JP7322778B2 - 光変調器の製造方法及びこれに用いるフォトマスク - Google Patents
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Description
2 マッハツェンダー光導波路
2a 第1導波路部
2a' 第1導波路部に対応するマスク部分
2b 第2導波路部
2b' 第2導波路部に対応するマスク部分
2c 分波部
2d 合波部
2i 入力導波路部
2o 出力導波路部
3a RF相互作用部
3b DC相互作用部
4a 第1信号電極
4a1 第1信号電極の一端
4a2 第1信号電極の他端
4b 第2信号電極
4b1 第2信号電極の一端
4b2 第2信号電極の他端
5a 第1バイアス電極
5b1 第1バイアス電極の一端
5b 第2バイアス電極
5b1 第2バイアス電極の一端
9a ドライバ回路
9b 終端抵抗
9c バイアス回路
10 基板
11 導波層
11r リッジ部
11s スラブ部
12 保護層
13 バッファ層
14 電極層
30 ウェーハ
30A ウェーハ中央部
30B ウェーハ外周部
31,31A~31D デバイス形成領域
35 フォトレジスト
35p レジストパターン
40 フォトマスク
40A 対称フォトマスク
40B 非対称フォトマスク
40C 非対称フォトマスク
Claims (5)
- ウェーハ上に導波層を形成する工程と、
前記導波層をリッジ状に加工して複数の光導波路を形成する工程と、
前記複数の光導波路に対応する複数の電極を形成する工程とを備え、
前記複数の光導波路の各々は、前記ウェーハの第1方向と平行に設けられた第1及び第2導波路部を含み、前記第2導波路部が前記第1導波路部よりも前記第1方向と直交する第2方向における前記ウェーハの外周寄りに位置し、
前記複数の光導波路を形成する工程は、
前記第1及び第2導波路部に対応するマスク部分の線幅が等しい対称フォトマスクを使用して、第1光導波路に対応する第1レジストパターンを形成する工程と、
前記第1及び第2導波路部に対応するマスク部分の線幅が異なる非対称フォトマスクを使用して、前記第1レジストパターンよりも前記第2方向における前記ウェーハの外周寄りに、第2光導波路に対応する第2レジストパターンを形成する工程とを含むことを特徴とする光変調器の製造方法。 - 前記非対称フォトマスクの前記第2導波路部に対応するマスク部分の線幅は、前記非対称フォトマスクの前記第1導波路部に対応するマスク部分の線幅よりも狭い、請求項1に記載の光変調器の製造方法。
- 前記第1及び第2導波路部は、マッハツェンダー光導波路を構成し、
前記マッハツェンダー光導波路は、入力導波路部と、前記入力導波路部を伝搬する光を分波する分波部と、前記分波部から延びて互いに平行に設けられた前記第1及び第2導波路部と、前記第1及び第2導波路部を伝搬する光を合波する合波部と、前記合波部から出力される光を伝搬する出力導波路部とを有する、請求項1又は2に記載の光変調器の製造方法。 - 入力導波路部と、前記入力導波路部を伝搬する光を分波する分波部と、前記分波部から延びて互いに平行に設けられた前記第1及び第2導波路部と、前記第1及び第2導波路部を伝搬する光を合波する合波部と、前記合波部から出力される光を伝搬する出力導波路部とを有するマッハツェンダー光導波路を形成するための第1及び第2マスクパターンを備え、
前記第1及び第2マスクパターンは一枚のフォトマスク基板上に一緒に形成されており、
前記第1マスクパターンは、前記ウェーハの中央部に配置され、且つ、前記第1導波路部に対応するマスク部分の線幅と前記第2導波路部に対応するマスク部分の線幅が等しく、
前記第2マスクパターンは、前記マッハツェンダー光導波路の長手方向と直交する方向における前記ウェーハの一方又は他方の外周部に配置され、且つ、前記第1導波路部に対応するマスク部分の線幅と前記第2導波路部に対応するマスク部分の線幅が異なることを特徴とするフォトマスク。 - 前記ウェーハの一方の外周部に配置される前記第2マスクパターンは、前記第2導波路部に対応するマスク部分の線幅が前記第1導波路部に対応するマスク部分の線幅よりも狭く、
前記ウェーハの他方の外周部に配置される前記第2マスクパターンは、前記第1導波路部に対応するマスク部分の線幅が前記第2導波路部に対応するマスク部分の線幅よりも狭い、請求項4に記載のフォトマスク。
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2020
- 2020-03-27 JP JP2020057543A patent/JP7322778B2/ja active Active
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