JP7293593B2 - 射出瞳拡張素子 - Google Patents
射出瞳拡張素子 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7293593B2 JP7293593B2 JP2018174640A JP2018174640A JP7293593B2 JP 7293593 B2 JP7293593 B2 JP 7293593B2 JP 2018174640 A JP2018174640 A JP 2018174640A JP 2018174640 A JP2018174640 A JP 2018174640A JP 7293593 B2 JP7293593 B2 JP 7293593B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- refractive index
- exit pupil
- light
- high refractive
- diffraction grating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
Description
ここで、出射部の回折格子では、伝播光は一次回折による出射光とゼロ次回折反射伝播光とに別れ、ゼロ次回折反射伝播光は、さらに裏面で全反射して出射部の回折格子の異なる場所で、再び一次回折による出射光とゼロ次反射伝播光に別れることを、出射部の回折格子で繰り返す。この繰り返しの出射によって伝搬する光の強度が徐々に低下してしまい、そのままでは、拡張された射出瞳の位置によって光の強度が変化してしまう。
この場合、上記第2拡張部の回折格子では、伝播光は一次回折反射光とゼロ次回折反射伝播光に別れ、一次回折反射光は出射部の回折格子へ向かい、ゼロ次回折反射伝播光は、裏面で全反射して、再び第2拡張部の回折格子にて一次回折反射光とゼロ次回折反射伝播光に別れることを第2拡張部の回折格子で繰り返す。
したがって、第2拡張部の回折格子においても、伝播光は一次回折反射光とゼロ次回折反射伝播光に別れることを繰り返すので、そのままでは、拡張された射出瞳の位置によって光の強度が変化してしまう。
しかし、基板を選択的にエッチングすることで回折格子を製造する場合には、部分的に深さを変化させることは難しく、特に、少しずつ変化させることは、非常に難しいか、非常に手間のかかる製造工程であった。
図1は、本発明による射出瞳拡張素子1の第1実施形態を示す図である。
図2は、射出瞳拡張素子1を図1中の矢印A-Aの位置で切断した断面図である。
なお、図1を含め、以下に示す各図は、模式的に示した図であり、各部の大きさ、形状は、理解を容易にするために、適宜誇張して示している。
また、以下の説明では、具体的な数値、形状、材料等を示して説明を行うが、これらは、適宜変更することができる。
本明細書において、形状や幾何学的条件を特定する用語、例えば、平行や直交等の用語については、厳密に意味するところに加え、同様の光学的機能を奏し、平行や直交と見なせる程度の誤差を有する状態も含むものとする。
本明細書において、板、シート、フィルム等の言葉を使用しているが、これらは、一般的な使い方として、厚さの厚い順に、板、シート、フィルムの順で使用されており、本明細書中でもそれに倣って使用している。しかし、このような使い分けには、技術的な意味は無いので、これらの文言は、適宜置き換えることができるものとする。
本明細書中において、シート面とは、各シートにおいて、そのシート全体として見たときにおける、シートの平面方向となる面を示すものであるとする。
また、本発明において透明とは、少なくとも利用する波長の光を透過するものをいう。例えば、仮に可視光を透過しないものであっても、赤外線を透過するものであれば、赤外線用途に用いる場合においては、透明として取り扱うものとする。
なお、本明細書及び特許請求の範囲において規定する具体的な数値には、一般的な誤差範囲は含むものとして扱うべきものである。すなわち、±10%程度の差異は、実質的には違いがないものであって、本件の数値範囲をわずかに超えた範囲に数値が設定されているものは、実質的には、本件発明の範囲内のものと解釈すべきである。
基材層10は、射出瞳拡張素子1を製造するときにベースとして用いられ、また、光が導波する導波部の主要な部分を構成する層である。
賦型層20は、基材層10の表面側に積層されている。賦型層20は、その表面に入射部21及び出射部22を備えている。
基材層10を構成する材料としては、例えば、PET、ポリカーボネート、アクリル系樹脂等が挙げられる。また、賦型層20を構成する材料としては、例えば、アクリル系紫外線硬化樹脂等の紫外線硬化性樹脂材料等が挙げられる。基材層10を構成する材料及び賦型層20を構成する材料は、いずれも、導波する光に対して透明である。
