JP7282141B2 - ろ過装置、精製装置、薬液の製造装置、ろ過済み被精製物、薬液、及び、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物 - Google Patents
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Description
後述する要件1~3からなる群から選択される少なくとも1つを満たす第1フィルタ及び第1フィルタを収容するハウジングからなる第1フィルタユニットと、
第1フィルタとは異なる第2フィルタ及び第2フィルタを収納するハウジングからなる第2フィルタユニットと、を有する、ろ過装置。
(2) 第1フィルタが有するろ過材の累積細孔分布における累積10%径と累積75%径との差が3nm以上である、(1)に記載のろ過装置。
(3) 累積10%径に対する、累積75%径の比が2.0~20.0である、(2)に記載のろ過装置。
(4) 第2フィルタが有するろ過材の孔径が、200nm以下である、(1)~(3)のいずれかに記載のろ過装置。
(5) 第2フィルタが有するろ過材の孔径が、100nm以下である、(1)~(4)のいずれかに記載のろ過装置。
(6) 第2フィルタが有するろ過材の孔径が、第1フィルタが有するろ過材の孔径以下である、(1)~(5)のいずれかに記載のろ過装置。
(7) 第2フィルタユニットは第1フィルタユニットの二次側にあり、
第2フィルタが有するろ過材の孔径が、第1フィルタが有するろ過材の孔径以下である、(1)~(6)のいずれかに記載のろ過装置。
(8) 第2フィルタユニットが一次側に配置され、第1フィルタユニットが二次側に配置された、(1)~(5)のいずれかに記載のろ過装置。
(9) 第2フィルタが有するろ過材の孔径が、第1フィルタが有するろ過材の孔径以上である、(8)に記載のろ過装置。
(10) 第1フィルタユニットの二次側に、第2フィルタユニットが更に配置され、二次側に配置された第2フィルタユニットが有するろ過材の孔径は、第1フィルタが有するろ過材の孔径以下であり、第1フィルタが有するろ過材が、表面処理済み基材を含む層を含む、(1)~(9)のいずれかに記載のろ過装置。
(11) 第1フィルタが、それぞれ異なる材料を含む2つ以上の層を含むろ過材を有する、(1)~(10)のいずれかに記載のろ過装置。
(12) 第2フィルタが有するろ過材が、2つ以上の層のいずれか1層と同じ材料を含む、(1)~(11)のいずれかに記載のろ過装置。
(13) 第1フィルタが有するろ過材、及び、第2フィルタが有するろ過材からなる群から選択される少なくとも1種のろ過材が有する、ハンセン溶解度パラメータδDp、δPp、及び、δHp、並びに、相互作用半径R0が、
被精製物が有する、ハンセン溶解度パラメータδDs、δPs、及び、δHsとの関係において、Raが下記式
Ra2=4(δDs-δDp)2+(δPs-δPp)2+(δHs-δHp)2
で表される場合、R0に対するRaの比が1.0以下である、(1)~(12)のいずれかに記載のろ過装置。
(14) 第1フィルタが、異なる細孔構造を有する2つ以上の層を含むろ過材を有する、(1)~(13)のいずれかに記載のろ過装置。
(15) 第1フィルタが、厚み方向に異なる細孔構造を有する層を含むろ過材を有する、(1)~(14)のいずれかに記載のろ過装置。
(16) 第1フィルタが有するろ過材が、イオン交換基を有する基材を含む層を含む、(1)~(15)のいずれかに記載のろ過装置。
(17) 第1フィルタが有するろ過材が、表面処理済み基材を含む層と、表面処理されていない基材を含む層と、を含む、(1)~(16)のいずれかに記載のろ過装置。
(18) 第1フィルタ及び第2フィルタからなる群から選択される少なくとも1種を逆洗可能である、(1)~(17)のいずれかに記載のろ過装置。
(19) 第1フィルタが有するろ過材、及び、第2フィルタが有するろ過材が、ナイロン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリフルオロカーボン、セルロース、ケイソウ土、ポリスチレン、ガラス、及び、ポリスルホンからなる群から選択される少なくとも1種の材料を含む、(1)~(18)のいずれかに記載のろ過装置。
(20) 第1フィルタが有するろ過材、及び、第2フィルタが有するろ過材からなる群から選択される少なくとも1種のろ過材が、ナノ多孔質膜層、及び、ナノ繊維層からなる群から選択される少なくとも1種の層を含む、(1)~(19)のいずれかに記載のろ過装置。
(21) 第1フィルタが有するろ過材が、少なくとも、ナノ多孔質膜層と、ナノ繊維層とを含む、(20)に記載のろ過装置。
(22) 第1フィルタが有するろ過材が、10~50nmの孔径分布を有する非ふるい膜層と、2~50nmの孔径分布を有するふるい膜層と、ナイロンナノ繊維層と、を含む、(1)~(21)のいずれかに記載のろ過装置。
(23) ナイロンナノ繊維層が、非ふるい膜層とふるい膜層との間に介在している、(22)に記載のろ過装置。
(24) 非ふるい膜層が、ふるい膜層とナイロンナノ繊維層との間に介在している、(22)に記載のろ過装置。
(25) ふるい膜層が、非ふるい膜層とナイロンナノ繊維層との間に介在している、(22)に記載のろ過装置。
(26) 第1フィルタが、更に1層又は2層以上の多孔質支持体を含む、(19)~(25)のいずれかに記載のろ過装置。
(27) 第1フィルタユニットの二次側から、第1フィルタユニットの一次側へ洗浄液を流すことにより、第1フィルタを逆洗可能な、(1)~(26)のいずれかに記載のろ過装置。
(28) (1)~(27)のいずれかに記載のろ過装置と、ろ過装置の一次側に、被精製物を貯留可能なタンクとを備える、精製装置。
(29) 第1フィルタユニットの二次側と、タンクとが管路により接続され、少なくとも第1フィルタでろ過したろ過済み被精製物を、管路を経て、タンクに返送可能である、(28)に記載の精製装置。
(30) ろ過装置の一次側に、更に蒸留装置を備える、(28)又は(29)に記載の精製装置。
