JP7317626B2 - 半導体モジュール - Google Patents
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Description
前記ケースの上部に設けられる第1の端子面と、
前記ケースの上部に設けられ、前記第1の端子面に隣接する第2の端子面と、
前記第1の端子面に載置され、平板で細長い金属導体のブスバーが取り付けられる第1の端子と、
前記第2の端子面に載置される第2の端子と、
前記第1の端子面の周囲に形成され、前記ケースの外側に第1の壁を有する第1の溝と、
前記第2の端子面の周囲に形成され、前記ケースの外側に第2の壁を有する第2の溝と、
前記第1の壁と前記第2の壁を仕切るように前記第1の溝と前記第2の溝から立ち上がり、前記第1の端子と前記第2の端子間に形成されるリブと、
を備えている。
以上の構成において、第1の端子と第2の端子間の沿面距離は、ブスバーの取り付け前においては、第1の溝と第2の溝の面を伝う距離とすることが出来る。しかし、ブスバーが第1の端子に取り付けられたとき、ブスバーと第1の壁との間の空間距離が短いと、第1の溝を伝う距離を上記沿面距離の一部とすることが出来ない。ブスバーと第1の壁との間の空間距離が短いとこの空間距離が沿面距離の一部となってしまうからである。この場合、ブスバーの底面⇒第1の壁⇒第2の壁⇒第2の溝⇒第2の端子面⇒第2の端子までの距離が上記沿面距離となって、第1の溝を伝う距離を沿面距離の一部とすることが出来ない。
(2)⇒A(第1の溝7の壁面を垂直に降りる)
(3)⇒第1の溝7の底面(第1の溝7の底面を斜めに通過する)
(4)⇒B(第1の溝7の壁面を斜めに上がる)
(5)⇒第1の壁70(第1の壁70上面を斜めに通過する)
(6)⇒E1(第1のリブ5の側面)
(7)⇒E2(第1のリブ5の側面外側を水平に通過する)
(8)⇒第2の壁80(第2の壁80上面を斜めに通過する)
(9)⇒C(第2の溝8の壁面を斜めに降りる)
(10)⇒第2の溝8の底面(溝8の底面を斜めに通過する)
(11)⇒D(第2の溝8の壁面を斜めに上がる)
(12)⇒第2の端子面31
(13)⇒第2の端子3
なお、図6では、沿面距離d1はB~Dにおいて垂直に降りる(又は上がる)ように示しているが、実際は、上記(4)(9)(11)のように斜めに降りる(又は上がる)。
(1b)第1の端子面21上を第1の溝7まで結ぶ距離
以上のように、図4に示す実施形態では、沿面距離d1は、ブスバー10の底面のスタート点P(図4参照)から、第1のリブ5の左右両側において、溝7、8を経路とする。これにより、十分な長さの沿面距離d1を確保できる。
(15)⇒F(P´から第1の壁70上面の外端部に垂直に下りる。)
(16)⇒第1の壁70から第1のリブ5側面を直線状に通過する。
2-第1の端子
3-第2の端子
4-第3の端子
5-第1のリブ
6-第2のリブ
51-突起
Claims (7)
- 内部に半導体素子が収納され全体が樹脂で成型されたケースと、
前記ケースの上部に設けられる第1の端子面と、
前記ケースの上部に設けられ、前記第1の端子面に隣接する第2の端子面と、
前記第1の端子面に載置され、平板で細長い金属導体のブスバーが取り付けられる第1の端子と、
前記第2の端子面に載置される第2の端子と、
前記第1の端子面の周囲に形成され、前記ケースの外側に第1の壁を有する第1の溝と、
前記第2の端子面の周囲に形成され、前記ケースの外側に第2の壁を有する第2の溝と、
前記第1の壁と前記第2の壁を仕切るように前記第1の溝と前記第2の溝から立ち上がり、前記第1の端子と前記第2の端子間に形成されるリブと、
を備え、
前記第1の壁の高さは、前記第1の端子面の高さより低く設定されている半導体モジュール。 - 前記リブは、前記ブスバーに向けて突出する突起を備えた、請求項1記載の半導体モジュール。
- 前記突起は、上端から下方に傾斜する傾斜面を備えた請求項2記載の半導体モジュール。
- 前記突起は、前記傾斜面から下方に伸びる垂直面を備えた請求項3に記載の半導体モジュール。
- 前記突起は、前記リブの中央付近に設けられる請求項2~4のいずれかに記載の半導体モジュール。
- 前記突起は、前記リブの複数個所に設けられる請求項2~4のいずれかに記載の半導体モジュール。
- 前記第2の壁の高さは、前記第1の壁の高さと同一に設定されている、請求項1~6のいずれかに記載の半導体モジュール。
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