMeCN（９４０mＬ）を混合し、この混合溶液を２０分かけて滴下した。滴下終了後、反応混合液を７５℃に昇温し、３時間撹拌した。３時間後1H-NMRを用いて化合物１１が消失したことを確認し、４０℃以下になるまで放冷した。反応混合溶液に飽和塩化アンモニウム水溶液（１．９Ｌ）、ヘキサン（１．４Ｌ）を加えて分液した。ヘキサン層（上層）を除去した下層を減圧濃縮し、残渣にトルエン（４．７Ｌ）を加えた。このトルエン溶液を飽和塩化アンモニウム水溶液（２．８Ｌ）で１回、飽和食塩水（４．７Ｌ）で３回洗浄した。有機層に硫酸ナトリウムを加え脱水後、ろ過した。ろ液を減圧濃縮し、淡黄色透明液体の化合物１２を含有する反応生成物を得た。また、ＴＬＣ分析および1Ｈ-ＮＭＲ測定結果により、得られた反応生成物には上記化合物３、６、１３が含まれていることを確認した。

化合物１２
1Ｈ-ＮＭＲ（CDCl3、内部標準ＴＭＳ）；δ(ppm)：
２．５６ （１H, t, -C-（ＯCH2CH2）12-ＯH)、
３．２３ (２H, t, (C6H5)3C-OCH 2CH2-、化合物３，６，１３由来を含む)、
３．４５-３．８５ (４６H, m, -OCH2CH 2-(OCH 2CH 2)11-OH、化合物３，６，１３
由来を含む)、
７．２１-７．４７ (１５H, m, (C6 H 5)3C-OCH2CH2-、化合物３，６，１３由来を含む)
収量：１０２７ｇ
（実施例２－３、工程（Ｂ））
式（６）中のaが１２であり、Ｒ １ がトリチル基であり、Ｒ ２ がtert-ブチル基である化合物１４の合成
Figure 0007342757000033
温度計、窒素吹き込み管、撹拌機を付した反応容器に化合物１２を含有する反応生成物（化合物１２：２００ｇ、２５３mmol未満）、ジクロロメタン（１０００mＬ）を加えて窒素雰囲気下で溶解させた後、パウダー状の水酸化カリウム（１．４ｇ、２５mmol）を加えた。５℃まで冷却した後、アクリル酸tert-ブチル（式（５）のＲ２がtert-ブチル基である化合物、５５mL、３８０mmol）を滴下し、５℃で２時間反応させた。反応後、飽和塩化アンモニウム水溶液（４００mＬ）を加え、分液した。有機層を飽和食塩水（６００mＬ）で１回洗浄した。有機層を減圧濃縮し、淡黄色透明液体の化合物１４を含有する反応生成物を得た。また、ＴＬＣ分析および1Ｈ-ＮＭＲ測定結果により、得られた反応生成物には上記化合物３、６、１３が含まれていることを確認した。

化合物１４
1Ｈ-ＮＭＲ（CDCl3、内部標準ＴＭＳ）；δ(ppm)：
１．４４ （９H, s, -CH2CH2-CＯＯ-C(CH 3)3)、
２．４９ (２H, t, -CH2CH 2-CＯＯ-C(CH3)3)、
３．２３ (２H, t, (C6H5)3C-OCH 2CH2-、化合物３，６，１３由来を含む)、
３．４５-３．８５ (４８H, m, -OCH2CH 2-(OCH 2CH 2)11-OCH 2CH2-、化合物３，６，１３由来を含む)、
７．２１-７．４７ (１５H, m, (C6 H 5)3C-OCH2CH2-、化合物３，６，１３由来を含む)
収量：２２６ｇ （収率９７％）
（実施例２－４、工程（Ｃ）、（Ｄ））
式（７）中のaが１２であり、Ｒ ２ がtert-ブチル基である化合物１５の合成
Figure 0007342757000034
温度計、窒素吹き込み管、撹拌機を付した反応容器に化合物１４を含有する反応生成物（化合物１４：２２６ｇ、２４６mmol未満）、メタノール（１.１Ｌ）を加えて窒素雰囲気下で溶解させた後、p-トルエンスルホン酸・1水和物（２３ｇ、１２３mmol）、ヘキサン（９００mＬ）を加えた。室温で３０分撹拌した後、ヘキサン層を除去し、再度ヘキサン（５６５mＬ）を加えて３０分撹拌した。同様の操作を4回行った後、1Ｈ-ＮＭＲ測定の結果、化合物１４および３、６、１３の消失を確認し、飽和重曹水（４５２mＬ）を加えた。この混合溶液をヘキサン（５６５mＬ）で１回洗浄し、トリチルメチルエーテルを除去した。メタノール溶液を減圧濃縮し、化合物１５を含む粗生成物を得た。ＴＬＣ分析および1Ｈ-ＮＭＲ測定結果により、得られた粗生成物には上記化合物１、９、１６が含まれていることを確認した。
次いで、上記粗生成物にジクロロメタン（１．１Ｌ）を加え、１０℃の条件下、イオン交換水（１.１Ｌ）で３回、飽和食塩水（１.１Ｌ）で１回洗浄し、TLC分析により、化合物１、９、１３の消失を確認した。有機層に硫酸マグネシウムを加え脱水後、ろ過した。ろ液を減圧濃縮し、淡黄色透明液体の化合物１５を含有する精製物を得た。

化合物１５
1Ｈ-ＮＭＲ（CDCl3、内部標準ＴＭＳ）；δ(ppm)：
１．４４ （９H, s, -CH2CH2-CＯＯ-C(CH 3)3)、
２．５０ (２H, t, -CH2CH 2-CＯＯ-C(CH3)3)、
２．６ （１H, t, H-（ＯCH2CH2）12-ＯCH2CH2-)、
３．４５-３．８５ (５０H, m, H-(OCH 2CH 2)12-OCH 2CH2-)
収量：１１８ｇ （収率：７１％）
（実施例２－５、工程（Ｅ））
式（８）中のaが１２であり、Ｒ ２ がtert-ブチル基である化合物１７の合成
Figure 0007342757000035
温度計、窒素吹き込み管、撹拌機を付した反応容器に化合物１５（１１７ｇ、１７３mmol）、ジクロロメタン（４６９mＬ）を加えて窒素雰囲気下で溶解させた後、フタルイミド（３６ｇ、２４５mmol）、トリフェニルホスフィン（６４ｇ、２４４mmol）を加えた。室温で３０分撹拌した後、ジクロロメタン（１１８mＬ）で希釈したアゾジカルボン酸ジイソプロピル（４２ｇ、２０８mmol）を滴下し、１時間撹拌した。１時間後、ＴＬＣにより化合物１５の消失を確認し、減圧にて溶剤を留去し、メタノール（５１８mＬ）、エチレンジアミン一水和物（１４１mＬ、１．７３mol）を加え、４０℃で３時間反応した。これに６Ｎ塩酸水溶液を加え中和し、減圧にて溶媒を留去し、食塩、クロロホルム（５８５mＬ）を加え抽出を行い、この抽出溶液に飽和食塩水（５８５mＬ）を加えて２回洗浄した。この有機層に１％リン酸二水素ナトリウム水溶液（５８５mＬ）を加えて４回抽出した。抽出した水溶液にクロロホルム（２９３mＬ）とトルエン（２９３mＬ）の混合溶媒を加えて７回洗浄した。これに５Ｎ水酸化ナトリウム水溶液を加え中和後、食塩を加え、ジクロロメタン（５９０mＬ）で４回抽出を行った。有機層に硫酸ナトリウムを加え脱水後、ろ過した。ろ液を減圧濃縮し、淡黄色透明液体の化合物１７を得た。

化合物１７
1Ｈ-ＮＭＲ（CDCl3、内部標準ＴＭＳ）；δ(ppm)：
１．４４ （９H, s, -CH2CH2-CＯＯ-C(CH 3)3)、
２．５０ (２H, t, -CH2CH 2-CＯＯ-C(CH3)3)、
３．１ （２H, t, H2N-CH 2CH2O-(CH2CH2O)11-)、
３．４５-３．８５ (４８H, m, H2N-CH2CH 2O-(CH 2CH 2O)11-CH 2CH2-)
収量：１１３ｇ （収率：９７％）
（実施例２－６、工程（Ｆ））
式（１）中のaが１２であり、化合物１８の合成
Figure 0007342757000036
温度計、窒素吹き込み管、撹拌機を付した反応容器に化合物１７（５０ｇ、７４mmol）、１Ｍ塩酸（２５０mＬ）を加えて溶解させた後、５０～５５℃で１時間撹拌した。１５℃に冷却後、１０Ｍ水酸化ナトリウム水溶液で中和し、食塩、ジクロロメタン（２５０mＬ）を加え洗浄した。再度、水層をジクロロメタン（２５０mＬ）で１回洗浄し、６Ｍ塩酸にてpＨ２に調整し、ジクロロメタン（２５０mＬ）で４回抽出した。回収した有機層を混合し、硫酸ナトリウムで脱水後、ろ過した。ろ液を減圧濃縮し、淡黄色固体の化合物１８を得た。

化合物１８
1Ｈ-ＮＭＲ（CD3OD、内部標準ＴＭＳ）；δ(ppm)：
２．５６ (２H, t, -CH2CH 2-CＯＯH)、
３．１７ （２H, t, H2N-CH 2CH2O-)、
３．６-３．９ (４８H, m, -CH2CH 2O-(CH 2CH 2O)11-CH 2CH2-)
収量：４４ｇ （収率：９１％）
純度：９９．８％
(HPLC-RI)
純度測定に用いたHPLC測定条件を以下に示す。
装置：Waters社製のalliance
カラム：ジーエルサイエンス社製のInertsil ODS-３ （カラムサイズ：４．６mm×２５cm,粒子径５μm）
検出器：ＲＩ
展開溶媒：メタノール/５mM酢酸アンモニウム溶液 = ２７．５/７２．５
流速：１．０mL/min
カラム温度：４０℃
サンプル濃度：２mg/mL
注入量：５０μL
（実施例３）
式（１）中のaが２４である化合物４０の合成
Figure 0007342757000037
（実施例３－１）
式（３）中のaが１２であり、Ｒ １ がトリチル基であり、Ｌがメシル基である化合物１９の合成
Figure 0007342757000038
温度計、窒素吹き込み管、撹拌機を付した反応容器に化合物１２を含有する反応生成物（化合物１２：９０ｇ、０．１１mol未満）、トルエン（４５１mＬ）を加えて窒素雰囲気下で溶解させた後、トリエチルアミン（２９ｍｌ、０．２１mol）を加えた。１０℃で塩化メタンスルホニル（１４ｍＬ、０．１８mol）を滴下し、室温で２時間撹拌した。２時間後、ＴＬＣ分析により化合物１２の消失を確認し、5％リン酸二水素ナトリウム水溶液（４５０mＬ）を加え、分液した。有機層を5％リン酸二水素ナトリウム水溶液（４５０mＬ）で１回、飽和重曹水（４５０mＬ）で２回、飽和食塩水（４５０mＬ）で１回洗浄した。有機層に硫酸ナトリウムを加え脱水後、ろ過した。ろ液を減圧濃縮し、淡黄色透明液体の化合物１９を含有する反応生成物を得た。また、ＴＬＣ分析および1Ｈ-ＮＭＲ測定結果により、得られた反応生成物には上記化合物３、６、１３が含まれていることを確認した。