(31) ろ過装置に、更に循環可能な経路を備える、(28)~(30)のいずれかに記載の精製装置。
(32) (1)~(27)のいずれかに記載のろ過装置と、1又は2以上の原料を混合して被精製物を調製する、調合装置と、を備える、薬液の製造装置。
(33) 被精製物を、(1)~(27)のいずれかに記載のろ過装置を用いてろ過して得られる、ろ過済み被精製物。
(34) 有機溶剤を含有し、(1)~(27)のいずれかに記載のろ過装置を用いてろ過された薬液であって、
有機溶剤が、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、乳酸エチル、メトキシプロピオン酸メチル、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、γ-ブチロラクトン、ジイソアミルエーテル、酢酸ブチル、酢酸イソアミル、イソプロパノール、4-メチル-2-ペンタノール、ジメチルスルホキシド、n-メチル-2-ピロリドン、ジエチレングリコール、エチレングリコール、ジプロピレングリコール、プロピレングリコール、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、スルフォラン、シクロヘプタノン、及び、2-ヘプタノンからなる群から選択される少なくとも1種である、薬液。
(35) 水を含有し、(1)~(27)のいずれかに記載のろ過装置を用いてろ過された薬液。
(36) 半導体製造用である、(34)又は(35)に記載の薬液。
(37) (1)~(27)のいずれかに記載のろ過装置を用いてろ過された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施形態に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施形態に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「~」を用いて表される数値範囲は、「~」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
また、本発明において「準備」というときには、特定の材料を合成又は調合して備えることのほか、購入等により所定の物を調達することを含む意味である。
また、本発明において、「ppm」は「parts-per-million(10-6)」を意味し、「ppb」は「parts-per-billion(10-9)」を意味し、「ppt」は「parts-per-trillion(10-12)」を意味し、「ppq」は「parts-per-quadrillion(10-15)」を意味する。
また、本発明において、1Å(オングストローム)は、0.1nmに相当する。
また、本発明における基(原子群)の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、本発明の効果を損ねない範囲で、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば、「炭化水素基」とは、置換基を有さない炭化水素基(無置換炭化水素基)のみならず、置換基を有する炭化水素基(置換炭化水素基)をも包含するものである。このことは、各化合物についても同義である。
また、本発明における「放射線」とは、例えば、遠紫外線、極紫外線(EUV;Extreme ultraviolet lithography)、X線、又は、電子線等を意味する。また、本発明において光とは、活性光線又は放射線を意味する。本発明中における「露光」とは、特に断らない限り、遠紫外線、X線又はEUV等による露光のみならず、電子線又はイオンビーム等の粒子線による描画も露光に含める。
本発明の実施形態に係るろ過装置は、被精製物が供給される管路中に、それぞれ独立して配置された、所定の第1フィルタ及び第1フィルタを収納するハウジングからなる第1フィルタユニットと、第1フィルタとは異なる第2フィルタ及び第2フィルタを収納するハウジングからなる第2フィルタユニットとを有するろ過装置である。第1フィルタユニットのハウジング内には、以下の要件1~3からなる群から選択される少なくとも1つを満たすろ過材を有する第1フィルタが収納されている。なお、以下の説明では第1フィルタが有するろ過材を「第1ろ過材」ともいう。
要件1:フィルタが、それぞれ異なる材料を含む2つ以上の層を含むろ過材を有する
要件2:フィルタが、異なる細孔構造を有する2つ以上の層を含むろ過材を有する
要件3:フィルタが、異なる材料が混合された1つの層を含むろ過材を有する
また、2つ以上のフィルタユニットの少なくとも1つは、そのハウジング内に、第2フィルタが収納されている。
なお、第1ろ過材は、要件1及び2のうち少なくとも1つを満たすのがより好ましい。
以下では、本発明の実施形態に係るろ過装置について、構成及び使用する材料について説明する。なお、以下のろ過装置は本発明の実施形態の一例であり、構成及び使用する材料は本発明の所望の効果を損なわない限り、公知の構成及び材料で任意に置き換え可能である。
なお、図1に示したフィルタユニット30は、蓋32に液体流入口34及び液体流出口35を備えているが、本発明の実施形態に係るフィルタユニットとしてはこれに制限されず、後段で詳述するが、液体流入口及び液体流出口は蓋32及び/又は本体31の任意の場所に配置できる。また、図1に示したフィルタユニット30が備えるハウジングは蓋32と本体31とを備えるが、フィルタユニットが備えるハウジングとしては上記に制限されず、蓋と本体とが一体的に成形されたものであってもよい。
外側表面に流出した精製後の被精製物は、内部管路42を経て、液体流出口35から、外に取り出される(図3中のF2で示した流れによる)。
以下では上記実施形態に係るろ過装置における各部材の形態についてそれぞれ詳述する。
