JP7295198B2 - 赤外線カットフィルター構造 - Google Patents

赤外線カットフィルター構造 Download PDF

Info

Publication number
JP7295198B2
JP7295198B2 JP2021180130A JP2021180130A JP7295198B2 JP 7295198 B2 JP7295198 B2 JP 7295198B2 JP 2021180130 A JP2021180130 A JP 2021180130A JP 2021180130 A JP2021180130 A JP 2021180130A JP 7295198 B2 JP7295198 B2 JP 7295198B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
glass substrate
multilayer film
cut filter
infrared cut
refractive index
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2021180130A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2022077986A (ja
Inventor
政興 鄒
鄭▲うぇはお▼
培元 倪
Original Assignee
晶瑞光電股▲ふん▼有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 晶瑞光電股▲ふん▼有限公司 filed Critical 晶瑞光電股▲ふん▼有限公司
Publication of JP2022077986A publication Critical patent/JP2022077986A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7295198B2 publication Critical patent/JP7295198B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/208—Filters for use with infrared or ultraviolet radiation, e.g. for separating visible light from infrared and/or ultraviolet radiation
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/28—Interference filters
    • G02B5/281—Interference filters designed for the infrared light
    • G02B5/282—Interference filters designed for the infrared light reflecting for infrared and transparent for visible light, e.g. heat reflectors, laser protection
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/0694—Halides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/08—Oxides
    • C23C14/083—Oxides of refractory metals or yttrium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/10—Glass or silica
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/04—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/40—Coatings including alternating layers following a pattern, a periodic or defined repetition
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/04—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/22—Absorbing filters
    • G02B5/223—Absorbing filters containing organic substances, e.g. dyes, inks or pigments
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/28—Interference filters
    • G02B5/285—Interference filters comprising deposited thin solid films
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/28—Interference filters
    • G02B5/285—Interference filters comprising deposited thin solid films
    • G02B5/287—Interference filters comprising deposited thin solid films comprising at least one layer of organic material
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B11/00—Filters or other obturators specially adapted for photographic purposes

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Light Receiving Elements (AREA)

Description

本発明は、赤外線カットフィルター構造の技術分野に関し、特に、赤外線を効果的にフィルタリングし、可視光を透過し、更に正常なカラー画像を生成することができる赤外線カットフィルター構造に関する。
ハイエンドなスマートフォンの開発に伴い、携帯電話のカメラモジュールの要件は、益々高くなり、カメラモジュールでは、通常、ＣＣＤ（CCD=Charge-Coupled Device）又はＣＭＯＳ（CMOS=Complementary Metal-Oxide-Semiconductor）イメージセンサの前に赤外線カットフィルターが設置され、赤外線をフィルタリングし、可視光を透過し、正常なカラー画像の生成を可能にさせる。従って、赤外線カットフィルターはカメラモジュールの重要な部材であり、携帯電話の画素が高くなるにつれて、赤外線カットフィルターに対して厳しい要求がされ、特に、結像の色彩再現性及び鮮明さについての要求はより厳しくなっている。一般に、人の目で認識できる可視光の波長範囲は、３２０ｎｍ～７６０ｎｍであり、３２０ｎｍ～７６０ｎｍの範囲を超える光波は、人の目では見ることができないが、カメラの結像部材ＣＣＤ又はＣＭＯＳでは、ほとんどの波長の光を見ることができる。さまざまな光の関与により、カメラモジュールによって再現される色は、肉眼で見ることができる色と偏差があり、例えば、緑の植物は灰色になり、赤い物体は、明るい赤になり、黒色は紫色になる等であり、上述のように、優れた赤外線カットフィルターの赤外線カット機能を用いて、結像色を元の色に完全に近づけることが非常に重要である。
従来の赤外線カットフィルター構造は、台湾の公告第Ｉ５５７４３９号及び第Ｉ５５７４４０号特許に示されるように、その構造設計の最大の効果は、波長８５０～１３００ｎｍの光（赤外線）の透過率を１％程度まで小さくさせることであり、この透過率の範囲は、初期の要件の低い携帯電話のカメラモジュールでは許容されるが、携帯電話の画素は、益々高くなり、それにつれて現在のカメラモジュールによって再現される色と肉眼で見る色では、相当大きな偏差があるため、従来の赤外線カットフィルター構造によって達成される赤外線フィルター効果では、現在のハイエンド携帯電話のカメラモジュールにとっては、もはや十分ではない。
これに鑑み、本願発明者は、上記の問題に対して、深く思考し、且つ積極的に研究改良を試み、本発明を開発している。
台湾公告第Ｉ５５７４３９号 台湾公告第Ｉ５５７４４０号特許
本発明の目的は、赤外線を効果的にフィルタリングし、可視光を透過し、更に現在の高画素の携帯電話のカメラモジュールに正常なカラー画像を再現させることにある。
本発明の一態様による赤外線カットフィルター構造は、ガラス基板と、前記ガラス基板の上側面に設置され、複数の高屈折率材料及び複数の低屈折率材料が交互に堆積されて形成され、入射角０度及び３０度について９００ｎｍ～１１００ｎｍの波長範囲内の光の光学密度（ＯＤ； Ｏｐｔｉｃａｌ Ｄｅｎｓｉｔｙ）がＯＤ３～ＯＤ７である第１多層膜と、前記ガラス基板の下側面に設置され、複数の高屈折率材料及び複数の低屈折率材料が交互に堆積されて形成され、７００ｎｍ～９００ｎｍの波長範囲内の光線の光学密度がＯＤ３～ＯＤ６である第２多層膜と、を含み、前記第１多層膜の構造は、下表のとおりであり、
Figure 0007295198000001