化合物１９
1Ｈ-ＮＭＲ（CDCl3、内部標準ＴＭＳ）；δ(ppm)：
３．０７ （３H, s, -ＯCH2CH2-Ｏ-SO2CH 3)、
３．２３ (２H, t, (C6H5)3C-OCH 2CH2-、化合物３，６，１３由来を含む)、
３．４５-３．８５ (４４H, m, -OCH2CH 2-(OCH 2CH 2)10-OCH 2CH2-、化合物３，６，１３由来を含む)、
４．３７ （２H, t, -ＯCH2CH 2-Ｏ-SO2CH3)、
７．２１-７．４７ (１５H, m, (C6 H 5)3C-OCH2CH2-、化合物３，６，１３由来を含む)
収量：９６ｇ
実施例3－1の化合物１９の1Ｈ-ＮＭＲ測定結果から、化合物３、６および１３は約１５mol％（化合物３： ６mol％、化合物６： ５mol％、化合物１３： ４mol％、概算）含まれていることを確認した。
なお、δ３．２３ピークを基準とした場合の化合物３、６および１３含有量算出式は下式で表される。
(((２-[δ４．３２])/４H)/([δ４．３２]/２H))×１００ (mol％)
化合物３、６の含有量は実施例１－１、２―１で算出した値を適用
また、実施例３－１で使用した反応生成物１２には化合物３、６および１３が約１５．９wt％含有していることになる。
（実施例３－２、工程（Ａ））
式（４）中のaが１６であり、Ｒ １ がトリチル基である化合物２０の合成
Figure 0007342757000039
温度計、窒素吹き込み管、撹拌機を付した反応器に水素化ナトリウム（６．３ｇ）を入れ、窒素置換後、MeCN（１９２mＬ）を加えて、０℃に冷却した。トルエン（５３mＬ）で共沸脱水したテトラエチレングリコール１（１０８ｇ、０．５６mol）にMeCN（９６mＬ）を混合して、この混合溶液を３０分かけて滴下した。滴下終了後、化合物１９を含有する反応生成物（化合物１９：９６ｇ、０．１１mol未満）にMeCN（９６mＬ）を混合し、この混合溶液を15分かけて滴下した。滴下終了後、反応混合液を７５℃に昇温し、３時間撹拌した。３時間後1H-NMRを用いて化合物１９が消失したことを確認し、４０℃以下になるまで放冷した。反応混合溶液に飽和塩化アンモニウム水溶液（１７０mＬ）、ヘキサン（１４６mＬ）を加えて分液した。ヘキサン層（上層）を除去した下層を減圧濃縮し、残渣にトルエン（４８１mＬ）を加えた。このトルエン溶液を飽和塩化アンモニウム水溶液（２６０mＬ）で１回、飽和食塩水（４８０mＬ）で３回洗浄した。有機層に硫酸ナトリウムを加え脱水後、ろ過した。ろ液を減圧濃縮し、淡黄色透明液体の化合物２０を含有する反応生成物を得た。また、ＴＬＣ分析および1Ｈ-ＮＭＲ測定結果により、得られた反応生成物には上記化合物３、６、１３および２１が含まれていることを確認した。

化合物２０
1Ｈ-ＮＭＲ（CDCl3、内部標準ＴＭＳ）；δ(ppm)：
２．７８ （１H, b, -C-（ＯCH2CH2）16-ＯH)、
３．２３ (２H, t, (C6H5)3C-OCH 2CH2-、化合物３，６，１３，２１由来を含む)、
３．４５-３．８５ （６２H, m, -OCH2CH 2-(OCH 2CH 2)15-OH、化合物３，６，１３，２１由来を含む)、
７．２１-７．４７ (１５H, m, (C6 H 5)3C-OCH2CH2-、化合物３，６，１３，２１由来を含む)
収量：１０３ｇ
（実施例３－３）
式（３）中のaが１６であり、Ｒ １ がトリチル基であり、Ｌがメシル基である化合物２２の合成
Figure 0007342757000040
温度計、窒素吹き込み管、撹拌機を付した反応容器に化合物２０を含有する反応生成物（化合物２０：１００ｇ、０．１０mol未満）、トルエン（５００mＬ）を加えて窒素雰囲気下で溶解させた後、トリエチルアミン（２０ｍｌ、０．１４mol）を加えた。１０℃で塩化メタンスルホニル（９．６ｍＬ、０．１２mol）を滴下し、室温で２時間撹拌した。２時間後、ＴＬＣ分析により化合物１４の消失を確認し、5％リン酸二水素ナトリウム水溶液（５００mＬ）を加え、分液した。有機層を5％リン酸二水素ナトリウム水溶液（５００mＬ）で１回、飽和重曹水（５００mＬ）で２回、飽和食塩水（５００mＬ）で１回洗浄した。有機層に硫酸ナトリウムを加え脱水後、ろ過した。ろ液を減圧濃縮し、淡黄色透明液体の化合物２２を含有する反応生成物を得た。また、ＴＬＣ分析および1Ｈ-ＮＭＲ測定結果により、得られた反応生成物には上記化合物３、６、１３および２１が含まれていることを確認した。

化合物２２
1Ｈ-ＮＭＲ（CDCl3、内部標準ＴＭＳ）；δ(ppm)：
３．０７ （３H, s, -ＯCH2CH2-Ｏ-SO2CH 3)、
３．２３ (２H, t, (C6H5)3C-OCH 2CH2-、化合物３，６，１３，２１由来を含む)、
３．４５-３．８５ (６０H, m, -OCH2CH 2-(OCH 2CH 2)14-OCH 2CH2-、化合物３，６，１３，２１由来を含む)、
4.3７ （2H, t, -ＯCH2CH 2-Ｏ-SO2CH3)、
７．２１-７．４７ (１５H, m, (C6 H 5)3C-OCH2CH2-、化合物３，６，１３，２１由来を含む)
収量：１０６ｇ
（実施例３－４、工程（Ａ））
式（４）中のaが２０であり、Ｒ １ がトリチル基である化合物２３の合成
Figure 0007342757000041
温度計、窒素吹き込み管、撹拌機を付した反応器に水素化ナトリウム（５．７ｇ）を入れ、窒素置換後、MeCN（２０８mＬ）を加えて、０℃に冷却した。トルエン（４８mＬ）で共沸脱水したテトラエチレングリコール１（９７ｇ、０．５０mol）にMeCN（１０５mＬ）を混合して、この混合溶液を３０分かけて滴下した。滴下終了後、化合物２２を含有する反応生成物（化合物２２：１０９ｇ、０．１０mol未満）にMeCN（１０５mＬ）を混合し、この混合溶液を１５分かけて滴下した。滴下終了後、反応混合液を７５℃に昇温し、３時間撹拌した。３時間後1H-NMRを用いて化合物２２が消失したことを確認し、４０℃以下になるまで放冷した。反応混合溶液に飽和塩化アンモニウム水溶液（１９０mＬ）、ヘキサン（１５９mＬ）を加えて分液した。ヘキサン層（上層）を除去した下層を減圧濃縮し、残渣にトルエン（５２４mＬ）を加えた。このトルエン溶液を飽和塩化アンモニウム水溶液（２８５mＬ）で１回、飽和食塩水（５２０mＬ）で３回洗浄した。有機層に硫酸ナトリウムを加え脱水後、ろ過した。ろ液を減圧濃縮し、淡黄色透明液体の化合物２３を含有する反応生成物を得た。また、ＴＬＣ分析および1Ｈ-ＮＭＲ測定結果により、得られた反応生成物には上記化合物３、６、１３、２１および２４が含まれていることを確認した。

化合物２２
1Ｈ-ＮＭＲ（CDCl3、内部標準ＴＭＳ）；δ(ppm)：
２．６４ （１H, b, -C-（ＯCH2CH2）20-ＯH)、
３．２３ (２H, t, (C6H5)3C-OCH 2CH2-、化合物３，６，１３，２１，２４由来を含む)、
３．４５-３．８５ （７８H, m, -OCH2CH 2-(OCH 2CH 2)19-OH、化合物３，６，１３，２１，２４由来を含む)、
７．２１-７．４７ (１５H, m, (C6 H 5)3C-OCH2CH2-、化合物３，６，１３，２１，２４由来を含む)
収量：１０９ｇ
（実施例３－５）
式（３）中のaが２０であり、Ｒ １ がトリチル基であり、Ｌがメシル基である化合物２５の合成
Figure 0007342757000042
温度計、窒素吹き込み管、撹拌機を付した反応容器に化合物２３を含有する反応生成物（化合物２３：１０７ｇ、０．０９４mol未満）、トルエン（５８５mＬ）を加えて窒素雰囲気下で溶解させた後、トリエチルアミン（１８ｍｌ、０．１３mol）を加えた。１０℃で塩化メタンスルホニル（８．７ｍＬ、０．１１mol）を滴下し、室温で２時間撹拌した。２時間後、ＴＬＣ分析により化合物１４の消失を確認し、5％リン酸二水素ナトリウム水溶液（５３５mＬ）を加え、分液した。有機層を5％リン酸二水素ナトリウム水溶液（５３５mＬ）で１回、飽和重曹水（５３５mＬ）で２回、飽和食塩水（５３５mＬ）で１回洗浄した。有機層に硫酸ナトリウムを加え脱水後、ろ過した。ろ液を減圧濃縮し、淡黄色透明液体の化合物２５を含有する反応生成物を得た。また、ＴＬＣ分析および1Ｈ-ＮＭＲ測定結果により、得られた反応生成物には上記化合物３、６、１３、２１および２４が含まれていることを確認した。