上記実施形態に係るろ過装置は、二次フィルタユニット56のハウジング内に、第1フィルタが収納されている。本発明の第一実施形態に係るろ過装置の第1フィルタが備える第1ろ過材12は、一次側(図1のフィルタは、液体入口15から被精製物が流入し、第1ろ過材12を経て、外側へ流出する形態であるため、「一次側」とは、コア側を意味する。)から順に、ポリアミドを含むナノ多孔質膜層11aと、ナイロンを含むナノ繊維層11bと、超高分子量ポリエチレン(UPE)を含むナノ多孔質膜層11cと、を含む。
既に説明したとおり、本発明の実施形態に係るろ過装置において、第1ろ過材は、所定の要件1~3のうち少なくとも1つを満たせばよく、上記は、第1ろ過材の一形態である。従って、第1ろ過材としては、例えば、ポリアミドを含むナノ多孔質膜層11aとUPEを含むナノ多孔質膜層11cの2層を含む形態であってもよいし、ポリアミドとUPEとの混合物を含む1層を含む形態であってもよい。第1フィルタが含む各層の材料は、被精製物の性質、ろ過対象物の形態(粒子、及び、コロイド等の別)等によって任意に選択することができる。
上記累積細孔分布は、西華産業株式会社製細孔径分布測定装置「ナノパームポロメーター」を用いて測定できる。累積細孔分布とは、0超~所定の孔径までの細孔のdV/dlog10(D)(ただし、Vは細孔の容積であり、Dは細孔の直径である。)の積分値をいい、累積10%径とは累積細孔分布曲線の累積10%での孔径(nm)(細孔容積全体の10%を示すときの細孔径)を意味し、累積75%径とは累積細孔分布曲線の累積75%での孔径(nm)(細孔容積全体の75%を示すときの細孔径)を意味する。
また、累積10%径に対する、累積75%径の比(累積75%径/累積10%径)は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、2.0~20.0が好ましい。
上記ろ過材においては、一次側の表面における表面孔径と、二次側の表面における表面孔径とが異なり、一次側における表面孔径が大きいほうが好ましい。なかでも、上記ろ過材においては、一方の表面側から他方の表面側に向かって、細孔が小さくなっていくことが好ましい。
また、ナノ多孔質膜層であるUPE膜層の孔径分布としては特に制限されないが、2~200nmが好ましく、2~100nmがより好ましく、2~50nmが更に好ましい。ナノ繊維層は、ポリアミド膜層の孔径分布又はUPE膜層の孔径分布のいずれかより大きい孔径分布を有すること好ましい。
被精製物に不純物としてゲルが含有されている場合、ゲルは負に帯電している場合が多く、そのようなゲルの除去には、ポリアミド(例えば、ナイロン)膜層が非ふるい膜の機能を果たす。典型的な非ふるい膜層には、ナイロン-6膜層及びナイロン-6,6膜層等のナイロン膜層が含まれるが、これらに制限されない。
なお、本明細書で使用される「非ふるい保持機構」は、フィルタの圧力降下、又は、多孔質膜のバブルポイントに関連しない、妨害、拡散及び吸着などの機構によって生じる保持を指す。
ふるい膜層の典型的な例としては、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)膜とUPE膜が含まれるが、これらに制限されない。
なお、「ふるい保持機構」とは、粒子が多孔質膜の孔よりも大きいことによる結果の保持を指す。ふるい保持力は、フィルタケーキ(膜の表面での除去対象となる粒子の凝集)を形成することによって向上させることができる。フィルタケーキは、2次フィルタの機能を効果的に果たす。
界面活性剤としては、ドデシル硫酸ナトリウム(SDS)又はトリトンX-100を用いることができる。使用される界面活性剤の量は、臨界ミセル濃度(CMC)を超えるように選択できる。CMCを超える界面活性剤の濃度は、流体の表面張力を監視する表面張力計を用いて測定できる。界面活性剤の濃度は、0.1%(w/w)~0.3%(w/w)の範囲が好ましく、これは、ふるい条件を提供する。多孔質膜は、ふるい条件下で、90~99.99%、95~99.99%、98~99.99%、又は99~99.99%の保持率を有することが好ましい。いくつかの実施形態において、この多孔質膜は、ふるい条件下で、少なくとも90%以上(好ましくは95%以上、より好ましくは98%以上、更に好ましくは99%以上)の保持率を有することが好ましい。
また、多孔質支持体自体がろ過材を形成する場合、典型的には、上記多孔質支持体がデプスタイプのろ過材を形成する。すなわち、繊維層と多孔質支持体が、それぞれろ過機能を有することになる。
ナノ多孔質膜の孔の大きさの分布とその膜中における位置の分布は、特に制限されない。大きさの分布がより小さく、かつ、その膜中における分布位置が対称であってもよい。また、大きさの分布がより大きく、かつ、その膜中における分布位置が非対称であってもよい(上記の膜を「非対称多孔質膜」ともいう。)。非対称多孔質膜では、孔の大きさは膜中で変化し、典型的には、膜一方の表面から膜の他方の表面に向かって孔径が大きくなる。このとき、孔径の大きい細孔が多い側の表面を「オープン側」といい、孔径が小さい細孔が多い側の表面を「タイト側」ともいう。
また、非対称多孔質膜としては、例えば、細孔の大きさが膜の厚さ内のある位置においてで最小となるもの(これを「砂時計形状」ともいう。)が挙げられる。
なかでも、多孔質膜の材料としては、超高分子量ポリエチレンが好ましい。超高分子量ポリエチレンは、極めて長い鎖を有する熱可塑性ポリエチレンを意味し、分子量が百万以上、典型的には、200~600万が好ましい。
・ナノ多孔質膜層/ナノ繊維層
・非対称多孔質膜層/対称多孔質膜層
・各層の孔の大きさの分布が異なる
・各層の孔の膜中における位置の分布が異なる
・各層の孔の形状が異なる
なかでも、より優れた本発明の効果を有するろ過装置が得られる点で、ろ過材が、ナノ多孔質膜層と、ナノ繊維層とを含むことが好ましい。
・非ふるい膜層が、ふるい膜層とナイロンナノ繊維層との間に介在している場合
・ふるい膜層が、非ふるい膜層とナイロンナノ繊維層との間に介在している場合
・ナイロンナノ繊維層が、ふるい膜層と非ふるい膜層との間に介在している場合
等が挙げられる。