前記第２多層膜の構造は次のとおりである
Figure 0007295198000002

赤外線カットフィルター構造。
本発明が提供する赤外線カットフィルター構造は、その特殊な構造設計で構成される赤外線カットフィルターにより、７００ｎｍ～１１００ｎｍの波長範囲の光（赤外線）の透過率を０．１％～０．００００１％に到達させることができ、従って、赤外線を効果的にフィルタリングし、可視光を透過し、更に、正常なカラー画像を生成し、ハイエンドの携帯電話のカメラモジュールの要求を満たすことができる。
本発明の一実施形態を示す構造説明図である。 本発明の一実施形態を示す第１多層膜の透過率のスペクトログラムである。 本発明の一実施形態を示す第１多層膜の光学密度のスペクトログラムである。 本発明の一実施形態を示す第２多層膜の透過率のスペクトログラムである。 本発明の一実施形態を示す第２多層膜の光学密度のスペクトログラムである。 本発明の一実施形態を示すガラス基板が従来の白ガラスである場合の透過率のスペクトログラムである。 本発明の一実施形態を示すガラス基板は、白ガラスである場合の光学密度のスペクトログラムである。 本発明の一実施形態を示す青ガラスの透過率のスペクトログラムである。 本発明の一実施形態を示すガラス基板が青ガラスである場合の透過率のスペクトログラムである。 本発明の一実施形態を示すガラス基板が青ガラスである場合の光学密度のスペクトログラムである。 本発明の一実施形態を示す青系ガラスの透過率のスペクトログラムである。 本発明の一実施形態を示すガラス基板が青系ガラスである場合の光学密度のスペクトログラムである。 本発明の一実施形態を示すガラス基板が青系ガラスである時の光学密度のスペクトログラムである。
図１を参照し、本発明の一実施形態を示す赤外線カットフィルター構造は、ガラス基板１０、第１多層膜２０及び第２多層膜３０を含む。
前記ガラス基板１０は、厚さが０．１ｍｍ～１．１ｍｍであり、従来の白ガラス（第１実施形態）、青ガラス（第２実施形態）、又は白ガラスに一層の赤外線を吸収する吸気膜層をコーティングした青系ガラス（第３実施形態）のいずれかであることができる。
前記第１多層膜２０は、物理真空蒸着（PVD= Physical Vapor Deposition）により前記ガラス基板１０の上側面に形成され、複数の高屈折率材料及び複数の低屈折率材料が交互に積層されて形成され、前記第１多層膜２０は、入射角０度及び３０度について９００ｎｍ～１１００ｎｍの波長範囲内の光の光学密度がＯＤ３～ＯＤ７である（図２及び図３参照）。前記高屈折率材料は、３００ｎｍ～１１００ｎｍの波長範囲内の屈折率が２～３であり、吸光係数が０に近い１つ又は複数の酸化物であり、例えば、Ｔｉ３Ｏ５、ＴｉＯ２、Ｔａ２Ｏ５、Ｎｂ２Ｏ５等である。前記低屈折率材料は、３００ｎｍ～１１００ｎｍの波長範囲内の屈折率が１．３～２であり、且つ吸光係数が０に近い１つ又は複数の酸化物であり、例えば、ＳｉＯ２、ＭｇＦ２等である。好適な実施形態における前記第１多層膜２０の構造は、下表の通りである。
Figure 0007295198000003