化合物２５
1Ｈ-ＮＭＲ（CDCl3、内部標準ＴＭＳ）；δ(ppm)：
３．０７ （３H, s, -ＯCH2CH2-Ｏ-SO2CH 3)、
３．２３ (２H, t, (C6H5)3C-OCH 2CH2-、化合物３，６，１３，２１，２４由来を含む)、
３．４５-３．８５ (７６H, m, -OCH2CH 2-(OCH 2CH 2)18-OCH 2CH2-、化合物３，６，１３，２１，２４由来を含む)、
４．３７ （２H, t, -ＯCH2CH 2-Ｏ-SO2CH3)、
７．２１-７．４７ (１５H, m, (C6 H 5)3C-OCH2CH2-、化合物３，６，１３，２１，２４由来を含む)
収量：１１３ｇ
（実施例３－６、工程（Ａ））
式（４）中のaが２４であり、Ｒ １ がトリチル基である化合物２６の合成
Figure 0007342757000043
温度計、窒素吹き込み管、撹拌機を付した反応器に水素化ナトリウム（5.２ｇ）を入れ、窒素置換後、MeCN（２２１mＬ）を加えて、０℃に冷却した。トルエン（４４mＬ）で共沸脱水したテトラエチレングリコール１（８８ｇ、０．４６mol）にMeCN（１１１mＬ）を混合して、この混合溶液を３０分かけて滴下した。滴下終了後、化合物２５を含有する反応生成物（化合物２５：11３ｇ、０．０９２mol未満）にMeCN（１１１mＬ）を混合し、この混合溶液を１５分かけて滴下した。滴下終了後、反応混合液を７５℃に昇温し、３時間撹拌した。３時間後1H-NMRを用いて化合物２５が消失したことを確認し、４０℃以下になるまで放冷した。反応混合溶液に飽和塩化アンモニウム水溶液（２００mＬ）、ヘキサン（１６８mＬ）を加えて分液した。ヘキサン層（上層）を除去した下層を減圧濃縮し、残渣にトルエン（５５６mＬ）を加えた。このトルエン溶液を飽和塩化アンモニウム水溶液（３００mＬ）で１回、飽和食塩水（５５５mＬ）で３回洗浄した。有機層に硫酸ナトリウムを加え脱水後、ろ過した。ろ液を減圧濃縮し、淡黄色透明液体の化合物２６を含有する反応生成物を得た。また、ＴＬＣ分析および1Ｈ-ＮＭＲ測定結果により、得られた反応生成物には上記化合物３、６、１３、２１、２４および２７が含まれていることを確認した。

化合物２６
1Ｈ-ＮＭＲ（CDCl3、内部標準ＴＭＳ）；δ(ppm)：
２．６６ （１H, b, -C-（ＯCH2CH2）24-ＯH)、
３．２３ (２H, t, (C6H5)3C-OCH 2CH2-、化合物３，６，１３，２１，２４，２７由来を含む)、
３．４５-３．８５ （９４H, m, -OCH2CH 2-(OCH 2CH 2)23-OH、化合物３，６，１３，２１，２４，２７由来を含む)、
７．２１-７．４７ (１５H, m, (C6 H 5)3C-OCH2CH2-、化合物３，６，１３，２１，２４，２７由来を含む)
収量：１１５ｇ
（実施例３-７、工程（Ｂ））
式（６）中のaが２４であり、Ｒ １ がトリチル基であり、Ｒ ２ がtert-ブチル基である化合物２８の合成
Figure 0007342757000044
温度計、窒素吹き込み管、撹拌機を付した反応容器に化合物２８を含有する反応生成物（化合物２８：５．０２ｇ、３．７９mmol未満）、ジクロロメタン（２５mＬ）を加えて窒素雰囲気下で溶解させた後、フレーク状の水酸化カリウム（１２８mｇ、２．２８mmol）を加えた。５℃まで冷却した後、アクリル酸tert-ブチル（式（５）のＲ２がtert-ブチル基である化合物、１．１mL、７．５８mmol）を滴下し、５℃で４時間反応させた。反応後、飽和塩化アンモニウム水溶液（１０mＬ）を加え、分液した。有機層を飽和食塩水（１５mＬ）で１回洗浄した。有機層を減圧濃縮し、淡黄色透明液体の化合物２８を含有する反応生成物を得た。また、ＴＬＣ分析および1Ｈ-ＮＭＲ測定結果により、得られた反応生成物には上記化合物３、６、１３、２１、２４および２７が含まれていることを確認した。

化合物28
1Ｈ-ＮＭＲ（CDCl3、内部標準ＴＭＳ）；δ(ppm)：
１．４４ （９H, s, -CH2CH2-CＯＯ-C(CH 3)3)、
２．４９ (２H, t, -CH2CH 2-CＯＯ-C(CH3)3)、
３．２３ (２H, t, (C6H5)3C-OCH 2CH2-、化合物３，６，１３，２１，２４，２７由来を含む)、
３．４５-３．８５ (９６H, m, -OCH2CH 2-(OCH 2CH 2)23-OCH 2CH2-、化合物３，６，１３，２１，２４，２７由来を含む)、
７．２１-７．４７ (１５H, m, (C6 H 5)3C-OCH2CH2-、化合物３，６，１３，２１，２４，２７由来を含む)
収量：５．３１ｇ
（実施例３-８、工程（Ｃ））
式（７）中のaが２４であり、Ｒ ２ がtert-ブチル基である化合物２９の合成
Figure 0007342757000045
温度計、窒素吹き込み管、撹拌機を付した反応容器に化合物２８を含有する反応生成物（化合物２８：５．０１ｇ、３．４６mmol未満）、メタノール（２５mＬ）を加えて窒素雰囲気下で溶解させた後、p-トルエンスルホン酸・１水和物（３２９mｇ、１．７２mmol）、ヘキサン（２０mＬ）を加えた。室温で３０分撹拌した後、ヘキサン層を除去し、再度ヘキサン（１３mＬ）を加えて３０分撹拌した。同様の操作を４回行った後、1Ｈ-ＮＭＲ測定の結果、化合物２８および３、６、１３、２１、２４および２７の消失を確認し、飽和重曹水（１１mＬ）を加えた。この混合溶液をヘキサン（１３mＬ）で１回洗浄し、トリチルメチルエーテルを除去した。メタノール溶液を減圧濃縮し、20％食塩水（10ｍＬ）、ジクロロメタン（１０mＬ）を加え、分液した。有機層に硫酸マグネシウムを加え脱水後、ろ過した。ろ液を減圧濃縮し、淡黄色透明液体の化合物２９を含有する反応生成物を得た。また、ＴＬＣ分析および1Ｈ-ＮＭＲ測定結果により、得られた反応生成物には上記化合物１、９、１６、３０、３１および３２が含まれていることを確認した。

化合物２９
1Ｈ-ＮＭＲ（CDCl3、内部標準ＴＭＳ）；δ(ppm)：
１．４４ （９H, s, -CH2CH2-CＯＯ-C(CH 3)3)、
２．５０ (２H, t, -CH2CH 2-CＯＯ-C(CH3)3)、
２．７ （１H, b, H-（ＯCH2CH2）24-ＯCH2CH2-)、
３．４５-３．８５ (９８H, m, H-(OCH 2CH 2)24-OCH 2CH2-、化合物１，９，１６，３０，３１，３２由来を含む)
収量：３．１３ｇ
（実施例３－９、工程（Ｅ））
式（８）中のaが２４であり、Ｒ ２ がtert-ブチル基である化合物３３の合成
Figure 0007342757000046
温度計、窒素吹き込み管、撹拌機を付した反応容器に化合物２９を含有する反応生成物（化合物２９：３．００ｇ、２．４９mmol未満）、ジクロロメタン（１２mＬ）を加えて窒素雰囲気下で溶解させた後、フタルイミド（６４１mｇ、４．３６mmol）、トリフェニルホスフィン（１．１４ｇ、４．３５mmol）を加えた。室温で３０分撹拌した後、ジクロロメタン（３mＬ）で希釈したアゾジカルボン酸ジイソプロピル（７５６mｇ、３．７４mmol）を滴下し、３時間撹拌した。3時間後、ＴＬＣ分析により化合物２９の消失を確認し、減圧にて溶剤を留去し、メタノール（１３mＬ）、エチレンジアミン一水和物（２mＬ、２４．８mol）を加え、４０℃で４時間反応した。これに６Ｎ塩酸水溶液を加え中和し、減圧にて溶媒を留去し、食塩、クロロホルム（１５mＬ）を加え抽出を行い、この抽出溶液に飽和食塩水（１５mＬ）を加えて２回洗浄した。この有機層に１％リン酸二水素ナトリウム水溶液（１５mＬ）を加えて４回抽出した。抽出した水溶液にクロロホルム（８mＬ）とトルエン（８mＬ）の混合溶媒を加えて７回洗浄した。これに５Ｎ水酸化ナトリウム水溶液を加え中和後、食塩を加え、ジクロロメタン（１５mＬ）で４回抽出を行った。有機層に硫酸ナトリウムを加え脱水後、ろ過した。ろ液を減圧濃縮し、淡黄色透明液体の化合物３３を含有する反応生成物を得た。また、ＴＬＣ分析および1Ｈ-ＮＭＲ測定結果により、得られた反応生成物には上記化合物34、35、36、37、38および39が含まれていることを確認した。

化合物33
1Ｈ-ＮＭＲ（CDCl3、内部標準ＴＭＳ）；δ(ppm)：
１．４４ （９H, s, -CH2CH2-CＯＯ-C(CH 3)3)、
２．５０ (２H, t, -CH2CH 2-CＯＯ-C(CH3)3)、
３．１ （２H, t, H2N-CH 2CH2O-(CH2CH2O)23-)、
３．４５-３．８５ (９６H, m, H2N-CH2CH 2O-(CH 2CH 2O)23-CH 2CH2-、化合物３４，３５，３６，３７，３８，３９由来を含む)
収量：２．４５ｇ
（実施例３―１０、工程（Ｆ）、（Ｇ））
式（１）中のaが２４であり、化合物４０の合成
Figure 0007342757000047
温度計、窒素吹き込み管、撹拌機を付した反応容器に化合物３３を含有する反応生成物（化合物３３：１．２２ｇ、１．００mmol未満）、1Ｍ塩酸（６mＬ）を加えて溶解させた後、５０～５５℃で２時間撹拌した。２時間後、TLCにより化合物３３の消失を確認した。室温まで冷却した。
次いで、反応溶液に１０Ｍ水酸化ナトリウム水溶液を加えてpH１０に調整して、ジクロロメタン（６mＬ）を加え２回洗浄した。６Ｍ塩酸にてpＨ２に調整し、食塩を添加後、ジクロロメタン（６mＬ）で３回抽出した。回収した有機層を混合し、硫酸ナトリウムで脱水後、ろ過した。ろ液を減圧濃縮し、淡黄色油状固体の化合物４０（１．１６ｇ）を得た。得られた化合物４０にテトラヒドロフラン（５ｍＬ）を加え溶解後、１０℃まで冷却し、１０℃に冷却したヘキサン（２４mL）を加えて、結晶化させた。結晶をろ取し、１０℃に冷却したヘキサン（１０mL）で結晶を洗浄した。結晶をろ取して真空下で乾燥して、白色粉末結晶の化合物４０を得た。