本実施形態では、入射部21は、3レベルの回折格子により構成されている。入射部21の回折格子は、一定のピッチPで繰り返し配列され、かつ、その配列の方向(図1から図3中の左右方向)と直交する一方向(図1中の上下方向、図2及び図3中の紙面奥行き方向)に延在する高屈折率部211を備えている。
また、入射部21の回折格子は、高屈折率部211の間に形成され、高屈折率部211よりも屈折率が低い低屈折率部212を有する。本実施形態では、上述したように、低屈折率部212は、空気により構成されているが、屈折率が高屈折率部211よりも十分に低い材料でこの領域を埋める構成としてもよい。
θ>asin(n2/n1)
sin(θ)>n2/n1・・・式(1)
一方、入射部21に入射した光の回折角をθとすると、回折格子の公式から、波長λとピッチPと回折角θとの関係を以下の式により表すことができる。
n1×sin(θ)=λ/P
sin(θ)=λ/(P×n1)・・・式(2)
この式(2)を上記式(1)の全反射条件に代入すると、以下の関係式が得られる。
λ/(P×n1)>n2/n1
λ>P×n2
ここで、n2=1(空気の屈折率)であるので、P<λとなり、入射部21の回折格子のピッチPを、導波する光の波長λよりも短くすることにより、入射部21に垂直に入射する光は、導波部10a内を全反射しながら導波することが可能となる。
出射部22の回折格子は、入射部21の回折格子と同様な3レベルの回折格子により構成されている。また、出射部22の回折格子は、一定のピッチPで繰り返し配列され、かつ、その配列の方向と直交する一方向(入射部21の回折格子が延在する方向と同一方向)に延在する高屈折率部221を有している。ただし、出射部22の回折格子は、ピッチPは一定であるが、高屈折率部221の幅が1ピッチ内において占める割合が位置により異なっている。これについては、後述する。さらに、出射部22の回折格子は、導波部10a内を導波してきた光を出射させるために、多段階の凹凸形状の向きが、入射部21の回折格子とは反対向きに配置されている。
そこで、本実施形態の射出瞳拡張素子1では、光の導波方向の下流側の回折格子の回折効率を上流側の回折格子の回折効率よりも高くなるように設定することにより、出射部22で拡張される射出瞳の光強度の低下を補うようにしている。
先にも説明したように、従来、射出瞳拡張素子において回折効率を位置に応じて変化させる手法として、回折格子の高さ(深さ)を位置に応じて変化させる手法が知られている。この手法に代えて、本実施形態の射出瞳拡張素子1では、出射部22の回折格子の高さ(深さ)は、均一に保ち、1ピッチ間における高屈折率部221の幅の比率を、高屈折率部221の配列の方向の位置によって異なるようにして、回折効率を変化させている。
出射部22の回折格子の高さ(深さ)及びピッチPは、位置によらず一定とした。これに対して、1ピッチ間における高屈折率部221の幅の比率、すなわち、1ピッチに占める高屈折率部221の割合を、位置に応じて変化させている。ここで、1ピッチ間における高屈折率部221の幅の比率をWとすると、高屈折率部221が突出している幅W2=P×Wとなる(図4参照)。また、高屈折率部221の最上段の幅W1については、W2=2×W1とすることもできるし、W2≠2×W1としてW2の比率とW1の比率とを変化させることもできる。
図5に示した例は、ピッチP=400nm、高屈折率部221の高さh=300nmとして比率Wを変化させた場合の効率の変化をシミュレーションした結果である。この図5に示すように、比率Wを変化させることにより、回折格子の効率(回折効率)を変化させることができる。
図6及び図7に示すように、W2≠2×W1としてW2の比率とW1の比率とを変化させても、効率を変化させることができる。
図8において、必要となる出光面の長さをL、基板厚さをT、出光部の回折格子に照射させる角度をθとすると、反射伝播による出光回数は、次の式(1)で求められる。
n=1+L/{2×T×tan(θ)} ・・・(1)
この回数をnとすると、最終段のn番目の出光部への入光量は、次の式(2)となる。
i(n)=1-V×(n-1) ・・・(2)
最終段nが回折格子の最大効率Emaxとすると、出光量Vは、次の式(3)を満たす。
V=Emax/{Emax×n-Emax+1} ・・・(3)
ここからj段目の入射量は、次の式(4)の形で表され、j段目の回折格子の効率E(j)は、次の式(5)となる。
i(j)=1-V×(j-1) ・・・(4)
E(j)=V/{1-V×(j-1)} ・・・(5)
また、図8を含め、以下で説明する回折格子は、特に言及しない限り、先に示した例と同様に、ピッチP=400nm、高屈折率部221の高さh=300nmであり、3段の回折格子であり、W2=2×W1である。また、光の波長は532nmであるとした。
