JP7296296B2 - 検査装置及び検査方法 - Google Patents
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Description
実施形態1に係る検査装置を説明する。図1は、実施形態1に係る検査装置を例示した構成図である。図1に示すように、検査装置1は、光源10、中央隠しフィルタ11、レンズ21、レンズ22、光学部材23、ガルバノミラー24、レンズ26、レンズ27、偏光状態変換部30、対物レンズ40、ステージ50、受光素子60、処理部70を備えている。検査装置1の検査対象90は、例えば、ペリクル92で覆われたEUVマスク91のパターン面93である。
次に、実施形態2に係る検査装置を説明する。図11は、実施形態2に係る検査装置を例示した構成図である。図11に示すように、検査装置2は、検査装置1の構成と、光学部材23及び偏光状態変換部30が異なっている。
次に、実施形態3に係る検査装置を説明する。実施形態3の検査装置は、照明光をマルチビームとしたものである。図12は、実施形態3に係る検査装置を例示した構成図である。図12に示すように、検査装置3は、回折格子12をさらに備えている。回折格子12は、中央隠しフィルタ11に並ぶように光軸C上に配置されている。例えば、回折格子12は、中央隠しフィルタ11とレンズ21との間に配置されている。なお、回折格子12は、光源10と中央隠しフィルタ11との間に配置されてもよい。回折格子12は、例えば、対物レンズ40の瞳と共役な位置に配置されている。具体的には、回折格子12は、レンズ21の焦点に位置するように配置されている。
10 光源
11 中央隠しフィルタ
12 回折格子
21、22 レンズ
23 光学部材
23a ハーフミラー
23b ビームスプリッタ
23c PBS
24 ガルバノミラー
25 反射面
26、27、28 レンズ
30 偏光状態変換部
30a ラジアル偏光波長板
30b λ/4波長板
40 対物レンズ
50 ステージ
60、60a 受光素子
61 受光面
62 受光部
70 処理部
90 検査対象
91 EUVマスク
92 ペリクル
93 パターン面
C 光軸
L 照明光
R 反射光
Claims (20)
- 一方向の直線偏光を含む照明光を生成する光源と、
偏光状態を変換させる偏光状態変換部と、
前記偏光状態変換部を透過し前記偏光状態を変換された前記照明光を検査対象にスポット状に集光するとともに、前記照明光が前記検査対象で反射した反射光を集光する対物レンズと、
前記偏光状態変換部を透過し前記偏光状態を変換された前記反射光を、スポット状に集光した前記照明光で照明された前記検査対象と共役な結像位置に配置されたピンホールを通して受光する受光素子と、
前記受光素子が受光した前記反射光から前記検査対象の画像を形成し、形成された前記画像に基づいて、前記検査対象を検査する処理部と、
を備え、
前記検査対象は、EUVマスクに貼り付けられたペリクルで覆われた前記EUVマスクのパターン面であり、
前記光源は、可視光を含む前記照明光を生成し、
前記ペリクルは、DUV光の透過率が前記可視光の前記透過率に比べて低い、
検査装置。 - 前記処理部は、前記ペリクルが貼り付けられる前の前記パターン面の前記画像と、前記ペリクルが貼り付けられた後の前記パターン面の前記画像と、を比較することによって、前記パターン面を検査する、
請求項1に記載の検査装置。 - 一方向の直線偏光を含む照明光を生成する光源と、
偏光状態を変換させる偏光状態変換部と、
前記偏光状態変換部を透過し前記偏光状態を変換された前記照明光を検査対象にスポット状に集光するとともに、前記照明光が前記検査対象で反射した反射光を集光する対物レンズと、
前記偏光状態変換部を透過し前記偏光状態を変換された前記反射光を、スポット状に集光した前記照明光で照明された前記検査対象と共役な結像位置に配置されたピンホールを通して受光する受光素子と、
前記受光素子が受光した前記反射光から前記検査対象の画像を形成し、形成された前記画像に基づいて、前記検査対象を検査する処理部と、
を備え、
前記検査対象は、EUVマスクに貼り付けられたペリクルで覆われた前記EUVマスクのパターン面であり、
前記光源は、可視光を含む前記照明光を生成し、
前記処理部は、
前記ペリクルが貼り付けられる前の前記パターン面の画像を前記可視光を含む前記照明光により取得した参照画像と、前記ペリクルが貼り付けられる前の前記パターン面の画像をDUV光を含む照明光により取得した高分解参照画像と、を対応付け、