なかでも、より優れた本発明の効果を有するろ過装置が得られる点で、ナイロン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリフルオロカーボン、セルロース、ケイソウ土、ポリスチレン、ガラス、及び、ポリスルホンからなる群か選択される少なくとも1種が好ましい。
すなわち、ろ過材としては、上記で挙げた各材料を基材として、上記基材にイオン交換基を導入したものが好ましい。典型的には、上記基材の表面にイオン交換基を有する基材を含む層を含むろ過材が好ましい。表面修飾された基材としては特に制限されず、製造がより容易な点で、上記重合体にイオン交換基を導入したものが好ましい。
上記実施形態に係るろ過装置は、一次フィルタユニット52のハウジング内に、第2フィルタが収納されている。本発明の第一実施形態に係るろ過装置の第2フィルタが備える第2ろ過材21は、ポリテトラフルオロエチレンを含む。
第2ろ過材の孔径としては特に制限されないが、より優れた本発明の効果を有するろ過装置が得られる点で、第2フィルタが有するろ過材の孔径としては、第1ろ過材の孔径以下であることが好ましい。なお、第2ろ過材の孔径が、第1ろ過材の孔径以下である、とは、ろ過装置が有する複数のハウジングに2つ以上の第2フィルタが収納されている場合、それぞれの第2フィルタが有する第2ろ過材の孔径が、第1ろ過材の孔径以下であることを意味する。
なお、第2フィルタが有する第2ろ過材の孔径は、第1フィルタが有する第1ろ過材の孔径以上であってもよい。
上記以外で第2ろ過材の好適形態として特に説明のないものは、第1ろ過材の好適形態として既に説明したものと同様である。
被精製物中にろ過材由来の不純物が溶出しないようにするためには、被精製物及びろ過材の材料のハンセン空間における距離(Ra)の値及び、ろ過材の材料の相互作用球の半径、すなわち、相互作用半径(R0)の値を調整すればよい。
Ra2=4(δDs-δDp)2+(δPs-δPp)2+(δHs-δHp)2
で表される場合、R0に対するRaの比が1.0以下であることが好ましい。
なお、少なくとも第2ろ過材(第2フィルタが有するろ過材)と被精製物との関係において、上記が満たされることが更に好ましく、第1ろ過材及び第2ろ過材のそれぞれと被精製物との関係において、上記が満たされることが特に好ましい。
なお、第1ろ過材が、それぞれ異なる材料を含む2つ以上の層を含むろ過材である場合、第1ろ過材が上記関係を満たす、とは、少なくとも1つの層において上記関係を満たすことを意味し、すべての層で上記関係を満たすのがより好ましい。
Ra/R0が上記範囲内にあると、ろ過材の材料が被精製物に溶解しにくい。すなわち、被精製物中に、ろ過材に由来する不純物が溶出しにくい。
ハンセン溶解度パラメータ等は、「Molecular Modeling Pro」ソフトウェア,version 5.1.9(ChemSW,Fairfield CA,www.chemsw.com)又はDynacomp SoftwareからのHansen Solubilityにより計算もできる。
なお、R0の値は実験的に求めてもよいし、文献等に記載された値を使用してもよい。
上記3つの成分は3次元空間(ハンセン空間)における座標とみなすことができる。ハンセン空間にろ過材の材料、及び、被精製物をプロットしたとき、これらの距離が近いほど、互いに溶解しやすい、すなわち、被精製物中に、ろ過材に由来する不純物が溶出しやすいことを示す。
このとき、ろ過材の材料のハンセン溶解度パラメータと、被精製物のハンセン溶解度パラメータの間の距離Raは以下の式で表される。
(式)Ra2=4(δDs-δDp)2+(δPs-δPp)2+(δHs-δHp)2
なお、上記式において、δDp、δPp、及び、δHpはそれぞれ、ろ過材の材料のハンセン溶解度パラメータの各成分を表し、δDs、δPs、及び、δHsはそれぞれ、被精製物のハンセン溶解度パラメータの各成分を表す。これと、ろ過材の材料のハンセン溶解度パラメータを中心とする相互作用球の半径(R0)とを比較する。
本発明の第二の実施形態に係るろ過装置は、第1フィルタユニットの一次側及び二次側に第2フィルタユニットを備えるろ過装置である。
三次フィルタユニット61は、管路51(c)及び51(d)と、液体流入口62と、液体流出口63で連結されている。
第1ろ過材の材料としては特に制限されないが、より優れた本発明の効果を有するろ過装置が得られる点で、表面処理済み基材を含む層を含むことが好ましい。表面処理済み基材の形態としては既に説明したとおりである。
なお、第1ろ過材は、所定の要件を満たすが、本実施形態に係る第1ろ過材としては、例えば、表面処理済み基材を含む層と、表面処理されていない基材を含む層(上記基材は同じものであることが好ましい。)とを含む形態が挙げられる。
2つの第2ろ過材の材料及び孔径としては特に制限されず、第一実施形態において説明したものを使用できる。なかでもより優れた本発明の効果を有するろ過装置が得られる点で、三次フィルタユニット61のハウジング内に収納された第2フィルタが有する第2ろ過材の孔径は、第1ろ過材の孔径以下が好ましい。上記の二次側の第2フィルタの孔径としては、一般に1.0~50nmが好ましく、1.0~10nmがより好ましく、1.0~2.0nmが更に好ましい。
上記第二実施形態に係るろ過装置の変形例は、第1フィルタユニットの一次側に第2フィルタユニットが配置され、更に、第1フィルタユニットの二次側にも第2フィルタユニットが配置され、二次側に配置された第2フィルタユニットが有するろ過材の孔径は、第1フィルタユニットが有するろ過材の孔径以下であり、第1フィルタが有するろ過材が表面処理済み基材を含む層を含む、ろ過装置である。
本実施形態に係るろ過装置に係る各部の形態は、既に説明したとおりである。
本発明のその他の実施形態に係るろ過装置は、第1フィルタユニットの二次側から、上記フィルタユニットの一次側へと洗浄液を流すことにより、第1フィルタを逆洗可能に構成したろ過装置である。
