JP7330449B2 - ノズル及びそのノズルを用いたレーザ加工装置 - Google Patents

Description

本発明は、対象物にレーザ光を照射することで対象物をレーザ加工するレーザ加工装置に取着されるノズル、及び、そのノズルを用いたレーザ加工装置に関するものである。

レーザ光による加工には、対象物の表面を削るクリーニング加工や、半導体に不純物を添加するドーピング加工、対象物の壊れた結晶構造を回復するためのレーザアニーリング加工等がある。これらの加工において、レーザ加工装置は加工の対象物が酸化するのを防ぐためにレーザ光が照射される対象物上の位置であるレーザ照射位置付近の酸素濃度を抑制する必要がある。そのための方法として、真空中で対象物にレーザ光を照射する方法がある。また、対象物表面に対して局所的にガスを吹き付け、レーザ照射位置に大気中の酸素が侵入するのを防ぐ方法がある（例えば、特許文献１）。

特開２００５－７４４６６号公報

ところで、レーザ光による加工においてレーザ光が対象物に照射されると、レーザ照射位置でレーザ光を吸収して原子、クラスタ、イオン等の軽い原子からなる高温のプルームが形成される。その後、プルームと対象物との間に微粒子が対象物から放出され、微粒子がプルームに熱を供給し続ける。微粒子の放出が終わるとプルームが冷却されて縮み、微粒子は対象物側に引き付けられ、対象物に反射し飛散する。このとき飛散する微粒子は、対象物に含まれる原子を含んだデブリである。デブリはプラズマにより分解・蒸発した原子が再度固化し形成する物質である。レーザ光を対象物に照射させるためのノズルは、レーザ照射位置に対向するようにレーザ加工装置に設けられているため、レーザ照射位置から飛散した微粒子がノズルに衝突して付着することがある。付着した微粒子がレーザ光の通路を塞ぐと、対象物に対してレーザ光が期待通りに照射されなくなるおそれがある。

また、レーザ照射位置から飛散した微粒子が対象物上の他の位置に落下して対象物に付着すると、微粒子が対象物の表面に夾雑物として存在することになるため、対象物の品質を低下させるおそれがある。ノズルや対象物に付着した微粒子を後から取り除く方法も考えられるが、工程が増えるため効率が悪くなる。そのため、レーザ光による加工によって生じる微粒子がノズルや対象物に付着する前に、微粒子を除去することが必要となる。

これに対し、真空中でレーザ光を照射する方法では、対象物の周囲が真空状態のため、微粒子はレーザ照射位置からすぐに拡散されるが、真空にするために高価で大掛かりな装置が必要になるという問題があった。一方、特許文献１に記載されたレーザ加工機では、レーザ照射位置付近のガスの気流については考慮されていないため、レーザ照射位置付近で乱気流が生じる。そのため、レーザ照射位置で発生した微粒子は、乱気流に乗りノズルに衝突したり対象物上の他の位置に落下したりすることで、ノズルや対象物に付着するおそれがあるという問題があった。

本発明は、上記問題点を解決するためになされたものであり、真空にするための大掛かりな装置を必要とすることなく微粒子を効率的に除去することができるノズル及びそのノズルを用いたレーザ加工装置を提供することを目的とする。

この目的を達成するために請求項１記載のノズルは、レーザ加工の対象物であるワークにレーザ光を照射することで前記ワークを加工するレーザ加工装置に取着され、前記ワークとの位置を相対的に移動させながら前記ワークにレーザ光を照射するためのものであって、前記ワークのレーザ照射位置に向けて照射するレーザ光が出力されるレーザ照射口と、前記ノズルの相対的な移動方向に対して前記レーザ照射口より前方側に設けられ、第１のガスを吐出する第１ガス通気口と、前記ノズルの相対的な移動方向に対して前記レーザ照射口より後方側であって、該レーザ照射口を対称中心又は対称軸として前記第１ガス通気口と対称となる位置に設けられ、前記第１ガス通気口が吐出する第１のガスを吸入する第２ガス通気口と、前記ノズルの相対的な移動方向に応じて前記第１ガス通気口又は前記第２ガス通気口が割り当てられ、前記レーザ照射口を対称軸又は対象中心としてそれぞれが配置される複数の通気口と、を備え、前記ノズルは、前記ワークに対する相対的な移動方向を複数方向に変化可能に前記レーザ加工装置に取着され、前記複数の通気口の内、前記ノズルの相対的な移動方向に対して前記レーザ照射口より前方側に位置する複数の通気口が前記第１ガス通気口として割り当てられ、前記ノズルの相対的な移動方向に対して前記レーザ照射口より後方側に位置し、且つ、前記レーザ照射口を対称中心又は対称軸として前記第１ガス通気口として割り当てられた複数の通気口と対称となる位置に設けられた複数の通気口が前記第２ガス通気口として割り当てられるように構成される。

請求項２記載のノズルは、請求項１記載のノズルにおいて、前記ノズル上の位置であって、前記レーザ照射口と前記第１ガス通気口と前記第２ガス通気口とを包囲する位置に設けられ、前記レーザ照射位置を包囲するように第３のガスを吐出する第３ガス通気口を備える。

請求項３記載のレーザ加工装置は、レーザ加工の対象物である前記ワークにレーザ光を照射することで前記ワークを加工するものであって、請求項１又は２記載のノズルと、前記ノズルを前記ワークに対して相対的に移動させる移動手段と、前記レーザ照射口を通過して前記ワークに照射されるレーザ光を発振させるレーザ照射手段と、前記第１ガス通気口に接続され、前記第１ガス通気口から吐出される第１のガスを供給する第１ガス供給手段と、前記第２ガス通気口に接続され、前記第１ガス通気口から吐出される第１のガスを、前記第２ガス通気口を介して吸入する第１ガス吸入手段と、を備える。

請求項４記載のレーザ加工装置は、レーザ加工の対象物である前記ワークにレーザ光を照射することで前記ワークを加工するものであって、請求項２記載のノズルと、前記第３ガス通気口と接続され、前記第３ガス通気口から吐出される第３のガスを供給する第３ガス供給手段と、前記第２ガス通気口に接続され、前記第１ガス通気口から吐出される第１のガスを、前記第２ガス通気口を介して吸入する第１ガス吸入手段と、前記第３ガス通気口により吐出される第３のガスの量が前記第２ガス通気口により吸入されるガスの量より多くなるように、前記第３ガス供給手段により供給される第３のガスの量、及び／又は、前記第１ガス吸入手段により吸入されるガスの量を調整するガス量調整手段と、を備える。

請求項１記載のノズルによれば、レーザ加工の対象物であるワークにレーザ光を照射することでワークを加工するレーザ加工装置に取着され、ワークとの位置を相対的に移動させながらワークにレーザ光を照射する。ノズルに備えられたレーザ照射口からワークのレーザ照射位置に向けてレーザ光が照射される。ノズルの相対的な移動方向に対してレーザ照射口より前方側に設けられた第１ガス通気口から第１のガスが吐出される。そして、第１ガス通気口から吐出された第１のガスは、ノズルの相対的な移動方向に対してレーザ照射口より後方側に設けられた第２ガス通気口により吸入される。これにより、第１のガスは第１ガス通気口から第２ガス通気口へと移動する。そして、ノズルの相対的な移動方向に対して前方側から後方側に向かう第１のガスの気流が生じる。また、第１ガス通気口と第２ガス通気口とはレーザ照射口を対称中心又は対称軸として対称となる位置に設けられるため、第１ガス通気口と第２ガス通気口との中央の位置にレーザ照射口が存在する。よって、レーザ照射口から第１ガス通気口までの距離と、レーザ照射口から第２ガス通気口までの距離とに偏りが生じるのを抑えることができるため、レーザ照射口付近における第１のガスの気流は偏りの少ない安定したものとなる。そして、レーザ照射位置においてレーザ光が照射されることで発生する微粒子がレーザ照射口付近に近付くと、微粒子は安定した第１のガスの気流に乗り第２ガス通気口により吸入される。従って、真空にするための大掛かりな装置を必要とすることなく微粒子を効率的に除去することができるという効果がある。また、ノズルは、ワークに対する相対的な移動方向を複数方向に変化可能にレーザ加工装置に取着される。そしてノズルには、レーザ照射口を対称軸又は対象中心としてそれぞれが配置される複数の通気口が設けられており、第１ガス通気口及び第２ガス通気口は、ノズルの相対的な移動方向に応じて、この複数の通気口から割り当てられる。即ち、複数の通気口の内、ノズルの相対的な移動方向に対してレーザ照射口より前方側に位置する複数の通気口が、第１ガス通気口として割り当てられる。また、ノズルの相対的な移動方向に対してレーザ照射口より後方側に位置し、且つ、レーザ照射口を対称中心又は対称軸として第１ガス通気口として割り当てられた複数の通気口と対称となる位置に設けられた複数の通気口が、第２ガス通気口として割り当てられる。このように、通気口を複数設けることで、ノズルの相対的な移動方向がどの方向に設定されたとしても、そのノズルの相対的な移動方向に対して前方側から後方側に向かう第１のガスの気流を生じさせることができる。しかも、第１ガス通気口及び第２ガス通気口として、それぞれ複数の通気口が割り当てられるので、ノズルの相対的な移動方向がどの方向に設定されたとしても、微粒子を効率的に除去することができるという効果がある。

請求項２記載のノズルによれば、請求項１記載のノズルの奏する効果に加え、次の効果を奏する。即ち、第３ガス通気口は、ノズル上の位置であって、レーザ照射口と第１ガス通気口と第２ガス通気口とを包囲する位置に設けられ、レーザ照射位置を包囲するように第３のガスを吐出する。これにより、レーザ照射位置を第３のガスで取り囲んだ空間内に存在させ、レーザ照射位置が大気に触れるのを抑制することができる。ここで、第３ガス通気口はレーザ照射位置を包囲するように第３のガスを吐出するため、レーザ照射位置で生じる微粒子は第３のガスで取り囲まれた空間から外に出ることが抑制される。一方で、第３のガスで取り囲まれた空間内には、第１ガス通気口と第２ガス通気口とが存在するため、第１ガス通気口により吐出され第２ガス通気口により吸入される第１のガスの気流が存在する。そして、第３のガスで取り囲まれた空間内のレーザ照射位置で生じる微粒子は、第１のガスの気流に乗り第２ガス通気口に吸入される。これにより、第３のガスで取り囲まれた空間内で発生する微粒子をその空間内で滞留させことなく、除去することができる。よって、レーザ照射位置を第３のガスで取り囲まれた空間内に存在させることでレーザ照射位置が大気に触れるのを防ぎつつ、第３のガスで取り囲まれた空間内で発生した微粒子を除去することができるという効果がある。

請求項３記載のレーザ加工装置によれば、請求項１又は２記載のノズルを有することにより、対応のノズルによって奏する効果が得られるレーザ加工装置を得ることができるという効果がある。

請求項４記載のレーザ加工装置によれば、請求項２記載のノズルを備え、第３ガス通気口における第３のガスの吐出量が第２ガス通気口のガスの吸入量より多くなるように、第３ガス通気口により吐出される第３のガスの量、及び／又は、第２ガス通気口により吸入されるガスの量がガス量調整手段により調整される。これにより、第３ガス通気口から吐出される第３のガスの量は第２ガス通気口により吸入されるガスの量より多くなるため、ノズルの内側の気圧がノズルの外側の気圧より高くなる。よって、ノズルの内側から外側へ向かう第３のガスの気流が生じ、第３ガス通気口より外側にある大気が第３ガス通気口より内側に侵入するのを抑制することができる。従って、第３ガス通気口より内側にあるレーザ照射位置が大気に触れるのを抑制することができるという効果がある。

本発明の第１実施形態であるノズルを有するレーザ加工装置の構成を概略的に示す概略図である。 （ａ）～（ｆ）は、レーザ照射位置にレーザ光が照射されてから微粒子が発生するまでのワーク表面の経時的な変化を模式的に示した模式図である。 ノズルを鉛直方向に切断したときの断面とガス供給吸入装置の構成とを概略的に示す概略図である。 ノズルを下側から見たときのノズルの構成を模式的に示した模式図である。 ワークに対するノズルの相対的な移動方向を模式的に示した模式図である。 レーザ加工装置の電気的構成を示したブロック図である。 メモリに格納されるプログラムデータの一例を模式的に示した模式図である。 ＣＰＵにより実行されるレーザ照射プログラムの前半部分を示すフローチャートである。 ＣＰＵにより実行されるレーザ照射プログラムの後半部分を示すフローチャートである。 第２実施形態であるノズルを下側から見たときのノズルの構成とガス供給吸入装置の構成とを模式的に示した模式図である。 （ａ）～（ｈ）は、ノズル１１の位置の各移動方向における第１のガスの吐出・吸入の状態を示す模式図である。 第３実施形態であるレーザ加工装置の構成を概略的に示す概略図である。

以下、本発明を実施するための形態について添付図面を参照して説明する。まず、図１を参照して、本発明の第１実施形態であるノズル１１を有するレーザ加工装置１０の概略について説明する。図１は、そのノズル１１を有するレーザ加工装置１０の構成を概略的に示す概略図である。

レーザ加工装置１０は、レーザ光Ｌにより例えばシリコンウエハ等の加工対象物（以下、単に「ワーク」と称す）Ｗをレーザ加工するための装置である。レーザ加工とは、レーザ光ＬによりワークＷの表面を削るクリーニング加工や、レーザ光Ｌにより半導体に不純物を添加するドーピング加工、レーザ光ＬによりワークＷの壊れた結晶構造を回復するためのレーザアニーリング加工等の加工をはじめとするレーザ光Ｌによる全ての加工をいう。なお、本実施形態では円形（例えば、直径６インチ）のシリコンウエハをワークＷとし、ワークＷに対してアニーリング加工を行う場合の例について説明する。

図１に示す通り、レーザ加工装置１０は、ノズル１１と、レーザ照射装置３０と、ガス供給吸入装置４０と、ステージ制御装置５７と、制御装置６０と、ミラーＭと、ステージＳとを備える。制御装置６０は、レーザ照射装置３０、ガス供給吸入装置４０、ステージ制御装置５７を制御するための装置であり、レーザ照射装置３０、ガス供給吸入装置４０、ステージ制御装置５７と電気的に接続されている。また、制御装置６０は、ステージ制御装置５７を介してステージＳと電気的に接続されている。

レーザ照射装置３０は、希ガスとハロゲンガスとの混合ガスを用いてレーザ光Ｌを発振させる装置（エキシマレーザ）である。レーザ照射装置３０は、制御装置６０からの指示に基づいて、レーザ光Ｌの照射と停止とを行う。レーザ光Ｌの発振に用いる希ガスとしては、例えば、アルゴン、クリプトン、キセノンを用いることができる。また、ハロゲンガスとしては、例えば、フッ素、塩素を用いることができる。なお、本実施形態では、レーザ照射装置３０は、エキシマレーザとしたが、これに限定されるものではない。例えば、レーザ照射装置３０は、イットリウム、アルミニウム、ガーネットを使用したＹＡＧ（Ｙｔｔｒｉｕｍ Ａｌｍｉｎｉｕｍ Ｇａｒｎｅｔ）レーザや、希土類元素を添加した光ファイバーをレーザ媒質として利用するファイバーレーザとしてもよい。

ミラーＭは、レーザ照射装置３０から照射されたレーザ光Ｌを反射させ、ノズル１１へ送り込むための部材である。

ノズル１１は、レーザ加工装置１０に非可動に取付けられて、ワークＷに向けてレーザ光Ｌを照射させるための部材である。詳細は後述するが、本発明のノズル１１は通気口から例えば窒素ガスなどの不活性ガス（以下、単に「ガス」とも称す）を吐出し、ガスを吐出する通気口とは別の通気口でガスを吸入することでノズル１１の後述のレーザ照射口１２付近にガスの気流を生成するように構成される。そして、ノズル１１は、レーザ光ＬがワークＷに照射される位置であるレーザ照射位置Ｅで生じる微粒子Ｄをそのガスの気流に乗せて除去することが可能に構成される。また、ノズル１１を用いたレーザ加工装置１０は、ガスを吐出させる通気口と、ガスを吸入させる通気口とを切り替え可能に構成されている。