化合物４０
1Ｈ-ＮＭＲ（CD3OD、内部標準ＴＭＳ）；δ(ppm)：
２．５６ (２H, t, -CH2CH 2-CＯＯH)、
３．１７ （２H, t, H2N-CH 2CH2O-)、
３．６-３．９ (９６H, m, -CH2CH 2O-(CH 2CH 2O)23-CH 2CH2-)
収量：８９３mｇ
（実施例４）
実施例１-２で得られた化合物５を含有する反応生成物から、両末端がトリチル基である化合物の含有量を除いたときの、式（４）中のR1がトリチル基である化合物中のaが８である化合物５の含有量を算出するために、化合物４２の誘導化を実施した。
式（3）中のaが８であり、Ｒ １ がトリチル基であり、Lがトシル基である化合物４１の合成
Figure 0007342757000048
温度計、窒素吹き込み管、撹拌機を付した反応容器に化合物５を含有する反応生成物（化合物５：５ｇ、８.２mmol未満）、ジクロロメタン（２５mＬ）を加えて窒素雰囲気下で溶解させた後、トリエチルアミン（１．２mL、８．６mmol）、4-ジメチルアミノピリジン（１００mg、０．８２mmol）およびTsCl（１．４g、７．３mmol）を加え、室温で４時間撹拌した。４時間後、1H-NMR分析によりTsClの消失を確認し、１M塩酸水溶液（２５mＬ）を加え、分液した。有機層を1M塩酸水溶液（２５mＬ）で１回、飽和重曹水（２５mＬ）で２回、飽和食塩水（２５mＬ）で１回洗浄した。有機層に硫酸ナトリウムを加え脱水後、ろ過した。ろ液を減圧濃縮し、淡黄色透明液体の化合物４１を含有する反応生成物を得た。また、ＴＬＣ分析および1Ｈ-ＮＭＲ測定結果により、得られた反応生成物には上記化合物３、６が含まれていることを確認した。

化合物４１
1Ｈ-ＮＭＲ（CDCl3、内部標準ＴＭＳ）；δ(ppm)：
２．４５ （３H, s, -OSO2-Ph-CH 3)、
３．２３ (２H, t, (C6H5)3C-OCH 2CH2-、化合物３，６由来を含む)、
３．４５-３．８５ (２８H, m, -OCH2CH 2-(OCH 2CH 2)6-OCH 2CH2-、化合物３，６由来を含む)、
４．１６ (２H, t, -OCH2CH 2-OSO2-Ph-CH3)、
７．２１-７．４７ (１５H, m, (C6 H 5)3C-OCH2CH2-、化合物３，６由来を含む),
７．３５ (２H, d, -OSO2-Ph-CH3)、
７．８０ (２H, d, -OSO2-Ph-CH3)

収量：6.１ｇ
片末端水酸基、片末端トシル基を有するエチレングリコール鎖長が８ユニットの化合物４２の合成
Figure 0007342757000049
次いで、温度計、窒素吹き込み管、撹拌機を付した反応容器に化合物４２を含有する反応生成物（化合物４２：６．１ｇ、８．０mmol未満）、メタノール（２５mＬ）を加えて窒素雰囲気下で溶解させた後、p-トルエンスルホン酸・1水和物（０．７８ｇ、４．１mmol）、ヘキサン（20mＬ）を加えた。室温で３０分撹拌した後、ヘキサン層を除去し、再度ヘキサン（１３mＬ）を加えて３０分撹拌した。同様の操作を6回行った後、1Ｈ-ＮＭＲ測定の結果、化合物４２および３、６の消失を確認し、飽和重曹水（１０mＬ）を加えた。この混合溶液をヘキサン（１３mＬ）で２回洗浄し、トリチルメチルエーテルを除去した。メタノール溶液を減圧濃縮し、ジクロロメタン（２５mＬ）を加え抽出した。有機層に硫酸マグネシウムを加え脱水後、ろ過した。ろ液を減圧濃縮し、淡黄色透明液体の化合物４２を得た。

化合物４２
1Ｈ-ＮＭＲ（CDCl3、内部標準ＴＭＳ）；δ(ppm)：
２．４５ （３H, s, -OSO2-Ph-CH 3)、
２．７３ (１H, t, H-(OCH2CH2)8-)、
３．４５-３．８５ (３０H, m, -(OCH 2CH 2)7-OCH 2CH2-)、
４．１６ (２H, t, -(OCH2CH2)7-OCH2CH 2-OSO2-Ph-CH3),
７．３５ (２H, d, -OSO2-Ph-CH3)、
７．８０ (２H, d, -OSO2-Ph-CH3)

収量：３．０ｇ
純度：９９．７％ （HPLC-RI）
純度測定に用いたHPLC測定条件を以下に示す。
装置：Waters社製のalliance
カラム：ジーエルサイエンス社製のInertsil ODS-３ （カラムサイズ：４．６mm×２５cm,粒子径５μm）
検出器：ＲＩ
展開溶媒：メタノール/５mM酢酸アンモニウム溶液 = ５０/５０
流速：０．６mL/min
カラム温度：４０℃
サンプル濃度：０．２mg/mL
注入量：４０μL
純度の値は保持時間１０～４０minで検出される全ピーク面積に対する化合物４３のピーク面積の割合。
（実施例５）
実施例２-２で得られた化合物１２を含有する反応生成物から、両末端がトリチル基である化合物の含有量を除いたときの、式（４）中のR1がトリチル基である化合物中のaが１２である化合物１２の含有量を算出するために、化合物４４の誘導化を実施した。
式（3）中のaが１２であり、Ｒ １ がトリチル基であり、Lがトシル基である化合物４３の合成
Figure 0007342757000050
温度計、窒素吹き込み管、撹拌機を付した反応容器に化合物１２を含有する反応生成物（化合物１２：５ｇ、６．３mmol未満）、ジクロロメタン（２５mＬ）を加えて窒素雰囲気下で溶解させた後、トリエチルアミン（０．９３mL、６．６mmol）、４-ジメチルアミノピリジン（７７mg、０．６３mmol）およびTsCl（０．９７g、５．４mmol）を加え、室温で４時間撹拌した。４時間後、1H-NMR分析によりTsClの消失を確認し、１M塩酸水溶液（２５mＬ）を加え、分液した。有機層を1M塩酸水溶液（２５mＬ）で１回、飽和重曹水（２５mＬ）で２回、飽和食塩水（２５mＬ）で１回洗浄した。有機層に硫酸ナトリウムを加え脱水後、ろ過した。ろ液を減圧濃縮し、淡黄色透明液体の化合物４３を含有する反応生成物を得た。また、ＴＬＣ分析および1Ｈ-ＮＭＲ測定結果により、得られた反応生成物には上記化合物３、６および１３が含まれていることを確認した。

化合物４３
1Ｈ-ＮＭＲ（CDCl3、内部標準ＴＭＳ）；δ(ppm)：
２．４５ （３H, s, -OSO2-Ph-CH 3)、
３．２３ (２H, t, (C6H5)3C-OCH 2CH2-、化合物３，６，１３由来を含む)、
３．４５-３．８５ (４４H, m, -OCH2CH 2-(OCH 2CH 2)10-OCH 2CH2-、化合物３，６，１３由来を含む)、
４．１６ (２H, t, -OCH2CH 2-OSO2-Ph-CH3)、
７．２１-７．４７ (１５H, m, (C6 H 5)3C-OCH2CH2-、化合物３，６，１３由来を含む),
７．３５ (２H, d, -OSO2-Ph-CH3)、
７．８０ (２H, d, -OSO2-Ph-CH3)

収量：６．１ｇ
Figure 0007342757000051
次いで、温度計、窒素吹き込み管、撹拌機を付した反応容器に化合物４３を含有する反応生成物（化合物４３：６．１ｇ、６．５mmol未満）、メタノール（２５mＬ）を加えて窒素雰囲気下で溶解させた後、p-トルエンスルホン酸・1水和物（０．６０ｇ、３．２mmol）、ヘキサン（２０mＬ）を加えた。室温で３０分撹拌した後、ヘキサン層を除去し、再度ヘキサン（１３mＬ）を加えて３０分撹拌した。同様の操作を6回行った後、1Ｈ-ＮＭＲ測定の結果、化合物４３および３、６、１３の消失を確認し、飽和重曹水（１０mＬ）を加えた。この混合溶液をヘキサン（１３mＬ）で２回洗浄し、トリチルメチルエーテルを除去した。メタノール溶液を減圧濃縮し、ジクロロメタン（２５mＬ）を加え抽出した。有機層に硫酸マグネシウムを加え脱水後、ろ過した。ろ液を減圧濃縮し、淡黄色透明液体の化合物４４を得た。

化合物４４
1Ｈ-ＮＭＲ（CDCl3、内部標準ＴＭＳ）；δ(ppm)：
２．４５ （３H, s, -OSO2-Ph-CH 3)、
２．７３ (１H, t, H-(OCH2CH2)8-)、
３．４５-３．８５ (４６H, m, -(OCH 2CH 2)11-OCH 2CH2-)、
４．１６ (２H, t, -(OCH2CH2)7-OCH2CH 2-OSO2-Ph-CH3),
７．３５ (２H, d, -OSO2-Ph-CH3)、
７．８０ (２H, d, -OSO2-Ph-CH3)

収量：３．３ｇ
純度：９９．７％ （HPLC-RI）
純度測定に用いたHPLC測定条件を以下に示す。
装置：Waters社製のalliance
カラム：ジーエルサイエンス社製のInertsil ODS-３ （カラムサイズ：４．６mm×２５cm,粒子径５μm）
検出器：ＲＩ
展開溶媒：メタノール/５mM酢酸アンモニウム溶液 = ５５/４５
流速：０．６mL/min
カラム温度：４０℃
サンプル濃度：０．２mg/mL
注入量：４０μL
純度の値は保持時間１１～４０minで検出される全ピーク面積に対する化合物４４のピーク面積の割合。
（比較例１、トシル化工程を経由して、化合物１０を得る製造方法）
特許文献４記載の製造方法にて、式（１）中のaが８である化合物１０の合成を行なった。
（比較例１－１）
式（３）中のaが４であり、Ｒ １ がトリチル基であり、Ｌがトシル基である化合物４1の合成
Figure 0007342757000052
温度計、窒素吹き込み管、撹拌機を付した反応器にテトラエチレングリコール１（２００mL、１．１５mol）、トルエン（５０ｍＬ）を加えて窒素雰囲気下で溶解させた後、１１０～１２０℃で、共沸脱水した。共沸脱水後に冷却し、ピリジン（１８ｍｌ、０．２２mol）およびトリチルクロリド（ＴｒｔＣｌ、４０ｇ、０．１４mol）を加え、室温で３時間撹拌した。３時間後、ＴＬＣを用いてＴｒｔＣｌの消失を確認し、イオン交換水（２００ｍＬ）を加えた。得られた混合溶液にトルエン（１００ｍＬ）を加えて分液し、有機層にイオン交換水（８０ｍＬ）と飽和食塩水（２０mL）の混合溶液で１回、１Ｍ塩酸水溶液（５０ｍＬ）で１回、飽和食塩水（５０mL）で４回洗浄した。得られた有機層に硫酸ナトリウムを加え、乾燥・ろ過し、ろ液にトルエン（５０mL）を加えて共沸脱水を３回行い、淡黄色透明液体の化合物２を含有する反応生成物を得た。また、ESI-MS測定により、得られた反応生成物には上記化合物３が含まれていることを確認した。

