JP4587719B2 - 浸炭用ガス製造装置 - Google Patents
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Description
21 反応筒
22 触媒層
23 外装体
24 加熱装置
25 原料ガス供給管
25a 第1原料ガス案内管
25b 第2原料ガス案内管
27 浸炭用ガス供給管
28 開閉装置
29 空間部
Ga 原料ガス
Ga1 炭化水素ガス
Ga2 酸素
Gb 浸炭用ガス
d 空間部における触媒層との間の距離
Claims (3)
- 触媒層が設けられた耐熱性の反応筒内に原料ガスを導き、この原料ガスを加熱させながら触媒層内を通して反応させ、一酸化炭素ガスを含む浸炭用ガスを製造する浸炭用ガス製造装置において、上記の原料ガスに炭化水素ガスと酸素とを用い、炭化水素ガスと酸素とが混合された原料ガスを、原料ガス供給管を通して上記の反応筒内に供給するにあたり、上記の原料ガスを反応筒内に供給する原料ガス供給管を複数本設けると共に、各原料ガス供給管にそれぞれ原料ガス供給管の開閉を行う開閉装置を設けたことを特徴とする浸炭用ガス製造装置。
- 請求項1に記載した浸炭用ガス製造装置において、上記の原料ガス供給管から反応筒内に噴出させる原料ガスの噴出速度を、この原料ガスの火炎伝播速度よりも速くしたことを特徴とする浸炭用ガス製造装置。
- 請求項1又は請求項2に記載した浸炭用ガス製造装置において、上記の原料ガス供給管から原料ガスを供給する供給側と触媒層との間に空間部を設けると共に、上記の原料ガスがこの空間部を通過する通過時間を0.04〜0.2秒の範囲にしたことを特徴とする浸炭用ガス製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2004199954A JP4587719B2 (ja) | 2004-07-07 | 2004-07-07 | 浸炭用ガス製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004199954A JP4587719B2 (ja) | 2004-07-07 | 2004-07-07 | 浸炭用ガス製造装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006022357A JP2006022357A (ja) | 2006-01-26 |
JP4587719B2 true JP4587719B2 (ja) | 2010-11-24 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004199954A Expired - Fee Related JP4587719B2 (ja) | 2004-07-07 | 2004-07-07 | 浸炭用ガス製造装置 |
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JP (1) | JP4587719B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5348938B2 (ja) * | 2008-04-01 | 2013-11-20 | エア・ウォーター株式会社 | 一酸化炭素ガス発生装置および方法 |
JP5285952B2 (ja) * | 2008-05-08 | 2013-09-11 | エア・ウォーター株式会社 | 一酸化炭素ガス発生装置および方法 |
WO2008146870A1 (ja) * | 2007-05-24 | 2008-12-04 | Air Water Inc. | 一酸化炭素ガス発生装置および方法ならびに浸炭用雰囲気ガス発生装置および方法 |
JP5129511B2 (ja) * | 2007-05-24 | 2013-01-30 | エア・ウォーター株式会社 | 浸炭用雰囲気ガス発生装置および方法 |
JP6234711B2 (ja) * | 2013-06-06 | 2017-11-22 | エア・ウォーター株式会社 | 浸炭処理用ガス製造方法およびそれに用いる浸炭処理用ガス製造設備 |
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-
2004
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2004010952A (ja) * | 2002-06-06 | 2004-01-15 | Nippon Sanso Corp | 浸炭用雰囲気ガス発生装置及び方法 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006022357A (ja) | 2006-01-26 |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
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A521 | Written amendment |
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