JP7326990B2 - 電力変換装置 - Google Patents

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Description

本発明は、電力変換装置に関し、特に、多層導電基板を備えた電力変換装置に適用して有効な技術に関するものである。
電力変換装置は、その主要部品であるパワー半導体デバイスの技術革新により、より高速なスイッチング動作が実現されることで、パワー半導体デバイスから発する損失を低減させている。これにより、電力変換装置の体積全体の大部分を占める冷却器を従来よりも大幅に小型化することが可能となっている。
一方で、SiCやGaNといったワイドバンドギャップ材料を用いた次世代のパワー半導体デバイスの高速スイッチング性能を十分に発揮するには、パワー半導体デバイスと、直流コンデンサとで構成される直列一巡回路に寄生するインダクタンス成分を十分に小さくし、パワー半導体デバイスのターンオフ時に発生するオーバーシュート電圧がパワー半導体デバイスの耐圧を超えないようにしなければならない。すなわち、パワー半導体デバイスと直流コンデンサとを低インダクタンスで接続する配線手段が課題となる。
特許文献1には、パワー半導体デバイスと直流コンデンサとを低インダクタンスで接続する配線手段として、多層基板を用いる技術が開示されている。この技術は、直流コンデンサのP側端子(正極側)に電気定的に接続された導電層と、直流コンデンサのN側端子(負極側)に電気的に接続された導電層とを積層方向に交互に積層している。これによって、スイッチング電流の往路と復路とが多層基板の中で交互に積層されるため、近接効果により磁界がキャンセルされ、多層基板の寄生インダクタンスを大幅に低減することが可能となる。
なお、特許文献2には、電圧駆動型半導体素子のターンオン又はターンオフの指令のタイミングからサージ電圧発生のタイミングまでのサージ期間を記憶し、次回のターンオン時又はターンオフ時において、今回記憶したターンオン時又はターンオフ時におけるサージ期間に基づいて、電圧駆動型半導体素子の実効ゲート抵抗値を変更する電圧駆動型半導体素子の駆動方法が開示されている。
また、特許文献3には、交流電源を整流する整流器と、整流器の出力に接続されたリアクトルとスイッチング素子からなる直列回路と、スイッチング素子に並列に接続された整流器とコンデンサの直列回路からなる整流平滑回路と、スイッチング素子のオンオフを制御するデジタル制御部を備えたAC-DCコンバータであって、制御部は、交流電源の電圧とAC-DCコンバータの出力電圧とスイッチング素子のデューティに基づいて、出力電圧と交流電源の電圧の差と、AC-DCコンバータの出力電圧とスイッチング素子の1周期前のデューティの積との比が1より大きいときに電流不連続モードであると判定するモード判定部を備え、更に制御部は、モード判定部の判定結果に応じて、スイッチング素子のオン・オフを制御するためのPWM信号の演算条件を切り替えることを特徴とするAC-DCコンバータが開示されている。
特開2017-220961号公報 特許第4935266号公報 特許第6398537号公報
ところで、近年、パワー半導体デバイスの高性能化に伴い、電力変換装置の体積の多くを占める受動部品や冷却器の革新的な小型化が実現できるようになっている。それに合わせて多層基板の小型化も要求されている。
特許文献1の技術では、各導電層の電位が交互に異なるため、全層に亘って貫通するスルーホールを空けて、一層おきに導電層を電気的に接続する必要がある。このため、定格電流に対して必要十分な数のスルーホールを空けると、導電層の導電パターン面積が大幅に減少し、多層基板の抵抗値が増加して基板温度上昇を招く。すなわち、電位の異なる導電層を交互に積層する技術では、ビアによる導電層の面積の目減りが相対的に大きくなり、基板温度上昇を招くため、多層基板の小型化の妨げとなる。この多層基板の小型化の妨げは、電力変換装置の小型化の妨げを意味するため、改良の余地があった。
本発明の目的は、低インダクタンス化及び小型化を図ることが可能な電力変換装置を提供することにある。
本発明の一態様に係る電力変換装置は、一方の端子に第1基準電圧が印加され、かつ他方の端子に第1基準電圧よりも低い第2基準電圧が印加されるコンデンサと、制御外部端子、正極外部端子及び負極外部端子を有し、かつ制御外部端子に入力される制御信号により正極外部端子及び負極外部端子間の電気的接続をオン・オフするスイッチング素子を有する半導体装置と、コンデンサの一方の端子及び半導体装置の正極外部端子と電気的に接続された第1導電体を含む第1導電層、及び、コンデンサの他方の端子及び半導体装置の負極外部端子に電気的に接続された第2導電体を含む第2導電層とを有し、第1導電層が積層方向に絶縁層を介して連続して複数段積層され、かつ第2導電層が積層方向に絶縁層を介して連続して複数段積層された多層基板と、を備えている。
