JP7340561B2 - 過熱水蒸気製造装置 - Google Patents

Description

この発明は、過熱水蒸気製造装置に関する。

特許文献１では、水素を酸素で燃焼させることで生成された燃焼ガスを過熱水蒸気として用いることが記載されている。

例えば、６００℃～約２０００℃の過熱水蒸気は、金属材料や無機材料の熱処理工程における焼成や脱脂洗浄や乾燥などに使用される。また、６００℃以下の過熱水蒸気は、廃棄物の減容化処理や金型成形における加熱手段や食品の調理や脱臭や殺菌などに使用される。

特許５７１６９５０号公報

水素を酸素で燃焼させて生成される過熱水蒸気は、非常に高温であり、実用するためには、温度を下げて適切に制御する必要がある。特許文献１では、３０００℃にもなる高温の過熱水蒸気の温度を下げる方法として、別途に調整室を設けて水を噴霧したりハニカムや蛇行流路に流して熱を吸収させたりしているが、過熱水蒸気の温度や流量の制御が難しく、設備も大型化するという問題がある。

そこで、この発明の課題は、小型であり、過熱水蒸気の温度や流量の制御が容易である過熱水蒸気製造装置を提供することにある。

上記課題を解決するため、この発明の一態様に係る過熱水蒸気製造装置は、
水素含有ガスを酸素含有ガスで燃焼させることによって過熱水蒸気を生成する燃焼部が外周部に設けられているともに、水または蒸気を噴射する噴射部が中央部に設けられていて、前記噴射部が前記燃焼部によって周状に囲まれているバーナーと、
前記水または蒸気の流量を制御する冷却媒体流量コントローラとを備え、
前記過熱水蒸気に対する前記水または蒸気の供給量を制御することによって、前記過熱水蒸気の温度および生成量を制御することを特徴とする。

この発明によれば、水素含有ガスを酸素含有ガスで燃焼させて生成する過熱水蒸気の温度および生成量を、水素含有ガスおよび酸素含有ガスの燃焼発熱量と燃焼ガス（排気ガス）の熱量に対する水または蒸気の供給量によって制御できる。

一実施形態に係る過熱水蒸気製造装置を模式的に説明する図である。 図１に示した過熱水蒸気製造装置のバーナーにおける水の供給機構が、二流体噴霧方式である場合の模式的断面図である。 図１に示した過熱水蒸気製造装置のバーナーにおける水または蒸気の供給機構が、一流体噴霧方式である場合の模式的断面図である。 霧状水の噴射角度と、過熱水蒸気の噴射角度との関係を説明する図である。 水素および酸素の燃焼比率と、過熱水蒸気需要装置内における水素濃度および酸素濃度との関係を説明するグラフである。

以下、図面を参照しながら、この発明に係る過熱水蒸気製造装置１の実施の形態を説明する。なお、この開示において、過熱水蒸気４２は、１気圧で１００℃以上の温度に加熱した水蒸気のことを指す。

〔実施形態〕
図１から図４を参照しながら、一実施形態に係る過熱水蒸気製造装置１を説明する。図１は、一実施形態に係る過熱水蒸気製造装置１を模式的に説明する図である。図２は、図１に示した過熱水蒸気製造装置１のバーナー２における水の供給機構が、二流体噴霧方式である場合の模式的断面図である。図３は、図１に示した過熱水蒸気製造装置１のバーナー２における水または蒸気の供給機構が、一流体噴霧方式である場合の模式的断面図である。図４は、霧状水４１の噴射角度と、過熱水蒸気４２の噴射角度との関係を説明する図である。

図１に示すように、過熱水蒸気製造装置１は、バーナー２と、供給管４と、流量コントローラ５と、制御部６と、温度センサ７とを備える。過熱水蒸気製造装置１によって製造された過熱水蒸気４２は、過熱水蒸気４２を必要とする過熱水蒸気需要装置１０に供給される。

制御部６は、温度センサ７および流量コントローラ５に電気的に接続されている。制御部６は、例えば、ＣＰＵ（Central Processing Unit）、ＲＡＭ（Random Access Memory）およびＲＯＭ（Read Only Memory）を含むコンピュータなどを用いて構成される。過熱水蒸気需要装置１０は、過熱水蒸気４２を必要とする装置である。バーナー２の先端部側が、過熱水蒸気需要装置１０の中に配設されている。