ガス供給吸入装置４０は、ノズル１１から吐出されるガスを供給し、ノズル１１からガスを吸入するための装置である。ガス供給吸入装置４０は、制御装置６０からの指示に基づいてガスの吐出と吸入とを行う。

ステージＳは、ワークＷが載置され、ワークＷを図１に示すｘ軸方向とｙ軸方向とに移動させるための装置である。ステージ制御装置５７は、制御装置６０からの移動の指示に基づいてステージＳの移動を制御するための装置である。ステージＳは、ｘ軸方向に移動するための動力を発生させるｘ軸モータ５６ａとｙ軸方向に移動するための動力を発生させるｙ軸モータ５６ｂとを備える。ｘ軸モータ５６ａにはステージＳをｘ軸方向に移動させるためのｘ軸送りねじ（図示せず）が設けられており、ｙ軸モータ５６ｂにはステージＳをｙ軸方向に移動させるためのｙ軸送りねじ（図示せず）が設けられている。そして、制御装置６０からの指示に基づいて、ステージ制御装置５７がｘ軸モータ５６ａを駆動するとｘ軸送りねじが回転し、ステージＳがｘ軸方向に移動するようになっている。また、制御装置６０からの指示に基づいて、ステージ制御装置５７がｙ軸モータ５６ｂを駆動するとｙ軸送りねじが回転し、ステージＳがｙ軸方向に移動するようになっている。これにより、ステージＳはｘ軸方向とｙ軸方向とに移動し、ステージＳに対して、ノズル１１の位置を相対的に変化させることができるようになっている。

ここで、ステージＳとノズル１１との関係について説明する。上述の通り、ノズル１１はレーザ加工装置１０に非可動に取付けられているのに対して、ステージＳは移動可能となっている。そのため、ステージＳが移動するとノズル１１と対向するステージＳ上の位置が変化する。そこで、本実施形態では、ノズル１１が対向するステージＳ上の位置（以下、「ノズル１１の位置」と称す）をｘ軸方向とｙ軸方向との座標（ｘ，ｙ）で表し、ステージＳに対してノズル１１が相対的にどの位置に存在するかが認識できるようになっている。なお、図１に示すレーザ加工装置１０の方向を正面とし、レーザ加工装置１０を正面から見たときの左右方向をｘ軸方向とし、手前から奥行きへの方向をｙ軸方向とする。このときの右方向をｘ軸の正の方向、左方向をｘ軸の負の方向、奥行き方向をｙ軸の正の方向、手前方向をｙ軸の負の方向としている。

ノズル１１の位置は、予め定められたステージＳ上の位置である原点（０，０）を起点に求められる。ステージＳが原点（０，０）からｘ軸方向に－Ｍミリメートル（以下、「ｍｍ」と表す）、ｙ軸方向に－Ｎ（ｍｍ）移動したときのノズル１１の位置を座標（Ｍ，Ｎ）として表す。このように、ステージＳの移動方向とノズル１１の位置の座標との正負が反対になるのは、ノズル１１が非可動にレーザ加工装置１０に取付けられており、ステージＳが負の方向に移動すると、ステージＳに対するノズル１１の位置の座標は相対的に正の方向に移動することになるからである。

例えば、ノズル１１の位置を原点（０，０）から座標（Ｍ，Ｎ）に移動させる場合、ステージＳをｘ軸方向に－Ｍ（ｍｍ）移動するようにｘ軸モータ５６ａがｘ軸送りねじを回転させ、ステージＳをｙ軸方向に－Ｎ（ｍｍ）移動するようにｙ軸モータ５６ｂがｙ軸送りねじを回転させる。このように、ステージＳを移動させることで、ノズル１１の位置を所望の位置に移動させることができるようになっている。

また、ｘ軸送りねじにはｘ軸送りねじの回転角を検出するセンサであるロータリエンコーダ（図示せず）が取り付けられており、ｘ軸送りねじの回転角に基づいてステージＳがｘ軸方向にどれだけの距離を移動したかがわかるようになっている。そのため、原点からのｘ軸送りねじの回転角を求めることで、ノズル１１の位置におけるｘ軸方向の座標を求めることができるようになっている。

同様に、ｙ軸送りねじにはｙ軸送りねじの回転角を検出するセンサであるロータリエンコーダ（図示せず）が取り付けられており、ｙ軸送りねじの回転角に基づいてステージＳがｙ軸方向にどれだけの距離を移動したかがわかるようになっている。そのため、原点からのｙ軸送りねじの回転角を求めることで、ノズル１１の位置におけるｙ軸方向の座標を求めることができるようになっている。

ロータリエンコーダが検出する原点からのｘ軸送りねじの回転角と原点からのｙ軸送りねじの回転角とは、所定時間毎（例えば３ミリ秒）にステージ制御装置５７に送信される。ステージ制御装置５７は、原点からのｘ軸送りねじの回転角と原点からのｙ軸送りねじの回転角とに基づいて演算を行いノズル１１の位置の座標を求める。そして、演算により求めたノズル１１の位置の座標と、制御装置６０からの移動の指示により目指すべきノズル１１の位置の座標との差がなくなるように、ステージ制御装置５７はｘ軸モータ５６ａとｙ軸モータ５６ｂとを駆動する。

制御装置６０には、表示装置６４とタッチパネル６５とが取り付けられている。表示装置６４は、制御装置６０の各種状態を表示するディスプレイである。タッチパネル６５は、表示装置６４の表示面を覆うように設けられ、表示装置６４に表示されたボタンと連動して、制御装置６０に対し、使用者が種々の設定を行うための入力装置である。使用者はタッチパネル６５を用いて、レーザ加工の開始を指示したりすることができるようになっている。

予め設定されたノズル１１の位置の移動経路に基づいて、制御装置６０はステージ制御装置５７を介してｘ軸モータ５６ａとｙ軸モータ５６ｂとを駆動して、ステージＳを移動させることでノズル１１の位置を移動させる。また、予め設定されたレーザ光Ｌの照射を開始・終了するノズル１１の位置にノズル１１が到着すると、制御装置６０はレーザ光Ｌを照射したり照射を停止したりするようにレーザ照射装置３０を制御する。また、予め設定されたガスの吐出と吸入とを開始・終了するノズル１１の位置にノズル１１が到着すると、制御装置６０はガスの吐出及び吸入を開始したり停止したりするようにガス供給吸入装置４０を制御する。

次に図２（ａ）～（ｆ）を参照して、レーザ照射位置Ｅにレーザ光Ｌが照射されてから微粒子Ｄが発生するまでのワークＷ表面の経時的な変化について説明する。図２（ａ）は、レーザ照射位置Ｅにレーザ光Ｌが照射された瞬間のワークＷ表面の状態を模式的に示した模式図であり、図２（ｂ）は、レーザ照射位置Ｅにレーザ光Ｌが照射されてから０．５μ秒後のワークＷ表面の状態を模式的に示した模式図であり、図２（ｃ）は、レーザ照射位置Ｅにレーザ光Ｌが照射されてから１μ秒後のワークＷ表面の状態を模式的に示した模式図であり、図２（ｄ）は、レーザ照射位置Ｅにレーザ光Ｌが照射されてから５μ秒後のワークＷ表面の状態を模式的に示した模式図であり、図２（ｅ）は、レーザ照射位置Ｅにレーザ光Ｌが照射されてから１０μ秒後のワークＷ表面の状態を模式的に示した模式図であり、図２（ｆ）は、レーザ照射位置Ｅにレーザ光Ｌが照射されてから５０μ秒後のワークＷ表面の状態を模式的に示した模式図である。

図２（ａ）～（ｆ）に示す通り、高エネルギーのレーザ光ＬがワークＷに照射されると（図２（ａ））、レーザ照射から０．５μ秒後にはレーザ照射位置Ｅでレーザ光Ｌを吸収して原子、クラスタ、イオン等の軽い原子からなる高温のプルームＰが形成される（図２（ｂ））。その後、プルームＰとワークＷとの間にワークＷから微粒子Ｄが放出されプルームＰに熱を供給し続ける。レーザ照射から５μ秒後には微粒子Ｄの放出が終わり、プルームＰが冷却され縮む（図２（ｃ）～（ｅ））。そして、レーザ照射から５０μ秒後には、微粒子ＤはワークＷ側に引き付けられ、ワークＷに反射し飛散する。このとき飛散する微粒子Ｄは、対象物に含まれる原子を含んだデブリである。デブリはプラズマにより分解・蒸発した原子が再度固化し形成する物質である。レーザ光Ｌのフルエンス（単位面積あたりのエネルギー量）が２０Ｊ／ｃｍ^２の場合の微粒子Ｄが飛散する速度は、約１００メートル／秒である。

なお、図２（ａ）～（ｆ）は、一例を示したものであり、ワークＷの材質やレーザ光Ｌの強度等の条件によりプルームＰの大きさや微粒子Ｄが飛散するまでの時間、微粒子Ｄが飛散する速度は異なる。

次に、図３、図４を参照して、ノズル１１とガス供給吸入装置４０との構成について説明する。図３は、ノズル１１を鉛直方向に切断したときの断面とガス供給吸入装置４０の構成とを概略的に示す概略図であり、図４は、ノズル１１を下側（ワークＷと対向する側）から見たときのノズル１１の構成を模式的に示した模式図である。

ノズル１１は、上面（ワークＷと対向する側と反対側）にレーザ侵入口１３を備え、下面（ワークＷと対向する側）にレーザ照射口１２、第１ガス通気口１５、第２ガス通気口１７、第３ガス通気口１９、チャンバー２１を備え、側面に第４ガス接続口１４、第１ガス接続口１６、第２ガス接続口１８、第３ガス接続口２０を備える。また、ノズル１１の内部上方にはレンズ５５が取り付けられている。

ガス供給吸入装置４０は、第１ガスボンベ４１ａ、第３ガスボンベ４１ｂ、第４ガスボンベ４１ｃ、吸引ポンプ４２、第１ガス供給弁４３、第２ガス供給弁４４、第３ガス供給弁４５、第４ガス供給弁４６、第１ガス吸入弁４７、第２ガス吸入弁４８、第１切替弁４９、第２切替弁５０を備える。

先ず、ノズル１１におけるレーザ光Ｌの通路の構成について説明するためにノズル１１のレーザ照射口１２、レーザ侵入口１３、レンズ５５について説明する。レーザ侵入口１３は、ミラーＭにより反射されたレーザ光Ｌがノズル１１に侵入するための開口部である。レンズ５５は、レーザ侵入口１３の下側にレーザ侵入口１３を塞ぐように取り付けられる。レンズ５５は、レーザ光Ｌをレーザ照射口１２に集光させるためのものである。レーザ照射装置３０から照射されるレーザ光Ｌは矩形であり、レンズ５５を通過したレーザ光Ｌも矩形になっている。レーザ照射口１２は、レーザ光ＬをワークＷに向けて通過させるための開口部である。レーザ照射口１２は、レンズ５５の下側でレーザ光Ｌが通過する位置に設けられる。これにより、レーザ侵入口１３から侵入したレーザ光Ｌは、レンズ５５、レーザ照射口１２を通過してワークＷに矩形の形状で照射されるようになっている。

なお、本実施形態では、レーザ照射装置３０から照射されるレーザ光Ｌを整形することなくそのまま用いたが、これに限定されるものではない。例えば、レンズ５５の上側にレーザ光Ｌの形状を整形にするための光学素子であるビームシェイパーを設けてもよい。ビームシェイパーは、レーザ光Ｌの形状を正方形や円形等に整形するものであってもよい。

また、図３に示す通り、レンズ５５を通過したレーザ光Ｌは、レーザ光Ｌの幅が一旦極小となった後でワークＷに照射される。ここで、レーザ照射口１２は、レーザ光Ｌの幅が極小となるビームウエストの位置に設けられる。そのため、レーザ照射口１２の開口部の面積を小さく抑えることができる。よって、レーザ照射位置Ｅで発生する微粒子Ｄがレーザ照射口１２を通過してノズル１１の内部に侵入し、付着する可能性を抑制することができるという効果がある。

更に、図４に示す通り、レーザ照射口１２の形状は略矩形である。一方、レーザ照射口１２を通過するレーザ光Ｌの形状はレーザ照射口１２よりわずかに小さい矩形であり、略同一形状となっている。ここで略同一形状とは、厳密に同じ形状である場合に限定されるものではなく、わずかな違いを有する形状をも含むものである。即ち、レーザ照射口１２の形状はレーザ照射口１２を通過するレーザ光Ｌの形状と略同一形状であるため、レーザ光Ｌの形状に合うようにレーザ照射口１２の開口部の面積を狭めることができるようになっている。よって、レーザ照射位置Ｅで発生する微粒子Ｄがレーザ照射口１２を通過してノズル１１の内部に侵入し、付着する可能性を抑制することができるようになっている。

次に、レーザ照射口１２から第４のガスを吐出するための構成について説明するために、第４ガス接続口１４、第４ガスボンベ４１ｃ、第４ガス供給弁４６について説明する。第４ガス接続口１４は、第４ガス供給弁４６をノズル１１に接続させるための開口部である。第４ガスボンベ４１ｃは、不活性ガスである第４のガスを貯蔵する容器である。第４ガス供給弁４６は、第４ガスボンベ４１ｃから流れる第４のガスの通路を電気的な信号により開閉することで、第４のガスの吐出量を調整するためのバルブである。第４ガス接続口１４は、ノズル１１の側面に設けられ、ノズル１１内部に設けられたレンズ５５とレーザ照射口１２との空間と連通する。そして、第４ガス接続口１４は、第４ガス供給弁４６を介して第４ガスボンベ４１ｃと接続される。これにより、第４ガス供給弁４６が第４ガスボンベ４１ｃ側から第４ガス接続口１４側への通路を開放すると、第４ガスボンベ４１ｃから第４のガスが所定の圧力で吐出され、第４ガス接続口１４からノズル１１内に第４のガスが吹き込むようになっている。ノズル１１内では、レンズ５５がレーザ侵入口１３を塞いでいるため、第４のガスがレーザ侵入口１３から吐出されないようになっている。

このとき、ノズル１１内に入り込んだ第４のガスがレーザ照射口１２からガスが吐出されるように、第４ガスボンベ４１ｃから吐出される第４のガスの圧力が第４ガス供給弁４６により調整できるように構成されている。即ち、第４のガスの圧力は、レーザ照射口１２における圧力がレーザ照射位置Ｅにおける圧力よりも高くなるように第４ガス供給弁４６により調整できるようになっている。第４ガス供給弁４６の開放度合いを調整することで、第４ガスボンベ４１ｃから吐出される第４のガスの圧力が調整される。これにより、レーザ照射口１２から第４のガスが吐出されるため、レーザ照射位置Ｅで発生する微粒子Ｄがレーザ照射口１２を通過してノズル１１の内部に侵入し、付着する可能性を抑制することができるという効果がある。

なお、レーザ照射口１２から吐出される第４のガスの圧力が強すぎると、後述の第１のガスの気流が乱されるおそれがあるので、第４のガスの圧力は第１のガスの気流を乱さない程度に調整されるとよい。また、後述の第１ガス通気口１５又は第２ガス通気口１７から吸入するガスの量を第１のガスの吐出量と第４のガスの吐出量とを合算した量になるように調整することで、第４のガスが吐出されることで第１のガスの気流が乱されるのを抑えるようにしてもよい。