本発明の一態様によれば、低インダクタンス化及び小型化を図ることが可能な電力変換装置を提供することができる。
本発明の一実施形態に係る電力変換装置の一例を示す等価回路図である。 本発明の一実施形態に係る電力変換装置の一例を示す模式的平面図である。 本発明の一実施形態に係る電力変換装置の一例を示す模式的側面図((a)は図2の矢印L1の方向から見た模式的側面図,(b)は図2の矢印L2の方向から見た模式的側面図)である。 本発明の一実施形態に係る電力変換装置のY方向沿沿った模式的要部断面図である。 本発明の一実施形態に係る電力変換装置のX方向に沿った模式的要部断面図である。 本発明の一実施形態に係る電力変換装置において、多層基板の1層目の導電層の導電パターンを示す模式的平面図である。 本発明の一実施形態に係る電力変換装置において、多層基板の3層目の導電層の導電パターンを示す模式的平面図である。 本発明の一実施形態に係る電力変換装置において、多層基板のY方向に沿った模式的要部断面図である。 本発明の一実施形態に係る電力変換装置において、多層基板のY方向に沿った模式的要部断面図である。 本発明の一実施形態に係る電力変換装置の第1変形例を示す等価回路図である。 本発明の一実施形態に係る電力変換装置の第2変形例を模式的に示す要部断面図である。
以下、図面を参照して本発明の一実施形態を詳細に説明する。図面の記載において、同一又は類似の部分には同一又は類似の符号を付し、重複する説明を省略する。但し、図面は模式的なものであり、厚みと平面寸法との関係、各層の厚みの比率等は実際のものとは異なる場合がある。また、図面相互間においても寸法の関係や比率が異なる部分が含まれ得る。また、以下に示す実施形態は、本発明の技術的思想を具体化するための装置や方法を例示するものであって、本発明の技術的思想は、構成部品の材質、形状、構造、配置等を下記のものに特定するものでない。
また、以下の実施形態では、空間内で互に直交する三方向において、同一平面内で互に直交する第1方向及び第2方向をそれぞれX方向、Y方向とし、第1方向及び第2方向のそれぞれと直交する第3方向をZ方向とする。
また、本明細書において、「主電極」とは、IGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor)においてエミッタ電極又はコレクタ電極の何れか一方となる電極を意味する。電界効果トランジスタ(FET)や静電誘導トランジスタ(SIT)においてはソース電極又はドレイン電極の何れか一方となる電極を意味する。より具体的には、上記の「一方となる電極」を「第1主電極」として定義すれば、「他方の電極」は「第2主電極」となる。即ち、「第2主電極」とは、IGBTにおいては第1主電極とはならないエミッタ電極又はコレクタ電極の何れか一方となる電極、FET,SITにおいては上記第1主電極とはならないソース電極又はドレイン電極の何れか一方となる電極を意味する。以下の実施形態では、スイッチング素子として絶縁ゲート構造の縦型MISFETに着目して説明するので、ソース電極を「第1主電極」、ドレイン電極を「第2主電極」と呼ぶ。また、以下の実施形態では、整流素子としてダイオードに着目して説明する。
<電力変換装置>
図1及び図2に示すように、本発明の一実施形態に係る電力変換装置1は、電力を直流から交流に変換するインバータ回路2と、インバータ回路2に供給される直流電圧を平滑するコンデンサ4と、を備えている。
図1から図4に示すように、インバータ回路2は、3つの半導体装置10(10u,10v,10w)と、各半導体装置10とコンデンサ4とを電気的に接続する導電路が設けられた多層基板20と、を備えている。
3つの半導体装置10は、例えば三相誘導電動機9のU相,V相,W相に対応して設けられている。そして、3つの半導体装置10は、図1に示すように、上アーム11aとしてのスイッチング素子Tr1と、下アーム11bとしてのスイッチング素子Tr2とを直列接続した構成になっている。そして、スイッチング素子Tr1には整流素子Di1が並列に逆接続され、スイッチング素子Tr2には整流素子Di2が並列に逆接続されている。すなわち、3つの半導体装置10の各々は、2つのスイッチング素子Tr1及びTr2を直列接続した1レグで構成されている。スイッチング素子Tr1,Tr2及び整流素子Di1,Di2は、例えばSiC、GaNと言ったワイドバンドギャップ半導体からなる基板を主体とする半導体素子である。
スイッチング素子Tr1は、第2主電極(D)が正極電源ライン8Pと電気的に接続され、第1主電極(S)がスイッチング素子Tr2の第2主電極(D)と電気的に接続されている。スイッチング素子Tr2の第1主電極(S)は、負極電源ライン8Nと電気的に接続されている。整流素子Di1は、アノード電極(A)がスイッチング素子Tr1の第1主電極(S)と電気的に接続され、カソード電極(K)がスイッチング素子Tr1の第2主電極(D)と電気的に接続されている。整流素子Di2は、アノード電極(A)がスイッチング素子Tr2の第1主電極(S)と電気的に接続され、カソード電極(K)がスイッチング素子Tr2の第2主電極(D)と電気的に接続されている。