図１に示すように、バーナー２の基部側には、供給管４が接続されている。供給管４は、冷却媒体供給管４ａと、水素含有ガス供給管４ｂと、酸素含有ガス供給管４ｃとを有する。冷却媒体供給管４ａは、冷却媒体としての水または蒸気をバーナー２に供給するために、バーナー２の冷却媒体供給口２５に接続されている。水素含有ガス供給管４ｂは、水素含有ガスをバーナー２に供給するために、例えば、バーナー２の第１供給口２７に接続されている。酸素含有ガス供給管４ｃは、酸素含有ガスをバーナー２に供給するために、例えば、バーナー２の第２供給口２８に接続されている。ここで、冷却媒体として用いる「蒸気」は、ボイラーなどで生成させた、１００℃～３００℃の「低温水蒸気」であることが好ましい。蒸気の温度が低いため、過熱水蒸気４２の温度を下げる効果が大きくなる。また、ここでいう「水素含有ガス」とは、水素や純水素の他、メタンやプロパンやブタンや都市ガスなどの炭化水素系ガスも含まれる。また、「酸素含有ガス」とは、酸素や純酸素の他、空気や酸素富化空気なども含まれる。

流量コントローラ５は、例えば、マスフローコントローラである。流量コントローラ５は、冷却媒体流量コントローラ５ａと、水素含有ガス流量コントローラ５ｂと、酸素含有ガス流量コントローラ５ｃとを有する。冷却媒体流量コントローラ５ａは、冷却媒体供給管４ａの途中に設けられて、水または蒸気の流量を制御する。水素含有ガス流量コントローラ５ｂは、水素含有ガス供給管４ｂの途中に設けられて、水素含有ガスの流量を制御する。酸素含有ガス流量コントローラ５ｃは、酸素含有ガス供給管４ｃの途中に設けられて、酸素含有ガスの流量を制御する。水素含有ガス流量コントローラ５ｂおよび酸素含有ガス流量コントローラ５ｃをそれぞれ制御して水素含有ガスおよび酸素含有ガスの各流量を制御することにより、水素含有ガスを酸素含有ガスで燃焼させる燃焼量が制御される。

図２に示すように、バーナー２は、第１管２１を取り囲むように、第１管２１を中心にして同心に配置された複数の管２１ａ、２２、２３を有する。第１管２１は、冷却媒体供給口２５および気流供給口２６を有し、バーナー２の中央部に配置されている。第１管２１の外側には、気流管２１ａが配置されており、気流管２１ａは、気流供給口２６を有する。気流管２１ａの外側には、第２管２２が配置されており、第２管２２は、第１供給口２７を有する。気流管２１ａと第２管２２との間の空隙には、第１流路３７が形成される。第１流路３７には、例えば、水素含有ガスが流れる。第２管２２の外側には、第３管２３が配置されており、第３管２３は、第２供給口２８を有する。第２管２２と第３管２３との間の空隙には、第２流路３８が形成される。第２流路３８には、例えば、酸素含有ガスが流れる。なお、第１流路３７には酸素含有ガスが流れ、第２流路３８には水素含有ガスが流れるようにすることもできる。

第３管２３の外側には、図示しない冷却管が配置されている。冷却管には、冷却液（例えば、冷却水）を流すための冷却流路（図示せず）が形成されている。なお、バーナー２を構成する第１管２１、気流管２１ａ、第２管２２、第３管２３および冷却管は、熱変形を防ぐため、耐熱性金属などから作られる。

バーナー２の先端部には、噴射部３１および燃焼部３２が設けられている。噴射部３１はバーナー２の中央部に設けられるとともに、燃焼部３２はバーナー２の外周部に設けられる。噴射部３１は、バーナー２の軸方向から見て、燃焼部３２によって周状に囲まれている。噴射部３１は、第１管２１の先端部に位置して、微小な噴射孔２５ｂを少なくとも１つ有する。噴射部３１は、第１管２１の中を流れる液体の水を、噴射孔２５ｂを通じて噴射することによって、霧状水４１を生成する。霧状水４１は、側面から見て、扇形をしている。