化合物２
1Ｈ-ＮＭＲ（CDCl3、内部標準ＴＭＳ）；δ(ppm)：
２．４ （１H, t, -C-（ＯCH2CH2）4-ＯH)、
３．２３ (２H, t, (C6H5)3C-OCH 2CH2-、化合物３由来を含む)、
３．４５-３．８５ (１４H, m, -OCH2CH 2-(OCH 2CH 2)3-OH、化合物３由来を含む)、
７．２１-７．４７ (１５H, m, (C6 H 5)3C-OCH2CH2-、化合物３由来を含む)
MS(ESI+)：化合物２ ４５４．５ [M+NH4]+、 化合物３ ６９６．９ [M+NH4]+
収量：６３．８ｇ
Figure 0007342757000053
次いで、温度計、窒素吹き込み管、撹拌機を付した反応容器に化合物２を含有する反応生成物（化合物２：６２．８ｇ、０．１４mol未満）、トルエン（３１４mＬ）を加えて窒素雰囲気下で溶解させた後、トリエチルアミン（２４mL、０．１７mol）を加えた。１０℃で塩化メタンスルホニル（１２．２mL、０．１６mol）を滴下し、室温で２時間撹拌した。２時間後、ＴＬＣ分析により化合物２の消失を確認し、１M塩酸水溶液（３１４mＬ）を加え、分液した。有機層を１M塩酸水溶液（３１４mＬ）で１回、飽和重曹水（３１４mＬ）で２回、飽和食塩水（３１４mＬ）で１回洗浄した。有機層に硫酸ナトリウムを加え脱水後、ろ過した。ろ液を減圧濃縮し、淡黄色透明液体の化合物４を含有する反応生成物を得た。また、ESI-MS測定により、得られた反応生成物には上記化合物３が含まれていることを確認した。

化合物４
1Ｈ-ＮＭＲ（CDCl3、内部標準ＴＭＳ）；δ(ppm)：
２．９８ （３H, s, -ＯCH2CH2-Ｏ-SO2CH 3)、
３．２３ (２H, t, (C6H5)3C-OCH 2CH2-、化合物３由来を含む)、
３．４５-３．８５ (１２H, m, -OCH2CH 2-(OCH 2CH 2)2-OCH 2CH2-、化合物３由来を含む)、
４．３３ （２H, t, -ＯCH2CH 2-Ｏ-SO2CH3)、
７．２１-７．４７ (１５H, m, (C6 H 5)3C-OCH2CH2-、化合物３由来を含む)
MS(ESI+)：化合物４ ５３２．４ [M+NH4]+、 化合物３ ６９６．８ [M+NH4]+
収量：７０．４ｇ
比較例１－１の化合物４の1Ｈ-ＮＭＲ測定結果から、化合物３は約４．８mol％含まれていることを確認した。
なお、δ３．２３ピークを基準とした場合の化合物３含有量算出式は下式で表される。
(((２-[δ４．３２])/４H)/([δ４．３２]/２H))×１００ (mol％)
また、比較例１－１にて得られた反応生成物２には化合物３が約６．９wt％含有していることになる。
（比較例１－２）
式（４）中のaが８であり、Ｒ １ がトリチル基である化合物５の合成
Figure 0007342757000054
温度計、窒素吹き込み管、撹拌機を付した反応器に水素化ナトリウム（7.8ｇ）を入れ、窒素置換後、MeCN（１４１mL）を加えて、０℃に冷却した。トルエン（１０７mＬ）で共沸脱水したテトラエチレングリコール１（２１３ｇ、１．１０mol）にMeCN（７０mＬ）を混合して、この混合溶液を３０分かけて滴下した。滴下終了後、化合物４を含有する反応生成物（化合物４：７０．４ｇ、０．１４mol未満）にMeCN（７０mＬ）を混合し、この混合溶液を１５分かけて滴下した。滴下終了後、反応混合液を８０℃に昇温し、３時間撹拌した。３時間後1H-NMRを用いて化合物４が消失したことを確認し、４０℃以下になるまで放冷した。反応混合溶液を減圧濃縮し、残渣にトルエン（３５２mＬ）を加えた。このトルエン溶液を飽和塩化アンモニウム水溶液（３５２mＬ）で２回、飽和食塩水（３５２mＬ）で３回洗浄した。有機層に硫酸ナトリウムを加え脱水後、ろ過した。ろ液を減圧濃縮し、淡黄色透明液体の化合物５を含有する反応生成物を得た。また、ESI-MS測定により、得られた反応生成物中には上記化合物３および６も含まれていることを確認した。

化合物５
1Ｈ-ＮＭＲ（CDCl3、内部標準ＴＭＳ）；δ(ppm)：
２．５２ （１H, t, -C-（ＯCH2CH2）8-ＯH)、
３．２３ (２H, t, (C6H5)3C-OCH 2CH2-、化合物３，６由来を含む)、
３．４５-３．８５ (３０H, m, -OCH2CH 2-(OCH 2CH 2)7-OH、化合物３，６由来を含む)、
７．２１-７．４７ (１５H, m, (C6 H 5)3C-OCH2CH2-、化合物３，６由来を含む)
MS(ESI+)：化合物５ ６３０．８ [M+NH4]+、 化合物３ ６９６．８ [M+NH4]+、 化合物６ １０４８．４ [M+NH4]+
収量：８２．４ｇ
（比較例１－3）
式（3）中のaが８であり、Ｒ １ がトリチル基であり、Lがトシル基である化合物４１の合成
Figure 0007342757000055
温度計、窒素吹き込み管、撹拌機を付した反応器に化合物５を含有する反応生成物（化合物５： ７７．８g、０．１４mol未満）にテトラヒドロフラン（２００mＬ）を加えて窒素雰囲気下で溶解させた後、０℃に冷却した。水酸化ナトリウム水溶液（２０ｇ、０．５mol/６０mL）を加え、０℃で２０分撹拌した。反応混合液にトシルクロリド/テトラヒドロフラン溶液（３０ｇ、０．１６mnol/６０mL）を３０分かけて滴下し、０℃で１．５時間撹拌した。１．５時間後、ＴＬＣにより化合物５の消失を確認した後、過剰のトシルクロリドの消失させるため室温で１２．５時間撹拌した。１２．５時間後、TLCでトシルクロリドの消失を確認し、イオン交換水（３０mL）とジエチルエーテル（５０ｍＬ）を加えた。混合液を飽和重曹水（５０mL）で１回、飽和食塩水（５０mL）で３回洗浄した。有機層に硫酸ナトリウムを加え、脱水後、ろ過した。ろ液を減圧濃縮し、淡黄色透明液体の化合物４１を含有する反応生成物を得た。また、ESI-MS測定により、得られた反応生成物には上記化合物３、６が含まれていることを確認した。

化合物４１
MS(ESI+)：化合物４１ ７８５．２ [M+NH4]+、 化合物３ ６９７．０ [M+NH4]+、 化合物６ １０４８．７ [M+NH4]+
収量：８６．１ｇ （収率：８８％）
（比較例１－４）
片末端水酸基、片末端トシル基を有するエチレングリコール鎖長が８ユニットの化合物４２の合成
Figure 0007342757000056
温度計、窒素吹き込み管、撹拌機を付した反応容器に化合物４1を含有する反応生成物（化合物４１：８５．６ｇ、０．１４４mol未満）、メタノール（２０ｍＬ）、パラジウム炭素（Pd/C、２g）を加えて水素置換して室温で１８時間撹拌した。１８時間後、ＴＬＣにより化合物４２の消失を確認し、Pd/Cをセライトろ過により除去した。ろ液にイオン交換水（１３０mL）を加え、生成したトリフェニルメタンをろ過した。ろ液にトリフェニルメタンを残存していたために、ヘキサン（１００ｍＬ）で５回洗浄し、トリフェニルメタンを除去した。メタノール/イオン交換水層を減圧濃縮し、化合物４１を含む粗生成物を得た。次いで、その粗生成物にジクロロメタン（１２０mL）を加え、２０℃の条件下、イオン交換水（１００mL）で３回、飽和食塩水（１００ｍＬ）で２回洗浄した。有機層に硫酸ナトリウムを加え、乾燥、ろ過した。ろ液を減圧濃縮し、淡黄色透明液体の化合物４２の精製物を得た。

化合物４２
精製物
1Ｈ-ＮＭＲ（CDCl3、内部標準ＴＭＳ）；δ(ppm)：
２．４５ （３H, s, -OSO2-Ph-CH 3)、
２．７３ (１H, t, H-(OCH2CH2)8-)、
３．４５-３．８５ (３０H, m, -(OCH 2CH 2)7-OCH 2CH2-)、
４．１６ (２H, t, -(OCH2CH2)7-OCH2CH 2-OSO2-Ph-CH3)、
７．３５ (２H, d, -OSO2-Ph-CH3)、
７．８０ (２H, d, -OSO2-Ph-CH3)

MS(ESI+)：化合物４２ ５４２．４ [M+NH4]+
粗生成物
MS(ESI+)：化合物４２ ５４２．４ [M+NH4]+、 化合物1 ２１２．７ [M+NH4]+、 化合物9 ５６４．５ [M+NH4]+
収量：５２．０ｇ （収率：８９％）
純度：９６．７％ (HPLC-RI)
純度測定に用いたHPLC測定条件を以下に示す。
装置：Waters社製のalliance、
カラム：ジーエルサイエンス社製のInertsil ODS-３ （カラムサイズ：４．６mm×２５cm,粒子径５μm）、
検出器：ＲＩ、
展開溶媒：メタノール/５mM酢酸アンモニウム溶液 = ５０/５０、流速：０．６mL/min、
カラム温度：４０℃、
サンプル濃度：０．２mg/mL、
注入量：４０μL。
純度の値は保持時間１０～４０minで検出される全ピーク面積に対する化合物４２のピーク面積の割合。
（比較例１-５）
片末端トシル基、片末端tertブチルエステル基を有するエチレングリコール鎖長が８ユニットの化合物４５の合成
Figure 0007342757000057
温度計、窒素吹き込み管、撹拌機を付した反応容器に化合物４５（１．０ｇ、１．９１mmol）、アクリル酸tert-ブチル（１．８mL、１９mmol）、トルエン（２５mＬ）を加えて窒素雰囲気下で溶解させた後、０℃まで冷却後、パウダー状の水酸化カリウム（５３mｇ、０．９mmol）を加え、０℃で１時間反応させた。反応後、イオン交換水（２０mＬ）を加え分液した。有機層を飽和食塩水（２０mＬ）で１回洗浄した。有機層を減圧濃縮し、淡黄色透明液体の化合物４５を得た。