3つの半導体装置10おいて、各々の一方の入力ノード部Nd1は、正極電源ライン8Pと電気的に接続され、各々の他方の入力ノード部Nd2は、負極電源ライン8Nと電気的に接続されている。すなわち、3つの半導体装置10の各々は、正極電源ライン8Pと負極電源ライン8Nとの間において並列に接続されている。正極電源ライン8Pは、外部電源7から第1基準電圧(例えば400V×√2)が印加される正極電源入力端子Pに接続されている。負極電源ライン8Nは、外部電源7から第1基準電位よりも低い第2基準電位(例えば0V)が印加される負極電源入力端子Nに接続されている。
各半導体装置10の出力ノード部Nd3は、出力端子U,V,Wに接続されている。各出力端子U,V,Wには、負荷として例えば三相誘導電動機9が接続される。インバータ回路2は、3つの半導体装置10の各々のスイッチング素子Tr1,Tr2にゲート駆動回路から出力されるゲート信号(制御信号)が入力されることにより、各半導体装置10の出力ノード部Nd3から各出力端子U,V,Wを通して、U相のモータ駆動電流、V相のモータ駆動電流及びW相のモータ駆動電流が三相誘導電動機9のモータ巻線に通電される。
図2に示すように、3つの半導体装置10の各々は、2つのスイッチング素子Tr1,Tr2及び2つの整流素子Di1,Di2を1つの封止体12で封止した2in1タイプのパッケージ構造になっている。そして、3つの半導体装置10の各々は、封止体12の上面側に、正極外部端子13、負極外部端子14、出力外部端子15及び2つの制御外部端子16a,16b(図1参照)をそれぞれ備えている。2つの制御外部端子16a,16b、正極外部端子13、負極外部端子14及び出力外部端子15は、この順で封止体12の長手方向に沿って配列されている。
正極外部端子13、負極外部端子14、出力外部端子15及び2つの制御外部端子16a,16bの各々は導電ピンからなり、一部を除いて封止体12で封止され、一部が封止体12の外部に突出している。すなわち、正極外部端子13、負極外部端子14、出力外部端子15及び2つの制御外部端子16a,16bの各々は、X方向及びY方向と直交するZ方向(厚さ方向)において封止体12の内外に亘って延伸している。
正極外部端子13は、図1の入力ノード部Nd1に対応し、スイッチング素子Tr1の第2主電極(D)と電気的に接続されている。負極外部端子14は、図1の入力ノード部Nd2に対応し、スイッチング素子Tr2の第1主電極(S)と電気的に接続されている。出力外部端子15は、図1の出力ノード部Nd3に対応し、スイッチング素子Tr1の第1主電極(S)及びスイッチング素子Tr2の第2主電極(D)と電気的に接続されている。2つの制御外部端子16a及び16bのうち、一方の制御外部端子16aは、図1に示すように、上アーム11aであるスイッチング素子Tr1の制御電極(G)と電気的に接続され、ゲート駆動回路から出力されるゲート信号(制御信号)が入力される。他方の制御外部端子16bは、下アーム11bであるスイッチング素子Tr2の制御電極(G)と電気的に接続され、ゲート駆動回路から出力されるゲート信号(制御信号)が入力される。すなわち、3つの半導体装置10の各々は、制御外部端子16a,16bに入力される制御信号により、直列接続された2つのスイッチング素子Tr1及びTr2が正極外部端子13及び負極外部端子14間の電気的接続をオン・オフするように構成されている。
図2に示すように、3つの半導体装置10は、各々の長手方向をY方向に揃えた状態でX方向に所定の間隔をおいて配列されている。
コンデンサ4は、2つの端子としての正極端子4P及び負極端子4Nを有する。正極端子4Pは正極電源ライン8Pに電気的に接続され、負極端子4Nは負極電源ライン8Nに電気的に接続されている。すなわち、コンデンサ4は、図1に示すように、正極電源ライン8Pと負極電源ライン8Nとの間に並列接続で挿入されている。正極端子4P及び負極端子4Nの各々は導電ピンで構成されている。
図2に示すように、多層基板20は、平面視の形状が例えば略長方形からなり、長手方向であるX方向(第1方向)において互いに反対側に位置する2つの短辺20a,20bと、短手方向であるY方向(第2方向)において互いに反対側に位置する2つの長辺20c,20dと、を有する。そして、多層基板20は、他方の短辺20bの両隅部が一方及び他方の長辺20c,20dに沿って突出し、他方の長辺20dの中央部及び両隅部側がY方向に沿って突出する平面パターンになっている。
多層基板20は、X方向及びY方向と直交するZ方向において、導電層と、絶縁層とを交互に積層した構造になっている。この一実施形態において、多層基板20は、例えば4つの導電層を有する4層構造になっている。具体的には、図4及び図5に示すように、多層基板20の主面側から裏面側に向かって1層目の導電層21、絶縁層25a、2層目の導電層22、絶縁層25b、3層目の導電層23、絶縁層25c、4層目の導電層24がこの順に設けられている。導電層21から24は、例えば75μm程度の厚さの銅箔で形成されている。また、絶縁層25aから25cは、例えばガラス繊維にエポキシ系の樹脂を含浸させた絶縁性樹脂基板で形成されている。