バーナー２は、例えば、図２に示すように、過熱水蒸気４２の温度を制御する冷却媒体としての液体の水を用い、水素含有ガス、酸素含有ガスまたは蒸気と一緒に噴射孔２５ｂから噴射する二流体噴霧ノズル３０ａを有することができる。このとき、図２に示すように、第１管２１および気流管２１ａは、冷却媒体供給口２５に連通して液体の水が流れる冷却媒体流路２５ａと、気流供給口２６に連通して水素含有ガス、酸素含有ガスまたは蒸気が流れる気流流路２６ａとを有する、いわゆる二重管構造にすることができる。これにより、水素含有ガス、酸素含有ガスまたは蒸気が高速で流れることによって、液体の水がせん断されるため、霧状水４１の粒子径を小さくできる（すなわち微粒子化できる）とともに、霧状水４１の粒子を均一に分散できるので、過熱水蒸気４２の温度の均一化や制御が容易になる。

また、バーナー２は、例えば、図３に示すように、過熱水蒸気４２を冷却する冷却媒体として水または蒸気を用い、それに圧力を印加することによって、水または蒸気を噴射孔２５ｂから噴射する一流体噴霧ノズル３０ｂを有することができる。このとき、液体の水または蒸気は、図示しない加圧手段（例えば、ポンプ）によって加圧される。これにより、噴射部３１の構成がシンプルになるので、霧状水４１を低コストで生成できる。なお、図３に示す一流体噴霧ノズル３０ｂの場合、第１流路３７は、第１管２１と第２管２２との間の空隙に形成される。

燃焼部３２は、第１流路３７および第２流路３８の先端部に位置して、第１流路３７および第２流路３８の先端部から水素含有ガスおよび酸素含有ガスを噴射する、いわゆる二重管構造をしている。図４に示すように、燃焼部３２は、水素含有ガスを酸素含有ガスで燃焼させることによって、燃焼炎を生成するとともに、燃焼の結果物として過熱水蒸気４２を生成する。燃焼炎の断熱理論火炎温度は、約３０００℃であり、過熱水蒸気４２の温度も同様の高温になる。したがって、燃焼部３２は、高温の過熱水蒸気４２を生成する。なお、燃焼部３２によって生成される過熱水蒸気４２は、側面から見て扇形をしている。

燃焼部３２によって生成される過熱水蒸気４２に対して、噴射部３１から噴射された霧状水４１が加えられるとき、液体状態の霧状水４１が気体状態の水蒸気に変化する過程で過熱水蒸気４２から熱が奪われるので、過熱水蒸気４２の温度が下がる。霧状水４１が気体状態に変化した水蒸気は、そのまま過熱水蒸気４２に混合される。過熱水蒸気４２に対して加えられる霧状水４１の量が多いと、過熱水蒸気４２の温度低下が促進され、過熱水蒸気４２の生成量が多くできる。反対に、過熱水蒸気４２に対して加えられる霧状水４１の量が少ないと、過熱水蒸気４２の温度低下および生成量が抑制できる。

上記構成によれば、過熱水蒸気４２に対する水または蒸気の供給量に応じて過熱水蒸気４２の温度および生成量が制御できるので、所望の温度や供給量の過熱水蒸気４２を製造できる。また、外観は、一般的なバーナーとほぼ変わらないため、小型であり、取り扱いが非常にしやすくなる。

また、燃焼部３２において燃焼量を多くすると、過熱水蒸気４２の温度低下が抑制され、過熱水蒸気４２の生成量が多くなる。反対に、燃焼部３２において燃焼量を少なくすると、過熱水蒸気４２の温度低下が促進され、過熱水蒸気４２の生成量が少なくなる。したがって、燃焼部３２において水素含有ガスを酸素含有ガスで燃焼させる燃焼量を制御することによっても、過熱水蒸気４２の温度および生成量が制御できる。

図２および図３に示すように、噴射部３１の先端が、燃焼部３２の先端に対して、水の噴射方向の上流側に位置するように構成されている。これにより、噴射部３１の先端が高温の燃焼部３２の先端よりも後退した位置にあるので、噴射部３１が高温に曝されにくくなり、噴射部３１の耐久性が向上する。

図４に示すように、霧状水４１の噴射角度ｘが、過熱水蒸気４２の噴射角度ｙよりも小さくなるように構成されている。これにより、霧状水４１が過熱水蒸気４２の範囲内で分散するので、霧状水４１が過熱水蒸気４２の温度制御に無駄なく寄与して、過熱水蒸気４２の温度の均一化が可能になる。