化合物４５
1Ｈ-ＮＭＲ（CDCl3、内部標準ＴＭＳ）；δ(ppm)：
１．４５ （９H, s, (CH 3)3C-Ｏ-CＯ-CH2CH2-)、
２．４５ （３H, s, -OSO2-Ph-CH 3)、
２．５０ (２H, t, (CH3)3C-Ｏ-CＯ-CH 2CH2-)、
３．４５-３．８５ (32H, m, -CH2CH 2-(OCH 2CH 2)7-OCH 2CH2-)、
４．１６ (２H, t, -OCH2CH 2-OSO2-Ph-CH3)、
７．３４ (２H, d, -OSO2-Ph-CH3)、
７．８０ (２H, d, -OSO2-Ph-CH3)
MS(ESI+)：化合物４５ ６７０．６ [M+NH4]+
収量：１．０６ｇ （収率：８５％）
（比較例１－６）
片末端フタルイミド基、片末端tertブチルエステル基を有するエチレングリコール鎖長が８ユニットの化合物４６の合成
Figure 0007342757000058
温度計、窒素吹き込み管、撹拌機を付した反応容器に化合物４５（１．０６ｇ、１．６０mmol）、アセトニトリル（２５mＬ）を加えて窒素雰囲気下で溶解させた後、フタルイミドカリウム塩（５２０mｇ、２．８０mmol）を加え、８０℃で８時間撹拌した。NMRにより化合物４５の消失を確認し、反応溶液を濃縮した。ジクロロメタン（７mL）を加え固形分をろ過した後に、ろ液を０．１Ｍ水酸化ナトリウム水溶液（７mL）で１回、飽和食塩水（１０mL）で１回洗浄した。有機層に硫酸ナトリウムを加え脱水、ろ過した。ろ液を減圧濃縮し、淡黄色透明液体の化合物４６を得た。

化合物４６
1Ｈ-ＮＭＲ（CDCl3、内部標準ＴＭＳ）；δ(ppm)：
１．４５ （９H, s, (CH 3)3C-Ｏ-CＯ-CH2CH2-)、
２．５０ (２H, t, (CH3)3C-Ｏ-CＯ-CH 2CH2-)、
３．４５-３．８５ (３２H, m, -CH2CH 2-(OCH 2CH 2)7-OCH 2CH2-)、
３．９０ (２H, t, -OCH2CH 2-phthalimide)、
７．７１ （２H, dd, -phthalimide)、
７．８０ (２H, dd, -phthalimide)
MS(ESI+)：化合物４６ ９４５．７ [M+NH4]+
収量：９６５mｇ （収率：95％）
（比較例１－7）
式（８）中のaが８であり、Ｒ ２ がtert-ブチル基である化合物９の合成
Figure 0007342757000059
温度計、窒素吹き込み管、撹拌機を付した反応容器に化合物４６（５１０mｇ、０．８０mmol）、エタノール（１０mＬ）およびヒドラジン１水和物（３３４mg、６．７０mmol）を加えて８５℃で４５分反応した。室温まで冷却後、析出した白色固体を溶解させるために、１２％炭酸カリウ水溶液（５mL）を加えた後に混合溶液を減圧濃縮した。次いで、イオン交換水（３mL）を加え濃塩酸(０．６mL)を添加し、pH３に調整し、固形分をろ過した。ろ液をジクロロメタンで３回洗浄し、水層に食塩を添加し飽和させた。この水溶液をジクロロメタンで５回抽出し、有機層を硫酸ナトリウムで脱水、ろ過した。ろ液を減圧濃縮し、淡黄色透明液体の化合物９を得た。

化合物９
1Ｈ-ＮＭＲ（CDCl3、内部標準ＴＭＳ）；δ(ppm)：
１．４４ （９H, s, -CH2CH2-CＯＯ-C(CH 3)3)、
２．５０ (２H, t, -CH2CH 2-CＯＯ-C(CH3)3)、
３．１ （２H, t, H2N-CH 2CH2O-(CH2CH2O)7-)、
３．４５-３．８５ (３２H, m, H2N-CH2CH 2O-(CH 2CH 2O)7-CH 2CH2-)
収量：４００mｇ （収率：９９％）
（比較例１－８）
式（１）中のaが８であり、化合物１０の合成
Figure 0007342757000060
温度計、窒素吹き込み管、撹拌機を付した反応容器に化合物９（４００mｇ、０．８０mmol）、１Ｍ塩酸（０．５mＬ）を加えて溶解させた後、５５℃で５時間撹拌した。１５℃に冷却後、１０Ｍ水酸化ナトリウム水溶液を加えてpH５に調整した。水分をトルエン（５mL）で２回共沸脱水して得られた固形分にジクロロメタン（１０mL）を加え、ろ過した。ろ液を減圧濃縮し、淡黄色透明液体の化合物１０を得た。

化合物１０
1Ｈ-ＮＭＲ（CD3OD、内部標準ＴＭＳ）；δ(ppm)：
２．５６ (２H, t, -CH2CH 2-CＯＯH)、
３．１７ （２H, t, H2N-CH 2CH2O-)、
３．６-３．９ (３２H, m, -CH2CH 2O-(CH 2CH 2O)7-CH 2CH2-)
収量：３２０mｇ （収率：８３％）
純度：９５．６％ (HPLC-RI)
純度測定に用いたHPLC測定条件を以下に示す。
装置：Waters社製のalliance、
カラム：ジーエルサイエンス社製のInertsil ODS-３ （カラムサイズ：４．６mm×２５cm,粒子径５μm）、
検出器：ＲＩ、
展開溶媒：メタノール/５mM酢酸アンモニウム溶液 = １５/８５、
流速：１．０mL/min、
カラム温度：４０℃、
サンプル濃度：１mg/mL、
注入量：５０μL
（比較例2、トシル化工程を経由して、化合物１８を得る製造方法）
特許文献４記載の製造方法にて、式（１）中のaが12である化合物１８の合成を行なった。
（比較例2－１）
式（３）中のaが８であり、Ｒ １ がトリチル基であり、Ｌがメシル基である化合物１１の合成
Figure 0007342757000061
温度計、窒素吹き込み管、撹拌機を付した反応容器に化合物５を含有する反応生成物（化合物５：７２．７ｇ、０．１２mol未満）、トルエン（３５０mＬ）を加えて窒素雰囲気下で溶解させた後、トリエチルアミン（２０mL、０．１４mol）を加えた。１０℃で塩化メタンスルホニル（１０mＬ、０．１３mol）を滴下し、室温で２時間撹拌した。２時間後、ＴＬＣ分析により化合物５の消失を確認し、１M塩酸水溶液（１００mＬ）を加え、分液した。有機層を１M塩酸水溶液（１００mＬ）で１回、飽和重曹水（１００mＬ）で２回、飽和食塩水（１００mＬ）で１回洗浄した。有機層に硫酸ナトリウムを加え脱水後、ろ過した。ろ液を減圧濃縮し、淡黄色透明液体の化合物１１を含有する反応生成物を得た。また、ESI-MS測定により、得られた反応生成物には上記化合物３、６が含まれていることを確認した。

化合物１１
1Ｈ-ＮＭＲ（CDCl3、内部標準ＴＭＳ）；δ(ppm)：
３．０７ （３H, s, -ＯCH2CH2-Ｏ-SO2CH 3)、
３．２３ (２H, t, (C6H5)3C-OCH 2CH2-、化合物３，６由来を含む)、
３．４５-３．８５ (２８H, m, -OCH2CH 2-(OCH 2CH 2)6-OCH 2CH2-、化合物３，６由来を含む)、
４．３７ （２H, t, -ＯCH2CH 2-Ｏ-SO2CH3)、
７．２１-７．４７ (１５H, m, (C6 H 5)3C-OCH2CH2-、化合物３，６由来を含む)
MS(ESI+)：化合物１１ ７０８．３ [M+NH4]+、 化合物３ ６９６．４ [M+NH4]+、 化合物６ １０４８．５ [M+NH4]+
収量：８０．１ｇ
比較例２－１の化合物１１の1Ｈ-ＮＭＲ測定結果から、化合物３および６は約９．５mol％（化合物３： ４．８mol％、化合物６： ４．７mol％、概算）含まれていることを確認した。
なお、δ３．２３ピークを基準とした場合の化合物３、６含有量算出式で表される。
(((２-[δ４．３２])/４H)/([δ４．３２]/２H))×１００ (mol％)
化合物３の含有量は比較例１－１で算出した値を適用
また、比較例２－１にて使用した反応生成物５には化合物３および６が約１１．７wt％含有していることになる。
（比較例２－２）
式（４）中のaが１２であり、Ｒ １ がトリチル基である化合物１２の合成
Figure 0007342757000062
温度計、窒素吹き込み管、撹拌機を付した反応器に水素化ナトリウム（６．６ｇ）を入れ、窒素置換後、MeCN（２００mL）を加えて、0℃に冷却した。トルエン（５０mＬ）で共沸脱水したテトラエチレングリコール１（１８０ｇ、０．９３mol）にMeCN（５０mＬ）を混合して、この混合溶液を３０分かけて滴下した。滴下終了後、化合物１１を含有する反応生成物（化合物１１：８０．１ｇ、０．１２mol未満）にMeCN（５０mＬ）を混合し、この混合溶液を１５分かけて滴下した。滴下終了後、反応混合液を８０℃に昇温し、３時間撹拌した。３時間後1H-NMRを用いて化合物１１が消失したことを確認し、４０℃以下になるまで放冷した。反応混合溶液を減圧濃縮し、残渣にトルエン（２００mＬ）を加えた。このトルエン溶液を飽和塩化アンモニウム水溶液（１００mＬ）で２回、飽和食塩水（１００mＬ）で３回洗浄した。有機層に硫酸ナトリウムを加え脱水後、ろ過した。ろ液を減圧濃縮し、淡黄色透明液体の化合物１２を含有する反応生成物を得た。また、ESI-MSおよび1Ｈ-ＮＭＲ測定より、得られた反応生成物には上記化合物３、６、１３が含まれていることを確認した。

化合物１２
1Ｈ-ＮＭＲ（CDCl3、内部標準ＴＭＳ）；δ(ppm)：
２．５６ （１H, t, -C-（ＯCH2CH2）12-ＯH)、
３．２３ (２H, t, (C6H5)3C-OCH 2CH2-、化合物３，６，１３由来を含む)、
３．４５-３．８５ (４６H, m, -OCH2CH 2-(OCH 2CH 2)11-OH、化合物３，６，１３
由来を含む)、
７．２１-７．４７ (１５H, m, (C6 H 5)3C-OCH2CH2-、化合物３，６，１３由来を含む)
MS(ESI+)：化合物１２ ８０６．４ [M+NH4]+、 化合物３ ６９６．８ [M+NH4]+、 化合物６ １０４８．１ [M+NH4]+、 化合物１３ １４００．９ [M+NH4]+
収量：８５．４ｇ
（比較例２－3）
式（3）中のaが１２であり、Ｒ １ がトリチル基であり、Lがトシル基である化合物４３の合成
Figure 0007342757000063
温度計、窒素吹き込み管、撹拌機を付した反応容器に化合物１２を含有する反応生成物（化合物１２：５７．３ｇ、７２．７mmol未満）、ジクロロメタン（２８０mＬ）を加えて窒素雰囲気下で溶解させた後、トリエチルアミン（１０mL、７３mol）、4-ジメチルアミノピリジン（８８８mg、７．２７mmol）およびTsCl（１２．５g、６５．５mmol）を加え、室温で４．５時間撹拌した。４．５時間後、1H-NMR分析によりTsClの消失を確認し、１M塩酸水溶液（１５０mＬ）を加え、分液した。有機層を１M塩酸水溶液（１５０mＬ）で１回、飽和重曹水（１５０mＬ）で２回、飽和食塩水（１５０mＬ）で１回洗浄した。有機層に硫酸ナトリウムを加え脱水後、ろ過した。ろ液を減圧濃縮し、淡黄色透明液体の化合物４３を含有する反応生成物を得た。また、ESI-MS測定により、得られた反応生成物には上記化合物３、６、１３が含まれていることを確認した。