多層基板20は、これに限定されないが、例えば1層目の導電層21と2層目の導電層22とが同一の導電パターンになっており、また、3層目の導電層23と4層目の導電層24とが同一の導電パターンになっている。したがって、1層目の導電層21の導電パターン及び3層目の導電層23の導電パターンについて説明し、2層目の導電層22の導電パターン及び4層目の導電層24の導電パターンについては説明を省略する。
図6に示すように、1層目の導電層21は、導電体21A、導電体21P、導電体21N、導電体21U、導電体21V及び導電体21Wを含む導電パターンになっている。
導電体21Aは、平面視の形状が略長方形になっており、多層基板20の一方の短辺20aから一方の長辺20cに沿って延伸する平面パターンになっている。
導電体21Pは、平面視の形状が略L字形になっており、導電体21Aに一体に連結され、かつ多層基板20の一方の長辺20cから他方の短辺20bに沿って延伸する第1部分21Pと、この第1部分21Pに一体に連結され、かつ多層基板20の他方の短辺20bの一方の隅部から一方の長辺20cに沿って突出する第2部分21Pとを有する。この導電体21Pは、導電体21Aに一体に連結され、かつ電気的に接続されている。導電体21Pの第2部分21P2は、正極電源入力端子Pとして機能する。
図6に示すように、導電体21Nは、平面視の形状が略L字形になっており、多層基板20の他方の長辺20dから他方の短辺20bに沿って延伸する第1部分21Nと、この第1部分21Nに一体に連結され、かつ多層基板20の他方の短辺20bの他方の隅部から他方の長辺20dに沿って突出する第2部分21Nと、を有する。この導電体21Nは、導電体21Aと電気的に絶縁分離されている。導電体21Nの第2部分21Nは、負極電源入力端子Nとして機能する。
導電体21Uは、平面視の形状が略L字形になっており、多層基板20の一方の短辺20aから他方の長辺20dに沿って延伸する第1部分21Uと、この第1部分21Uに一体に連結され、かつ多層基板20の他方の長辺20dの一方の隅部から一方の短辺20aに沿って突出する第2部分21Uとを有する。この導電体21Uは、導電体21Aと電気的に絶縁分離されている。導電体21Uの第2部分21Uは、出力端子Uとして機能する。
導電体21Vは、平面視の形状が略T字形になっており、多層基板20の他方の長辺20dの中央部において他方の長辺20dに沿って延伸する第1部分21Vと、この第1部分21Vに一体に連結され、かつ第1部分21VからY方向に突出する第2部分21Vとを有する。この導電体21Vは、導電体21A及び導電体21Uと電気的に絶縁分離されている。導電体21Vの第2部分21Vは、出力端子Vとして機能する。
導電体21Wは、導電体21Vと導電体21Nとの間において多層基板20の他方の長辺20dに沿って延伸する第1部分21Wと、この第1部分21Wに一体に連結され、かつ第1部分21WからY方向に沿って突出する第2部分21Wとを有する。この導電体21Wは、導電体21A及び導電体21Nと電気的に絶縁分離されている。導電体21Wの第2部分21Wは、出力端子Wとして機能する。
なお、第2層目の導電層22も、第1層目の導電層21と同様に、導電体21A、導電体21P、導電体21N、導電体21U、導電体21V及び導電体21Wを含む導電パターンになっている。
図7に示すように、3層目の導電層23は、導電体23A、導電体23P、導電体23N、導電体23U、導電体23V及び導電体23Wを含む導電パターンになっている。
導電体23Aは、平面視の形状が略長方形になっており、多層基板20の一方の短辺20aから一方の長辺20cに沿って延伸する平面パターンになっている。
導電体23Pは、平面視の形状が略L字形になっており、多層基板20の一方の長辺20cから他方の短辺20bに沿って延伸する第1部分23Pと、この第1部分23Pに一体に連結され、かつ多層基板20の他方の短辺20bの一方の隅部から一方の長辺20cに沿って突出する第2部分23Pとを有する。この導電体23Pは、導電体23Aと絶縁分離されている。
図7に示すように、導電体23Nは、平面視の形状が略L字形になっており、導電体23Aに一体に連結され、かつ多層基板20の他方の長辺20dから他方の短辺20bに沿って延伸する第1部分23Nと、この第1部分23Nに一体に連結され、かつ多層基板20の他方の短辺20bの他方の隅部から他方の長辺20dに沿って突出する第2部分23Nとを有する。この導電体23Nは、導電体23Aと一体に連結され、かつ電気的に接続されている。