第1フィルタを逆洗可能に構成したとは、上記フィルタユニットの二次側に、洗浄液供給装置を備える形態が挙げられる。洗浄液供給装置は典型的には上記フィルタユニットの二次側と管路で接続された洗浄液の貯留槽と、上記管路中に配置されたポンプ及び弁とを備える。逆洗時には、上記洗浄液の貯留槽から洗浄液を管路中に供給し、加圧又は無加圧で上記フィルタユニットの二次側から一次側へと移送し、その過程で、第1フィルタを洗浄するものである。
図7は、本発明の実施形態に係る薬液の精製装置の模式図を表す。本発明の実施形態に係る薬液の精製装置70は、管路中に、既に説明したろ過装置60を備える。
ろ過装置60は、管路51(a)で製造タンク71と接続され、管路51(d)で充填装置72と接続されており、更に、管路51(d)は、弁74(d)により分岐して循環管路73(a)により製造タンク71と接続されている。
なお、上記循環管路73(a)は、循環可能な経路に該当する。
ろ過装置60で精製された被精製物(薬液)は、管路51(a)を経て充填装置72に移送され、容器に充填され、後述する薬液収容体が製造される(図中、F6で示した流れによる。)。
ここで、ろ過装置60で精製された被精製物を再度ろ過装置で精製する場合には、第3フィルタユニット61を経て精製された被精製物を管路51(d)から、弁74(d)で分岐させて、循環管路73(a)を経て製造タンク71に返送し、再度上記の手順を繰り返すことができる(図中、F7で示した流れによる。)。
なお、図7の精製装置では、弁74(d)が管路51(d)に配置されているが、本発明の実施形態に係る精製装置としては上記に制限されず、管路51(c)に配置されていてもよく、また、弁74(d)を有していなくてもよい。弁74(d)を有していない精製装置では、精製後の被精製物を製造タンクに返送しない。
精製装置において上記のように第1フィルタを逆洗可能に構成することによって、第1フィルタの寿命をより長くすることができる。
なお、上記実施形態に係るろ過装置においては、第1フィルタ(二次フィルタユニット56)を逆洗可能に構成されているが、本発明の実施形態に係る精製装置として上記に制限されず、一次フィルタユニット52及び3次フィルタユニット61もまた逆洗可能に構成されていてもよい。
本発明の第二の実施形態に係る精製装置は、上記ろ過装置の一次側にさらに蒸留装置を備える薬液の精製装置である。図8は、上記実施形態に係る薬液の精製装置の模式図を表す。
本実施形態に係る薬液の精製装置80は、管路中に、既に説明した精製装置70と同様の構成を有する。
更に精製装置80において、製造タンク71は、管路83(b)により、蒸留塔81と接続されている。蒸留塔81には、管路73(c)から、被精製物が供給され、蒸留塔81内で蒸留され、蒸留された被精製物は、管路73(b)を経て、製造タンク71へと導入される(図中、F8の流れである)。製造タンク71に被精製物が導入された後は、既に説明したとおりの方法により、薬液が精製される。
なお、精製装置80は、管路中に製造タンクが配置されているが、本実施形態に係る薬液の精製装置として、上記製造タンクを備えないものであってもよい。すなわり、ろ過装置60の一次側と、蒸留塔とが管路を通じて連結された形態であってもよい。
図9は、本発明の実施形態に係る製造装置の模式図を表す。本実施形態に係る薬液の製造装置90は、管路中に既に説明した精製装置80と同様の構成を有し、蒸留塔81は、管路73(b)によって調合装置91と接続されている。調合装置91は、複数の貯留槽(92(a)、92(b)及び92(c))とそれらを接続する管路73(d)及び73(c)から構成されている。貯留槽92(b)及び92(c)は、それぞれ管路73(d)及び73(e)によって貯留槽92(a)と接続されている。
また、貯留槽92(b)及び貯留槽92(c)はそれぞれ管路73(f)及び73(g)によって、反応槽93(a)及び93(b)が接続されている。
反応物としては特に制限されないが、例えば、上記で薬液に含有される各成分として説明した態様が挙げられる。例えば、薬液が含有する有機溶剤が挙げられる。
反応物を得る方法としては特に制限されず、公知の方法を用いることができる。例えば、触媒の存在下において、一又は複数の原料を反応させて、反応物を得る方法が挙げられる。
より具体的には、例えば、酢酸とn-ブタノールを硫酸の存在下で反応させ、酢酸ブチルを得る工程、エチレン、酸素、及び水をAl(C2H5)3の存在下で反応させ、1-ヘキサノールを得る工程、シス-4-メチル-2-ペンテンをIpc2BH(Diisopinocampheylborane)の存在下で反応させ、4-メチル-2-ペンタノールを得る工程、プロピレンオキシド、メタノール、及び酢酸を硫酸の存在下で反応させ、PGMEA(プロピレングリコール1-モノメチルエーテル2-アセタート)を得る工程、アセトン、及び水素を酸化銅-酸化亜鉛-酸化アルミニウムの存在下で反応させて、IPA(isopropyl alcohol)を得る工程、並びに乳酸、及びエタノールを反応させて、乳酸エチルを得る方法等が挙げられる。
上記ろ過装置、精製装置、及び、製造装置における、各ユニット(製造タンク、管路、及び、充填装置等)のそれぞれの接液部の材料としては特に制限されないが、より優れた欠陥抑制性能を有する薬液が得られる点で、フッ素樹脂、及び、電解研磨された金属材料からなる群から選択される少なくとも1種の材料(耐腐食材料)で形成され、金属材料は、クロム、及びニッケルからなる群から選択される少なくとも1種を含有し、クロム及びニッケルの含有量の合計が金属材料の全質量に対して25質量%超であることが好ましい。なお、接液部が、上記材料で形成されるとは、上記各部材が上記材料からなるか、又は、上記各部材の接液部が、上記材料により被覆され、被覆層が形成される場合が挙げられる。
上記電解研磨された金属材料の製造に用いられる金属材料は、クロム及びニッケルからなる群から選択される少なくとも1種を含有し、クロム及びニッケルの含有量の合計が金属材料の全質量に対して25質量%超である金属材料であれば特に制限されず、例えばステンレス鋼、及びニッケル-クロム合金等が挙げられる。