次に、レーザ照射位置Ｅにおいて発生する微粒子Ｄを除去するための構成について説明するために、第１ガス通気口１５と第２ガス通気口１７とについて説明する。第１ガス通気口１５は、ステージＳの移動方向に対してレーザ照射口１２より後方側（ノズル１１の位置の移動方向に対して前方側）にある場合は不活性ガスである第１のガスを吐出するために用いられる。一方で、第１ガス通気口１５がステージＳの移動方向に対してレーザ照射口１２より前方側（ノズル１１の位置の移動方向に対して後方側）にある場合は第２ガス通気口１７から吐出される第１のガスを吸入するために用いられる。このように、第１ガス通気口１５は、第１のガスの吐出と吸入とを切り替えて使用する通気口である。第２ガス通気口１７は、ステージＳの移動方向に対してレーザ照射口１２より後方側（ノズル１１の位置の移動方向に対して前方側）にある場合は第１のガスを吐出するために用いられる。一方で、第２ガス通気口１７がステージＳの移動方向に対してレーザ照射口１２より前方側（ノズル１１の位置の移動方向に対して後方側）にある場合は第１ガス通気口１５から吐出される第１のガスを吸入するために用いられる。このように、第２ガス通気口１７は、第１のガスの吐出と吸入とを切り替えて使用する通気口である。

図３に示す通り、第１ガス通気口１５と第２ガス通気口１７とは、ノズル１１の底面に設けられた凹部（後述のチャンバー２１）の凹んだ部分のうちノズル１１の底面部分に設けられる。なお、第１ガス通気口１５と第２ガス通気口１７とは、凹部の凹んだ部分のうちノズル１１の底面部分に設けられるものに限定されるものではない。例えば、第１ガス通気口１５と第２ガス通気口１７とは凹部の側面に設けられてもよい。また、図４に示す通り、第１ガス通気口１５と第２ガス通気口１７とは同一形状であり、レーザ照射口１２を対称軸として対称となる位置に設けられる。第１ガス通気口１５と第２ガス通気口１７とは、それぞれレーザ照射口１２と隣り合う位置に設けられる。

第１ガス通気口１５はｘ軸方向の正の方向側に設けられており、図３に示す例ではステージＳの移動方向に対してレーザ照射口１２より後方側（ノズル１１の位置の移動方向に対して前方側）にある。第２ガス通気口１７はｘ軸方向の負の方向側に設けられており、図３に示す例ではステージＳの移動方向に対してレーザ照射口１２より前方側（ノズル１１の位置の移動方向に対して後方側）にある。

図３に示す例では、ステージＳの移動方向に対してレーザ照射口１２より後方側（ノズル１１の位置の移動方向に対して前方側）にある第１ガス通気口１５から第１のガスが吐出され、第１ガス通気口１５から吐出される第１のガスはステージＳの移動方向に対してレーザ照射口１２より前方側（ノズル１１の位置の移動方向に対して後方側）にある第２ガス通気口１７により吸入されるようになっている。即ち、第１のガスは第１ガス通気口１５から第２ガス通気口１７へと移動し、ノズル１１の位置の移動方向に対して前方側から後方側に向かう第１のガスの気流が生じるようになっている。

また、第１ガス通気口１５と第２ガス通気口１７とはレーザ照射口１２を対称軸として対称となる位置に設けられるため、第１ガス通気口１５と第２ガス通気口１７との中央の位置にレーザ照射口１２が存在するようになっている。よって、レーザ照射口１２から第１ガス通気口１５までの距離と、レーザ照射口１２から第２ガス通気口１７までの距離とに偏りが生じるのを抑えることができるため、レーザ照射口１２付近における第１のガスの気流は偏りの少ない安定したものとなるようになっている。

更に、第１ガス通気口１５と第２ガス通気口１７とはレーザ照射口１２と隣り合う位置に設けられる。これにより、レーザ照射口１２と第１ガス通気口１５との間、及び、レーザ照射口１２と第２ガス通気口１７との間において、第１のガスの気流を乱す要因になるものを減らすことができるため、第１のガスの気流を安定化することができるようになっている。よって、第１ガス通気口１５から第１のガスが吐出され、第２ガス通気口１７により吸入される場合、少なくともレーザ照射口１２と第２ガス通気口１７との間に微粒子Ｄが近付くと、安定した気流により微粒子Ｄは第２ガス通気口１７に吸入される。一方、第２ガス通気口１７から第１のガスが吐出され、第１ガス通気口１５により吸入される場合、少なくともレーザ照射口１２と第１ガス通気口１５との間に微粒子Ｄが近付くと、安定した気流により微粒子Ｄは第１ガス通気口１５に吸入される。従って、レーザ照射位置Ｅで発生する微粒子Ｄを第１ガス通気口１５又は第２ガス通気口１７により吸入する精度を高めることができるという効果がある。

ノズル１１の第１ガス通気口１５と第２ガス通気口１７とは同一形状である。これにより、一の方向に相対的に移動することにより第１ガス通気口１５から第１のガスを吐出して第２ガス通気口１７から第１のガスを吸入する場合の第１ガス供給弁４３及び第２ガス吸入弁４８の制御と、一の方向とは逆方向に相対的に移動することにより第２ガス通気口１７から第１のガスを吐出して第１ガス通気口１５から第１のガスを吸入する場合の第２ガス供給弁４４及び第１ガス吸入弁４７の制御とを、同一の条件で実行するだけで、いずれの方向に相対的にノズル１１が移動したとしても、レーザ照射口１２付近で同様のガスの流れを実現できる。即ち、移動方向の切り替えに伴い、第１ガス通気口１５及び第２ガス通気口１７におけるガスの吐出及び吸入を切り替えたとしても、複雑な調整を不要にできるという効果がある。

次に、第１ガス通気口１５における第１のガスの吐出と吸入とを切り替え可能にするための構成について説明するために、第１ガス通気口１５、第１ガス接続口１６、第１ガスボンベ４１ａ、吸引ポンプ４２、第１ガス供給弁４３、第１ガス吸入弁４７、第１切替弁４９について説明する。

第１ガス接続口１６は、第１切替弁４９をノズル１１に接続させるための開口部である。第１ガスボンベ４１ａは、不活性ガスである第１のガスを貯蔵する容器である。吸引ポンプ４２は、第２ガス吐出口から吐出される第１のガスを第１ガス通気口１５より吸入するためのポンプである。第１ガス供給弁４３は、第１ガスボンベ４１ａから流れる第１のガスの通路を電気的な信号により開閉することで、第１のガスの吐出量を調整するためのバルブである。第１ガス吸入弁４７は、吸引ポンプ４２へと吸入される第１のガスの通路を電気的な信号により開閉することで、第１のガスの吸入量を調整するためのバルブである。第１切替弁４９は、第１ガス通気口１５による第１のガスの吐出と吸入とを電気的な信号により切り替えるためのバルブである。

図３に示す通り、ノズル１１の側面に、第１ガス通気口１５までの空間と連通する第１ガス接続口１６が設けられ、第１ガス接続口１６には第１切替弁４９が接続される。第１切替弁４９には、第１ガス供給弁４３を介して第１ガスボンベ４１ａが接続され、第１ガス吸入弁４７を介して吸引ポンプ４２が接続される。

第１ガス供給弁４３において第１ガスボンベ４１ａ側から第１切替弁４９側への通路が開放されている場合に、第１切替弁４９により第１ガス供給弁４３側から第１ガス接続口１６側への通路が開放されると、第１ガスボンベ４１ａから吐出される第１のガスが、第１ガス接続口１６を通って第１ガス通気口１５から吐出されるようになっている。一方で、第１ガス吸入弁４７において吸引ポンプ４２側から第１切替弁４９への通路が開放されている場合に、第１切替弁４９により第１ガス吸入弁４７側から第１ガス接続口１６側への通路が開放されると、吸引ポンプ４２の吸引により第１のガスが第１ガス通気口１５から吸入されるようになっている。このように第１切替弁４９により、第１ガス通気口１５における第１のガスの吐出と吸入とを切り替えることができるようになっている。

次に、第２ガス通気口１７における第１のガスの吐出と吸入とを切り替え可能にするための構成について説明するために、第２ガス通気口１７、第２ガス接続口１８、第１ガスボンベ４１ａ、吸引ポンプ４２、第２ガス供給弁４４、第２ガス吸入弁４８、第２切替弁５０について説明する。

第２ガス接続口１８は、第２切替弁５０をノズル１１に接続させるための開口部である。吸引ポンプ４２は、上述の通り、第２ガス吐出口から吐出される第１のガスを第１ガス通気口１５より吸入するポンプであり、一方で第１ガス通気口１５から吐出される第１のガスを第２ガス通気口１７より吸入するためのポンプでもある。第２ガス供給弁４４は、第１ガスボンベ４１ａから流れる第１のガスの通路を電気的な信号により開閉することで、第１のガスの吐出量を調整するためのバルブである。第２ガス吸入弁４８は、吸引ポンプ４２へと吸入される第１のガスの通路を電気的な信号により開閉することで、第１のガスの吸入量を調整するためのバルブである。第２切替弁５０は、第２ガス通気口１７による第１のガスの吐出と吸入とを電気的な信号により切り替えるためのバルブである。

図３に示す通り、ノズル１１の側面に、第２ガス通気口１７までの空間と連通する第２ガス接続口１８が設けられ、第２ガス接続口１８には第２切替弁５０が接続される。第２切替弁５０には、第２ガス供給弁４４を介して第１ガスボンベ４１ａが接続され、第２ガス吸入弁４８を介して吸引ポンプ４２が接続される。

第２ガス供給弁４４において第１ガスボンベ４１ａ側から第２切替弁５０側への通路が開放されている場合に、第２切替弁５０により第２ガス供給弁４４側から第２ガス接続口１８側への通路が開放されると、第１ガスボンベ４１ａから吐出される第１のガスが、第２ガス接続口１８を通って第２ガス通気口１７から吐出されるようになっている。一方で、第２ガス吸入弁４８において吸引ポンプ４２側から第２切替弁５０への通路が開放されている場合に、第２切替弁５０により第２ガス吸入弁４８側から第２ガス接続口１８側への通路が開放されると、吸引ポンプ４２の吸引により第１のガスが第２ガス通気口１７から吸入されるようになっている。このように第２切替弁５０により、第２ガス通気口１７における第１のガスの吐出と吸入とを切り替えることができるようになっている。

次に、第３ガス通気口１９から第３のガスを吐出するための構成について説明するために、第３ガス通気口１９、第３ガス接続口２０、第３ガスボンベ４１ｂ、第３ガス供給弁４５について説明する。第３ガス通気口１９は、第３のガスを吐出するための通気口である。第３ガス接続口２０は、第３ガス供給弁４５をノズル１１に接続させるための開口部である。第３ガスボンベ４１ｂは、不活性ガスである第３のガスを貯蔵する容器である。第３ガス供給弁４５は、第３ガスボンベ４１ｂから流れる第３のガスの通路を電気的な信号により開閉することで、第３のガスの吐出量を調整するためのバルブである。

図３に示す通り、ノズル１１の側面に、第３ガス通気口１９までの空間と連通する第３ガス接続口２０が設けられる。そして、第３ガス接続口２０は、第３ガス供給弁４５を介して第３ガスボンベ４１ｂと接続される。図４に示す通り、第３ガス通気口１９は、ノズル１１の底面においてレーザ照射口１２と第１ガス通気口１５、第２ガス通気口１７とを包囲する位置に設けられる。

ここで、第３ガス供給弁４５において第３ガスボンベ４１ｂ側から第３ガス接続口２０側への通路が開放されると、第３ガスボンベ４１ｂから第３のガスが吐出され、第３ガス接続口２０からノズル１１内に第３のガスが吹き込み、第３ガス通気口１９から第３のガスが吐出されるようになっている。このとき、レーザ照射位置Ｅを包囲するように第３のガスが吐出されるようになっている。

これにより、レーザ照射位置Ｅを第３のガスで取り囲んだ空間内に存在させ、レーザ照射位置Ｅが大気に触れるのを抑制することができる。ここで、第３ガス通気口１９はレーザ照射位置Ｅを包囲するように第３のガスを吐出するため、レーザ照射位置Ｅで生じる微粒子Ｄは第３のガスで取り囲まれた空間から外に出ることが抑制される。一方で、第３のガスで取り囲まれた空間内には、第１ガス通気口１５と第２ガス通気口１７とが存在するため、第１ガス通気口１５により吐出され第２ガス通気口１７により吸入される第１のガスの気流、又は、第２ガス通気口１７により吐出され第１ガス通気口１５により吸入される第１のガスの気流が存在する。そして、第３のガスで取り囲まれた空間内のレーザ照射位置Ｅで生じる微粒子Ｄは、第１のガスの気流に乗り、ノズル１１の位置の移動方向に対してレーザ照射口１２より後方側に設けられた第１ガス通気口１５又は第２ガス通気口１７に吸入される。これにより、第３のガスで取り囲まれた空間内で発生する微粒子Ｄをその空間内で滞留させことなく、除去することができる。よって、レーザ照射位置Ｅを第３のガスで取り囲まれた空間内に存在させることでレーザ照射位置Ｅが大気に触れるのを防ぎつつ、第３のガスで取り囲まれた空間内で発生した微粒子Ｄを除去することができるという効果がある。

また、第３ガス通気口１９における第３のガスの吐出量がノズル１１の位置の移動方向に対してレーザ照射口１２より後方側に設けられた第１ガス通気口１５又は第２ガス通気口１７のガスの吸入量より多くなるように調整できるようになっている。具体的には、第３ガス通気口１９により吐出される第３のガスの量、及び／又は、ノズル１１の位置の移動方向に対してレーザ照射口１２より後方側に設けられた第１ガス通気口１５若しくは第２ガス通気口１７により吸入されるガスの量が第３ガス供給弁４５、第１ガス吸入弁４７、第２ガス吸入弁４８により調整できるようになっている。

これにより、第３ガス通気口１９から吐出される第３のガスの量は第２ガス通気口１７により吸入されるガスの量より多くなるため、ノズル１１の内側の気圧がノズル１１の外側の気圧より高くなる。よって、ノズル１１の内側から外側へ向かう第３のガスの気流が生じ、第３ガス通気口１９より外側にある大気が第３ガス通気口１９より内側に侵入するのを抑制することができる。従って、第３ガス通気口１９より内側にあるレーザ照射位置Ｅが大気に触れるのを抑制することができるという効果がある。

次に、チャンバー２１について説明する。チャンバー２１は、ノズル１１の底面に設けられる凹部状に形成された空間である。図３に示す通り、チャンバー２１はレーザ照射位置Ｅと対向する位置に設けられる。そして、レーザ照射口１２はチャンバー２１の凹んだ面のうちノズル１１の底面に設けられる。

このとき、チャンバー２１の凹んだ面のうちノズル１１の底面であるチャンバー２１の底面とワークＷとの間に、ノズル１１とワークＷとで形成される間隙よりも広い間隙が形成されるようになっている。また、レーザ照射口１２がチャンバー２１の底面に設けられるため、ノズル１１とワークＷとの距離を近付けてもレーザ照射位置Ｅからレーザ照射口１２までの距離を離すことができる。これにより、レーザ照射位置Ｅで発生する微粒子Ｄがレーザ照射口１２に付着する可能性を抑制することができるという効果がある。なお、膨張したプルームＰがレーザ照射口１２に接触するのを防ぐため、レーザ照射位置Ｅからレーザ照射口１２までの距離が１ｍｍ以上離れるようにチャンバー２１を設けるとよい。

また、ノズル１１とワークＷとの距離を近付けた場合、チャンバー２１とワークＷとの間に形成される間隙内に外部から侵入する空気が少なくなるようになっている。そして、チャンバー２１の凹んだ面のうちノズル１１の底面に第１ガス通気口１５と第２ガス通気口１７とが設けられるため、第１ガス通気口１５から吐出された第１のガスはチャンバー２１とワークＷとの間に形成される間隙内を移動して第２ガス通気口１７により吸入される。同様に、第２ガス通気口１７から吐出された第１のガスはチャンバー２１とワークＷとの間に形成される間隙内を移動して第１ガス通気口１５により吸入される。よって、間隙内に外部から侵入する空気が少ない中で第１のガスの気流が生じるため、第１のガスの気流が乱れるのを抑制することができる。従って、レーザ照射位置Ｅで発生する微粒子Ｄを第１ガス通気口１５又は第２ガス通気口１７により吸入する精度を高めることができるという効果がある。