導電体23Uは、平面視の形状が略L字形になっており、多層基板20の一方の短辺20aから他方の長辺20dに沿って延伸する第1部分23Uと、この第1部分23Uに一体に連結され、かつ多層基板20の他方の長辺20dの一方の隅部から一方の短辺20aに沿って突出する第2部分23Uとを有する。この導電体23Uは、導電体23Aと電気的に絶縁分離されている。
導電体23Vは、平面視の形状が略T字形になっており、多層基板20の他方の長辺の中央部において他方の長辺に沿って延伸する第1部分23Vと、この第1部分23Vに一体に連結され、かつ第1部分23VからY方向に突出する第2部分23Vとを有する。この導電体23Vは、導電体23A及び導電体23Uと電気的に絶縁分離されている。
図7に示すように、導電体23Wは、導電体23Vと導電体23Nとの間において多層基板20の他方の長辺20dに沿って延伸する第1部分23Wと、この第1部分23Wに一体に連結され、かつ第1部分23WからY方向に沿って突出する第2部分23Wとを有する。この導電体23Wは、導電体23A及び導電体23Nと電気的に分離されている。
なお、第4層目の導電層24も、第3層目の導電層23と同様に、導電体23A、導電体23P、導電体23N、導電体23U、導電体23V及び導電体23Wを含む導電パターンになっている。
図6から図8に示すように、多層基板20は、1層目の導電体21Aと2層目の導電体21Aとを電気的に接続するインナービア(スルーホール配線)26を有し、更に、3層目の導電体23Aと4層目の導電体23Aとを電気的に接続するインナービア27とを有する。このインナービア26及び27は、複数設けられている。
図6、図7、図9(a)及び(b)に示すように、多層基板20は、1層目から4層目の導電体21P,21P,23P,23Pを電気的に接続するスルービア28Pと、1層目から4層目の導電体21N,21N,23N,23Nを電気的に接続するスルービア28Nと、を有する。このスルービア28P及び28Nの各々は、複数設けられている。
図6、図7、図9(c)から(e)に示すように、多層基板20は、1層目から4層目の導電体21U,21U,23U,23Uを電気的に接続するスルービア28Uと、1層目から4層目の導電体21V,21V,23V,23Vを電気的に接続するスルービア28Vと、1層目から4層目の導電体21W,21W,23W,23Wを電気的に接続するスルービア28Wと、を有する。このスルービア28U、28V及び28Wの各々は、複数設けられている。
多層基板20は、図4、図6及び図7に示すように、1層目の導電層21から4層目の導電層24に亘って貫通し、1層目の導電体21A及び2層目の導電体21Aを電気的に接続するスルービア(スルーホール配線)33を有する。3層目の導電体23A及び4層目の導電体23Aの各々には、スルービア33との短絡を防止するため、スルービア33が貫通する部分に、このスルービア33の径よりも広い開口部23Aが設けられ、導電体23Aの開口部23A1における側壁はスルービア33から離間している。すなわち、このスルービア33は、3層目及び4層目の各々の導電体23Aと電気的に絶縁分離されている。
多層基板20は、図4、図6及び図7に示すように、1層目の導電層21から4層目の導電層24に亘って貫通し、3層目の導電体23A及び4層目の導電体23Aを電気的に接続するスルービア(スルーホール配線)34を有する。1層目の導電体21A及び2層目の導電体21Aの各々には、スルービア34との短絡を防止するため、スルービア34が貫通する部分に、このスルービア34の径よりも広い開口部21Aが設けられ、導電体21Aの開口部21Aにおける側壁はスルービア34から離間している。すなわち、このスルービア34は、1層目及び2層目の各々の導電体21Aと電気的に絶縁分離されている。
なお、開口部21A及び開口部23Aの各々には、詳細に図示していないが、絶縁性の接着材や熱硬化性の絶縁樹脂などの絶縁体が埋め込まれている。
多層基板20は、図4、図6及び図7に示すように、1層目の導電層21から4層目の導電層24に亘って貫通し、1層目から4層目の導電体21U、21U、23U及び23Uを電気的に接続するスルービア(スルーホール配線)35U(35)を有する。また、多層基板20は、断面図で示していないが、図6及び図7に示すように、スルービア35Uと同様に、1層目の導電層21から4層目の導電層24に亘って貫通し、1層目から4層目の導電体21V、21V、23V及び23Vを電気的に接続するスルービア(スルーホール配線)35V(35)を有する。また、多層基板20は、断面図で示していないが、図6及び図7に示すように、スルービア35Uと同様に、1層目の導電層21から4層目の導電層24に亘って貫通し、1層目から4層目の導電体21W、21W、23W及び23Wを電気的に接続するスルービア(スルーホール配線)35W(35)を有する。