金属材料におけるクロム及びニッケルの含有量の合計は、金属材料全質量に対して25質量%以上が好ましく、30質量%以上がより好ましい。
なお、金属材料におけるクロム及びニッケルの含有量の合計の上限値としては特に制限されないが、一般的に90質量%以下が好ましい。
なお、上記括弧中のNi含有量及びCr含有量は、金属材料の全質量に対する含有割合である。
ニッケル-クロム合金としては、例えば、ハステロイ(商品名、以下同じ。)、モネル(商品名、以下同じ)、及びインコネル(商品名、以下同じ)等が挙げられる。より具体的には、ハステロイC-276(Ni含有量63質量%、Cr含有量16質量%)、ハステロイ-C(Ni含有量60質量%、Cr含有量17質量%)、ハステロイC-22(Ni含有量61質量%、Cr含有量22質量%)等が挙げられる。
また、ニッケル-クロム合金は、必要に応じて、上記した合金の他に、更に、ホウ素、ケイ素、タングステン、モリブデン、銅、及びコバルト等を含有していてもよい。
なお、金属材料はバフ研磨されていてもよい。バフ研磨の方法は特に制限されず、公知の方法を用いることができる。バフ研磨の仕上げに用いられる研磨砥粒のサイズは特に制限されないが、金属材料の表面の凹凸がより小さくなりやすい点で、#400以下が好ましい。なお、バフ研磨は、電解研磨の前に行われることが好ましい。
上記フッ素樹脂としては、フッ素原子を含有する樹脂(ポリマー)であれば特に制限されず、公知のフッ素樹脂を用いることができる。フッ素樹脂としては、例えば、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、テトラフルオロエチレン-ヘキサフルオロプロピレン共重合体、テトラフルオロエチレン-パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体、テトラフルオロエチレン-エチレン共重合体、クロロトリフルオロエチレン-エチレン共重合体、及びパーフルオロ(ブテニルビニルエーテル)の環化重合体(サイトップ(登録商標))等が挙げられる。
また、例えば、クロム及びニッケルの含有量の合計が金属材料全質量に対して25質量%超である金属材料を含む各部材の接液部を電解研磨する方法等によれば、内壁が、材料(耐腐食材料)で形成された各部材を製造することができる。
上記の精製装置を用いて製造することができる薬液としては特に制限されず、公知の薬液が挙げられる。なかでも、半導体製造用の薬液が好ましい。
本発明の一実施形態に係る薬液は溶剤を含有する。溶剤としては特に制限されず、水、又は、有機溶剤が挙げられる。
薬液中における溶剤の含有量としては特に制限されないが、一般に薬液の全質量に対して、97.0~99.999質量%が好ましく、99.9~99.9質量%がより好ましい。溶剤は1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。2種以上の有機溶剤を併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。
なお、本明細書において、溶剤とは、上記薬液の全質量に対して、1成分あたり10000質量ppmを超えた含有量で含有される水、及び/又は、液状の有機化合物を意図する。つまり、本明細書においては、上記薬液の全質量に対して10000質量ppmを超えて含有される水、及び/又は、液状の有機化合物は、溶剤に該当するものとする。
なお、本明細書において液状とは、25℃、大気圧下において、液体であることを意図する。
また、有機溶剤としては、例えば、特開2016-57614号公報、特開2014-219664号公報、特開2016-138219号公報、及び、特開2015-135379号公報に記載のものを用いてもよい。
薬液中における有機不純物の含有量としては特に制限されないが、より優れた本発明の効果を有する薬液が得られる点で、薬液の全質量に対して10質量ppb以下が好ましく、5質量ppb以下がより好ましく、3質量ppb以下が更に好ましい。下限は特に制限されないが、有機不純物を含有しないことが好ましい。
薬液が有機不純物を含有する場合、有機不純物は金属に対して配位子として振る舞い、金属と錯体を形成する。この様な錯体は疎水性が高く、薬液を用いて処理した半導体基板表面に残存しやすく、結果的に欠陥を形成しやすい。
薬液中におけるフッ化物イオンの含有量としては特に制限されないが、より優れた本発明の効果を有する薬液が得られる点で、薬液の全質量に対して1質量ppm以下が好ましく、0.5質量ppm以下がより好ましく0.3質量ppm以下がより好ましい。下限は特に制限されないが、フッ化物イオンを含有しないことが好ましい。
本発明の第二の実施形態に係る薬液は、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であってもよい。感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物としては特に制限されないが、以下に説明する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物が好ましい。
(A)樹脂
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、典型的には、酸の作用により極性が増大して有機溶剤を含む現像液に対する溶解度が減少する樹脂を含有することが好ましい。
アルキル基又はアルケニル基を表す。
R11は、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基又はsec-ブチル基を表し、Zは、炭素原子とともにシクロアルキル基を形成するのに必要な原子団を表す。
(i-1):上記酸脱離性基aの炭素数の最大値が4であり、保護率が70モル%以下である樹脂
(ii-1):上記酸脱離性基aの炭素数の最大値が5であり、保護率が60モル%以下である樹脂
(iii-1):上記酸脱離性基aの炭素数の最大値が6であり、保護率が47モル%以下である樹脂
(iv-1):上記酸脱離性基aの炭素数の最大値が7であり、保護率が45モル%以下である樹脂