前記第２多層膜３０は、物理真空蒸着（ＰＶＤ）により、前記ガラス基板１０の下側面に形成され、複数の高屈折率材料及び複数の低屈折率材料が交互に堆積されて形成され、前記第２多層膜３０の７００ｎｍ～９００ｎｍの波長範囲内の光線の光学密度がＯＤ３～ＯＤ６である（図４及び図５参照）。前記高屈折率材料は、３００ｎｍ～１１００ｎｍの波長範囲内の屈折率が２～３であり、吸光係数が０に近い１つ又は複数の酸化物であり、例えば、Ｔｉ３Ｏ５、ＴｉＯ２、Ｔａ２Ｏ５、Ｎｂ２Ｏ５等である。前記低屈折率材料は、３００ｎｍ～１１００ｎｍの波長範囲内の屈折率が１．３～２であり、吸光係数が０に近い１つ又は複数の酸化物であり、例えば、ＳｉＯ２、ＭｇＦ２等である。好適な実施形態における前記第２多層膜３０の構造は、下表のとおりである。
Figure 0007295198000004
このように構成される赤外線カットフィルターは、７００ｎｍ～１１００ｎｍの波長範囲内の光（赤外線）の透過率を０．１％～０．００００１％に到達させることができるため、効果的に赤外線をフィルタリングし、可視光を透過し、更に正常なカラー画像を生成することができ、ハイエンドの携帯電話のカメラモジュールの要求を満たすことができる。
第１の実施形態において、前記ガラス基板１０は、従来の白ガラスであり、前記ガラス基板１０の上側面に前記第１多層膜２０が設けられ、前記ガラス基板１０の下側面に前記第２多層膜３０が設けられる場合、構成される赤外線カットフィルターの透過率のスペクトログラムは、図６に示すとおりであり、光学密度のスペクトログラムは、図７に示すとおりである。
第２の実施形態において、前記ガラス基板１０は、青ガラスであり、前記ガラス基板１０の上側面に前記第１多層膜２０が設けられ、前記ガラス基板１０の下側面に前記第２多層膜３０が設けられる場合、前記青ガラス自体の材料特性は、近赤外線に吸収効果を有し、Ｔ（透過率）５０％は約６４０ｎｍ±１０ｎｍの位置の０度及び３０度において、極めて小さい偏移を有し、その透過率のスペクトログラムは、図８に示すとおりであり、構成される赤外線カットフィルターの透過率のスペクトログラムは、図９に示すとおりであり、光学密度のスペクトログラムでは、図１０に示すとおりである。
第３の実施形態において、前記ガラス基板１０が青系ガラスであり、前記ガラス基板１０の上側面に前記第１多層膜２０が設けられ、前記ガラス基板１０の下側面に前記第２多層膜３０が設けられる場合、前記青系ガラス自体の材料特性は、近赤外光領域に吸収効果を有し、Ｔ５０％は約６４０ｎｍ±１０ｎｍの位置の０度及び３０度において、極めて小さい偏移を有し、その透過率のスペクトログラムは、図１１に示すとおりであり、構成される赤外線カットフィルターは、７００ｎｍ～１１００ｎｍの波長範囲内の光カット率ＯＤ３～ＯＤ６であり、Ｔ５０％の偏移量は５ｎｍ未満であり、その透過率のスペクトログラムは、図１２に示すとおりであり、光学密度のスペクトログラムは、図１３に示すとおりである。
１０ ガラス基板
２０ 第１多層膜
２１ 第２多層膜

Claims (4)