化合物４３
MS(ESI+)：化合物４３ ９６０．３ [M+NH4]+、 化合物３ ６９６．３ [M+NH4]+、 化合物６ １０４８．２ [M+NH4]+、 化合物１３ １４００．８ [M+NH4]+
収量：６９．１ｇ （収率：１０１％）
（比較例２－４）
片末端水酸基、片末端トシル基を有するエチレングリコール鎖長が１２ユニットの化合物４４の合成
Figure 0007342757000064
温度計、窒素吹き込み管、撹拌機を付した反応容器に化合物４3を含有する反応生成物（化合物４３：６９．１ｇ、７３．３mmol未満）、メタノール（５５０Ｌ）を加えて窒素雰囲気下で溶解させた後、p-トルエンスルホン酸・1水和物（６．９７ｇ、３６．７mmol）、ヘキサン（２００mＬ）を加えた。室温で３０分撹拌した後、ヘキサン層を除去し、再度ヘキサン（２００mＬ）を加えて３０分撹拌した。同様の操作を６回行った後、1Ｈ-ＮＭＲ測定の結果、化合物４３および３、６、１３の消失を確認し、飽和重曹水（２００mＬ）を加えた。この混合溶液をヘキサン（２００mＬ）で２回洗浄し、トリチルメチルエーテルを除去した。メタノール溶液を減圧濃縮し、ジクロロメタン（２００mＬ）を加え、２０℃以下の条件下、イオン交換水(２００mL)で３回、飽和食塩水（２００mL）で１回洗浄した。有機層に硫酸マグネシウムを加え脱水後、ろ過した。ろ液を減圧濃縮し、淡黄色透明液体の化合物４４の精製物を得た。

化合物４４
精製物
1Ｈ-ＮＭＲ（CDCl3、内部標準ＴＭＳ）；δ(ppm)：
２．４５ （３H, s, -OSO2-Ph-CH 3)、
２．７３ (１H, t, H-(OCH2CH2)8-)、
３．４５-３．８５ (４６H, m, -(OCH 2CH 2)11-OCH 2CH2-)、
４．１６ (２H, t, -(OCH2CH2)7-OCH2CH 2-OSO2-Ph-CH3),
７．３５ (２H, d, -OSO2-Ph-CH3)、
７．８０ (２H, d, -OSO2-Ph-CH3)
MS(ESI+)：化合物４４ ７１８．３ [M+NH4]+
粗生成物
MS(ESI+)：化合物４４ ７１８．３ [M+NH4]+、 化合物１ ２１２．３ [M+NH4]+、 化合物９ ５６４．５ [M+NH4]+ 、 化合物１６ ９１６．４ [M+NH4]+
収量：３０．３ｇ （収率：５９％）
純度：９４．９％ (HPLC-RI)
純度測定に用いたHPLC測定条件を以下に示す。
装置：Waters社製のalliance、
カラム：ジーエルサイエンス社製のInertsil ODS-３ （カラムサイズ：４．６mm×２５cm,粒子径５μm）、
検出器：ＲＩ、
展開溶媒：メタノール/５mM酢酸アンモニウム溶液 = ５５/４５、
流速：０．６mL/min、
カラム温度：４０℃、
サンプル濃度：０．２mg/mL、
注入量：４０μL。
純度の値は保持時間１１～４０minで検出される全ピーク面積に対する化合物４４のピーク面積の割合。
（比較例2-５）
片末端トシル基、片末端tertブチルエステル基を有するエチレングリコール鎖長が12ユニットの化合物47の合成
Figure 0007342757000065
温度計、窒素吹き込み管、撹拌機を付した反応容器に化合物４４（４．９６ｇ、７．０８mmol）、アクリル酸tert-ブチル（３．０９mL、２１．２mmol）、トルエン（１００mＬ）を加えて窒素雰囲気下で溶解させた後、０℃まで冷却後、パウダー状の水酸化カリウム（１９９mｇ、３．５４mmol）を加え、０℃で１時間反応させた。反応後、飽和塩化アンモニウム水溶液（５０mＬ）を加え分液した。有機層を飽和食塩水（５０mＬ）で１回洗浄した。有機層に硫酸ナトリウムを加え脱水、ろ過した。ろ液を減圧濃縮し、淡黄色透明液体の化合物４７を得た。

化合物４７
1Ｈ-ＮＭＲ（CDCl3、内部標準ＴＭＳ）；δ(ppm)：
１．４５ （９H, s, (CH 3)3C-Ｏ-CＯ-CH2CH2-)、
２．４５ （３H, s, -OSO2-Ph-CH 3)、
２．５０ （２H, t, (CH3)3C-Ｏ-CＯ-CH 2CH2-)、
３．４５-３．８５ (４８H, m, -CH2CH 2-(OCH 2CH 2)11-OCH 2CH2-)、
４．１６ (２H, t, -OCH2CH 2-OSO2-Ph-CH3)、
７．３４ (２H, d, -OSO2-Ph-CH3)、
７．８０ (２H, d, -OSO2-Ph-CH3)
MS(ESI+)：化合物４７ ８４７．０ [M+NH4]+
収量：５．４３ｇ （収率：９３％）
（比較例２－６）
片末端フタルイミド基、片末端tertブチルエステル基を有するエチレングリコール鎖長が１２ユニットの化合物４８の合成
Figure 0007342757000066
温度計、窒素吹き込み管、撹拌機を付した反応容器に化合物４７（５．４３ｇ、６．５５mmol）、アセトニトリル（４５mＬ）を加えて窒素雰囲気下で溶解させた後、フタルイミドカリウム塩（１．５８ｇ、８．５２mmol）を加え、８０℃で1８時間撹拌した。NMRにより化合物４８の消失を確認し、反応溶液を濃縮した。残渣にジクロロメタン（５０mL）を加え固形分をろ過した後に、ろ液を０．１Ｍ水酸化ナトリウム水溶液（５０mL）で１回、飽和食塩水（５０mL）で１回洗浄した。有機層に硫酸ナトリウムを加え脱水、ろ過した。ろ液を減圧濃縮し、淡黄色透明液体の化合物48を得た。

化合物４８
1Ｈ-ＮＭＲ（CDCl3、内部標準ＴＭＳ）；δ(ppm)：
１．４５ （９H, s, (CH 3)3C-Ｏ-CＯ-CH2CH2-)、
２．５０ (２H, t, (CH3)3C-Ｏ-CＯ-CH 2CH2-)、
３．４５-３．８５ (４８H, m, -CH2CH 2-(OCH 2CH 2)11-OCH 2CH2-)、
３．９０ (２H, t, -OCH2CH 2-phthalimide)、
７．７１ （２H, dd, -phthalimide)、
７．８０ (２H, dd, -phthalimide)
MS(ESI+)：化合物４８ ８２８．１ [M+NH4]+
収量：４．２６ｇ （収率：８１％）
（比較例２－7）
式（８）中のaが１２であり、Ｒ ２ がtert-ブチル基である化合物１７の合成
Figure 0007342757000067
温度計、窒素吹き込み管、撹拌機を付した反応容器に化合物４８（４．２６ｇ、５．３０mmol）、エタノール（６０mＬ）およびヒドラジン１水和物(３．８６mL、７９．５mmol)を加えて８５℃で１時間反応させた。室温まで冷却後、析出した白色固体を溶解させるために、１２％炭酸カリウ水溶液（５mL）を加えた後に混合溶液を減圧濃縮した。残渣にイオン交換水（２０mL）を加え濃塩酸を添加し、pH３に調整し、固形分をろ過した。ろ液に食塩を加えてジクロロメタン（２０mL)で２回抽出した。有機層を硫酸ナトリウムで脱水、ろ過した。ろ液を減圧濃縮し、淡黄色透明液体の化合物１７を得た。

化合物１７
1Ｈ-ＮＭＲ（CDCl3、内部標準ＴＭＳ）；δ(ppm)：
１．４４ （９H, s, -CH2CH2-CＯＯ-C(CH 3)3)、
２．５０ (２H, t, -CH2CH 2-CＯＯ-C(CH3)3)、
３．１ （２H, t, H2N-CH 2CH2O-(CH2CH2O)11-)、
３．４５-３．８５ (４８H, m, H2N-CH2CH 2O-(CH 2CH 2O)11-CH 2CH2-)
収量：３．１３ｇ （収率：８８％）
（比較例２－８）
式（１）中のaが１２であり、化合物１８の合成
Figure 0007342757000068
温度計、窒素吹き込み管、撹拌機を付した反応容器に化合物１７（３．１３ｇ、４．６５mmol）、1Ｍ塩酸（３mＬ）を加えて溶解させた後、５５℃で２時間撹拌した。１５℃に冷却後、イオン交換水(５mL)で希釈し、ジクロロメタン（１０mL）で３回洗浄した。水層に２Ｍ水酸化ナトリウム水溶液を加えてpH９に調整した。この水溶液をジクロロメタン（１０mL）で３回洗浄し、水層に食塩を加えて飽和させた。この水溶液をクロロホルム（１０mL）で３回抽出し、有機層に硫酸ナトリウムで脱水し、ろ過した。ろ液を減圧濃縮し、淡黄色固体の化合物１８を得た。