次に、図５を参照して、ステージＳの移動、即ち、ワークＷに対するノズル１１の相対的な移動について説明する。図５は、ワークＷに対するノズル１１の相対的な移動方向を模式的に示した模式図である。

先ず、ワークＷに対するノズル１１の相対的な移動、即ち、ノズル１１の位置の移動について説明する。使用者がタッチパネル６５を操作してレーザ加工装置１０によりレーザ加工を開始するように指示すると、制御装置６０が後述のプログラムデータ６２ａに従ってノズル１１の位置を移動させるようにステージ制御装置５７に指示する。

図５に示す例では、ノズル１１の位置は、後述のプログラムデータ６２ａに従い原点の座標（０，０）から出発し、座標（０，ｎ１）、（ｍ１，ｎ１）、（ｍ４，ｎ１）、（ｍ５，ｎ１）、（ｍ８，ｎ１）、（ｍ８，ｎ２）、（ｍ６，ｎ２）、（ｍ３，ｎ２）、（ｍ１，ｎ２）、（ｍ１，ｎ３）、（ｍ２，ｎ３）、（ｍ７，ｎ３）、（ｍ８，ｎ３）、（ｍ８，ｎ４）、（ｍ６，ｎ４）、（ｍ３，ｎ４）、（ｍ１，ｎ４）、（ｍ１，ｎ５）、（ｍ４，ｎ５）、（ｍ５，ｎ５）、（ｍ８，ｎ５）、（ｍ８，０）を順に通過し、原点に戻るように移動する。

図５に示すように、レーザ加工装置１０は、ｘ軸の正の方向の移動（例えば、座標（０，ｎ１）から座標（ｍ８，ｎ１）への移動）が終了したらｙ軸の負の方向にノズル１１の位置をずらすようにステージＳを移動させる（例えば、座標（ｍ８，ｎ１）から座標（ｍ８，ｎ２）への移動）。そして、レーザ加工装置１０は、ノズル１１の位置をｘ軸の負の方向に折り返して移動させ（例えば、座標（ｍ８，ｎ２）から座標（ｍ１，ｎ２）への移動）、ｘ軸方向の移動が終了したらｙ軸の負の方向にノズル１１の位置をずらすようにステージＳを移動させる（例えば、座標（ｍ１，ｎ２）から座標（ｍ１，ｎ３）への移動）。これを繰り返すことでステージＳ上に載置されるワークＷにレーザ光Ｌを照射できるようになっている。ワークＷへのレーザ光Ｌの照射が終わると、レーザ加工装置１０はノズル１１の位置を原点に戻す。なお、ノズル１１の位置が原点を出発してから原点に戻るまでの間、ノズル１１は、レーザ照射口１２の長手方向がｘ軸と直交する向きを維持した状態で相対的に移動するようになっている。

次に、ステージＳが移動している最中にどの位置でレーザ光Ｌが照射されるかについて説明する。図５では、レーザ光Ｌが照射される区間を太線で表している。レーザ加工装置１０は、ノズル１１の位置がレーザ照射を開始する位置であるレーザ照射開始位置ＬＳに到着するとレーザ光Ｌの照射を開始し、ノズル１１の位置がレーザ照射を終了する位置であるレーザ照射終了位置ＬＦに到着するとレーザ光Ｌの照射を終了する。図５の例では、ノズル１１の位置がレーザ照射開始位置ＬＳの座標（ｍ４，ｎ１）に到着してからレーザ照射終了位置ＬＦの座標（ｍ５，ｎ１）に到着するまでの間、レーザ照射開始位置ＬＳの座標（ｍ６，ｎ２）に到着してからレーザ照射終了位置ＬＦの座標（ｍ３，ｎ２）に到着するまでの間、レーザ照射開始位置ＬＳの座標（ｍ２，ｎ３）に到着してからレーザ照射終了位置ＬＦの座標（ｍ７，ｎ３）に到着するまでの間、レーザ照射開始位置ＬＳの座標（ｍ６，ｎ４）に到着してからレーザ照射終了位置ＬＦの座標（ｍ３，ｎ４）に到着するまでの間、レーザ照射開始位置ＬＳの座標（ｍ４，ｎ５）に到着してからレーザ照射終了位置ＬＦの座標（ｍ５，ｎ５）に到着するまでの間はレーザ光ＬをワークＷに照射し、それ以外はレーザ光Ｌの照射を中断させるようになっている。このように、ノズル１１の位置がワークＷ上においてｘ軸方向に移動するときに、レーザ照射装置３０はレーザ光Ｌを照射させるようになっている。一方で、ノズル１１の位置がｙ軸方向に移動するときには、レーザ照射装置３０はレーザ光Ｌの照射を中断させるようになっている。

次に、ステージＳが移動している最中にどの位置でガスの吐出及び吸入が行われるかについて説明する。レーザ加工装置１０は、ノズル１１の位置がガスの吐出吸入を開始する位置であるガス吐出吸入開始位置ＧＳに到着するとガスの吐出及び吸入を開始し、ノズル１１の位置がガスの吐出吸入を終了する位置であるガス吐出吸入終了位置ＧＦに到着するとガスの吐出及び吸入を終了する。図５の例では、ノズル１１の位置が、ガス吐出吸入開始位置ＧＳの座標（ｍ１，ｎ１）に到着してから、ガス吐出吸入終了位置ＧＦの座標（ｍ８，ｎ５）に到着するまで、ガスの吐出と吸入とを行うようになっている。なお、ガス吐出吸入開始位置ＧＳは、ワークＷとレーザ照射口１２とが対向しない位置にあり、レーザ照射が始まる前にガスの吐出及び吸入が開始されるようになっている。レーザ照射が開始されるときには既にガスの吐出と吸入とが行われているため、レーザ照射開始直後から微粒子Ｄを確実に除去できるようになっている。

なお、本実施形態では、ガス吐出吸入終了位置ＧＦをレーザ照射が全て完了するレーザ照射終了位置ＬＦよりも後の位置としている。これにより、レーザ照射が全て完了した後もガスの吐出及び吸入が継続されるため、レーザ照射が全て完了した後に吸入されずに滞留している微粒子Ｄが存在したとしても、微粒子Ｄを除去することができるようになっている。

次に、図６を参照して、レーザ加工装置１０の電気的構成について説明する。図６は、レーザ加工装置１０の電気的構成を示したブロック図である。レーザ加工装置１０に備えられた制御装置６０は、ＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ）６１と、メモリ６２とを有しており、それらはバスライン６６を介して接続されている。また、バスライン６６には、制御装置６０の外部からレーザ照射装置３０、ガス供給吸入装置４０、表示装置６４、タッチパネル６５、ステージ制御装置５７が接続されている。

ＣＰＵ６１は、メモリ６２に記憶されたプログラムデータ６２ａに従って、レーザ照射装置３０によるレーザ光Ｌの照射、ガス供給吸入装置４０によるガスの吐出及び吸入、ステージＳの移動を制御するための各種演算を実行する演算装置である。

メモリ６２は、ＣＰＵ６１において後述のレーザ照射プログラムを実行するためのプログラムデータ６２ａを記憶するほか、固定値データ等を記憶するためのメモリである。メモリ６２には、例えば、書換え可能な不揮発性のメモリであるフラッシュメモリを用いることができる。プログラムデータ６２ａの詳細は後述する。

次に、ステージ制御装置５７について説明する。ステージ制御装置５７は、ＣＰＵ５８と、メモリ５９とを有しており、それらはバスライン５４を介して接続されている。また、バスライン５４には、ステージ制御装置５７の外部から制御装置６０、ステージＳが接続されている。

ＣＰＵ５８は、制御装置６０のＣＰＵ６１から送信される移動の命令に従って、ステージＳの移動を制御するための各種演算を実行する演算装置である。ＣＰＵ５８は、ＣＰＵ６１から送信される移動の命令で示される座標と後述のノズル位置情報５９ａの座標とが一致するようにｘ軸モータ５６ａとｙ軸モータ５６ｂとを駆動させるようになっている。

メモリ５９は、少なくともノズル位置情報５９ａを記憶するためのメモリである。メモリ５９には、例えば、書換え可能な揮発性のメモリであるＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ ａｃｃｅｓｓ ｍｅｍｏｒｙ）を用いることができる。

ノズル位置情報５９ａは、ノズル１１の位置の座標を示すデータである。ステージＳのｘ軸送りねじ及びｙ軸送りねじに取付けられたロータリエンコーダから送信されるｘ軸送りねじの回転角とｙ軸送りねじの回転角とをステージ制御装置５７が例えば３ミリ秒毎に受信すると、ｘ軸送りねじの回転角とｙ軸送りねじの回転角に基づいてステージ制御装置５７は演算を行いノズル１１の位置を求め、ノズル位置情報５９ａとして順次記憶する。ノズル位置情報５９ａは、ノズル１１の位置がＣＰＵ６１から送信される移動の命令で示される座標の位置に到着したか否かを判断するときにＣＰＵ５８により用いられる。ノズル位置情報５９ａにより、ノズル１１の位置がわかるため、ノズル１１の位置に基づいて、レーザ光Ｌの照射やガスの吐出及び吸入の制御を行うことができるようになっている。

次に、図７～図９を参照して、レーザ照射プログラムについて説明する。図７は、メモリ６２に格納されるレーザ照射プログラムのプログラムデータ６２ａの一例を模式的に示した模式図であり、図８は、ＣＰＵ６１により実行されるレーザ照射プログラムの前半部分を示すフローチャートであり、図９は、ＣＰＵ６１により実行されるレーザ照射プログラムの後半部分を示すフローチャートである。レーザ照射プログラムは、ステージＳを移動させ、レーザ照射装置３０からレーザ光Ｌを照射させ、ガス供給吸入装置４０からガスを吐出及び吸入させるためのプログラムである。図７に示す通り、プログラムデータ６２ａには予め設定された命令の内容６２ａ１が記憶されている。命令の内容６２ａ１は、ＣＰＵ６１がレーザ照射装置３０、ガス供給吸入装置４０、ステージ制御装置５７に対して指示する命令のデータである。

使用者がタッチパネル６５を操作してレーザ加工装置１０によりレーザ加工を開始するように指示すると、レーザ照射プログラムがＣＰＵ６１により実行される。図８、図９に示す通り、レーザ照射プログラムにおいて、ＣＰＵ６１は、命令の内容６２ａ１を図７の上から順番に実行する。

図５、図７～図９の例では、ＣＰＵ６１がレーザ照射プログラムを実行すると、ＣＰＵ６１はレーザ照射装置３０に対してレーザ条件を設定する（Ｓ１）。具体的には、レーザ光Ｌのパワーｐ（Ｗ）と周波数Ｆ（Ｈｚ）とを設定する。例えば、レーザ光Ｌのパワーｐは５０Ｗに設定され、周波数Ｆは１００Ｈｚに設定される。

次に、ＣＰＵ６１はステージ制御装置５７に対してステージＳの移動速度Ｖ（ｍｍ／ｓ）を設定する（Ｓ２）。例えば、ステージＳの移動速度Ｖは１０ｍｍ／ｓに設定される。これにより、ステージ制御装置５７は、ステージＳの移動速度が設定値となるようにｘ軸モータ５６ａ、ｙ軸モータ５６ｂを駆動させることができるようになっている。また、ステージＳの移動速度Ｖを設定することで、ワークＷ上にある一点をレーザ照射口１２が通過するのに要する時間を調整することができる。よって、ワークＷ上にある一点に対してレーザ光Ｌが照射される時間を調整できるようになっている。

次に、ＣＰＵ６１はガス供給吸入装置４０に対してノズル１１の第１ガス通気口１５又は第２ガス通気口１７から吐出されるガスの吐出量（Ｌ／ｍｉｎ）及び吸入量（Ｌ／ｍｉｎ）と第３ガス通気口１９、レーザ照射口１２から吐出されるガスの吐出量（Ｌ／ｍｉｎ）を設定する（Ｓ３）。これにより、ガス供給吸入装置４０は第１ガス供給弁４３、第２ガス供給弁４４、第３ガス供給弁４５、第４ガス供給弁４６、第１ガス吸入弁４７、第２ガス吸入弁４８の開閉を調整する。例えば、第１ガス通気口１５又は第２ガス通気口１７から吐出・吸入されるガスの吐出量と吸入量とはそれぞれ１Ｌ／ｍｉｎに設定される。ガスの吐出量と吸入量とは同量にすることで、吐出されたガスが過不足なく吸入されるため、気流を安定させることができるようになっている。また、第３ガス通気口１９から吐出されるガスの吐出量は、例えば、２Ｌ／ｍｉｎに設定され、レーザ照射口１２から吐出されるガスの吐出量は、例えば、０．１Ｌ／ｍｉｎに設定される。

次に、ＣＰＵ６１はノズル１１の位置をｙ軸の正の方向に移動させて座標（０，ｎ１）に移動させる（Ｓ４）。具体的には、ＣＰＵ６１は、ステージＳをｙ軸方向に－ｎ１（ｍｍ）移動させるようにステージ制御装置５７を介してｙ軸モータ５６ｂによってｙ軸送りねじを回転させる。その後、ＣＰＵ６１はノズル１１の位置をｘ軸の正の方向に移動させてガス吐出吸入開始位置ＧＳの座標（ｍ１，ｎ１）に移動させる（Ｓ５）。具体的には、ＣＰＵ６１は、ステージＳをｘ軸方向に－ｍ１（ｍｍ）移動させるようにステージ制御装置５７を介してｘ軸モータ５６ａによってｘ軸送りねじを回転させる。これにより、ノズル１１の位置をガス吐出吸入開始位置ＧＳに移動させることができるため、レーザ加工装置１０は、後述のＳ８の処理によりガス吐出吸入開始位置ＧＳでガスの吐出吸入を開始できるようになっている。

ここで、上述の通り、第１ガス通気口１５はｘ軸方向の正の方向側に設けられており、第２ガス通気口１７はｘ軸方向の負の方向側に設けられているため、ノズル１１の位置がｘ軸方向の正の方向に移動する場合（図５の例では座標（０，ｎ１）から座標（ｍ８，ｎ１）に移動する場合）、第１ガス通気口１５はノズル１１の位置の移動方向に対してレーザ照射口１２より前方側にあり、第２ガス通気口１７はノズル１１の位置の移動方向に対してレーザ照射口１２より後方側にある。そこで、ＣＰＵ６１は、ノズル１１の位置の移動方向に対してレーザ照射口１２より前方側にある第１ガス通気口１５から第１のガスを吐出するためにＳ６の処理を実行し、ノズル１１の位置の移動方向に対してレーザ照射口１２より後方側にある第２ガス通気口１７から第１のガスを吸入するためにＳ７の処理を実行する。

具体的には、Ｓ６の処理において、ＣＰＵ６１は、ガス供給吸入装置４０に指示して第１ガス供給弁４３側の通路を開き、第１ガス吸入弁４７側の通路を閉じる（以下、『第１の状態』と称す）ように第１切替弁４９を駆動する。

次にＳ７の処理において、ＣＰＵ６１は、ガス供給吸入装置４０に指示して第２ガス供給弁４４側の通路を閉じ、第２ガス吸入弁４８側の通路を開く（以下、『第２の状態』と称す）ように第２切替弁５０を駆動する。これにより、ノズル１１の位置がｘ軸方向の正の方向に移動する場合、ノズル１１の位置の移動方向に対して前方側から後方側に向かう第１のガスの気流を作ることができる。

次に、ＣＰＵ６１は、ガスの吐出吸入をＯＮするようにガス供給吸入装置４０に指示する（Ｓ８）。これにより、第１ガス通気口１５から第１のガスが吐出され、第２ガス通気口１７により吸入され、第３ガス通気口１９から第３のガスが吐出され、レーザ照射口１２から第４のガスが吐出される。