図9では、導波部10aの厚さを0.5mm、全反射するときの反射角を62°とし、最初の入射光量を1、出光面で出射する光量を0.05として示している。
図9中におけるE1,E2,・・・は、出射回数に対応して符号を設けて、出射位置を表している。
この各出射位置において出射する出射光量を等しくするために必要な効率は、計算により求めることができ、以下の値となる。
E1で必要となる効率:0.05
E2で必要となる効率:0.052631579
E3で必要となる効率:0.055555556
E4で必要となる効率:0.058823529
E5で必要となる効率:0.0625
E6で必要となる効率:0.066666667
E7で必要となる効率:0.071428571
E8で必要となる効率:0.076923077
E9で必要となる効率:0.083333333
E10で必要となる効率:0.090909091
E11で必要となる効率:0.1
図10の出射効率は、図9の出射量に基づく回折格子の出射効率の計算結果に基づいたものであり、出射強度が下流側になるにしたがい徐々に減少することを補うための効率を求めている。なお、図9では、出射位置をE1,E2,・・・として横方向に回数で示していたが、実際の設計上は回数で取り扱うよりも、寸法で取り扱った方が都合がよいため、具体的な寸法となるように横軸は、光路長とした。ここで、光路長は、全反射するときの反射角を62°とし、基材層10と賦型層20の厚さのうち高屈折率部211,221が突出している部分を除いた厚さ、すなわち、基材層10と賦型層20の厚さのうち最も薄い位置の厚さであって、全反射を繰り返す導波部10aの厚さを0.5mmとして、反射回数を光路長に置き換えている。また、1回目の反射の位置を光路長0としている。この置き換えを前提として、図10の縦軸の効率は、図9中の各出射位置における出射強度(光量)がいずれも0.05となるための効率を求めている。例えば、図9の1回目の回折格子の出射強度が0.05のときに、反射は残りの0.95となる。2回目の回折格子入射が0.95であるため、2回目の回折格子の出射強度が0.05となるためには、回折効率が0.0526となる。3回目の回折格子での出射強度を0.05にするためには、3回目の回折格子への入射が0.9となるため、3回目の回折効率は0.55555となる。このようにして具体的な各点の数値を求め、それらを基に図示した近似式を得た。なお、近似式を求めたのは、位置毎の回折格子の倍率を取り扱う上で都合がよいからである。
本実施形態の射出瞳拡張素子1の出射部22は、光の導波方向の幅を9.4mmとすることを予定している。この9.4mmの範囲で出射強度を補うためには、図10を参照すると、5%から10%の回折効率が必要であることがわかる。図11では、ピッチに対する比率wによる効率が示されており、効率5%の比率は約0.4、効率10の比率は約0.8であることがわかる。
図12中には、この図12中にプロットされている点から近似される近似式を示した。この近似式を用いれば、欲しい効率を得るために比率Wをいくつに設定すべきであるのかを簡単に求めることができる。
図13は、本実施形態の出射部22の回折格子の光路長に対する比率の変化を示すグラフである。
例えば、図9のE5である光路長3.76mmの位置における回折格子の形状は、次のようにして決定することができる。先ず、図10を参照して、光路長3.76mmの場合の必要な効率を求める。これはグラフから読み取ってもよいが、近似式を求めているので、ここでは、これに代入することで、光路長3.76mmでの効率は、6.25%が得られる。図12のような変化をする回折格子を想定して、上記効率6.25%となる効率を図12から求めると、図4のw2の構造比率は、43.24%となる。その結果、400nmピッチにおける図4のw2の幅は、173nmとなる(図14参照)。また、図9のE1である光路長0mmの位置における回折格子の形状は、同様に導出することができ、効率は、5%であることから、図4w2の幅の比率は36.21%となり、145nmとなる。
図14は、本実施形態の出射部22の形状を位置毎に示した図である。
図14では、各数値は適宜丸めて概略の数値としている。また、図14中の「0mm付近」といった記載は、光路長の値を示している。図14に示すように、本実施形態の出射部22は、光路長が小さいほど、すなわち、入射部21に近い位置ほど、比率Wが小さくなっており、回折格子の回折効率が低くなるように設定されている。これにより、本実施形態の射出瞳拡張素子1では、拡張された射出瞳の光量変化を抑制することができる。
また、高屈折率部221の延在方向に直交する断面、すなわち図2等に示す断面において、高屈折率部221の面積と、高屈折率部221の間に形成された凹形状部分(低屈折率部222の一部)の面積との比率は、1:9から1:1の間で変化させるとよい。