ただし、保護率は、上記樹脂に含まれる全ての酸分解性繰り返し単位の合計の、全繰り返し単位に占める割合を意味する。
また、上記酸脱離性基aの炭素数とは、脱離基に含まれる炭素の数を意味する。
これにより、レジスト膜のシュリンク量の低減、並びに、フォーカス余裕度(DOF:Depth Of Focus)の拡大とラインエッジラフネス(LER)の低減とを実現できる。
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、典型的には、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(「光酸発生剤」ともいう)を含有する。
(カチオン)
一般式(3)中、X+は、カチオンを表す。
X+は、カチオンであれば特に制限されないが、好適な態様としては、例えば、後述する式(ZI)又は(ZII)中のカチオン(Z-以外の部分)が挙げられる。
(好適な態様)
特定酸発生剤の好適な態様としては、例えば、下記一般式(ZI)又は(ZII)で表される化合物が挙げられる。
R201、R202及びR203は、各々独立に、有機基を表す。
R1c~R5cは、各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボニルオキシ基、シクロアルキルカルボニルオキシ基、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、アルキルチオ基又はアリールチオ基を表す。
一態様において、酸発生剤は、分子量が870以下であることが好ましく、800以下であることがより好ましく、700以下であることが更に好ましく、600以下であることが特に好ましい。これにより、DOF及びLERが改善する。
なお、本発明において、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物がその分子量に分布を有する場合、重量平均分子量の値を分子量の基準として扱う。
上記各成分を溶解させて感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を調製する際に使用することができる溶剤としては、例えば、アルキレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレート、アルキレングリコールモノアルキルエーテル、乳酸アルキルエステル、アルコキシプロピオン酸アルキル、炭素数4~10の環状ラクトン、炭素数4~10の、環を含有していてもよいモノケトン化合物、アルキレンカーボネート、アルコキシ酢酸アルキル、及びピルビン酸アルキル等の有機溶剤を挙げることができる。
上記溶剤を単独で使用してもよいし、2種類以上を併用してもよい。
有機溶剤として構造中に水酸基を含有する溶剤と、水酸基を含有しない溶剤とを混合した混合溶剤を使用してもよい。
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、露光から加熱までの経時による性能変化を低減するために、塩基性化合物を含有することが好ましい。
R200、R201及びR202 は、同一でも異なってもよく、水素原子、アルキル基(好ましくは炭素数1~20)、シクロアルキル基(好ましくは炭素数3~20)又はアリール基(炭素数6~20)を表し、ここで、R201とR202は、互いに結合して環を形成してもよい。
塩基性化合物の使用量は、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物の固形分を基準として、0.001~10質量%が好ましく、より好ましくは0.01~5質量%である。
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、疎水性樹脂(E)を含有してもよい。疎水性樹脂としては、例えば、保護膜形成用組成物が含有する上述した樹脂(XB)を好適に使用できる。また、例えば、特開2014-149409号公報の段落[0389]~[0474]に記載された「[4]疎水性樹脂(D)」等も好適に挙げられる。
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、さらに(F)界面活性剤を含有することが好ましく、フッ素系及び/又はシリコン系界面活性剤(フッ素系界面活性剤、シリコン系界面活性剤、フッ素原子と珪素原子の両方を有する界面活性剤)のいずれか、あるいは2種以上を含有することがより好ましい。
メガファックF171、F173、F176、F189、F113、F110、F177、F120、R08(大日本インキ化学工業(株)製)、サーフロンS-382、SC101、102、103、104、105、106(旭硝子(株)製)、トロイゾルS-366(トロイケミカル(株)製)、GF-300、GF-150(東亞合成化学(株)製)、サーフロンS-393(セイミケミカル(株)製)、エフトップEF121、EF122A、EF122B、RF122C、EF125M、EF135M、EF351、352、EF801、EF802、EF601((株)ジェムコ製)、PF636、PF656、PF6320、PF6520(OMNOVA社製)、FTX-204D、208G、218G、230G、204D、208D、212D、218、222D((株)ネオス製)等のフッ素系界面活性剤又はシリコン系界面活性剤を挙げることができる。またポリシロキサンポリマーKP-341(信越化学工業(株)製)もシリコン系界面活性剤として用いることができる。
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、(G)カルボン酸オニウム塩を含有してもよい。カルボン酸オニウム塩としては、カルボン酸スルホニウム塩、カルボン酸ヨードニウム塩、及びカルボン酸アンモニウム塩などを挙げることができる。特に、(G)カルボン酸オニウム塩としては、ヨードニウム塩、スルホニウム塩が好ましい。さらに、(G)カルボン酸オニウム塩のカルボキシレート残基が芳香族基、炭素-炭素2重結合を含有しないことが好ましい。特に好ましいアニオン部としては、炭素数1~30の、直鎖、分岐又は環状(単環又は多環)のアルキルカルボン酸アニオンが好ましい。さらに好ましくはこれらのアルキル基の一部又は全てがフッ素置換されたカルボン酸のアニオンが好ましい。アルキル鎖中に酸素原子を含んでいてもよい。これにより220nm以下の光に対する透明性が確保され、感度、解像力が向上し、疎密依存性、露光マージンが改良される。