図１に示すように、噴射部３１の噴射方向下流側には、温度センサ７が、配設されている。温度センサ７は、燃焼部３２から噴射された過熱水蒸気４２に対して霧状水４１が加えられた過熱水蒸気４２の温度を測定する。制御部６は、温度センサ７によって測定された過熱水蒸気４２の測定温度に基づいて、過熱水蒸気４２が所望の温度になるように、冷却媒体流量コントローラ５ａにおける水または蒸気の流量を制御する。霧状水４１の供給量が多くなると、過熱水蒸気４２の温度低下が促進され、過熱水蒸気４２の生成量が多くなる。反対に、霧状水４１の供給量が少なくなると、過熱水蒸気４２の温度低下および生成量が抑制される。また、燃焼部３２において燃焼量を多くすると、過熱水蒸気４２の温度低下が抑制され、過熱水蒸気４２の生成量が多くなる。反対に、燃焼部３２において燃焼量を少なくすると、過熱水蒸気４２の温度低下が促進され、過熱水蒸気４２の生成量が少なくなる。このようにして、温度や供給量が制御でき、所望の温度や供給量の過熱水蒸気４２を製造できる。

図５を参照しながら、水素および酸素の燃焼比率と、過熱水蒸気需要装置１０内における水素濃度および酸素濃度との関係を説明する。過熱水蒸気需要装置１０は、例えば炉である。図５において、横軸が水素および酸素の燃焼比率であり、左側の縦軸が炉内水素濃度（％）であり、右側の縦軸が炉内酸素濃度（％）である。燃焼比率は、水素が完全燃焼するときの酸素の量を基準としたその燃焼時における酸素の割合である。燃焼比率が１．０である場合（水素：酸素のモル比が、２：１）、水素および酸素の完全燃焼を示す。燃焼比率が１．０よりも小さい場合（●印で示す）、燃焼比率が小さくなるに従って炉内水素濃度が高くなり、炉内が水素リッチ（還元雰囲気）になることを示す。燃焼比率が１．０よりも大きい場合（■印で示す）、燃焼比率が大きくなるに従って炉内酸素濃度が高くなり、炉内が酸素リッチ（酸化雰囲気）になることを示す。

過熱水蒸気製造装置１において、水素含有ガス流量コントローラ５ｂおよび／または酸素含有ガス流量コントローラ５ｃを制御して水素含有ガスおよび／または酸素含有ガスの供給量を制御することによって、過熱水蒸気４２の生成に使用されずに余剰となった水素または酸素が過熱水蒸気需要装置１０に提供される。

例えば、燃焼比率を１．０（完全燃焼）よりも小さくする（例えば、酸素含有ガスの供給量を変えずに水素含有ガスの供給量を多くする）と、燃焼における水素が余剰になり提供される水素の量が多くなる。余剰の水素は、過熱水蒸気需要装置１０の雰囲気制御に使用できる。余剰の水素の量が多ければ、過熱水蒸気需要装置１０の雰囲気を還元雰囲気にする。なお、燃焼比率を１．０よりも小さくするためには、水素含有ガスの供給量を多くする以外に、酸素含有ガスの供給量を少なくしてもよい。

また、燃焼比率を１．０（完全燃焼）よりも大きくする（例えば、水素含有ガスの供給量を変えずに酸素含有ガスの供給量を多くする）と、燃焼における酸素が余剰となり提供される酸素の量が多くなる。余剰の酸素は、過熱水蒸気需要装置１０の雰囲気制御に使用できる。余剰の酸素の量が多ければ、過熱水蒸気需要装置１０の雰囲気を酸化雰囲気にする。なお、燃焼比率を１．０よりも大きくするためには、酸素含有ガスの供給量を多くする以外に、水素含有ガスの供給量を少なくしてもよい。

したがって、水素含有ガスおよび／または酸素含有ガスの供給量を制御して、余剰となって提供される水素または酸素の量を制御することによって、過熱水蒸気需要装置１０（例えば、炉）の雰囲気を制御できる。余剰の水素の量が多ければ、過熱水蒸気需要装置１０の雰囲気を還元雰囲気にして、余剰の酸素の量が多ければ、過熱水蒸気需要装置１０の雰囲気を酸化雰囲気にすることができる。

