JP6131497B2 - 浸炭用雰囲気ガスの生成方法 - Google Patents
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Description
請求項1に係る発明は、炭化水素ガスと支燃性ガスとの燃焼反応によって、浸炭処理に用いる一酸化炭素と水素とを含む浸炭用雰囲気ガスを生成する方法であって、
燃焼室に炭化水素ガスと濃度が93〜100%の酸素ガスとを旋回流を形成させながら導入し、前記燃焼室内において、前記炭化水素ガスと前記酸素ガスとを旋回流火炎として燃焼させて、浸炭用ガスとなる一酸化炭素と水素とを含む混合ガスを生成し、
前記混合ガスを、前記燃焼室のガスの流れ方向の二次側に設けられた、前記燃焼室よりも容積の大きな内部空間を有する滞留室において、後段の浸炭炉に供給する際に脈動を抑制する目的で一時的に貯留することを特徴とする浸炭用雰囲気ガスの生成方法である。
請求項2に係る発明は、前記旋回流が、前記燃焼室の内周壁の接線方向から当該燃焼室内に向かって前記炭化水素ガスと前記酸素ガスとを噴出させることによって形成することを特徴とする請求項1に記載の浸炭用雰囲気ガスの生成方法である。
加することを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一項に記載の浸炭用雰囲気ガスの生成方法である。
なお、以下の説明で用いる図面は、特徴をわかりやすくするために、便宜上特徴となる部分を拡大して示している場合があり、各構成要素の寸法比率などが実際と同じであるとは限らない。
図1に示すように、浸炭装置1は、浸炭用雰囲気ガス生成装置(浸炭用雰囲気ガスの生成装置)2と浸炭炉3とを備えて概略構成されている。この浸炭装置1は、浸炭用雰囲気ガス生成装置2によって生成した浸炭用ガスを浸炭炉3に導入して、浸炭炉3内の被処理材(図示略)を浸炭処理するものである。
より具体的には、酸素ガス供給路L2は、図1及び図3に示すように、一端が酸素ガス供給管12Bに接続されており、他端が図示略の酸素ガスの供給源に接続されている。これにより、本実施形態の浸炭用雰囲気ガスの生成方法に用いる浸炭用雰囲気ガスの生成装置2は、酸素ガス供給路L2、酸素ガス供給管12B、酸素ガス噴出孔11Bを介して、所要の流量の酸素ガスを燃焼室10に供給可能とされている。
本実施形態の浸炭用雰囲気ガスの生成方法は、炭化水素ガスと支燃性ガスとの燃焼反応によって、浸炭処理に用いる混合ガスである一酸化炭素と水素とを含む浸炭用雰囲気ガスを生成する方法であって、燃焼室10に炭化水素ガスと酸素ガスとを旋回流を形成させながら導入し、燃焼室10内において、炭化水素と酸素とを旋回流火炎として燃焼させて、一酸化炭素と水素とを含む混合ガスを生成するものである。
本実施形態の浸炭用雰囲気ガスの生成方法を用いる浸炭方法は、図1に示すように、被処理材(鋼材)を収納した浸炭炉3に上述した浸炭用雰囲気ガスの生成方法によって生成した浸炭用雰囲気ガスを導入し、この浸炭炉3内の温度を750℃〜970℃まで加熱して浸炭処理を行う。
Fe+2CO ←→ [Fe+C]+CO2 ・・・(1)
Fe+CO+H2 ←→ [Fe+C]+H2O ・・・(2)
(実施例1)
図1〜図3に示す浸炭用雰囲気ガス生成装置2を用いて、一酸化炭素と水素とを含む混合ガスを生成した。ここで、原料の炭化水素ガスとしてプロパンを用いるとともに、炭化水素ガスと酸素ガスとを混合した原料ガス中の酸素濃度比を0.3〜0.8とした場合の、生成した混合ガス中の一酸化炭素濃度及び水素ガス濃度を測定した。この結果を図5に示す。なお、生成した混合ガス中の各成分の濃度は、触媒層14の出口において測定した。
図1に示す浸炭装置1を用いて浸炭処理を実施した。具体的には、実施例1において、原料の炭化水素ガスとしてプロパンを用いるとともに、炭化水素ガスと酸素ガスとを混合した原料ガス中の酸素濃度比を0.40として生成した浸炭用ガスを2.0m3/hの供給速度で、内容積1.0m3、935℃の浸炭炉3に導入し、浸炭炉3内の雰囲気組成をコイル式カーボンポテンシャルメーター(以下、「CPメーター」としめす)にて測定したところ、炉内のCPは0.30%であった。この浸炭炉3に、エンリッチガスとしてプロパンガスを添加して炉内のCPを上昇させた。CPメーターにて炉内のCPを測定したところ、CPは1.15%であった。このとき、浸炭炉3内では、操業の妨げとなるような煤の発生などは確認されなかった。