先ず、賦型層20上にハードマスクHMとレジストRとを積層して、これを露光するリソグラフィ工程を行なう(図15(a))。このとき、露光幅を必要な幅に対応した幅とすることで、回折格子の比率Wを容易に変更可能である。その後の工程は、従来から公知のように、現像及びハードマスクエッチング工程(図15(b))、素材エッチング工程(図15(c))、ハードマスクHM及びレジストR除去工程(図15(d))を順次行なう。このように、回折格子の高屈折率部221の幅の比率を変化させる製造工程は、幅の比率が変化していない回折格子を製造する場合に対して工程が増えることはなく、容易に製造可能である。
なお、図15では、1段のみの製造方法を示しているが、本実施形態のような3段の回折格子の場合は、このような工程を2回行なうことになる。
また、図15では、賦型層20を直接エッチングすることとして説明を行なっているが、生産性を考慮すると、従来から公知のように、紫外線硬化性樹脂等を利用した賦型処理により行なってもよい。すなわち、図15の工程は、マスター形状、又は、中間型の製造に用いて、実際の製品となる射出瞳拡張素子1の製造は、上記マスター形状や中間型を利用した成形型を用いて賦型処理を行なうとよい。
図16は、本発明による射出瞳拡張素子1Bの第2実施形態を示す図である。
図17は、射出瞳拡張素子1Bを図16中の矢印B-Bの位置で切断した断面図である。
図18は、射出瞳拡張素子1Bを図16中の矢印C-Cの位置で切断した断面図である。
図19は、射出瞳拡張素子1Bを図16中の矢印D-Dの位置で切断した断面図である。
なお、前述した第1実施形態と同様の機能を果たす部分には、同一の符号を付して、重複する説明を適宜省略する。
また、図16から図19中には、方向が明確になるように、X,Y,Zの直交座標軸と、XX軸を示した。XX軸は、X軸及びY軸のそれぞれに対して45°傾き、かつ、Z軸と直交する方向に設定されており、図19の切断方向は、XX軸に沿った切断方向となっている。
第2実施形態の射出瞳拡張素子1Bは、第1実施形態の射出瞳拡張素子1と同様に、基材層10と、賦型層20とを備えている。
第2実施形態の賦型層20は、その表面に入射部21と、第2拡張部23と、出射部22Bを備えている。
第2拡張部23は、2レベルの回折格子により構成されており、入射部21から導波された光が進む向きに対して、45°傾いた向きに高屈折率部231が延在して配置されている。第2拡張部23は、入射部21から入射した光が進む向きを90°偏向させて出射部22Bへ進め、出射部22(第1拡張部)が光を拡張する向きと90°交差する向き、すなわち図中のX軸方向に射出瞳を拡張する(図16参照)。なお、図16では、射出瞳が3本に拡張されるように描いているが、実際は、第2拡張部23において反射を繰り返す数に応じた本数に射出瞳が分割されて拡張される。
図20の例では、第2拡張部23の回折格子のピッチP=283nmであり、高屈折率部231の高さh=100nmの場合を示している。第2拡張部23の2レベルの回折格子であっても、図20に示すように高屈折率部231の比率WBを変化させることにより、回折格子の効率を自由に変更可能である。第2拡張部23の回折格子における具体的な設計手法は、先に示した第1実施形態の出射部22の場合と同様であるので、詳細な説明は、省略する。
以上説明した実施形態に限定されることなく、種々の変形や変更が可能であって、それらも本発明の範囲内である。
10 基材層
10a 導波部
20 賦型層
21 入射部
22,22B 出射部
23 第2拡張部
211,221,221B,231 高屈折率部
212,222,222B,232 低屈折率部
Claims (4)
- 平板状に構成され光を導波する導波部と、
前記導波部上に配置、又は、前記導波部と一体に構成され、射出瞳を複数に分けて拡張する拡張部と、
前記導波部内へ光を入射する入射部と、
前記導波部内を通った光が出射する出射部と、
を備え、
前記入射部は、一定のピッチで配列する回折格子を有し、
前記入射部の前記回折格子の前記ピッチは、前記光の波長よりも短く、
前記拡張部は、
一定のピッチで繰り返し突出して配列され、かつ、前記配列の方向と直交する一方向に延在する高屈折率部と、
前記高屈折率部の間に形成され、前記高屈折率部よりも屈折率が低い低屈折率部と、
を有する回折格子により構成され、
前記出射部を兼ねて設けられており、
前記ピッチは、前記光の波長よりも短く構成されており、
1ピッチ間における前記高屈折率部の幅の比率は、前記配列の方向の位置によって異なっており、
前記拡張部は、前記出射部を兼ねる前記拡張部に加えて、第2拡張部をさらに有しており、
前記第2拡張部は、前記入射部から入射した光が進む向きを偏向させて前記出射部へ進め、前記出射部を兼ねる前記拡張部が光を拡張する向きと交差する向きに射出瞳を拡張し、