この発明の具体的な実施の形態や数値について説明したが、この発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、この発明の範囲内で種々変更して実施することができる。

この発明および実施形態をまとめると、次のようになる。

この発明の一態様に係る過熱水蒸気製造装置１は、
水素含有ガスを酸素含有ガスで燃焼させることによって過熱水蒸気４２を生成する燃焼部３２が外周部に設けられているともに、水または蒸気を噴射する噴射部３１が中央部に設けられていて、前記噴射部３１が前記燃焼部３２によって周状に囲まれているバーナー２と、
前記水または前記蒸気の流量を制御する冷却媒体流量コントローラ５ａとを備え、
前記過熱水蒸気４２に対する前記水または前記蒸気の供給量を制御することによって、前記過熱水蒸気４２の温度および生成量を制御することを特徴とする。

上記構成によれば、過熱水蒸気４２に対する水または蒸気の供給量に応じて過熱水蒸気４２の温度および生成量が制御できるので、温度や供給量が制御された過熱水蒸気４２を製造できる。また、外観は、一般的なバーナーとほぼ変わらないため、小型であり、取り扱いが非常にしやすくなる。

また、一実施形態の過熱水蒸気製造装置１では、
前記燃焼部３２において前記水素含有ガスを前記酸素含有ガスで燃焼させる燃焼量を制御することによって、前記過熱水蒸気４２の温度および生成量を制御する。

上記実施形態によれば、燃焼部３２における燃焼量に応じて過熱水蒸気４２の温度および生成量が制御された過熱水蒸気４２を製造できる。

また、一実施形態の過熱水蒸気製造装置１では、
前記バーナー２が、前記水を前記水素含有ガスまたは前記酸素含有ガスと一緒に噴射して霧状水４１を生成する二流体噴霧ノズル３０ａを有する。

上記実施形態によれば、水を霧状にすることで水の粒子を均一に分散できるとともに霧状水４１の粒子径を小さくできる（すなわち微粒子化できる）ので、過熱水蒸気４２の温度の均一化や制御が容易になる。また、高速気流として水素含有ガスまたは酸素含有ガスを用いれば、それらは燃焼部３２における燃焼に寄与し、過熱水蒸気４２として利用できる。

また、一実施形態の過熱水蒸気製造装置１では、
前記バーナー２が、前記水または前記蒸気に圧力を印加することによって前記水または前記蒸気を噴射して霧状水４１を生成する一流体噴霧ノズル３０ｂを有する。

上記実施形態によれば、霧状水４１を生成する噴射部３１の構成がシンプルになるので、霧状水４１を低コストで生成できる。

また、一実施形態の過熱水蒸気製造装置１では、
前記霧状水４１の噴射角度ｘが、前記過熱水蒸気４２の噴射角度ｙよりも小さい。

上記実施形態によれば、霧状水４１が過熱水蒸気４２の範囲内で分散するので、霧状水４１が過熱水蒸気４２の温度制御に無駄なく寄与して、過熱水蒸気４２の温度の均一化が可能になる。

また、一実施形態の過熱水蒸気製造装置１では、
前記過熱水蒸気４２の温度を測定する温度センサ７と、前記冷却媒体流量コントローラ５ａを制御する制御部６とを備え、
前記制御部６は、前記過熱水蒸気４２の測定温度に基づいて、前記冷却媒体流量コントローラ５ａにおける前記水または前記蒸気の前記流量を制御する。

上記実施形態によれば、過熱水蒸気４２を必要とする装置１０に対して所望の温度や供給量の過熱水蒸気４２を提供できる。

また、一実施形態の過熱水蒸気製造装置１では、
前記蒸気は低温水蒸気である。

上記実施形態によれば、蒸気の温度が低いため、過熱水蒸気４２の温度を下げる効果が大きくなる。

また、一実施形態の過熱水蒸気製造装置１では、
前記水素含有ガスは水素であり、および／または、前記酸素含有ガスは酸素である。

上記実施形態によれば、燃焼によって発生するＣＯ、ＣＯ_２、ＮＯ_ｘなどの不純物を抑制でき、特に水素および酸素だけを用いた場合は、不純物の無い、純粋な過熱水蒸気４２を製造できる。