Ｓ６～Ｓ８の処理は、後述するＳ１０の処理より前に行われるため、レーザ照射開始前にノズル１１の位置の移動方向の前方側から後方側への気流を作っておくことができる。そのため、レーザ照射が開始されると発生する微粒子Ｄを確実に除去することができるようになっている。

その後、ＣＰＵ６１は、ノズル１１の位置をｘ軸の正の方向に移動させてレーザ照射開始位置ＬＳの座標（ｍ４，ｎ１）へ移動させる（Ｓ９）。具体的には、ＣＰＵ６１は、ステージＳをｘ軸方向にｍ１－ｍ４（ｍｍ）移動させるようにステージ制御装置５７を介してｘ軸モータ５６ａによってｘ軸送りねじを回転させる。その後、ＣＰＵ６１は、レーザ照射をＯＮするようにレーザ照射装置３０に指示する（Ｓ１０）。これにより、レーザ加工装置１０は、レーザ照射開始位置ＬＳでレーザ照射を開始できるようになっている。

次に、ＣＰＵ６１は、ノズル１１の位置をｘ軸の正の方向に移動させてレーザ照射終了位置ＬＦの座標（ｍ５，ｎ１）へ移動させる（Ｓ１１）。具体的には、ＣＰＵ６１は、ステージＳをｘ軸方向にｍ４－ｍ５（ｍｍ）移動させるようにステージ制御装置５７を介してｘ軸モータ５６ａによってｘ軸送りねじを回転させる。その後、ＣＰＵ６１は、レーザ照射をＯＦＦするようにレーザ照射装置３０に指示する（Ｓ１２）。これにより、レーザ加工装置１０は、レーザ照射終了位置ＬＦでレーザ照射を終了できるようになっている。

次に、ＣＰＵ６１は、ノズル１１の位置をｘ軸の正の方向に移動させて座標（ｍ８，ｎ１）に移動させた後（Ｓ１３）、ｙ軸の負の方向に移動させて座標（ｍ８，ｎ２）に移動させる（Ｓ１４）。具体的には、ＣＰＵ６１は、ステージＳをｘ軸方向にｍ５－ｍ８（ｍｍ）移動させるようにステージ制御装置５７を介してｘ軸モータ５６ａによってｘ軸送りねじを回転させる。その後、ＣＰＵ６１は、ステージＳをｙ軸方向にｎ１－ｎ２（ｍｍ）移動させるようにステージ制御装置５７を介してｙ軸モータ５６ｂによってｙ軸送りねじを回転させる。

次に、図９を参照して、レーザ照射プログラムの後半部分について説明する。ＣＰＵ６１は、Ｓ１４の処理によりノズル１１の位置を座標（ｍ８，ｎ２）に移動させた後、ｘ軸方向の負の方向への移動を開始する前にＳ１５の処理とＳ１６の処理とを実行する。

ここで、上述の通り、第１ガス通気口１５はｘ軸方向の正の方向側に設けられており、第２ガス通気口１７はｘ軸方向の負の方向側に設けられているため、ノズル１１の位置がｘ軸方向の負の方向に移動する場合（図５の例では座標（ｍ８，ｎ２）から座標（ｍ１，ｎ２）に移動する場合）、第１ガス通気口１５はノズル１１の位置の移動方向に対してレーザ照射口１２より後方側にあり、第２ガス通気口１７はノズル１１の位置の移動方向に対してレーザ照射口１２より前方側にある。そこで、ＣＰＵ６１は、ノズル１１の位置の移動方向に対してレーザ照射口１２より後方側にある第１ガス通気口１５から第１のガスを吸入するためにＳ１５の処理を実行し、ノズル１１の位置の移動方向に対してレーザ照射口１２より前方側にある第２ガス通気口１７から第１のガスを吐出するためにＳ１６の処理を実行する。

具体的には、Ｓ１５の処理において、ＣＰＵ６１は、第１ガス供給弁４３側の通路を閉じ、第１ガス吸入弁４７側の通路を開く（以下、『第３の状態』と称す）ように第１切替弁４９を駆動する。

次に、Ｓ１６の処理において、ＣＰＵ６１は、第２ガス供給弁４４側の通路を開き、第２ガス吸入弁４８側の通路を閉じる（以下、『第４の状態』と称す）ように第２切替弁５０を駆動する。これにより、ノズル１１の位置がｘ軸方向の負の方向に移動する場合、ノズル１１の位置の移動方向に対して前方側から後方側に向かう第１のガスの気流を作ることができる。

Ｓ１５の処理とＳ１６の処理とは、後述するＳ１８処理によってレーザ照射が開始される前に行われるため、レーザ照射開始前からノズル１１の位置の移動方向の前方側から後方側への気流を作っておくことができる。そのため、レーザ照射が開始されると発生する微粒子Ｄを確実に除去することができるようになっている。

なお、本実施形態では、第３の状態になるように第１切替弁４９を駆動した後、第４の状態になるように第２切替弁５０を駆動するものとしたが、これに限定されるものではない。例えば、先に第４の状態になるように第２切替弁５０を駆動した後、第３の状態になるように第１切替弁４９を駆動するようにしてもよい。これにより、第１ガス通気口１５と第２ガス通気口１７との両方がガスの吸入を行うことを避けることができるため、負圧になることによってレーザ照射位置Ｅ付近に外気が侵入する可能性をより確実に抑制することができるという効果がある。

次に、ＣＰＵ６１は、ノズル１１の位置をｘ軸の負の方向に移動させてレーザ照射開始位置ＬＳの座標（ｍ６，ｎ２）へ移動させる（Ｓ１７）。具体的には、ＣＰＵ６１は、ステージＳをｘ軸方向にｍ６－ｍ８（ｍｍ）移動させるようにステージ制御装置５７を介してｘ軸モータ５６ａによってｘ軸送りねじを回転させる。その後、ＣＰＵ６１は、レーザ照射をＯＮするようにレーザ照射装置３０に指示する（Ｓ１８）。これにより、レーザ加工装置１０は、レーザ照射開始位置ＬＳでレーザ照射を開始できるようになっている。

次に、ＣＰＵ６１は、ノズル１１の位置をｘ軸の負の方向に移動させてレーザ照射終了位置ＬＦの座標（ｍ３，ｎ２）へ移動させる（Ｓ１９）。具体的には、ＣＰＵ６１は、ステージＳをｘ軸方向にｍ６－ｍ３（ｍｍ）移動させるようにステージ制御装置５７を介してｘ軸モータ５６ａによってｘ軸送りねじを回転させる。その後、ＣＰＵ６１は、レーザ照射をＯＦＦするようにレーザ照射装置３０に指示する（Ｓ２０）。これにより、レーザ加工装置１０は、レーザ照射終了位置ＬＦでレーザ照射を終了できるようになっている。

次に、ＣＰＵ６１は、ノズル１１の位置をｘ軸の負の方向に移動させて座標（ｍ１，ｎ２）に移動させた後（Ｓ２１）、ｙ軸の負の方向に移動させて座標（ｍ１，ｎ３）に移動させる（Ｓ２２）。具体的には、ＣＰＵ６１は、ステージＳをｘ軸方向にｍ３－ｍ１（ｍｍ）移動させるようにステージ制御装置５７を介してｘ軸モータ５６ａによってｘ軸送りねじを回転させる。その後、ＣＰＵ６１は、ステージＳをｙ軸方向にｎ２－ｎ３（ｍｍ）移動させるようにステージ制御装置５７を介してｙ軸モータ５６ｂによってｙ軸送りねじを回転させる。

以降、同様にＣＰＵ６１は命令の内容６２ａ１を図７の上から順番に実行していく。そして、Ｓ４３の処理でＣＰＵ６１は、ノズル１１の位置をｘ軸の正の方向に移動させてレーザ照射終了位置ＬＦの座標（ｍ５，ｎ５）へ移動させる。具体的には、ＣＰＵ６１は、ステージＳをｘ軸方向にｍ４－ｍ５（ｍｍ）移動させるようにステージ制御装置５７を介してｘ軸モータ５６ａによってｘ軸送りねじを回転させる。その後、ＣＰＵ６１は、レーザ照射をＯＦＦするようにレーザ照射装置３０に指示する（Ｓ４４）。これにより、レーザ加工装置１０は、レーザ照射終了位置ＬＦでレーザ照射を終了できるようになっている。なお、本実施形態では座標（ｍ５，ｎ５）が全てのレーザ照射が完了する位置となっている。

次に、ＣＰＵ６１は、ノズル１１の位置をｘ軸の正の方向に移動させて座標（ｍ８，ｎ５）に移動させる（Ｓ４５）。具体的には、ＣＰＵ６１は、ステージＳをｘ軸方向にｍ５－ｍ８（ｍｍ）移動させるようにステージ制御装置５７を介してｘ軸モータ５６ａによってｘ軸送りねじを回転させる。その後、ＣＰＵ６１は、ガスの吐出吸入をＯＦＦするようにガス供給吸入装置４０に指示する（Ｓ４６）。これにより、全てのレーザ照射が完了する座標（ｍ５，ｎ５）よりも後の位置でガスの吐出吸入がＯＦＦされるため、レーザ照射が全て完了した後もガスの吐出吸入が継続され、レーザ照射が全て完了した後に吸入されずに滞留している微粒子Ｄが存在したとしても、微粒子Ｄを除去することができるという効果がある。

次に、ＣＰＵ６１は、ノズル１１の位置をｙ軸の負の方向に移動させて座標（ｍ８，０）に移動させた後（Ｓ４７）、ｘ軸の負の方向に移動させて原点（０，０）に移動させ（Ｓ４８）、ＣＰＵ６１はレーザ照射プログラムを終了する。具体的には、ＣＰＵ６１は、ステージＳをｙ軸方向にｎ５（ｍｍ）移動させるようにステージ制御装置５７を介してｙ軸モータ５６ｂによってｙ軸送りねじを回転させる。その後、ＣＰＵ６１は、ステージＳをｘ軸方向にｎｍ８（ｍｍ）移動させるようにステージ制御装置５７を介してｘ軸モータ５６ａによってｘ軸送りねじを回転させた後、レーザ照射プログラムを終了する。これにより、ノズル１１の位置を原点に復帰させた後でレーザ照射プログラムが終了するようになっている。従って、次に新しいワークＷに対してレーザ照射プログラムを実行する場合、ノズル１１の位置を原点の位置として実行することができる。

以上説明した通り、第１実施形態におけるノズル１１及びノズル１１を有するレーザ加工装置１０によれば、ノズル１１に備えられたレーザ照射口１２からワークＷのレーザ照射位置Ｅに向けてレーザ光Ｌが照射される。ノズル１１の位置が第１ガス通気口１５の側に移動する場合、ノズル１１の位置の移動方向に対してレーザ照射口１２より前方側に設けられた第１ガス通気口１５から第１のガスが吐出される。そして、第１ガス通気口１５から吐出された第１のガスは、ノズル１１の位置の移動方向に対してレーザ照射口１２より後方側に設けられた第２ガス通気口１７により吸入される。これにより、第１のガスは第１ガス通気口１５から第２ガス通気口１７へと移動する。そして、ノズル１１の位置の移動方向に対して前方側から後方側に向かう第１のガスの気流が生じる。同様に、ノズル１１の位置が第２ガス通気口１７の側に移動する場合、ノズル１１の位置の移動方向に対してレーザ照射口１２より前方側に設けられた第２ガス通気口１７から第１のガスが吐出される。そして、第２ガス通気口１７から吐出された第１のガスは、ノズル１１の位置の移動方向に対してレーザ照射口１２より後方側に設けられた第１ガス通気口１５により吸入される。これにより、第１のガスは第２ガス通気口１７から第１ガス通気口１５へと移動する。そして、ノズル１１の位置の移動方向に対して前方側から後方側に向かう第１のガスの気流が生じる。

よって、いずれの場合もノズル１１の位置の進行方向に対して前方側から後方側に向かう第１のガスの気流を生じさせることができる。従って、ノズル１１の位置の移動方向が変化した場合であっても、ノズル１１の向きを変化させることなくレーザ加工を行うことができ、ノズル１１の向きを変化させる手間を省きつつ、微粒子Ｄを効率的に除去することができるという効果がある。

また、第１ガス通気口１５と第２ガス通気口１７とはレーザ照射口１２を対称軸として対称となる位置に設けられるため、第１ガス通気口１５と第２ガス通気口１７との中央の位置にレーザ照射口１２が存在する。よって、レーザ照射口１２から第１ガス通気口１５までの距離と、レーザ照射口１２から第２ガス通気口１７までの距離とに偏りが生じるのを抑えることができるため、レーザ照射口１２付近における第１のガスの気流は偏りの少ない安定したものとなる。そして、レーザ照射位置Ｅにおいてレーザ光Ｌが照射されることで発生する微粒子Ｄがレーザ照射口１２付近に近付くと、微粒子Ｄは安定した第１のガスの気流に乗り、ノズル１１の位置の移動方向に対してレーザ照射口１２より後方側に設けられた第１ガス通気口１５又は第２ガス通気口１７により吸入される。従って、真空にするための構成を必要とすることなく微粒子Ｄを効率的に除去することができるという効果がある。

レーザ光ＬがワークＷに照射されてから微粒子Ｄが飛散するまでに約５０μ秒の時間を要する。その間にもワークＷとノズル１１との相対的な位置は変化する。即ち、レーザ光Ｌが照射された位置はノズル１１の位置の移動方向の後方側へと移動する。一方で、ノズル１１の位置の移動方向の後方側にある第２ガス通気口１７で微粒子Ｄが吸入されるため、微粒子Ｄの発生場所と第２ガス通気口１７との距離を近付けることができる。よって、微粒子Ｄをより確実に除去することができるという効果がある。

次いで、図１０及び図１１を参照して、本発明の第２実施形態であるノズル２１１を有するレーザ加工装置１０について説明する。第１実施形態のノズル１１を有するレーザ加工装置１０は、ノズル１１の位置をｘ軸の正の方向と負の方向との２方向に移動させてレーザ光Ｌを照射する場合に、第１ガス通気口１５と第２ガス通気口１７とを切り替えて使用することで微粒子Ｄを除去することができるものとした。

これに対し、第２実施形態であるノズル２１１を有するレーザ加工装置１０は、ノズル１１の位置を４つの往復方向つまり８方向に移動させてレーザ光Ｌを照射する場合に１２個の通気口を切り替えて使用することで微粒子Ｄを除去できるものである。具体的に８方向は（１）ｘ軸の正の方向、（２）原点から座標（ｍ、ｍ）に向かう方向（以下、「ｘ軸の正の方向かつｙ軸の正の方向」と称す）、（３）原点から座標（ｍ、－ｍ）に向かう方向（以下、「ｘ軸の正の方向かつｙ軸の負の方向」と称す）、（４）原点から座標（－ｍ、ｍ）に向かう方向（以下、「ｘ軸の負の方向かつｙ軸の正の方向」と称す）、（５）原点から座標（－ｍ、－ｍ）に向かう方向（以下、「ｘ軸の負の方向かつｙ軸の負の方向」と称す）、（６）ｘ軸の負の方向、（７）ｙ軸の正の方向、（８）ｙ軸の負の方向である。このように、第２実施形態であるノズル２１１を有するレーザ加工装置１０は、ノズル１１の位置を８方向に移動させてレーザ光Ｌを照射する場合に１２個の通気口を切り替えて使用することで微粒子Ｄを除去できるものであるため、レーザ光Ｌの照射を続けたままノズル２１１の位置の移動方向を８方向に変化させることができるようになっている。よって、レーザ光Ｌの照射を続けたままワークＷ全体にレーザ加工を施すことができるようになっている。