多層基板20は、図5、図6及び図7に示すように、1層目の導電層21から4層目の導電層24に亘って貫通し、1層目から4層目の導電体21P、21P、23P及び23Pを電気的に接続するスルービア(スルーホール配線)36Pを有する。また、多層基板20は、1層目の導電層21から4層目の導電層24に亘って貫通し、1層目から4層目の導電体21P、21P、23P及び23Pを電気的に接続するスルービア(スルーホール配線)36Nを有する。
図6及び図7に示すように、スルービア33、34及び35は、半導体装置10の数に対応して設けられている。この一実施形態では、3つの半導体装置10を備えているので、スルービア33、34及び35は、それぞれ3つ設けられている。そして、図2から図4に示すように、スルービア33、34及び35には、半導体装置10の正極外部端子13、負極外部端子14、出力外部端子15が多層基板20の裏面側から個別に挿入され、例えば半田材により電気的及び機械的に接続されている。すなわち、3つの半導体装置10は、多層基板20の裏面側に実装されている。
図2、図3及び図5に示すように、スルービア36P及び36Nには、コンデンサ4の一方の端子である正極端子4P、他方の端子である負極端子4Nが多層基板20の主面側から個別に挿入され、例えば半田材により電気的及び機械的に接続されている。すなわち、コンデンサ4は、多層基板20の主面側に実装されている。
多層基板20において、1層目の導電層21の導電体21A及び2層目の導電層22の導電体21Aは、コンデンサ4の正極端子4P(図5参照)及び半導体装置10の正極外部端子13(図4参照)に電気的に接続されている。そして、正極電源入力端子Pに第1基準電位が印加されると、コンデンサ4の正極端子4P及び半導体装置10の正極外部端子13に第1基準電位が印加される。すなわち、1層目の導電層21の導電体21A及び2層目の導電層22の導電体21Aは、図1の正極電源ライン8Pに対応し、スイッチング電流の往路として機能する。また、3層目の導電層23の導電体23A及び4層目の導電層24の導電体23Aは、コンデンサ4の負極端子4N(図5参照)及び半導体装置10の負極外部端子14(図4参照)に電気的に接続されている。そして、負極電源入力端子Nに第2基準電位が印加されると、コンデンサ4の負極端子4N及び半導体装置10の負極外部端子14に第2基準電位が印加される。すなわち、3層目の導電層23の導電体23A及び4層目の導電層24の導電体23Aは、図1の負極電源ライン8Nに対応し、スイッチング電流の復路として機能する。
図4及び図5に示すように、多層基板20は、コンデンサ4の一方の端子である正極端子4P及び半導体装置10の正極外部端子13と電気的に接続された第1導電体としての導電体21Aを含む導電層(21,22)が積層方向に絶縁層25aを介して連続して2段積層された構造になっている。また、多層基板20は、コンデンサ4の他方の端子である負極端子4N及び半導体装置10の負極外部端子14と電気的に接続された第2導電体としての導電体23Aを含む導電層(23,24)が積層方向に絶縁層25cを介して連続して2段積層された構造になっている。そして、第1基準電位に電位固定される2層目の導電体21Aと、第2基準電位に電位固定される3層目の導電体23Aとが絶縁層25bを介して積層されている。すなわち、合計N(N:自然数)層の導電層で構成される多層基板20において、2以上N未満の範囲をとる任意の自然数Mを用いて、1層目からM層目の導電層にコンデンサ4の一方の端子の電位が電気的に接続され、M+1層目からN層目の導電層にコンデンサ4の他方の炭素の電位が電気的に接続されている。
多層基板20は、コンデンサ4の正極端子4Pと電気的に接続された導電体21Aを含む第1導電層として1層目の導電層21及び2層目の導電層22と、コンデンサ4の負極端子4Nと電気的に接続された導電体23Aを含む第2導電層として3層目の導電層23及び4層目の導電層24とを備えている。そして、1層目及び2層目の導電層21,22は、多層基板20の主面から反対側の裏面に向かって順次配置されている。また、3層目及び4層目の導電層23,24は、第1導電層としての2つの導電層21,22のうちの最下段に位置する導電層22から多層基板20の裏面に向かって順次配置されている。
<実施形態の効果>
次に、この一実施形態の主要な効果について説明する。
この一実施形態に係る電力変換装置1は、正極電源入力端子P及び負極電源入力端子Nに、外部電源7の正極及び負極が接続(第1及び第2基準電位が印加)される。そして、半導体装置10の制御外部端子16a及び16bに制御信号が印加されてスイッチング素子Tr1及びTr2がオン・オフ動作することにより、半導体装置10の正極外部端子13と負極外部端子14との間がオン・オフ状態(導通状態/非導通状態)となる。そして、コンデンサ4の正極端子4Pから多層基板20の導電体21A、半導体装置10及び多層基板20の導電体23Aを通してコンデンサ4の負極端子4Nまでの電流経路にスイッチング電流(主回路電流)が流れる。