化合物１８
1Ｈ-ＮＭＲ（CD3OD、内部標準ＴＭＳ）；δ(ppm)：
２．５６ (２H, t, -CH2CH 2-CＯＯH)、
３．１７ （２H, t, H2N-CH 2CH2O-)、
３．６-３．９ (４８H, m, -CH2CH 2O-(CH 2CH 2O)11-CH 2CH2-)
収量：２．３２ｇ （収率７６％）
純度：９８．０％ （HPLC-RI）
純度測定に用いたHPLC測定条件を以下に示す。
装置：Waters社製のalliance、
カラム：ジーエルサイエンス社製のInertsil ODS-３ （カラムサイズ：４．６mm×２５cm, 粒子径５μm）、
検出器：ＲＩ、
展開溶媒：メタノール/５mM酢酸アンモニウム溶液 = ２７．５/７２．５、
流速：１．０mL/min、
カラム温度：４０℃、
サンプル濃度：２mg/mL、注入量：５０μL
（比較例３）
比較例２-２で得られた化合物１２を含有する反応生成物中の両末端にトリチル基を有する化合物３、６および１３の含有量の算出式
（３）中のaが１２であり、Ｒ １ がトリチル基であり、Ｌがメシル基である化合物１９の合成
Figure 0007342757000069
温度計、窒素吹き込み管、撹拌機を付した反応容器に化合物１２を含有する反応生成物（化合物１２：２５ｇ、３１７mmol未満）、トルエン（１２５mＬ）を加えて窒素雰囲気下で溶解させた後、トリエチルアミン(５．３mL、３８mmol）を加えた。１０℃で塩化メタンスルホニル（２．７mＬ、３５mmol）を滴下し、室温で２時間撹拌した。２時間後、ＴＬＣ分析により化合物１２の消失を確認し、１M塩酸水溶液（５０mＬ）を加え、分液した。有機層を１M塩酸水溶液（５０mＬ）で１回、飽和重曹水（５０mＬ）で２回、飽和食塩水（５０mＬ）で１回洗浄した。有機層に硫酸ナトリウムを加え脱水後、ろ過した。ろ液を減圧濃縮し、淡黄色透明液体の化合物１９を含有する反応生成物を得た。また、ESI-MS測定により、得られた反応生成物には上記化合物３、６および１３が含まれていることを確認した。

化合物１９
1Ｈ-ＮＭＲ（CDCl3、内部標準ＴＭＳ）；δ(ppm)：
３．０７ （３H, s, -ＯCH2CH2-Ｏ-SO2CH 3)、
３．２３ (２H, t, (C6H5)3C-OCH 2CH2-、化合物３，６，１３由来を含む)、
３．４５-３．８５ (４４H, m, -OCH2CH 2-(OCH 2CH 2)10-OCH 2CH2-、化合物３，６，１３由来を含む)、
４．３７ （２H, t, -ＯCH2CH 2-Ｏ-SO2CH3)、
７．２１-７．４７ (１５H, m, (C6 H 5)3C-OCH2CH2-、化合物３，６，１３由来を含む)
MS(ESI+)：化合物１９ ８８４．９ [M+NH4]+、 化合物３ ６９６．８ [M+NH4]+、 化合物６ １０４９．４ [M+NH4]+、 化合物１３ １４０１．３ [M+NH4]+
収量：２６ｇ
比較例３の化合物１９の1Ｈ-ＮＭＲ測定結果から、化合物３、６および１３は約９．８mol％（化合物３： ４．８mol％、化合物６： ４．７mol％、化合物１３： ０．３mol％、概算）含まれていることを確認した。
なお、δ３．２３ピークを基準とした場合の化合物３、６、１３含有量算出式は下式で表される。
(((２-[δ４．３２])/４H)/([δ４．３２]/２H))×１００ (mol％)
化合物３、６の含有量は比較例１－１、２―１で算出した値を適用
また、比較例３にて使用した反応生成物１２には化合物３、６および13が約９．７wt％含有していることになる。
両末端にそれぞれ水酸基とトリチル基を有するヘテロ単分散ポリエチレングリコールの化合物５を原料に両末端にそれぞれアミノ基とカルボキシル基を有するヘテロ単分散ポリエチレングリコールの化合物１０を得るまでの総収率の比較
aが８または１２において、式（４）から式（１）を製造した場合の総収率を表１に示す。
Figure 0007342757000070
前記総収率は下式で求めた。
Figure 0007342757000071
前記総収率を求める式において、aが8である化合物５の純分とは、実施例１-２で得られた化合物５を含有する反応生成物量から、両末端にトリチル基を有する化合物３、６の含有量を除いた値に、実施例４で得られた化合物４２の純度を乗じた値である。また、比較例１-２で得られた化合物５を含有する反応生成物量から、両末端にトリチル基を有する化合物３、６の含有量を除いた値に、比較例１-４で得られた化合物４２の純度を乗じた値である。
前記総収率を求める式において、aが１２である化合物１２の純分とは、実施例２-２で得られた化合物１２を含有する反応生成物量から、両末端にトリチル基を有する化合物３、６および１３の含有量を除いた値に、実施例５で得られた化合物４４の純度を乗じた値である。また、比較例２-２で得られた化合物５を含有する反応生成物量から、両末端にトリチル基を有する化合物３、６および１３の含有量を除いた値に、比較例２-４で得られた化合物４４の純度を乗じた値である。
前記総収率を求める式において、aが８である化合物１０およびaが１２である化合物１８の純分とは、各々HPLCで求められた純度に相当する。
従来の製造方法では、鎖長延長工程で副生する鎖長の異なる特定分子量の両末端にトリチル基を含有する不純物を精製するために、一度水酸基をトシル基に変換していた。一方で、この工程を経ずに当該不純物を除去することで、従来よりも工程数が少なくなり、収率低下の原因となる未反応原料の残存や反応副生物の生成を抑制することができ、収率を向上させることができた。

Claims (9)

  1. 式（１）で表されるヘテロ型単分散ポリエチレングリコールを製造する方法であって、下記工程（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）、（Ｅ）および（Ｆ）を有することを特徴とする、ヘテロ型単分散ポリエチレングリコールの製造方法。

    Figure 0007342757000072

    （式（１）中、aは６～１２の整数を示す）

    工程（Ａ）： 式(２)の化合物と式(３)の化合物を式（Ｆ１）の条件を満たすように求核置換反応させ、式（４）の化合物を得る工程
    Figure 0007342757000073

    （式（２）中、bは３～９の整数を示す）

    Figure 0007342757000074

    （式(３）中、Lはメシル基またはトシル基を示し、R1はトリチル基またはベンジル基を示し、cは３～９の整数を示す）

    ６≦ｂ＋ｃ≦１２ （Ｆ１）

    Figure 0007342757000075

    （式（４）中、R1はトリチル基またはベンジル基を示し、aは６～１２の整数を示す）

    工程（Ｂ）： 前記工程（Ａ）で得られた前記式（４）の化合物に式（５）の化合物を10℃以下の温度条件でマイケル付加反応させ、式（６）の化合物を得る工程
    Figure 0007342757000076

    （式（５）中、R2は炭素数１～６の炭化水素基を示す）

    Figure 0007342757000077
     （式（６）中、R1はトリチル基またはベンジル基を示し、R2は炭素数１～６の炭化水素基を示し、aは６～１２の整数を示す）

    工程（Ｃ）： 前記工程（Ｂ）で得られた前記式（６）の化合物を脱トリチル化または脱ベンジル化し、式（７）の化合物を含む反応生成物を得る工程
    Figure 0007342757000078

    （式（７）中、R2は炭素数１～６の炭化水素基を示し、aは６～１２の整数を示す）

    工程（Ｄ）： 前記工程（Ｃ）で得られた前記反応生成物から前記式（７）の化合物を精製する工程

    工程（Ｅ）： 前記工程（Ｄ）で得られた前記式（７）の化合物とフタルイミドを反応させて脱フタルイミド化し、式（８）の化合物を得る工程
    Figure 0007342757000079

    （式（８）中、R2は炭素数１～６の炭化水素基を示し、aは６～１２の整数を示す）

    工程（Ｆ）： 前記工程（Ｅ）で得られた前記式（８）の化合物を酸加水分解処理し、前記式（１）で表される化合物を得る工程。
  2. 前記工程（Ｄ）において、前記式（７）の化合物をジクロロメタンまたはクロロホルムを用いて精製することを特徴とする、請求項１記載の方法。
  3. 前記工程（Ｄ）において、前記式（７）の化合物を水または無機塩の濃度が１０重量％以下の水溶液を用いて精製することを特徴とする、請求項１または２記載の方法。
  4. 前記工程（Ｄ）が、１～２５℃の温度での洗浄工程を有することを特徴とする、請求項１～３のいずれか一つの請求項に記載の方法。
  5. 式（１）で表されるヘテロ型単分散ポリエチレングリコールを製造する方法であって、下記工程（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｅ）、（Ｆ）および（Ｇ）を有することを特徴とする、ヘテロ型単分散ポリエチレングリコールの製造方法。
    Figure 0007342757000080

    （式（１）中、aは１３～４０の整数を示す）

    工程（Ａ）： 式(２)の化合物と式(３)の化合物を式（Ｆ１）の条件を満たすように求核置換反応させ、式（４）の化合物を得る工程
    Figure 0007342757000081

    （式（２）中、bは３～３７の整数を示す）

    Figure 0007342757000082

    （式(３）中、Lはメシル基またはトシル基を示し、R1はトリチル基またはベンジル基を示し、cは３～３７の整数を示す）

    １３≦ｂ＋ｃ≦４０ （Ｆ１）

    Figure 0007342757000083

    （式（４）中、R1はトリチル基またはベンジル基を示し、aは１３～４０の整数を示す）

    工程（Ｂ）： 前記工程（Ａ）で得られた前記式（４）の化合物に式（５）の化合物を１０℃以下の温度条件でマイケル付加反応させ、式（６）の化合物を得る工程
    Figure 0007342757000084

    （式（５）中、R2は炭素数１～６の炭化水素基を示す）

    Figure 0007342757000085

    （式（６）中、R1はトリチル基またはベンジル基を示し、R2は炭素数１～６の炭化水素基を示し、aは１３～４０の整数を示す）

    工程（Ｃ）： 前記工程（Ｂ）で得られた化合物を脱トリチル化または脱ベンジル化し、式（７）の化合物を得る工程
    Figure 0007342757000086

    （式（７）中、R2は炭素数１～６の炭化水素基を示し、aは１３～４０の整数を示す）

    工程（Ｅ）： 前記工程（Ｃ）で得られた前記式（７）の化合物とフタルイミドを反応させ、脱フタルイミド化し、式（８）で表される化合物を得る工程
    Figure 0007342757000087
    （式（８）中、R2は炭素数１～６の炭化水素基を示し、aは１３～４０の整数を示す）

    工程（Ｆ）： 前記工程（Ｅ）で得られた前記式（８）の化合物を酸加水分解処理を実施し、前記式（１）の化合物を含む反応生成物を得る工程

    工程（Ｇ）： 前記工程（Ｆ）で得られた前記反応生成物から前記式（１）の化合物を精製する工程
  6. 前記工程（Ｇ）において、精製に使用する有機溶媒がジクロロメタンまたはクロロホルムであることを特徴とする、請求項５記載の方法。
  7. 前記工程（Ｇ）において、精製に使用する水溶液がｐＨ８以上の塩基性水溶液であることを特徴とする、請求項５または６記載の方法。
  8. 前記工程（Ｂ）において、前記式（５）の化合物のＲ２がイソプロピル基またはｔｅｒｔ－ブチル基であることを特徴とする、請求項１～７のいずれか一つの請求項に記載の方法。
  9. 前記工程（Ｂ）において、塩基として、フレーク状の水酸化カリウムまたはパウダー状の水酸化カリウムを用いることを特徴とする、請求項１～８のいずれか一つの請求項に記載の方法。
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