以下、第２実施形態のノズル２１１を有するレーザ加工装置１０について、第１実施形態のノズル１１を有するレーザ加工装置１０と相違する点を中心に説明し、第１実施形態のノズル１１を有するレーザ加工装置１０と同一の構成及び処理については、同一の符号を付してその説明を省略する。

図１０は、第２実施形態であるノズル２１１を下側（ワークＷと対向する側）から見たときのノズル１１の構成とガス供給吸入装置４０ａ～４０ｍの構成とを模式的に示した模式図である。第２実施形態のノズル２１１は第１のガスを吐出及び吸入するための通気口として、１２個の通気口が設けられている。これらの通気口は、ノズル２１１の位置が移動可能な８方向、即ち４つの往復方向のそれぞれの方向における前方側と後方側とに設けられ、レーザ照射口１２を対称軸又は対称中心として対称の位置に通気口が設けられている。また、それぞれの通気口は、それぞれの通気口毎に第１のガスの吐出及び吸入が切替できるようになっている。

先ず、それぞれの通気口の配置について説明する。図１０に示す通り、第１のガスを吐出及び吸入するための通気口であるＸ１通気口１０１、Ｘ２通気口１０２、Ｘ３通気口１０３、Ｘ４通気口１０４、Ｘ５通気口１０５、Ｘ６通気口１０６、Ｘ７通気口１０７、Ｘ８通気口１０８、Ｙ１通気口１０９、Ｙ２通気口１１０、Ｙ３通気口１１１、Ｙ４通気口１１２がレーザ照射口１２を取り囲むように設けられている。

そして、Ｘ１通気口１０１、Ｘ４通気口１０４、Ｘ５通気口１０５、Ｘ８通気口１０８は同一の形状であり、Ｘ２通気口１０２、Ｘ３通気口１０３、Ｘ６通気口１０６、Ｘ７通気口１０７は同一の形状であり、Ｙ１通気口１０９、Ｙ２通気口１１０、Ｙ３通気口１１１、Ｙ４通気口１１２は同一の形状である。

Ｘ１通気口１０１はＸ５通気口１０５と、Ｘ２通気口１０２はＸ６通気口１０６と、Ｘ３通気口１０３はＸ７通気口１０７と、Ｘ４通気口１０４はＸ８通気口１０８と、レーザ照射口１２の中心を通るｙ軸方向の直線を対称軸として、それぞれ対称の位置に配置されている。そして、ノズル２１１の位置がｘ軸方向に移動する場合に、その移動方向において対称の関係にある通気口間でガスの吐出及び吸入を行うようなっている。

Ｘ１通気口１０１はＸ４通気口１０４と、Ｘ５通気口１０５はＸ８通気口１０８と、Ｙ１通気口１０９はＹ３通気口１１１と、Ｙ２通気口１１０はＹ４通気口１１２と、レーザ照射口１２の中心を通るｘ軸方向の直線を対称軸として、それぞれ対称の位置に配置されている。そして、ノズル２１１の位置がｙ軸方向に移動する場合に、その移動方向において対称の関係にある通気口間でガスの吐出及び吸入を行うようなっている。

Ｘ１通気口１０１はＸ８通気口１０８と、Ｘ２通気口１０２はＸ７通気口１０７と、Ｙ２通気口１１０はＹ３通気口１１１と、レーザ照射口１２の中心を対称中心として、それぞれ対称の位置に配置されている。そして、ノズル２１１の位置がｘ軸の負の方向かつｙ軸の負の方向、ｘ軸の正の方向かつｙ軸の正の方向に移動する場合に、その移動方向において対称の関係にある通気口間でガスの吐出及び吸入を行うようなっている。

Ｘ３通気口１０３はＸ６通気口１０６と、Ｘ４通気口１０４はＸ５通気口１０５と、Ｙ１通気口１０９はＹ４通気口１１２とレーザ照射口１２の中心を対称中心として、それぞれ対称の位置に配置されている。そして、ノズル２１１の位置がｘ軸の負の方向かつｙ軸の正の方向、ｘ軸の正の方向かつｙ軸の負の方向に移動する場合に、その移動方向において対称の関係にある通気口間でガスの吐出及び吸入を行うようなっている。

次に、それぞれの通気口とガス供給吸入装置４０ａ~４０ｍとの接続について説明する。Ｘ１通気口１０１にはガス供給吸入装置４０ａに備えられる切替弁１０１ａが接続されている。また、切替弁１０１ａには第１ガスボンベ４１ａと接続されたガス供給弁１０１ｂと、吸引ポンプ４２と接続されたガス吸入弁１０１ｃとが接続されている。

ガス供給弁１０１ｂは、第１ガスボンベ４１ａから流れる第１のガスの通路を電気的な信号により開閉することで、第１のガスの吐出量を調整するためのバルブである。ガス吸入弁１０１ｃは、吸引ポンプ４２へと吸入される第１のガスの通路を電気的な信号により開閉することで、第１のガスの吸入量を調整するためのバルブである。切替弁１０１ａは、Ｘ１通気口１０１における第１のガスの吐出、吸入、停止を電気的な信号により切り替えるためのバルブである。

ガス供給弁１０１ｂにおいて第１ガスボンベ４１ａ側から切替弁１０１ａ側への通路が開放されている場合に、切替弁１０１ａによりガス供給弁１０１ｂ側からＸ１通気口１０１側への通路が開放されると、第１ガスボンベ４１ａから吐出される第１のガスがＸ１通気口１０１から吐出されるようになっている。一方で、ガス吸入弁１０１ｃにおいて吸引ポンプ４２側から切替弁１０１ａ側への通路が開放されている場合に、切替弁１０１ａによりガス吸入弁１０１ｃ側からＸ１通気口１０１側への通路が開放されると、吸引ポンプ４２の吸引により第１のガスがＸ１通気口１０１から吸入されるようになっている。このように切替弁１０１ａにより、他の通気口とは関係なく独立してＸ１通気口１０１における第１のガスの吐出と吸入とを切り替えることができるようになっている。

図示はしないが、Ｘ２通気口１０２、Ｘ３通気口１０３、Ｘ４通気口１０４、Ｘ５通気口１０５、Ｘ６通気口１０６、Ｘ７通気口１０７、Ｘ８通気口１０８、Ｙ１通気口１０９、Ｙ２通気口１１０、Ｙ３通気口１１１、Ｙ４通気口１１２もＸ１通気口１０１と同様の構成のガス供給吸入装置４０ｂ～４０ｍが接続されており、これにより他の通気口とは関係なく独立して第１のガスの吐出と吸入とを切り替えることができるようになっている。

このように、ノズル２１１の位置が上記の８方向に移動する場合に、その移動方向において対称の関係にある通気口のそれぞれでガスの吐出及び吸入を切り替えることができるようなっている。このとき、ガスの吐出を行う通気口の数とガスの吸入を行う通気口の数は同数になっている。

次に、図１１（ａ）～（ｈ）を参照して、ノズル２１１の位置がどの方向に移動したときにどの通気口がガスの吐出・吸入を行うかについて説明する。図１１（ａ）は、ノズル１１の位置が（１）ｘ軸の正の方向に移動する場合の各通気口の吐出・吸入の状態を示す模式図であり、図１１（ｂ）は、ノズル１１の位置が（２）ｘ軸の正の方向かつｙ軸の正の方向に移動する場合の各通気口の吐出・吸入の状態を示す模式図であり、図１１（ｃ）は、ノズル１１の位置が（３）ｘ軸の正の方向かつｙ軸の負の方向に移動する場合の各通気口の吐出・吸入の状態を示す模式図であり、図１１（ｄ）は、ノズル１１の位置が（４）ｘ軸の負の方向かつｙ軸の正の方向に移動する場合の各通気口の吐出・吸入の状態を示す模式図であり、図１１（ｅ）は、ノズル１１の位置が（５）ｘ軸の負の方向かつｙ軸の負の方向に移動する場合の各通気口の吐出・吸入の状態を示す模式図であり、図１１（ｆ）は、ノズル１１の位置が（６）ｘ軸の負の方向に移動する場合の各通気口の吐出・吸入の状態を示す模式図であり、図１１（ｇ）は、ノズル１１の位置が（７）ｙ軸の正の方向に移動する場合の各通気口の吐出・吸入の状態を示す模式図であり、図１１（ｈ）は、ノズル１１の位置が（８）ｙ軸の負の方向に移動する場合の各通気口の吐出・吸入の状態を示す模式図である。なお、図１１（ａ）～（ｈ）において表示されている矢印は、ガスが流れる方向を示している。

図１１（ａ）に示す通り、ノズル２１１の位置が（１）ｘ軸の正の方向に移動する場合は、Ｘ１通気口１０１、Ｘ２通気口１０２、Ｘ３通気口１０３、Ｘ４通気口１０４から第１のガスを吐出し、Ｘ５通気口１０５、Ｘ６通気口１０６、Ｘ７通気口１０７、Ｘ８通気口１０８から第１のガスを吸入し、Ｙ１通気口１０９、Ｙ２通気口１１０、Ｙ３通気口１１１、Ｙ４通気口１１２は、吐出及び吸入が停止するようになっている。これにより、ｘ軸の正の方向からｘ軸の負の方向に向かうガスの流れが生じるようになっている。

図１１（ｂ）に示す通り、ノズル２１１の位置が（２）ｘ軸の正の方向かつｙ軸の正の方向に移動する場合は、Ｘ１通気口１０１、Ｘ２通気口１０２、Ｙ２通気口１１０から第１のガスを吐出し、Ｘ７通気口１０７、Ｘ８通気口１０８、Ｙ３通気口１１１から第１のガスを吸入し、Ｘ３通気口１０３、Ｘ４通気口１０４、Ｘ５通気口１０５、Ｘ６通気口１０６、Ｙ１通気口１０９、Ｙ４通気口１１２は、吐出及び吸入が停止するようになっている。これにより、ｘ軸の正の方向かつｙ軸の正の方向からｘ軸の負の方向かつｙ軸の負の方向に向かうガスの流れが生じるようになっている。

図１１（ｃ）に示す通り、ノズル２１１の位置が（３）ｘ軸の正の方向かつｙ軸の負の方向に移動する場合は、Ｘ３通気口１０３、Ｘ４通気口１０４、Ｙ４通気口１１２から第１のガスを吐出し、Ｘ５通気口１０５、Ｘ６通気口１０６、Ｙ１通気口１０９から第１のガスを吸入し、Ｘ１通気口１０１、Ｘ２通気口１０２、Ｘ７通気口１０７、Ｘ８通気口１０８、Ｙ２通気口１１０、Ｙ３通気口１１１は、吐出及び吸入が停止するようになっている。これにより、ｘ軸の正の方向かつｙ軸の負の方向からｘ軸の負の方向かつｙ軸の正の方向に向かうガスの流れが生じるようになっている。

図１１（ｄ）に示す通り、ノズル２１１の位置が（４）ｘ軸の負の方向かつｙ軸の正の方向に移動する場合は、Ｘ５通気口１０５、Ｘ６通気口１０６、Ｙ１通気口１０９から第１のガスを吐出し、Ｘ３通気口１０３、Ｘ４通気口１０４、Ｙ４通気口１１２から第１のガスを吸入し、Ｘ１通気口１０１、Ｘ２通気口１０２、Ｘ７通気口１０７、Ｘ８通気口１０８、Ｙ２通気口１１０、Ｙ３通気口１１１は、吐出及び吸入が停止するようになっている。これにより、ｘ軸の負の方向かつｙ軸の正の方向からｘ軸の正の方向かつｙ軸の負の方向に向かうガスの流れが生じるようになっている。

図１１（ｅ）に示す通り、ノズル２１１の位置が（５）ｘ軸の負の方向かつｙ軸の負の方向に移動する場合は、Ｘ７通気口１０７、Ｘ８通気口１０８、Ｙ３通気口１１１から第１のガスを吐出し、Ｘ１通気口１０１、Ｘ２通気口１０２、Ｙ２通気口１１０から第１のガスを吸入し、Ｘ３通気口１０３、Ｘ４通気口１０４、Ｘ５通気口１０５、Ｘ６通気口１０６、Ｙ１通気口１０９、Ｙ４通気口１１２は、吐出及び吸入が停止するようになっている。これにより、ｘ軸の負の方向かつｙ軸の負の方向からｘ軸の正の方向かつｙ軸の正の方向に向かうガスの流れが生じるようになっている。

図１１（ｆ）に示す通り、ノズル２１１の位置が（６）ｘ軸の負の方向に移動する場合は、Ｘ５通気口１０５、Ｘ６通気口１０６、Ｘ７通気口１０７、Ｘ８通気口１０８から第１のガスを吐出し、Ｘ１通気口１０１、Ｘ２通気口１０２、Ｘ３通気口１０３、Ｘ４通気口１０４から第１のガスを吸入し、Ｙ１通気口１０９、Ｙ２通気口１１０、Ｙ３通気口１１１、Ｙ４通気口１１２は、吐出及び吸入が停止するようになっている。これにより、ｘ軸の負の方向からｘ軸の正の方向に向かうガスの流れが生じるようになっている。

図１１（ｇ）に示す通り、ノズル２１１の位置が（７）ｙ軸の正の方向に移動する場合は、Ｘ１通気口１０１、Ｘ５通気口１０５、Ｙ１通気口１０９、Ｙ２通気口１１０から第１のガスを吐出し、Ｘ４通気口１０４、Ｘ８通気口１０８、Ｙ３通気口１１１、Ｙ４通気口１１２から第１のガスを吸入し、Ｘ２通気口１０２、Ｘ３通気口１０３、Ｘ６通気口１０６、Ｘ７通気口１０７は、吐出及び吸入が停止するようになっている。これにより、ｙ軸の正の方向からｙ軸の負の方向に向かうガスの流れが生じるようになっている。

図１１（ｈ）に示す通り、ノズル２１１の位置が（８）ｙ軸の負の方向に移動する場合は、Ｘ４通気口１０４、Ｘ８通気口１０８、Ｙ３通気口１１１、Ｙ４通気口１１２から第１のガスを吐出し、Ｘ１通気口１０１、Ｘ５通気口１０５、Ｙ１通気口１０９、Ｙ２通気口１１０から第１のガスを吸入し、Ｘ２通気口１０２、Ｘ３通気口１０３、Ｘ６通気口１０６、Ｘ７通気口１０７は、吐出及び吸入が停止するようになっている。これにより、ｙ軸の負の方向からｙ軸の正の方向に向かうガスの流れが生じるようになっている。

このように、ノズル２１１の位置が８方向のうちのいずれの方向に進んでも、ノズル２１１の位置の移動方向の前方側にある通気口から第１のガスを吐出し、ノズル２１１の位置の移動方向の後方側にある通気口から第１のガスを吸入することができるようになっている。なお、吐出及び吸入が停止している通気口からガスが漏れることで気流が乱れるのを防ぐために気圧を調節するための弁を設けてもよい。

以上説明した通り、第２実施形態のノズル２１１及びノズル２１１を有するレーザ加工装置１０によれば、ノズル２１１は、ノズル２１１の位置の移動方向を４つの往復方向（８方向）に変化可能なレーザ加工装置１０に取着される。これに対して、第１のガスを吐出、吸入するための通気口は、ノズル２１１の位置の移動方向のそれぞれの方向に対して設けられる。また、ノズル２１１は、ノズル２１１の位置の移動方向に係る往復の方向毎に同じ数の通気口を備える。そして、ＣＰＵ６１は、前方側にある通気口により第１のガスを吐出しつつ、後方側にある通気口により第１のガスを吸入するようにガス供給吸入装置４０ａ~４０ｍを制御する。これにより、ノズル２１１の位置の移動方向の前方側にある通気口から第１のガスを吐出し、ノズル２１１の位置の移動方向の後方側にある通気口からその吐出された第１のガスを吸入することができる。このとき、ガスを吐出する通気口の数とガスを吸入する通気口の数とは同じであるため、ガスの気流を安定したものとすることができる。よって、ノズル２１１の位置の移動方向が複数の往復の方向に変化する場合であっても、ノズル２１１の位置の移動方向に対して前方側から後方側に向かうガスの安定した気流を生じさせることができ、微粒子Ｄを効率的に除去することができるという効果がある。