前記ペリクルが貼り付けられた後の前記パターン面の画像を前記可視光を含む前記照明光により取得した検査画像と、前記参照画像と、を比較することによって、前記パターン面を検査する、
検査装置。 - 前記ペリクルが貼り付けられる前の前記パターン面の前記画像は、光学条件が前記ペリクルと同じダミーペリクルを通して前記照明光で照明された前記パターン面の前記画像である、
請求項2に記載の検査装置。 - 前記光源は、中心波長532nmの可視光を含む前記照明光を生成する、
請求項1~4のいずれか1項に記載の検査装置。 - 前記照明光の光軸に直交する断面における中央部を遮光して前記照明光を環状にする中央隠しフィルタをさらに備えた、
請求項1~5のいずれか1項に記載の検査装置。 - 前記偏光状態変換部は、前記一方向の直線偏光をラジアル偏光に変換するとともに、前記ラジアル偏光を前記一方向の直線偏光に変換するラジアル偏光波長板である、
請求項1~6のいずれか1項に記載の検査装置。 - 前記偏光状態変換部は、前記一方向の直線偏光を円偏光に変換するとともに、前記円偏光を前記一方向と異なる他方向の直線偏光に変換するλ/4光波長板である、
請求項1~6のいずれか1項に記載の検査装置。 - 前記照明光を複数のビームに分割する回折格子をさらに備え、
前記対物レンズは、複数のビームを含む前記照明光が前記検査対象で反射した複数のビームを含む反射光を集光し、
前記受光素子は、前記反射光に含まれた各前記ビームを受光する複数の受光部を有し、
各受光部に対応するように、前記ピンホールは複数設けられた、
請求項1~8のいずれか1項に記載の検査装置。 - 一方向の直線偏光を含む照明光を生成する光源と、
偏光状態を変換させる偏光状態変換部と、
前記偏光状態変換部を透過し前記偏光状態を変換された前記照明光を検査対象にスポット状に集光するとともに、前記照明光が前記検査対象で反射した反射光を集光する対物レンズと、
前記偏光状態変換部を透過し前記偏光状態を変換された前記反射光を、スポット状に集光した前記照明光で照明された前記検査対象と共役な結像位置に配置されたピンホールを通して受光する受光素子と、
前記受光素子が受光した前記反射光から前記検査対象の画像を形成し、形成された前記画像に基づいて、前記検査対象を検査する処理部と、
前記照明光の光軸に直交する断面における中央部を遮光して前記照明光を環状にする中央隠しフィルタと、
を備え、
前記検査対象は、EUVマスクに貼り付けられたペリクルで覆われた前記EUVマスクのパターン面であり、
前記偏光状態変換部は、前記一方向の直線偏光をラジアル偏光に変換するとともに、前記ラジアル偏光を前記一方向の直線偏光に変換するラジアル偏光波長板である、
検査装置。 - 一方向の直線偏光を含む照明光を生成するステップと、
偏光状態を変換させる偏光状態変換部に前記照明光を透過させ、前記照明光の前記偏光状態を変換させるステップと、
前記偏光状態を変換された前記照明光を、対物レンズで検査対象にスポット状に集光させるステップと、
前記照明光が前記検査対象で反射した反射光を、前記対物レンズで集光させるステップと、
前記偏光状態変換部に前記反射光を透過させ、前記反射光の前記偏光状態を変換させるステップと、
前記偏光状態を変換された前記反射光を、スポット状に集光した前記照明光で照明された前記検査対象と共役な結像位置に配置されたピンホールを通して受光素子に受光させるステップと、
前記受光素子が受光した前記反射光から前記検査対象の画像を形成するステップと、
前記検査対象の画像に基づいて、前記検査対象を検査するステップと、
を備え、
前記検査対象は、EUVマスクに貼り付けられたペリクルで覆われた前記EUVマスクのパターン面であり、
前記照明光を生成するステップにおいて、
可視光を含む前記照明光を生成し、
前記ペリクルは、DUV光の透過率が前記可視光の前記透過率に比べて低い、
検査方法。 - 前記検査対象を検査するステップにおいて、
前記ペリクルが貼り付けられる前の前記パターン面の前記画像と、前記ペリクルが貼り付けられた後の前記パターン面の前記画像と、を比較することによって、前記パターン面を検査する、
請求項11に記載の検査方法。 - 一方向の直線偏光を含む照明光を生成するステップと、
偏光状態を変換させる偏光状態変換部に前記照明光を透過させ、前記照明光の前記偏光状態を変換させるステップと、
前記偏光状態を変換された前記照明光を、対物レンズで検査対象にスポット状に集光させるステップと、
前記照明光が前記検査対象で反射した反射光を、前記対物レンズで集光させるステップと、
前記偏光状態変換部に前記反射光を透過させ、前記反射光の前記偏光状態を変換させるステップと、