前記第2拡張部の1ピッチ間における前記高屈折率部の幅の比率は、前記配列の方向の位置によって異なっている射出瞳拡張素子。 - 請求項1に記載の射出瞳拡張素子において、
前記入射部からの距離が離れるにしたがい、1ピッチ間における前記高屈折率部の幅が占める比率が高くなること、
を特徴とする射出瞳拡張素子。 - 請求項1又は請求項2に記載の射出瞳拡張素子において、
1ピッチ内において前記高屈折率部の幅が占める比率は、0.2から0.7の間で位置によって変化すること、
を特徴とする射出瞳拡張素子。 - 請求項1から請求項3までのいずれかに記載の射出瞳拡張素子において、
前記高屈折率部の延在方向に直交する断面において、前記高屈折率部の面積と、前記高屈折率部の間に形成された凹形状部分の面積との比率は、1:9から1:1の間で変化すること、
を特徴とする射出瞳拡張素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018174640A JP7293593B2 (ja) | 2018-09-19 | 2018-09-19 | 射出瞳拡張素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018174640A JP7293593B2 (ja) | 2018-09-19 | 2018-09-19 | 射出瞳拡張素子 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020046530A JP2020046530A (ja) | 2020-03-26 |
JP7293593B2 true JP7293593B2 (ja) | 2023-06-20 |
Family
ID=69901355
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018174640A Active JP7293593B2 (ja) | 2018-09-19 | 2018-09-19 | 射出瞳拡張素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7293593B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20220026489A (ko) * | 2020-08-25 | 2022-03-04 | 주식회사 엘지화학 | 디스플레이 장치용 부품 및 그를 이용한 디스플레이 장치 |
CN113050281A (zh) * | 2021-02-28 | 2021-06-29 | 南昌三极光电有限公司 | 一种光学系统及混合现实设备 |
US20230350111A1 (en) * | 2022-04-28 | 2023-11-02 | Visera Technologies Company Ltd. | Optical system |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015049376A (ja) | 2013-09-02 | 2015-03-16 | セイコーエプソン株式会社 | 光学デバイス及び画像表示装置 |
WO2018081305A1 (en) | 2016-10-26 | 2018-05-03 | Magic Leap, Inc. | Outcoupling grating for augmented reality system |
EP3361147A1 (en) | 2017-02-14 | 2018-08-15 | BAE SYSTEMS plc | Waveguide structure |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9971150B1 (en) * | 2017-04-28 | 2018-05-15 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Compact display engine with MEMS scanners |
-
2018
- 2018-09-19 JP JP2018174640A patent/JP7293593B2/ja active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015049376A (ja) | 2013-09-02 | 2015-03-16 | セイコーエプソン株式会社 | 光学デバイス及び画像表示装置 |
WO2018081305A1 (en) | 2016-10-26 | 2018-05-03 | Magic Leap, Inc. | Outcoupling grating for augmented reality system |