その他、第２実施形態のおけるノズル２１１及びノズル２１１を有するレーザ加工装置１０は、第１実施形態と同一の構成によって、同一の効果を奏する。

次いで、図１２を参照して、本発明の第３実施形態であるレーザ加工装置１０について説明する。第１実施形態のレーザ加工装置１０は、第１ガス通気口１５と第２ガス通気口１７とで第１のガスの吐出及び吸入を切り替えることで、ノズル１１の位置の移動方向の前方側にある通気口から第１のガスを吐出し、後方側にある通気口により第１のガスを吸入するものである。

これに対し、第３実施形態におけるレーザ加工装置１０は、第１ガス通気口１５と第２ガス通気口１７とで第１のガスの吐出及び吸入を切り替えることは行わず、第１ガス通気口１５から第１のガスを吐出し、第２ガス通気口１７により第１のガスを吸入する。一方で、第１ガス通気口１５がノズル１１の位置の移動方向の前方側に来るように、モータＭＯによりノズル１１を回転させるものである。

以下、第３実施形態のレーザ加工装置１０について、第１実施形態のレーザ加工装置１０と相違する点を中心に説明する。第１実施形態のノズル１１を有するレーザ加工装置１０と同一の構成及び処理については、同一の符号を付してその説明を省略する。

図１２は、第３実施形態であるステージＳがｘ軸の負の方向（ノズル１１の位置がｘ軸の正の方向）に移動しているときのレーザ加工装置１０の構成を概略的に示す概略図である。

先ず、モータＭＯについて説明する。図１２に示す通り、第３実施形態のレーザ加工装置１０はモータＭＯを有する。モータＭＯは、第１ガス通気口１５がノズル１１の位置の移動方向の前方側に来るようにノズル１１の向きを回転させるための装置である。モータＭＯはノズル１１と接続されており、モータＭＯが駆動されるとレーザ光Ｌの通路を回転軸としてノズル１１が回転するようになっている。

また、モータＭＯは制御装置６０と電気的に接続されており、制御装置６０の指示に基づいてモータＭＯが駆動するようになっている。図１２に示す通り、ステージＳの移動方向がｘ軸の負の方向（ノズル１１の位置の移動方向がｘ軸の正の方向）である場合、ステージＳの移動方向の後方側（ノズル１１の位置の移動方向の前方側）であるｘ軸の正の方向側に第１ガス通気口１５がある。これに対し、ステージＳの移動方向がｘ軸の正の方向（ノズル１１の位置の移動方向がｘ軸の負の方向）である場合、ステージＳの移動方向の後方側（ノズル１１の位置の移動方向の前方側）であるｘ軸の負の方向側に第１ガス通気口１５が来るように、制御装置６０はモータＭＯを駆動する。このように、ステージＳの移動方向の後方側（ノズル１１の位置の移動方向の前方側）に第１ガス通気口１５が来るように、制御装置６０はモータＭＯを駆動するようになっている。

次に、第１ガス接続口１６、第２ガス接続口１８について説明する。第１実施形態のレーザ加工装置１０は第１ガス接続口１６には第１切替弁４９が接続され、第２ガス接続口１８には第２切替弁５０が接続される。これに対して、第３実施形態のレーザ加工装置１０は、第１ガス接続口１６に第１ガス供給弁４３が接続され、第２ガス接続口１８に第２ガス吸入弁４８が接続される点で相違する。これにより、第１ガス通気口１５から第１のガスが吐出され、第２ガス通気口１７により第１のガスが吸入されるようになっている。そして、上述の通り、ステージＳの移動方向の後方側（ノズル１１の位置の移動方向の前方側）に第１ガス通気口１５が来るように、制御装置６０はモータＭＯを駆動する。これにより、ノズル１１の位置の移動方向に対して前方側から後方側に向かう第１のガスの気流を生じさせることができるため、微粒子Ｄを効率的に除去することができるという効果がある。

以上説明した通り、第３実施形態におけるレーザ加工装置１０によれば、第１のガスを吐出する第１ガス通気口１５がノズル１１の位置の移動方向の前方側に来るように、モータＭＯによりノズル１１を回転させる。また、第１ガス通気口１５から第１のガスが吐出され、第２ガス通気口１７により第１のガスが吸入される。そのため、常にノズル１１の移動方向の前方側にある第１ガス通気口１５から第１のガスを吐出し、後方側にある第２ガス通気口１７により第１のガスを吸入することができる。よって、第１ガス通気口１５にはガスの吐出を可能にするための配管だけを設けて、第２ガス通気口１７にはガスの吸入を可能にするための配管だけを設ければよい。従って、ガス供給吸入装置４０の配管が複雑になることを抑制しつつ、微粒子Ｄを効率的に除去することができるという効果がある。

その他、第３実施形態におけるレーザ加工装置１０は、第１実施形態と同一の構成によって、同一の効果を奏する。

以上、実施形態に基づき本発明を説明したが、本発明は上記実施形態に何ら限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内で種々の改良変形が可能であることは容易に推察できるものである。例えば、各実施形態は、それぞれ、他の実施形態が有する構成の一部または複数部分を、その実施形態に追加し或いはその実施形態の構成の一部または複数部分と交換等することにより、その実施形態を変形して構成するようにしてもよい。また、上記各実施形態に挙げた数値は一例であり、他の数値を採用することは当然可能である。

上記各実施形態では、ノズルのワークＷに対する相対的な位置を移動させるために、ワークＷを載置したステージＳを移動させたが、これに限定されるものではない。例えば、ステージＳを固定し、ノズルを水平方向に移動するロボットアームに取付けることでノズルのワークＷに対する相対的な位置を移動させてもよい。

上記各実施形態では、第１のガスを吐出及び吸入するときの気流の速度は限定されるものではないが、第１のガスを吐出及び吸入するときの気流の速度を微粒子Ｄが飛散する速度より速くしてもよい。例えば、図２（ｆ）に示す例では、微粒子Ｄは２０ｍ／秒の速度で飛散するため、第１のガスを吐出及び吸入するときの気流の速度を２０ｍ／秒より速くしてもよい。これにより、微粒子ＤがノズルやワークＷに付着するのを抑制することができるという効果がある。

上記第２実施形態では、ノズル２１１は、１２個の通気口を設けることでノズル２１１の位置を４つの往復方向（８方向）に移動可能なものとしたが、これに限定されるものではない。例えば、ノズルに設ける通気口の数を増やすことで、移動可能な方向の数を増やすようにしてもよい。

一方で、ノズルの位置の移動方向が２つの往復方向（ｘ軸方向とｙ軸方向）のみである場合は、レーザ照射口１２の中心を通るｙ軸方向の直線を対称軸としてそれぞれ対称の位置に同一形状の１対の通気口を配置しつつ、レーザ照射口１２の中心を通るｘ軸方向の直線を対称軸としてそれぞれ対称の位置に同一形状の１対の通気口を配置するようにしてもよい。

上記各実施形態では、レーザ加工装置１０は、ノズルの位置を複数方向に移動可能なものとしたが、これに限定されるものではない。例えば、レーザ加工装置１０はノズルの位置を１方向だけに移動可能なものとしてもよい。この場合、ガスの吐出を行う通気口とガスの吸入を行う通気口とを切り替える必要はない。