また、一実施形態の過熱水蒸気製造装置１では、
前記水素含有ガスおよび／または前記酸素含有ガスの供給量を制御することによって、前記過熱水蒸気４２の生成に使用されずに余剰となった水素または酸素を過熱水蒸気需要装置１０の雰囲気に提供する。

上記実施形態によれば、余剰となって提供される水素または酸素は、過熱水蒸気需要装置１０（例えば、炉）に提供されて、過熱水蒸気需要装置１０の雰囲気を制御できる。余剰の水素の量が多ければ、過熱水蒸気需要装置１０の雰囲気を還元雰囲気にして、余剰の酸素の量が多ければ、過熱水蒸気需要装置１０の雰囲気を酸化雰囲気にすることができる。

１…過熱水蒸気製造装置
２…バーナー
４…供給管
４ａ…冷却媒体供給管
４ｂ…水素含有ガス供給管
４ｃ…酸素含有ガス供給管
５…流量コントローラ
５ａ…冷却媒体流量コントローラ
５ｂ…水素含有ガス流量コントローラ
５ｃ…酸素含有ガス流量コントローラ
６…制御部
７…温度センサ
１０…過熱水蒸気需要装置
２１…第１管
２１ａ…気流管
２２…第２管
２３…第３管
２５…冷却媒体供給口
２５ａ…冷却媒体流路
２５ｂ…噴射孔
２６…気流供給口
２６ａ…気流流路
２７…第１供給口
２８…第２供給口
３０ａ…二流体噴霧ノズル
３０ｂ…一流体噴霧ノズル
３１…噴射部
３２…燃焼部
３７…第１流路
３８…第２流路
４１…霧状水
４２…過熱水蒸気
ｘ…霧状水の噴射角度
ｙ…過熱水蒸気の噴射角度

Claims (9)

1. 水素含有ガスを酸素含有ガスで燃焼させることによって過熱水蒸気を生成する燃焼部が外周部に設けられているともに、水または蒸気を噴射する噴射部が中央部に設けられていて、前記噴射部が前記燃焼部によって周状に囲まれているバーナーと、
   前記水または前記蒸気の流量を制御する冷却媒体流量コントローラとを備え、
   前記噴射部の先端は、前記燃焼部の先端に対して、前記水または前記蒸気の噴射方向の上流側に位置して、
   前記過熱水蒸気に対する前記水または前記蒸気の供給量を制御することによって、前記過熱水蒸気の温度および生成量を制御することを特徴とする、過熱水蒸気製造装置。
2. 前記燃焼部において前記水素含有ガスを前記酸素含有ガスで燃焼させる燃焼量を制御することによって、前記過熱水蒸気の温度および生成量を制御することを特徴とする、請求項１に記載の過熱水蒸気製造装置。
3. 前記バーナーが、前記水を前記水素含有ガスまたは前記酸素含有ガスと一緒に噴射して霧状水を生成する二流体噴霧ノズルを有することを特徴とする、請求項１または請求項２に記載の過熱水蒸気製造装置。
4. 前記バーナーが、前記水または前記蒸気に圧力を印加することによって前記水または前記蒸気を噴射して霧状水を生成する一流体噴霧ノズルを有することを特徴とする、請求項１または請求項２に記載の過熱水蒸気製造装置。
5. 前記霧状水の噴射角度が、前記過熱水蒸気の噴射角度よりも小さいことを特徴とする、請求項３または請求項４に記載の過熱水蒸気製造装置。
6. 前記過熱水蒸気の温度を測定する温度センサと、前記冷却媒体流量コントローラを制御する制御部とを備え、
   前記制御部は、前記過熱水蒸気の測定温度に基づいて、前記冷却媒体流量コントローラにおける前記水または前記蒸気の前記流量を制御することを特徴とする、請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の過熱水蒸気製造装置。
7. 前記蒸気は低温水蒸気であることを特徴とする、請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の過熱水蒸気製造装置。
8. 前記水素含有ガスは水素であり、および／または、前記酸素含有ガスは酸素であることを特徴とする、請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の過熱水蒸気製造装置。
9. 前記水素含有ガスおよび／または前記酸素含有ガスの供給量を制御することによって、前記過熱水蒸気の生成に使用されずに余剰となった水素または酸素を過熱水蒸気需要装置の雰囲気に提供することを特徴とする、請求項１から請求項８のいずれか１項に記載の過熱水蒸気製造装置。

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