このとき、多層基板20において、コンデンサ4の正極端子4Pに電気的に接続された導電体21Aと、コンデンサ4の負極端子4Nに電気的に接続された導電体23Aとでは、スイッチング電流の流れる方向が相対的に逆になる。すなわち、1層目の導電層21の導電体21A及び2層目の導電層22の導電体21Aを流れるスイッチング電流の方向と、3層目の導電層23の導電体23A及び4層目の導電層24の導電体23Aを流れるスイッチング電流の方向とが相対的に逆になる。したがって、導電体21Aと導電体23Aとでは発生した磁界がキャンセルされるため、多層基板20に寄生する直流一巡インダクタンスを低減することができる。
一方、図8に示すように、多層基板20は、1層目の導電層21の導電体21Aと2層目の導電層21の導電体21Aとの接続がインナービア26のみでよく、また、3層目の導電層23の導電体23Aと4層目の導電層24の導電体23Aとの接続がインナービア27のみでよいため、電位が異なるスルービアとの短絡を避けるために導電体にスルービアの径よりも広い開口部を設ける必要がなく、また、スルービアの数も大幅に減らすことができる。したがって、多層基板20の基板抵抗値の増加を抑制することができ、基板温度上昇を抑制することができるので、多層基板20の小型化を図ることができる。
この結果、この一実施形態の電力変換装置1によれば、低インダクタンス化及び小型化を図ることが可能である。
近年、SiC、GaNと言ったワイドバンドギャップ半導体からなるスイッチング素子では、従来以上にスイッチング特性の高速化、低損失化が進むほど、コンデンサ4から各半導体装置10までの寄生インダクタンスの増加に伴い過剰な冷却性能が必要となる場合があるため、装置の大型化が懸念される。これに対し、この一実施形態に係る電力変換装置1では、コンデンサ4から各半導体装置10までの配線インダクタンスを低減することができるので、SiC、GaNと言ったワイドバンドギャップ半導体からなるスイッチング素子Tr1,Tr2を内蔵した半導体装置10を用いても、過剰な冷却性能が不要であり、装置の小型化を図ることもできる。
(第1変形例)
上述の一実施形態では、多層基板20にコンデンサ4を実装した場合について説明した。しかしながら、本発明は多層基板20にコンデンサ4を実装する場合に限定させるものではない。例えば、本発明は、図10に示すように、多層基板20には実装されていないコンデンサ4を外付けとして備える場合においても適用することができる。
(第2変形例)
また、上述の一実施形態では、第1導電層としての1層目の導電層21の導電体21Aと2層目の導電層22の導電体21Aとの膜厚を同一とし、第2導電層としての3層目の導電層23の導電体23Aと4層目の導電層24の導電体23Aとの膜厚を同一とした場合について説明した。しかしながら、本発明は、導電体の膜厚を同一にする場合に限定されるものではない。例えば、本発明は、図11に示すように、コンデンサ4の正極端子4Pと電気的に接続される導電体21Aを含む第1導電層として1層目及び2層目の導電層21,22と、コンデンサ4の負極端子4Nと電気的に接続される導電体23Aを含む第2導電層として3層目及び4層目の導電層23,24とを備える。そして、第1導電層としての1層目及び2層目の導電層21,22のうちの第2導電層と積層方向において隣り合う最下段の導電層22を他の導電層21よりも厚い厚さで形成する。また、第2導電層としての3層目及び4層目の導電層23,24のうちの第1導電層と積層方向において隣り合う最上段の導電層23を他の導電層24よりも厚い厚さで形成する。この第2変形例では、第2層目の導電層22が第1層目の導電層21よりも厚く形成され、第3層目の導電層23が第4層目の導電層24よりも厚く形成されている。
ここで、2層目の導電層の導電体21Aと3層目の導電層の導電体23Aとでは十分な磁界キャンセル効果(近接効果)が得られるが、1層目の導電層21の導電体21Aと4層目の導電層24の導電体23Aとでは十分な磁界キャンセル効果が得られない。結果として、2層目の導電層22の導電体21Aと3層目の導電層23の導電体23Aとの方のインピーダンスが小さくなるため、より大きな電流が流れる傾向にある。この第2変形例では、1層目の導電層21及び4層目の導電層24と2層目の導電層22及び3層目の導電層23との電流アンバランスに対応させて、1層目の導電層21及び4層目の導電層24の厚さよりも2層目の導電層22及び3層目の導電層23の厚さを厚くすることにより、多層基板20の発熱を更に抑えることができる。
なお、上述の一実施形態及び変形例では、三相誘導電動機9のU相,V相,W相に対応して3つの半導体装置10(10u,10v,10w)を備えた場合について説明した。しかしながら、本発明は、3つの半導体装置10に限定されるものではなく、本発明は少なくとも1つ以上の半導体装置10を備えた電力変換装置に適用することができるが、2つ及び3つの半導体装置10を備えた場合に特に有用である。