上記第１実施形態では、第１切替弁４９と第２切替弁５０との切り替えの内容については、プログラムデータ６２ａに記憶するものとしたが、これに限定されるものではない。例えば、ＣＰＵにおいてノズルの位置の移動方向を判定し、その判定結果に基づいてノズルの位置の移動方向の前方側にある通気口からガスを吐出し、後方側にある通気口からガスを吸入するように第１切替弁４９と第２切替弁５０とを駆動させるようにしてもよい。
（その他）
本発明の詳細な説明に含まれる技術的思想を以下に記載する。
（手段）
手段１のノズルは、レーザ加工の対象物であるワークにレーザ光を照射することで前記ワークを加工するレーザ加工装置に取着され、前記ワークとの位置を相対的に移動させながら前記ワークにレーザ光を照射するためのものであって、前記ワークのレーザ照射位置に向けて照射するレーザ光が出力されるレーザ照射口と、前記ノズルの相対的な移動方向に対して前記レーザ照射口より前方側に設けられ、第１のガスを吐出する第１ガス通気口と、前記ノズルの相対的な移動方向に対して前記レーザ照射口より後方側であって、該レーザ照射口を対称中心又は対称軸として前記第１ガス通気口と対称となる位置に設けられ、前記第１ガス通気口が吐出する第１のガスを吸入する第２ガス通気口と、を備える。
手段２のノズルは、手段１のノズルにおいて、前記ノズル上の位置であって、前記ワークの前記レーザ照射位置と対向する位置に凹部を備え、前記レーザ照射口は前記凹部の底面に設けられ、前記第１ガス通気口と前記第２ガス通気口とは前記凹部の凹面に設けられる。
手段３のノズルは、手段１又は２のノズルにおいて、前記第２ガス通気口は、前記レーザ照射口と隣り合う位置に設けられる。
手段４のノズルは、手段１から３のいずれかのノズルにおいて、前記ノズル上の位置であって、前記レーザ照射口と前記第１ガス通気口と前記第２ガス通気口とを包囲する位置に設けられ、前記レーザ照射位置を包囲するように第３のガスを吐出する第３ガス通気口を備える。
手段５のノズルは、手段１から４のいずれかのノズルにおいて、前記レーザ照射口は、前記レーザ照射口から吐出する第４のガスを供給するための第４ガス供給手段と接続可能な第４ガス接続手段を有する。
手段６のノズルは、手段１から５のいずれかのノズルにおいて、前記レーザ照射口の形状が前記レーザ照射口を通過するレーザ光の形状と略同一形状である。
手段７のノズルは、手段１から６のいずれかのノズルにおいて、前記ノズルは、前記ワークに対する相対的な移動方向を複数方向に変化可能に前記レーザ加工装置に取着され、前記ノズルの相対的な移動方向のそれぞれに対して前記第１ガス通気口と前記第２ガス通気口とを備える。
手段８のレーザ加工装置は、レーザ加工の対象物である前記ワークにレーザ光を照射することで前記ワークを加工するものであって、手段１から７のいずれかのノズルと、前記ノズルを前記ワークに対して相対的に移動させる移動手段と、前記レーザ照射口を通過して前記ワークに照射されるレーザ光を発振させるレーザ照射手段と、前記第１ガス通気口に接続され、前記第１ガス通気口から吐出される第１のガスを供給する第１ガス供給手段と、前記第２ガス通気口に接続され、前記第１ガス通気口から吐出される第１のガスを、前記第２ガス通気口を介して吸入する第１ガス吸入手段と、を備える。
手段９のレーザ加工装置は、手段８のレーザ加工装置において、前記レーザ加工装置は、前記ノズルを回転させることなく、前記ノズルの相対的な移動方向を第１方向とその第１方向とは逆方向である第２方向とに少なくとも変化可能であって、前記第１ガス通気口は、前記ノズルの相対的な移動方向が前記第１方向である場合に前記ノズルの相対的な移動方向に対して前記レーザ照射口より前方側に位置し、前記ノズルの相対的な移動方向が前記第２方向である場合に前記ノズルの相対的な移動方向に対して前記レーザ照射口より後方側に位置するように配設されており、前記第２ガス通気口に接続され、前記第２ガス通気口から吐出される第１のガスを供給するための第２ガス供給手段と、前記第１ガス通気口に接続され、前記第２ガス通気口から吐出される第１のガスを吸入するための第２ガス吸入手段と、前記ノズルの相対的な移動方向の前方側にある前記第１ガス通気口又は前記第２ガス通気口により第１のガスを吐出するように前記第１ガス供給手段又は前記第２ガス供給手段を制御しつつ、前記ノズルの相対的な移動方向の後方側にある前記第２ガス通気口又は前記第１ガス通気口により第１のガスを吸入するように前記第１ガス吸入手段又は前記第２ガス吸入手段を制御する制御手段とを備える。
手段１０のレーザ加工装置は、手段９のレーザ加工装置において、前記ノズルは、前記第１ガス通気口の形状と前記第２ガス通気口の形状とが同一である。
手段１１のレーザ加工装置は、手段１０のレーザ加工装置において、前記移動手段は、前記ノズルの相対的な移動方向を複数の往復の方向に変化可能であって、前記ノズルは、前記ノズルの相対的な移動方向に係る往復の方向毎に前記第１ガス通気口と前記第２ガス通気口とを同一の個数ずつ備える。
手段１２のレーザ加工装置は、レーザ加工の対象物である前記ワークにレーザ光を照射することで前記ワークを加工するものであって、手段４のノズルと、前記第３ガス通気口と接続され、前記第３ガス通気口から吐出される第３のガスを供給する第３ガス供給手段と、前記第２ガス通気口に接続され、前記第１ガス通気口から吐出される第１のガスを、前記第２ガス通気口を介して吸入する第１ガス吸入手段と、前記第３ガス通気口により吐出される第３のガスの量が前記第２ガス通気口により吸入されるガスの量より多くなるように、前記第３ガス供給手段により供給される第３のガスの量、及び／又は、前記第１ガス吸入手段により吸入されるガスの量を調整するガス量調整手段と、を備える。
手段１３のレーザ加工装置は、レーザ加工の対象物である前記ワークにレーザ光を照射することで前記ワークを加工するものであって、手段５のノズルと、前記第４ガス供給手段と、前記レーザ照射口の気圧が前記レーザ照射位置の気圧より高くなるように、前記第４ガス供給手段により供給される第４のガスの量を調整する気圧調整手段と、を備える。
（効果）
手段１のノズルによれば、レーザ加工の対象物であるワークにレーザ光を照射することでワークを加工するレーザ加工装置に取着され、ワークとの位置を相対的に移動させながらワークにレーザ光を照射する。ノズルに備えられたレーザ照射口からワークのレーザ照射位置に向けてレーザ光が照射される。ノズルの相対的な移動方向に対してレーザ照射口より前方側に設けられた第１ガス通気口から第１のガスが吐出される。そして、第１ガス通気口から吐出された第１のガスは、ノズルの相対的な移動方向に対してレーザ照射口より後方側に設けられた第２ガス通気口により吸入される。これにより、第１のガスは第１ガス通気口から第２ガス通気口へと移動する。そして、ノズルの相対的な移動方向に対して前方側から後方側に向かう第１のガスの気流が生じる。また、第１ガス通気口と第２ガス通気口とはレーザ照射口を対称中心又は対称軸として対称となる位置に設けられるため、第１ガス通気口と第２ガス通気口との中央の位置にレーザ照射口が存在する。よって、レーザ照射口から第１ガス通気口までの距離と、レーザ照射口から第２ガス通気口までの距離とに偏りが生じるのを抑えることができるため、レーザ照射口付近における第１のガスの気流は偏りの少ない安定したものとなる。そして、レーザ照射位置においてレーザ光が照射されることで発生する微粒子がレーザ照射口付近に近付くと、微粒子は安定した第１のガスの気流に乗り第２ガス通気口により吸入される。従って、真空にするための大掛かりな装置を必要とすることなく微粒子を効率的に除去することができるという効果がある。
手段２のノズルによれば、手段１のノズルの奏する効果に加え、次の効果を奏する。即ち、ノズル上の位置であって、ワークのレーザ照射位置に対向する位置に凹部が設けられるため、凹部とワークとの間に間隙が形成される。また、レーザ照射口が凹部の底面に設けられるため、ノズルとワークとの距離を近付けてもレーザ照射位置からレーザ照射口までの距離を離すことができる。これにより、レーザ照射位置で発生する微粒子がレーザ照射口に付着する可能性を抑制することができるという効果がある。
また、ノズルとワークとの距離を近付けた場合、凹部とワークとの間に形成される間隙内に外部から侵入する空気が少なくなる。そして、凹部の凹面に第１ガス通気口と第２ガス通気口とが設けられるため、第１ガス通気口から吐出された第１のガスは凹部とワークとの間に形成される間隙内を移動して第２ガス通気口により吸入される。よって、間隙内に外部から侵入する空気が少ない中で第１のガスの気流が生じるため、第１のガスの気流が乱れるのを抑制することができる。従って、レーザ照射位置で発生する微粒子を第２ガス通気口により吸入する精度を高めることができるという効果がある。
手段３のノズルによれば、手段１又は２のノズルの奏する効果に加え、次の効果を奏する。即ち、第２ガス通気口はレーザ照射口と隣り合う位置に設けられるため、レーザ照射口と第２ガス通気口との間における気流を乱す要因を減らし、レーザ照射口と第２ガス通気口との間にある第１のガスの気流が乱されるのを抑制することができる。そのため、レーザ照射位置で発生する微粒子が第１のガスの気流に乗りレーザ照射口と第２ガス通気口との間に近付いた場合、安定した気流により第２ガス通気口に吸入される。よって、レーザ照射位置で発生する微粒子を第２ガス通気口により吸入する精度を高めることができるという効果がある。
手段４のノズルによれば、手段１から３のいずれかのノズルの奏する効果に加え、次の効果を奏する。即ち、第３ガス通気口は、ノズル上の位置であって、レーザ照射口と第１ガス通気口と第２ガス通気口とを包囲する位置に設けられ、レーザ照射位置を包囲するように第３のガスを吐出する。これにより、レーザ照射位置を第３のガスで取り囲んだ空間内に存在させ、レーザ照射位置が大気に触れるのを抑制することができる。ここで、第３ガス通気口はレーザ照射位置を包囲するように第３のガスを吐出するため、レーザ照射位置で生じる微粒子は第３のガスで取り囲まれた空間から外に出ることが抑制される。一方で、第３のガスで取り囲まれた空間内には、第１ガス通気口と第２ガス通気口とが存在するため、第１ガス通気口により吐出され第２ガス通気口により吸入される第１のガスの気流が存在する。そして、第３のガスで取り囲まれた空間内のレーザ照射位置で生じる微粒子は、第１のガスの気流に乗り第２ガス通気口に吸入される。これにより、第３のガスで取り囲まれた空間内で発生する微粒子をその空間内で滞留させことなく、除去することができる。よって、レーザ照射位置を第３のガスで取り囲まれた空間内に存在させることでレーザ照射位置が大気に触れるのを防ぎつつ、第３のガスで取り囲まれた空間内で発生した微粒子を除去することができるという効果がある。
手段５のノズルによれば、手段１から４のいずれかのノズルの奏する効果に加え、次の効果を奏する。即ち、レーザ照射口は、第４ガス接続手段により、レーザ照射口から吐出する第４のガスを供給するための第４ガス供給手段と接続可能であるため、レーザ照射口は第４ガス供給手段から供給される第４のガスを吐出することができる。よって、レーザ照射口から第４のガスを吐出することで、レーザ照射位置で発生する微粒子がレーザ照射口を通過してノズルの内部に侵入し、付着する可能性を抑制することができるという効果がある。
手段６のノズルによれば、手段１から５のいずれかのノズルの奏する効果に加え、次の効果を奏する。即ち、レーザ照射口の形状はレーザ照射口を通過するレーザ光の形状と略同一形状であるため、レーザ光の形状に合うようにレーザ照射口の開口部の面積を狭めることができる。よって、レーザ照射位置で発生する微粒子がレーザ照射口を通過してノズルの内部に侵入し、付着する可能性を抑制することができるという効果がある。
手段７のノズルによれば、手段１から６のいずれかのノズルの奏する効果に加え、次の効果を奏する。即ち、ノズルは相対的な移動方向を複数方向に変化可能にレーザ加工装置に取着される。これに対して、第１ガス通気口と第２ガス通気口とは、ノズルの相対的な移動方向のそれぞれに対して設けられるため、ノズルの相対的な移動方向が変化した場合であっても、ノズルの相対的な移動方向の前方側にある第１ガス通気口により第１のガスを吐出し、ノズルの相対的な移動方向の後方側にある第２ガス通気口により第１のガスを吸入することで、ノズルの相対的な移動方向に対して後方側で第１のガスを吸入することができる。よって、ノズルの相対的な移動方向に対して前方側から後方側に向かう第１のガスの気流を生じさせることができる。従って、ノズルの相対的な移動方向が変化した場合でも、ノズルの向きを変化させることなくレーザ加工を行うことができ、ノズルの向きを変化させる手間を省きつつ、微粒子を効率的に除去することができるという効果がある。
手段８のレーザ加工装置によれば、手段１から７のいずれかのノズルを有することにより、対応のノズルによって奏する効果が得られるレーザ加工装置を得ることができるという効果がある。
手段９のレーザ加工装置によれば、手段８のレーザ加工装置の奏する効果に加え、次の効果を奏する。即ち、レーザ加工装置は、ノズルを回転させることなく、ノズルの相対的な移動方向を第１方向とその第１方向とは逆方向である第２方向とに少なくとも変化させる。第１ガス通気口は、ノズルの相対的な移動方向が第１方向である場合にノズルの相対的な移動方向に対してレーザ照射口より前方側に位置し、ノズルの相対的な移動方向が第２方向である場合にノズルの相対的な移動方向に対してレーザ照射口より後方側に位置するように配設されている。ノズルの相対的な移動方向が第１方向でノズルの相対的な移動方向の前方側に第１ガス通気口がある場合、制御手段は、前方側にある第１ガス通気口により第１のガスを吐出するように第１ガス供給手段を制御しつつ、後方側にある第２ガス通気口により第１のガスを吸入するように第１ガス吸入手段を制御する。一方で、ノズルの相対的な移動方向が第２方向でノズルの相対的な移動方向の前方側に第２ガス通気口がある場合、制御手段は、前方側にある第２ガス通気口により第１のガスを吐出するように第２ガス供給手段を制御しつつ、後方側にある第１ガス通気口により第１のガスを吸入するように第２ガス吸入手段を制御する。
これにより、ノズルの相対的な進行方向に対して第１ガス通気口が前方側にある場合は、第１ガス通気口により第１のガスが吐出され、第２ガス通気口により第１のガスが吸入されるため、ノズルの相対的な進行方向に対して前方側から後方側に向かう第１のガスの気流を生じさせることができる。一方で、ノズルの相対的な進行方向に対して第２ガス通気口が前方側にある場合は、第２ガス通気口により第１のガスが吐出され、第１ガス通気口により第１のガスが吸入されるため、ノズルの相対的な進行方向に対して前方側から後方側に向かう第１のガスの気流を生じさせることができる。
よって、いずれの場合もノズルの相対的な進行方向に対して前方側から後方側に向かうガスの気流を生じさせることができる。従って、ノズルの相対的な移動方向が変化した場合であっても、ノズルの向きを変化させることなくレーザ加工を行うことができ、ノズルの向きを変化させる手間を省きつつ、微粒子を効率的に除去することができるという効果がある。
手段１０のレーザ加工装置によれば、手段９のレーザ加工装置の奏する効果に加え、次の効果を奏する。即ち、ノズルの第１ガス通気口と第２ガス通気口とは同一形状である。これにより、一の方向に相対的に移動することにより第１ガス通気口から第１のガスを吐出し第２ガス通気口から第１のガスを吸入する場合の第１ガス供給手段及び第１ガス吸入手段の制御と、一の方向とは逆方向に相対的に移動することにより第２ガス通気口から第１のガスを吐出し第１ガス通気口から第１のガスを吸入する場合の第２ガス供給手段及び第２ガス吸入手段の制御とを、同一の条件で実行するだけで、いずれの方向に相対的にノズルが移動したとしても、レーザ照射口付近で同様のガスの流れを実現できる。即ち、移動方向の切り替えに伴い、第１ガス通気口及び第２ガス通気口におけるガスの吐出及び吸入を切り替えたとしても、複雑な調整を不要にできるという効果がある。
手段１１のレーザ加工装置によれば、手段１０のレーザ加工装置の奏する効果に加え、次の効果を奏する。即ち、ノズルは、移動手段により相対的な移動方向を複数の往復の方向に変化させる。一方で、ノズルは、ノズルの相対的な移動方向に係る往復の方向毎に第１ガス通気口と第２ガス通気口とを同一の個数ずつ備える。そして、制御手段は、前方側にある第１ガス通気口により第１のガスを吐出するように第１ガス供給手段を制御しつつ、後方側にある第２ガス通気口により第１のガスを吸入するように第１ガス吸入手段を制御する。一方で、ノズルの相対的な移動方向の前方側に第２ガス通気口がある場合、制御手段は、前方側にある第２ガス通気口により第１のガスを吐出するように第２ガス供給手段を制御しつつ、後方側にある第１ガス通気口により第１のガスを吸入するように第２ガス吸入手段を制御する。これにより、ノズルの相対的な移動方向に係る往復の方向に備えられた第１ガス通気口又は第２ガス通気口であって、相対的な移動方向の前方側にある第１ガス通気口又は第２ガス通気口から第１のガスを吐出し、相対的な移動方向の後方側にある第１ガス通気口又は第２ガス通気口からその吐出された第１のガスを吸入することができる。よって、ノズルの相対的な移動方向が複数の往復の方向に変化する場合であっても、ノズルの相対的な進行方向に対して前方側から後方側に向かうガスの気流を生じさせることができ、微粒子を効率的に除去することができるという効果がある。
手段１２のレーザ加工装置によれば、手段４のノズルを備え、第３ガス通気口における第３のガスの吐出量が第２ガス通気口のガスの吸入量より多くなるように、第３ガス通気口により吐出される第３のガスの量、及び／又は、第２ガス通気口により吸入されるガスの量がガス量調整手段により調整される。これにより、第３ガス通気口から吐出される第３のガスの量は第２ガス通気口により吸入されるガスの量より多くなるため、ノズルの内側の気圧がノズルの外側の気圧より高くなる。よって、ノズルの内側から外側へ向かう第３のガスの気流が生じ、第３ガス通気口より外側にある大気が第３ガス通気口より内側に侵入するのを抑制することができる。従って、第３ガス通気口より内側にあるレーザ照射位置が大気に触れるのを抑制することができるという効果がある。
手段１３のレーザ加工装置によれば、手段５のノズルを備え、第４ガス供給手段は、ノズルにおけるレーザ照射口から吐出される第４のガスを供給する。一方で、気圧調整手段は、第４ガス供給手段により供給される第４のガスの量を調整することで、レーザ照射口の気圧がレーザ照射位置の気圧より高くなるように気圧を調整する。これにより、レーザ照射口の気圧がレーザ照射位置の気圧より高くなるため、第４のガスはレーザ照射口からレーザ照射位置に向かって流れる。従って、レーザ照射位置で発生する微粒子がレーザ照射口を通過してノズルの内部に侵入し、付着する可能性を抑制することができるという効果がある。

１０ レーザ加工装置
１１、２１１ ノズル
１２ レーザ照射口
１４ 第４ガス接続口（第４ガス接続手段）
１５ 第１ガス通気口
１７ 第２ガス通気口
１９ 第３ガス通気口
２１ チャンバー（凹部）
３０ レーザ照射装置（レーザ照射手段）
４１ａ 第１ガスボンベ（第１ガス供給手段の一部、第２ガス供給手段の一部）
４１ｂ 第３ガスボンベ（第３ガス供給手段の一部）
４１ｃ 第４ガスボンベ（第４ガス供給手段の一部）
４２ 吸引ポンプ（第１ガス吸入手段の一部、第２ガス吸入手段の一部）
４３ 第１ガス供給弁（第１ガス供給手段の一部）
４４ 第２ガス供給弁（第２ガス供給手段の一部）
４５ 第３ガス供給弁（第３ガス供給手段の一部、ガス量調整手段の一部）
４６ 第４ガス供給弁（第４ガス供給手段の一部、気圧調整手段）
４７ 第１ガス吸入弁（第２ガス吸入手段の一部、ガス量調整手段の一部）
４８ 第２ガス吸入弁（第１ガス吸入手段の一部、ガス量調整手段の一部）
４９ 第１切替弁（第１ガス供給手段の一部、第２ガス吸入手段の一部）
５０ 第２切替弁（第１ガス吸入手段の一部、第２ガス供給手段の一部）
５６ａ ｘ軸モータ（移動手段の一部）
５６ｂ ｙ軸モータ（移動手段の一部）
６０ 制御装置（制御手段）
Ｗ ワーク

Claims (4)

1. レーザ加工の対象物であるワークにレーザ光を照射することで前記ワークを加工するレーザ加工装置に取着され、前記ワークとの位置を相対的に移動させながら前記ワークにレーザ光を照射するためのノズルであって、
   前記ワークのレーザ照射位置に向けて照射するレーザ光が出力されるレーザ照射口と、
   前記ノズルの相対的な移動方向に対して前記レーザ照射口より前方側に設けられ、第１のガスを吐出する第１ガス通気口と、
   前記ノズルの相対的な移動方向に対して前記レーザ照射口より後方側であって、該レーザ照射口を対称中心又は対称軸として前記第１ガス通気口と対称となる位置に設けられ、前記第１ガス通気口が吐出する第１のガスを吸入する第２ガス通気口と、
   前記ノズルの相対的な移動方向に応じて前記第１ガス通気口又は前記第２ガス通気口が割り当てられ、前記レーザ照射口を対称軸又は対象中心としてそれぞれが配置される複数の通気口と、を備え、
   前記ノズルは、前記ワークに対する相対的な移動方向を複数方向に変化可能に前記レーザ加工装置に取着され、
   前記複数の通気口の内、前記ノズルの相対的な移動方向に対して前記レーザ照射口より前方側に位置する複数の通気口が前記第１ガス通気口として割り当てられ、
   前記ノズルの相対的な移動方向に対して前記レーザ照射口より後方側に位置し、且つ、前記レーザ照射口を対称中心又は対称軸として前記第１ガス通気口として割り当てられた複数の通気口と対称となる位置に設けられた複数の通気口が前記第２ガス通気口として割り当てられるように構成されたノズル。
2. 前記ノズル上の位置であって、前記レーザ照射口と前記第１ガス通気口と前記第２ガス通気口とを包囲する位置に設けられ、前記レーザ照射位置を包囲するように第３のガスを吐出する第３ガス通気口を備えることを特徴とする請求項１記載のノズル。
3. レーザ加工の対象物である前記ワークにレーザ光を照射することで前記ワークを加工するレーザ加工装置であって、
   請求項１又は２記載のノズルと、
   前記ノズルを前記ワークに対して相対的に移動させる移動手段と、
   前記レーザ照射口を通過して前記ワークに照射されるレーザ光を発振させるレーザ照射手段と、
   前記第１ガス通気口に接続され、前記第１ガス通気口から吐出される第１のガスを供給する第１ガス供給手段と、
   前記第２ガス通気口に接続され、前記第１ガス通気口から吐出される第１のガスを、前記第２ガス通気口を介して吸入する第１ガス吸入手段と、を備えることを特徴とするレーザ加工装置。
4. レーザ加工の対象物である前記ワークにレーザ光を照射することで前記ワークを加工するレーザ加工装置であって、
   請求項２記載のノズルと、
   前記第３ガス通気口と接続され、前記第３ガス通気口から吐出される第３のガスを供給する第３ガス供給手段と、
   前記第２ガス通気口に接続され、前記第１ガス通気口から吐出される第１のガスを、前記第２ガス通気口を介して吸入する第１ガス吸入手段と、
   前記第３ガス通気口により吐出される第３のガスの量が前記第２ガス通気口により吸入されるガスの量より多くなるように、前記第３ガス供給手段により供給される第３のガスの量、及び／又は、前記第１ガス吸入手段により吸入されるガスの量を調整するガス量調整手段と、を備えることを特徴とするレーザ加工装置。

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