天然ガスを原料とし、空気を適量混ぜ、1050℃に設定した従来型の変成炉を用いて浸炭用ガス(RXガス)を生成した。浸炭炉出口において、このRXガスの組成をガスクロマトグラフにて測定したところ、CO:20.1%、CO2:0.35%、H2:39.5%(残部:N2)であった。このRXガスを、試験例1と同様に、935℃に設定した浸炭炉に2.0m3/hの供給速度で導入し、CPメーターにて測定したところ、炉内のCPは0.38%であった。この浸炭炉に、実施例2と同様に、エンリッチガスとしてプロパンガスを添加して炉内のCPを上昇させた。CPメーターにて炉内のCPを測定したところ、CPは1.15%であった。また、浸炭炉内では、問題となるような煤の発生は認められなかった。
マイクロビッカース硬度計を用いて有効硬化層深さを測定した結果、1.18mmであった。
2 浸炭用雰囲気ガス生成装置(浸炭用雰囲気ガスの生成装置)
3 浸炭炉
3a 導入口
3c 炭化水素ガスの導入口
4 生成装置本体
5 熱交換器(冷却手段)
6 バブラー(炭素除去手段)
7 除湿機(水分除去手段)
8 上側部材(第1の部材)
9 下側部材(第2の部材)
10 燃焼室(内部空間、第1の内部空間)
10c 内周壁
11 噴出孔
11a,11b 開口部
11A 炭化水素ガス噴出孔
11B 酸素ガス噴出孔
12 原料ガス供給管
12A 炭化水素ガス供給管
12B 酸素ガス供給管
13 内部空間(第2の内部空間)
14 触媒層
15 滞留室
16,17,19 流量調節バルブ
18 燃焼バーナ
L1 炭化水素ガス供給路(炭化水素ガスの供給路)
L2 酸素ガス供給路(酸素ガスの供給路)
L3 混合ガス導出路(混合ガスの導出路)
L4 排気ガス排出路
L5 炭化水素ガス供給路(エンリッチガスの供給路)
L6 混合ガス供給路
Claims (8)
- 炭化水素ガスと支燃性ガスとの燃焼反応によって、浸炭処理に用いる一酸化炭素と水素とを含む浸炭用雰囲気ガスを生成する方法であって、
燃焼室に炭化水素ガスと濃度が93〜100%の酸素ガスとを旋回流を形成させながら導入し、前記燃焼室内において、前記炭化水素ガスと前記酸素ガスとを旋回流火炎として燃焼させて、浸炭用ガスとなる一酸化炭素と水素とを含む混合ガスを生成し、
前記混合ガスを、前記燃焼室のガスの流れ方向の二次側に設けられた、前記燃焼室よりも容積の大きな内部空間を有する滞留室において、後段の浸炭炉に供給する際に脈動を抑制する目的で一時的に貯留することを特徴とする浸炭用雰囲気ガスの生成方法。 - 前記旋回流は、前記燃焼室の内周壁の接線方向から当該燃焼室内に向かって前記炭化水素ガスと前記酸素ガスとを噴出させることによって形成することを特徴とする請求項1に記載の浸炭用雰囲気ガスの生成方法。
- 前記燃焼室から取り出した前記混合ガスを、炭化水素を分解することが可能な触媒と接触させることを特徴とする請求項1又は2に記載の浸炭用雰囲気ガスの生成方法。
- 前記燃焼室から取り出した前記混合ガスを、50℃以下の温度まで1000℃/sec以上の速度で急冷することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の浸炭用雰囲気ガスの生成方法。
- 前記燃焼室から取り出した前記混合ガスを、液体中に送り込むことにより当該混合ガスを洗浄することを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の浸炭用雰囲気ガスの生成方法。
- 洗浄した前記混合ガス中に含まれる前記液体成分を除去することを特徴とする請求項5に記載の浸炭用雰囲気ガスの生成方法。
- 前記燃焼室から取り出した前記混合ガスを除湿して、露点を0℃以下とすることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか一項に記載の浸炭用雰囲気ガスの生成方法。
- 前記燃焼室から取り出した前記混合ガスに、炭化水素ガスを添加することを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一項に記載の浸炭用雰囲気ガスの生成方法。
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