また、上述の一実施形態及び変形例では、半導体装置に搭載されるスイッチング素子として絶縁ゲート構造の縦型MISFETに着目して説明した。しかしながら、本発明はこれに限定されるものではなく、例えばスイッチング素子としてIGBTが搭載された半導体装置を有する電力変換装置にも適用することができる。
また、上述の一実施形態及び変形例では2素子入りパッケージ(2in1)タイプの半導体装置を備えた電力変換装置について説明したが、本発明は2素子入りパッケージ(2in1)タイプの半導体装置に限定されるものではない。すなわち、本発明は、1素子入りパッケージ(1in1)タイプの半導体装置を備えた電力変換装置にも適用することができる。
また、上述の一実施形態及び変形例では、4層の導電層を有する多層基板について説明した。しかしながら、本発明は、4層の導電層に限定されるものではない。例えば、本発明は、3層以上の導電層を有する多層基板を備えた電力変換装置に適用することができる。
また、上述の一実施形態及び変形例では、第1基準電位が印加される第1導電層と第2基準電位が印加される第2導電層とをそれぞれ2層ずつ設けた場合について説明したが、第1導電層と第2導電層とでは総数が異なっていてもよい。
以上、本発明を上記一実施形態及び変形例に基づき具体的に説明したが、本発明は上記一実施形態及び変形例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能であることは勿論である。
1 電力変換装置
2 インバータ回路
4 コンデンサ
4P 正極端子
4N 負極端子
7 外部電源
8P 正極電源ライン
8N 負極電源ライン
9 三相誘導電動機
10(10U,10V,10W) 半導体装置
11a 上アーム
11b 下アーム
12 封止体
13 正極外部端子
14負極外部端子
15出力外部端子
16a,16b 制御外部端子
20 多層基板
21,22 導電層
21A,21P,21N,21U,21V,21W 導電体
23,24 導電層
23A,23P,23N,23U,23V,23W 導電体
25a,25b,25c 絶縁層
26,27 インナービア
28P,28N,28U,28V,28W スルービア
33,34,35U,35V,35W スルービア
36P,36N スルービア
P 正極電源入力端子
N 負極電源入力端子
Tr1,Tr2 スイッチング素子
U,V,W 出力端子

Claims (6)

  1. 一方の端子に第1基準電圧が印加され、かつ他方の端子に前記第1基準電圧よりも低い第2基準電圧が印加されるコンデンサと、
    制御外部端子、正極外部端子及び負極外部端子を有し、かつ前記制御外部端子に入力される制御信号により前記正極外部端子及び前記負極外部端子間の電気的接続をオン・オフするスイッチング素子を有する半導体装置と、
    前記コンデンサの一方の端子及び前記半導体装置の前記正極外部端子と電気的に接続された第1導電体を含む第1導電層、及び、前記コンデンサの他方の端子及び前記半導体装置の前記負極外部端子に電気的に接続された第2導電体を含む第2導電層とを有し、前記第1導電層が積層方向に絶縁層を介して連続して複数段積層され、かつ前記第2導電層が積層方向に絶縁層を介して連続して複数段積層された多層基板と、
    を備えていることを特徴とする電力変換装置。
  2. 前記多層基板は、複数の前記第1導電層の各々の前記第1導電体を電気的に接続する第1インナービアと、複数の前記第2導電層の各々の前記第2導電体を電気的に接続する第2インナービアとを更に有することを特徴とする請求項1に記載の電力変換装置。
  3. 複数の前記第1導電層は、前記多層基板の主面から反対側の裏面に向かって配置され、
    複数の前記第2導電層は、複数の前記第1導電層のうちの最下段の前記第1導電層から前記裏面に向かって配置されていることを特徴とする請求項1に記載の電力変換装置。
  4. 複数の前記第1導電層のうちの前記第2導電層と隣り合う最下段の前記第1導電層は、他の前記第1導電層よりも厚く形成され、
    複数の前記第2導電層のうちの前記第1導電層と隣り合う最上段の前記第2導電層は、他の前記第2導電層よりも厚く形成されていることを特徴とする請求項1に記載の電力変換装置。
  5. 前記半導体装置は、2つの前記スイッチング素子を有し、
    2つの前記スイッチング素子は、一方の前記スイッチング素子の第2主電極と他方の前記スイッチング素子の第1主電極とが直列接続され、
    一方の前記スイッチング素子の第1主電極は、前記正極外部端子と電気的に接続され、
    他方の前記スイッチング素子の第2主電極は、前記負極外部端子と電気的に接続されていることを特徴とする請求項1から4の何れか一項に記載の電力変換装置。
  6. 前記スイッチング素子は、ワイドバンドギャップ半導体からなる基板を主体とする半導体素子を含むことを特徴とする請求項1から5の何れか一項に記載の電力変換装置。
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