EP3361147A1 (en) | 2017-02-14 | 2018-08-15 | BAE SYSTEMS plc | Waveguide structure |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2020046530A (ja) | 2020-03-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7293593B2 (ja) | 射出瞳拡張素子 | |
US20220206300A1 (en) | Diffraction light guide plate | |
TWI440833B (zh) | 混合式繞射光柵、模具及繞射光柵及其模具的製造方法 | |
JP2021517265A (ja) | 射出瞳拡大器 | |
JP6903819B2 (ja) | 複数パターン領域を有するモジュールの製造方法、および回折格子モジュールまたは回折格子モジュール用モールドの製造方法 | |
JP2013122493A (ja) | 光分岐素子および光分岐回路 | |
EP3179301A1 (en) | Directional backlight unit and 3d image display apparatus having the same | |
EP3631537A1 (en) | Method of manufacturing a variable efficiency diffractive grating and a diffractive grating | |
EP2919047A1 (en) | Diffraction grating of the reflective-type | |
CN104011582A (zh) | 光波前的控制 | |
JP2015069834A (ja) | 導光板、及び面光源装置 | |
CN114637116B (zh) | 衍射光波导以及具有其的显示设备 | |
JP7238252B2 (ja) | 回折光学素子、光照射装置 | |
JP7363031B2 (ja) | 射出瞳拡張素子、導波部材 | |
US11953711B2 (en) | Diffractive light guide plate and display device including same | |
US20220155511A1 (en) | Diffractive light guide plate and display device comprising same | |
JP6953705B2 (ja) | 光照射装置 | |
JP2007193252A (ja) | 3次元フォトニック結晶体の作製方法 | |
JP4223986B2 (ja) | ブラッグ回折格子形成用位相マスク及びそれを用いて製造した光ファイバ | |
JP7035303B2 (ja) | 回折光学素子、光照射装置、回折光学素子の製造方法 | |
JP4383338B2 (ja) | 型の製造方法 | |
TWI851704B (zh) | 繞射光導板以及包括其之顯示裝置 | |
JP6946632B2 (ja) | 回折光学素子、回折光学素子及び保持具のセット部材、光照射装置 | |
WO2023140273A1 (ja) | 回折格子、および回折格子形成用モールド | |
JP4462028B2 (ja) | 光導波路の製造方法及びそれに用いる露光マスク |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20210727 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20220725 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220726 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220914 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20221122 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230119 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230509 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230522 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7293593 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |