JP7291911B2 - 電気ニッケルめっき液中の添加剤濃度推定方法 - Google Patents
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Description
2 ポテンショスタット
3 作用電極
4 参照電極
5 対極
6 測定対象(めっき液)
Claims (3)
- 標準メッキ液に添加剤が加えられ、該添加剤の濃度が既知の電気ニッケルめっき液を、添加剤濃度と推定値の関係が一価関数になるとみなせる領域まで前記標準めっき液で希釈して測定対象となる第1の電気ニッケルめっき液を準備し、
標準メッキ液に添加剤が加えられ、該添加剤の濃度が未知の電気ニッケルめっき液を、添加剤濃度と推定値の関係が一価関数になるとみなせる領域まで前記標準めっき液で希釈して測定対象となる第2の電気ニッケルめっき液を準備し、
電気ニッケルめっき液の電気化学特性を測定する際、作用電極上に測定対象となる前記第1の電気ニッケルめっき液でめっき皮膜を析出させた後に、前記作用電極の電位を前記めっき皮膜の酸化溶解が開始するまで変化させた間の電気化学特性を測定して、特定の電位における電流密度、特定の電流密度における電位、特定の電位における分極曲線の勾配および特定の電流密度における分極曲線の勾配のうち、少なくとも1つ以上を求めて還元反応及び酸化反応に由来する説明変数として用い、あらかじめ第1の電気ニッケルめっき液中の添加剤の濃度と説明変数の関係を表す関数を作成しておき、
電気ニッケルめっき液の電気化学特性を測定する際、作用電極上に測定対象となる前記第2の電気ニッケルめっき液でめっき皮膜を析出させた後に、前記作用電極の電位を前記めっき皮膜の酸化溶解が開始するまで変化させた間の電気化学特性を測定して、前記第2の電気ニッケルめっき液で測定された電気化学特性から還元反応及び酸化反応に由来する説明変数の値を求めて前記の関数に代入することで、未知の電気ニッケルめっき液の中の添加剤の濃度を推定することを特徴とする電気ニッケルめっき液中の添加剤濃度推定方法。 - 請求項1に記載の方法で、前記作用電極が銅電極である電気ニッケルめっき液中の添加剤濃度推定方法。
- 請求項1又は2に記載の方法で、添加剤としてサッカリンとブチンジオールの両方の濃度を推定する電気ニッケルめっき液中の添加剤濃度推定方法。
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Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000193640A (ja) | 1998-12-29 | 2000-07-14 | Ibiden Co Ltd | 金属吸着物質の測定方法 |
JP2000273700A (ja) | 1999-03-23 | 2000-10-03 | Suzuki Motor Corp | 表面処理液の制御方法および表面処理システム |
JP2001123298A (ja) | 1999-10-25 | 2001-05-08 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 電解めっき方法と多層配線基板とその作製方法 |
JP2001152398A (ja) | 1999-08-05 | 2001-06-05 | Fujitsu Ltd | 電気めっき方法、めっき液評価方法、めっき装置、半導体装置の製造方法 |
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---|---|---|---|---|
JP2000193640A (ja) | 1998-12-29 | 2000-07-14 | Ibiden Co Ltd | 金属吸着物質の測定方法 |
JP2000273700A (ja) | 1999-03-23 | 2000-10-03 | Suzuki Motor Corp | 表面処理液の制御方法および表面処理システム |
JP2001152398A (ja) | 1999-08-05 | 2001-06-05 | Fujitsu Ltd | 電気めっき方法、めっき液評価方法、めっき装置、半導体装置の製造方法 |
JP2001123298A (ja) | 1999-10-25 | 2001-05-08 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 電解めっき方法と多層配線基板とその作製方法 |
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