  1. ガラス基板と、
    前記ガラス基板の上側面に設置され、複数の高屈折率材料及び複数の低屈折率材料が交互に堆積されて形成され、入射角０度及び３０度について９００ｎｍ～１１００ｎｍの波長範囲内の光の光学密度がＯＤ３～ＯＤ７である第１多層膜と、
    前記ガラス基板の下側面に設置され、複数の高屈折率材料及び複数の低屈折率材料が交互に堆積されて形成され、７００ｎｍ～９００ｎｍの波長範囲内の光線の光学密度がＯＤ３～ＯＤ６である第２多層膜と、
    を含み、
    前記第１多層膜の構造は、下表のとおりであり、
    Figure 0007295198000005
    前記第２多層膜の構造は次のとおりである
    Figure 0007295198000006
    赤外線カットフィルター構造。
  2. 前記ガラス基板は、白ガラスである請求項１に記載の赤外線カットフィルター構造。
  3. 前記ガラス基板は、青ガラスである請求項１に記載の赤外線カットフィルター構造。
  4. 前記ガラス基板は、白ガラス上に一層の赤外線を吸収する有機膜層をコーティングした青系ガラス基板である請求項１に記載の赤外線カットフィルター構造。
JP2021180130A 2020-11-12 2021-11-04 赤外線カットフィルター構造 Active JP7295198B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW109135981 2020-11-12
TW109135981A TWI752677B (zh) 2020-11-12 2020-11-12 紅外截止濾光片結構

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2022077986A JP2022077986A (ja) 2022-05-24
JP7295198B2 true JP7295198B2 (ja) 2023-06-20

Family

ID=80809952

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021180130A Active JP7295198B2 (ja) 2020-11-12 2021-11-04 赤外線カットフィルター構造

Country Status (5)

Country Link
US (2) US11480720B2 (ja)
JP (1) JP7295198B2 (ja)
CN (2) CN114488376A (ja)
DE (1) DE102021128589A1 (ja)
TW (1) TWI752677B (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108897085A (zh) * 2018-08-06 2018-11-27 信阳舜宇光学有限公司 滤光片及包含该滤光片的红外图像传感系统

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017051867A1 (ja) 2015-09-25 2017-03-30 旭硝子株式会社 光学フィルタおよび撮像装置
JP2017062479A (ja) 2011-06-06 2017-03-30 旭硝子株式会社 光学フィルタおよび固体撮像素子
JP2020173294A (ja) 2019-04-08 2020-10-22 Jsr株式会社 光学フィルターおよびその用途

Family Cites Families (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW557439B (en) 2000-05-08 2003-10-11 Mitac Technology Corp Method for activating specific mechanism of computer
TW557440B (en) 2001-05-18 2003-10-11 Mitac Int Corp System using reference codes of program module attribute for applications and method thereof
CN102985856B (zh) * 2010-06-18 2015-12-16 株式会社大真空 红外截止滤光片
JP5741283B2 (ja) 2010-12-10 2015-07-01 旭硝子株式会社 赤外光透過フィルタ及びこれを用いた撮像装置
TW201235762A (en) * 2011-02-23 2012-09-01 Asia Optical Co Inc Infrared cut filter
US20130235452A1 (en) * 2012-03-12 2013-09-12 Honeywell International Inc. Anti-fogging optical filters and ir blocking assemblies, and methods for fabricating same
CN104755969B (zh) 2012-08-23 2018-06-08 旭硝子株式会社 近红外线截止滤波器和固体摄像装置
JP6248945B2 (ja) 2012-12-06 2017-12-20 旭硝子株式会社 近赤外線カットフィルタ
US20150346403A1 (en) 2012-12-27 2015-12-03 Konica Minolta, Inc. Ir cut filter and image capturing device including same
WO2014104370A1 (ja) 2012-12-28 2014-07-03 旭硝子株式会社 近赤外線カットフィルタ
WO2014168190A1 (ja) * 2013-04-10 2014-10-16 旭硝子株式会社 赤外線遮蔽フィルタ、固体撮像素子、および撮像・表示装置
KR101527822B1 (ko) 2013-09-06 2015-06-10 주식회사 엘엠에스 광학 필터 및 이를 포함하는 촬상 장치
CN107003453B (zh) 2014-12-19 2019-10-11 Ａｇｃ株式会社 光学滤波器和使用该光学滤波器的装置
KR101764084B1 (ko) * 2015-01-14 2017-08-01 아사히 가라스 가부시키가이샤 근적외선 커트 필터 및 고체 촬상 장치
JP6202229B2 (ja) 2015-04-23 2017-09-27 旭硝子株式会社 光学フィルタおよび撮像装置
CN111665583B (zh) 2015-05-12 2022-03-15 Ａｇｃ株式会社 近红外线吸收色素和吸收层
JP6210180B2 (ja) * 2015-07-28 2017-10-11 Jsr株式会社 光学フィルター及び光学フィルターを具備する環境光センサー
KR101832114B1 (ko) 2015-12-01 2018-02-23 아사히 가라스 가부시키가이샤 광학 필터 및 촬상 장치
KR101904500B1 (ko) 2016-02-24 2018-11-28 주식회사 엘엠에스 광학물품 및 이를 포함하는 광학필터
CN106772746B (zh) * 2016-12-26 2023-05-05 信阳舜宇光学有限公司 红外截止滤光片及其制备方法
JP6848477B2 (ja) * 2017-01-25 2021-03-24 Jsr株式会社 光学フィルターおよびその用途
CN108663736A (zh) 2017-03-27 2018-10-16 白金光学科技（苏州）有限公司 滤光片
CN111095045B (zh) 2017-09-11 2022-05-17 Ａｇｃ株式会社 光学滤波器和摄像装置
CN110737040B (zh) * 2018-07-18 2022-03-01 福州高意光学有限公司 3d识别滤光片
US11650361B2 (en) * 2018-12-27 2023-05-16 Viavi Solutions Inc. Optical filter
US11314004B2 (en) * 2019-04-08 2022-04-26 Visera Technologies Company Limited Optical filters and methods for forming the same

