JP7303560B2 - 流体供給システム - Google Patents
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Description
本発明は、このような課題に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、生産コストを低減しながら、多連マニホールドを複数直列に配置して高度に集積化を図るとともに、パーティクルの発生を抑制した信頼性の高い流体供給システムを提供することにある。
本態様に係る流体供給システムは、複数の流体ラインが接続された多連マニホールドを流体ラインの配列方向に沿って直列に複数配置した流体供給システムであって、隣り合う多連マニホールドの互いに対向する端部に並列に配置された連結マニホールドと、隣り合う多連マニホールドの一方の端部と連結マニホールドとを接続する第1流体制御機器と、隣り合う多連マニホールドの他方の端部と連結マニホールドとを接続する第2流体制御機器とを備え、連結マニホールドは、隣り合う多連マニホールドのそれぞれの集合流路を第1及び第2流体制御機器を介して連通する連通路を有する。
また、本態様に係る前述した流体供給システムにおいて、第1及び第2流体制御機器は、第1及び第2流路を常時開放しつつ、切り換えに応じて第3流路を開放可能な三方弁である。
図1は、流体供給システム1の斜視図を示す。流体供給システム1は、流体制御機器2が直列に接続された流体ライン4を複数配列して構成され、例えば半導体製造装置のガス供給システムに用いられる。なお、流体ライン4は延設方向Xに延設されるとともに、延設方向Xと実質的に直交する配列方向Yに配列され、延設方向Xと配列方向Yとの双方と実質的に直交するのは交差方向Zであると規定して以降の各図面について説明する。
図3は、三方弁である開閉弁8の(a)構造図と、(b)下面図とを示す。各端部14cにおける開閉弁8は、図3(a)に実線で示すように第1及び第2流路28、30を常時開放しつつ、アクチュエータ10による切り換えに応じて第3流路32を開放可能に構成されている。
本実施形態の流体供給システム1においては、隣り合う多連マニホールド14の互いに対向する端部14cに延設方向Xに並列に連結マニホールド36が配置されている。連結マニホールド36は、多連マニホールド14とブロック継手16との間の図1に示す隙間18に配置されるため、連結マニホールド36を設置するために新たなスペースを設ける必要はない。
また、隣り合う多連マニホールド14で連結マニホールド36を連結することにより、製作が困難である、連数の多い多連マニホールド14、例えば、16連、又は24連といった多連マニホールド14の機能を容易に実現することができるため、流体供給システム1の生産コストを低減することができる。
例えば、流体供給システム1は、半導体製造装置のガス供給システムに限らず、液体の流体供給システムにも適用可能であり、また、半導体製造プロセス以外の種々のプロセスにも用いることができる。
4 流体ライン
8 開閉弁(第1流体制御機器、第2流体制御機器、三方弁)
14 多連マニホールド
14c 端部
16 ブロック継手
18 隙間
22 集合流路
28 第1流路
30 第2流路
32 第3流路
36 連結マニホールド
38 連通路
X 延設方向
Y 配列方向
Claims (4)
- 複数の流体ラインが接続された多連マニホールドを前記流体ラインの配列方向に沿って直列に複数配置した流体供給システムであって、
隣り合う前記多連マニホールドの互いに対向する端部に並列に配置された連結マニホールドと、
隣り合う前記多連マニホールドの一方の前記端部と前記連結マニホールドとを接続する第1流体制御機器と、
隣り合う前記多連マニホールドの他方の前記端部と前記連結マニホールドとを接続する第2流体制御機器と
を備え、
前記連結マニホールドは、隣り合う前記多連マニホールドのそれぞれの集合流路を前記第1及び第2流体制御機器を介して連通する連通路を有する、流体供給システム。 - 前記第1及び第2流体制御機器は、
隣り合う前記多連マニホールドのそれぞれの前記集合流路に前記連通路を介して連通させる第1及び第2流路と、
隣り合う前記多連マニホールドのそれぞれの前記集合流路に前記流体ラインを連通させる第3流路と
をそれぞれ有する、請求項1に記載の流体供給システム。 - 前記第1及び第2流体制御機器は、前記第1及び第2流路を常時開放しつつ、切り換えに応じて前記第3流路を開放可能な三方弁である、請求項2に記載の流体供給システム。
- 隣り合う前記多連マニホールドと前記流体ラインの延設方向に隙間を存して離間して配置され、前記第1及び第2流体制御機器が前記各多連マニホールド及び前記連結マニホールドとともに接続されるブロック継手をさらに備え、
前記連結マニホールドは、前記隙間に配置される、請求項1から3の何れか一項に記載の流体供給システム。
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