JP7302463B2 - Soiウェーハの製造方法およびボート - Google Patents
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Description
本発明は、以上の知見にさらに検討を加えてなされたものであり、その要旨は以下のとおりである。
前記貼合わせウェーハを、前記ボートの同一円弧上において、最下点に位置する主係止溝および、前記主係止溝を挟んで対向する副係止溝の少なくとも3点にて支持し、かつ前記ボートの主係止溝の底面と前記活性側ウェーハの周縁部との接触部を支点として、該支点を通る鉛直線に対して前記活性側ウェーハの側に前記貼合わせウェーハの重心が位置する姿勢にて、前記ボートに装填する、SOIウェーハの製造方法。
同一円弧上において、最下点に位置する主係止溝および、前記主係止溝を挟んで対向する副係止溝の少なくとも3点の、前記貼合わせウェーハの支持部を有し、前記主係止溝および副係止溝が、前記主係止溝を通る鉛直線に対して前記副係止溝が離間する相互配置を有する、ボート。
なお、本発明は、貼合わせウェーハをボートに装填して熱処理を施す工程に特徴があり、この熱処理工程の前後の工程は通例に従って行うことができる。すなわち、本発明では、先に図1および2に示した、支持基板となる支持側ウェーハ12aおよび、半導体デバイスを作り込む活性側ウェーハ12bを予め準備し、両者のどちらか一方、もしくは両方に酸化膜13を形成し、該酸化膜13を介して支持側ウェーハ12aと活性側ウェーハ12bとを貼合わせて貼合わせウェーハ12を作製し、該貼合わせウェーハ12を径方向に立てた姿勢にてボートに装填して熱処理を施し、支持側ウェーハ12aと活性側ウェーハ12bとを結合して、SOIウェーハを製造する。その際、以下に説明するボートを用いて、該ボートに貼合わせウェーハを所定の態様で装填することが肝要である。
2 ボート本体
3 主係止溝
3a 底面
4a、4b 副係止溝
12 貼合わせウェーハ
12a 支持側ウェーハ
12b 活性側ウェーハ
Claims (4)
- 支持基板となる支持側ウェーハおよび、半導体デバイスを作り込む活性側ウェーハのどちらか一方、もしくは両方に酸化膜を形成し、該酸化膜を介して前記支持側ウェーハと前記活性側ウェーハとを貼合わせ、該貼合わせウェーハをその径方向に立つ姿勢にてボートに装填して熱処理を施し、前記支持側ウェーハと前記活性側ウェーハとを結合する、SOIウェーハの製造方法であって、
前記貼合わせウェーハを、前記ボートの同一円弧上において、最下点に位置する主係止溝および、前記主係止溝を挟んで対向する副係止溝の少なくとも3点にて支持し、かつ前記ボートの主係止溝の底面と前記活性側ウェーハの周縁部との接触部を支点として、該支点を通る鉛直線に対して前記活性側ウェーハの側に前記貼合わせウェーハの重心が位置する姿勢にて、前記ボートに装填して前記熱処理を行うことを特徴とするSOIウェーハの製造方法。 - SOIウェーハの製造において、支持側ウェーハと活性側ウェーハとを酸化膜を介して貼合わせた、貼合わせウェーハに熱処理を施す際に、該貼合わせウェーハを装填するためのボートであって、
同一円弧上において、最下点に位置する主係止溝および、前記主係止溝を挟んで対向する副係止溝の少なくとも3点の、前記貼合わせウェーハの支持部を有し、前記主係止溝および副係止溝が、前記主係止溝を通る鉛直線に対して前記副係止溝が離間する相互配置を有し、
前記主係止溝の底面が水平面に対して傾斜し、
前記傾斜は、前記副係止溝が離間する側の溝側壁から前記副係止溝が離間する側と逆側の溝側壁へ下る向きである、ボート。 - 前記鉛直線に対して前記副係止溝が離間する最短距離が0.18mm以上である請求項2に記載のボート。
- 前記主係止溝の底面が水平面に対して1°以上の傾斜角度を有する請求項2または3に記載のボート。
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