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017062479A (ja) 2011-06-06 2017-03-30 旭硝子株式会社 光学フィルタおよび固体撮像素子
WO2017051867A1 (ja) 2015-09-25 2017-03-30 旭硝子株式会社 光学フィルタおよび撮像装置
JP2020173294A (ja) 2019-04-08 2020-10-22 Jsr株式会社 光学フィルターおよびその用途

Also Published As

Publication number Publication date
CN114488376A (zh) 2022-05-13
US11480720B2 (en) 2022-10-25
JP2022077986A (ja) 2022-05-24
CN216485612U (zh) 2022-05-10
TWI752677B (zh) 2022-01-11
TW202219556A (zh) 2022-05-16
US20230028949A1 (en) 2023-01-26
US20220146723A1 (en) 2022-05-12
DE102021128589A1 (de) 2022-05-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5617063B1 (ja) 近赤外線カットフィルタ
CN103718070B (zh) 光学部件
JP5849719B2 (ja) 光吸収体及びこれを用いた撮像装置
US10114155B2 (en) Optical filter and imaging device comprising same
TW201733103A (zh) 影像感測器結構
WO2014084167A1 (ja) 近赤外線カットフィルタ
CN103261927B (zh) 光学滤波器模块及光学滤波器系统
CN100392440C (zh) 光线截止滤光片
JP2006344754A5 (ja)
JP7295198B2 (ja) 赤外線カットフィルター構造
CN105891928A (zh) 一种日夜兼用的摄像滤波器
CN206523651U (zh) 一种低反射蓝玻璃滤光片
JP2010032867A (ja) Ｉｒカットフィルタ
JP2017167557A (ja) 光吸収体及びこれを用いた撮像装置
CN206638842U (zh) 手机用蓝玻璃高清滤光片组立件
JP2013083885A (ja) Ｎｄフィルタ
JP3236727U (ja) 赤外線カットフィルター構造
CN206476893U (zh) 一种新型结构的玻璃镀膜渐变镜
TWI360671B (en) Infrared filter and lens module using the same
JP6156468B2 (ja) 光吸収体及びこれを用いた撮像装置
US20120212809A1 (en) Infrared Cut Filter
CN212364635U (zh) 一种吸收型红外截止滤光片
JP6458797B2 (ja) 赤外カットフィルター
CN206096525U (zh) 一种带有耐磨层的红外截止滤光片
KR200395227Y1 (ko) 소형화된 카메라 모듈

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20211104

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20220915

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20220927

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20221222

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20230404

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20230426

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20230530

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20230608

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7295198

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150