前記偏光状態を変換された前記反射光を、スポット状に集光した前記照明光で照明された前記検査対象と共役な結像位置に配置されたピンホールを通して受光素子に受光させるステップと、
前記受光素子が受光した前記反射光から前記検査対象の画像を形成するステップと、
前記検査対象の画像に基づいて、前記検査対象を検査するステップと、
を備え、
前記検査対象は、EUVマスクに貼り付けられたペリクルで覆われた前記EUVマスクのパターン面であり、
前記照明光を生成するステップにおいて、
可視光を含む前記照明光を生成し、
前記検査対象を検査するステップにおいて、
前記ペリクルが貼り付けられる前の前記パターン面の画像を前記可視光を含む前記照明光により取得した参照画像と、前記ペリクルが貼り付けられる前の前記パターン面の画像をDUV光を含む照明光により取得した高分解参照画像と、を対応付け、
前記ペリクルが貼り付けられた後の前記パターン面の画像を前記可視光を含む前記照明光により取得した検査画像と、前記参照画像と、を比較することによって、前記パターン面を検査する、
検査方法。 - 前記ペリクルが貼り付けられる前の前記パターン面の前記画像は、光学条件が前記ペリクルと同じダミーペリクルを通して前記照明光で照明された前記パターン面の前記画像である、
請求項12に記載の検査方法。 - 前記照明光を生成するステップにおいて、
中心波長532nmの可視光を含む前記照明光を生成する、
請求項11~14のいずれか1項に記載の検査方法。 - 前記照明光の光軸に直交する断面における中央部を遮光する中央隠しフィルタによって、前記照明光を環状にするステップをさらに備えた、
請求項11~15のいずれか1項に記載の検査方法。 - 前記照明光の前記偏光状態を変換させるステップにおいて、
前記偏光状態変換部は、ラジアル偏光波長板であり、前記一方向の直線偏光をラジアル偏光に変換し、
前記反射光の前記偏光状態を変換させるステップにおいて、
前記偏光状態変換部は、前記ラジアル偏光波長板であり、前記ラジアル偏光を前記一方向の直線偏光に変換する、
請求項11~16のいずれか1項に記載の検査方法。 - 前記照明光の前記偏光状態を変換させるステップにおいて、
前記偏光状態変換部は、λ/4光波長板であり、前記一方向の直線偏光を円偏光に変換し、
前記反射光の前記偏光状態を変換させるステップにおいて、
前記偏光状態変換部は、前記λ/4光波長板であり、前記円偏光を前記一方向と異なる他方向の直線偏光に変換する、
請求項11~16のいずれか1項に記載の検査方法。 - 前記照明光を回折格子によって、複数のビームに分割するステップをさらに備え、
前記対物レンズで集光させるステップにおいて、
複数のビームを含む前記照明光が前記検査対象で反射した複数のビームを含む前記反射光を、前記対物レンズで集光させ、
前記受光素子に受光させるステップにおいて、
前記反射光に含まれた各前記ビームを、各ビームに対応した前記ピンホールを通して前記受光素子の複数の受光部で受光させる、
請求項11~18のいずれか1項に記載の検査方法。 - 一方向の直線偏光を含む照明光を生成するステップと、
前記照明光の光軸に直交する断面における中央部を遮光する中央隠しフィルタによって、前記照明光を環状にするステップと、
偏光状態を変換させる偏光状態変換部に前記照明光を透過させ、前記照明光の前記偏光状態を変換させるステップと、
前記偏光状態を変換された前記照明光を、対物レンズで検査対象にスポット状に集光させるステップと、
前記照明光が前記検査対象で反射した反射光を、前記対物レンズで集光させるステップと、
前記偏光状態変換部に前記反射光を透過させ、前記反射光の前記偏光状態を変換させるステップと、
前記偏光状態を変換された前記反射光を、スポット状に集光した前記照明光で照明された前記検査対象と共役な結像位置に配置されたピンホールを通して受光素子に受光させるステップと、
前記受光素子が受光した前記反射光から前記検査対象の画像を形成するステップと、
前記検査対象の画像に基づいて、前記検査対象を検査するステップと、
を備え、
前記検査対象は、EUVマスクに貼り付けられたペリクルで覆われた前記EUVマスクのパターン面であり、
前記照明光の前記偏光状態を変換させるステップにおいて、
前記偏光状態変換部は、ラジアル偏光波長板であり、前記一方向の直線偏光をラジアル偏光に変換し、
前記反射光の前記偏光状態を変換させるステップにおいて、
前記偏光状態変換部は、前記ラジアル偏光波長板であり、前記ラジアル偏光を前記一方向の直線偏光に変換する、
検査方法。
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