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物には、必要に応じてさらに染料、可塑剤、光増感剤、光吸収剤、アルカリ可溶性樹脂、溶解阻止剤及び現像液に対する溶解性を促進させる化合物(例えば、分子量1000以下のフェノール化合物、カルボキシル基を有する脂環族、又は脂肪族化合物)等を含有させることができる。
上記実施形態に係る薬液は、半導体製造用に好ましく用いられる。具体的には、リソグラフィー工程、エッチング工程、イオン注入工程、及び、剥離工程等を含有する半導体デバイスの製造工程において、各工程の終了後、又は、次の工程に移る前に、有機物を処理するために使用され、具体的にはプリウェット液、現像液、リンス液、及び、剥離液等として好適に用いられる。例えばレジスト塗布前後の半導体基板のエッジエラインのリンスにも使用することができる。
また、上記薬液は、半導体製造用に用いられるレジスト膜形成用組成物に含有される樹脂の希釈液としても使用できる。すなわち、レジスト膜形成用組成物用の溶剤よして使用できる。
また、上記薬液は、他の有機溶剤、及び/又は、水等により希釈して使用してもよい。
また、上記薬液は、CMP(Chemical Mechanical Planarization)に使用される研磨用スラリーとして使用できる。例えば、上記薬液に砥粒及び酸化剤等を加えたものをCMP研磨用スラリーとして使用できる。また、CMP研磨用スラリーを希釈する際の溶剤としても使用できる。
また、上記薬液は、CMP後に基板の洗浄に使用される洗浄液としても使用できる。また、上記洗浄液に使用される溶剤としても使用できる。上記洗浄液は、他の有機溶剤、及び/又は、水等により希釈してもよい。
また、上記薬液は、医療用途又は洗浄用途の溶媒としても用いることができる。特に、容器、配管、及び、基板(例えば、ウェハ、及び、ガラス等)等の洗浄に好適に用いることができる。
〔実施例1~17及び比較例1~5〕
図7に示した精製装置を準備した。表1には、精製装置が備える各フィルタユニットのハウジングに収納されるろ過材の材料等について記載した。また、「種類」欄には、それぞれ、収納されたフィルタが第1フィルタなのか、又は、第2フィルタなのかを示した。
具体的には、「材料」には各ろ過材の材料を記載した。特に、第1ろ過材については、層別に材料を記載した。このうち、「層1」「層2」とあるのは、一次側から「層1」「層2」の順番に積層されていることを示している。
ただし、三次フィルタユニットに関しては、実施例によっては使用しておらず、その場合、表1中の「三次フィルタユニット」欄が空欄となっている。
なお、表1の各欄における略号は以下のとおりである。
・「ナイロン」:ナイロンからなるナノ繊維層
・「HDPE」:高密度ポリエチレン(HDPE)からなるナノ多孔質膜層
・「イオン交換ナイロン」:イオン交換基を有するナイロンからなるナノ繊維層
・「PTFE」:ポリテトラフルオロエチレンからなるナノ多孔質膜層
・「HDPE」:HDPEからなるナノ多孔質膜層
・「ナイロン」:ナイロンからなるナノ繊維層
・1:酢酸ブチル(富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ(FFEM)社製品)
・2:PGMEA/PGME(30/70(体積/体積)混合品、原料は富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ(FFEM)社製品))
・3:シクロヘキサノン(FFEM社製品)
・4:4-メチル-2-ペンタノール(FFEM社製品)
以下の方法により、上記製造装置を用いて製造された薬液の欠陥抑制性能をそれぞれ評価し、結果を表1に示した。
まず、直径300mmのシリコン酸化膜基板を準備した。
次に、ウェハ表面上欠陥検出装置(KLA Tencor社製SP-5)で上記基板上に存在する直径30nm以上のパーティクルを検出した。次に、ウェハ表面上欠陥解析装置(AMAT社製G6)で欠陥の構成元素を解析し、炭素原子の含有量が75%を超えるカウント数を欠陥の数として評価した(これを初期値とする。)。次に、上記基板をスピン吐出装置にセットし、基板を回転させながら、基板の表面に対して、各薬液を1.5L/分の流速で吐出した。その後、基板をスピン乾燥した。
次に、同様の方法で欠陥数を計測した(これを計測値とする。)。次に、初期値と計測値の差を(計測値-初期値)を計算した。得られた結果は下記の基準に基づいて評価し、結果を表1に示した。
「2」:欠陥数の初期値と計測値の差が11~100個だった。
「3」:欠陥数の計測値-初期値の差が101~200個だった。
「4」:欠陥数の計測値-初期値の差が201~1000個だった。
「5」:欠陥数の計測値-初期値の差が1001個以上だった。
上記精製装置を用いて各被精製物を連続して精製した。途中、通液量10000kgごとに精製後に得られた薬液を試験用に回収した。次に、300mmシリコン基板上に、東京エレクトロン株式会社製コーターデベロッパーLITHIUSを用いて、上記試験用の各薬液を60秒間塗布処理した。次に、得られた塗膜付きシリコン基板について、KLA-Tencor社製基板上異物検査装置SP-5を用いて、直径30nm以上の異物数を計数した。計数される値が、初期値の2倍となった際の通液量をろ過材の寿命とした。
結果は、第1フィルタのみを単独で用いた場合の寿命を1としたときの比として計算され、以下の基準で評価して、表1に示した。
2:寿命が5倍以上、10倍未満だった。
3:寿命が2倍以上、5倍未満だった。
4:寿命が1倍を超え、2倍未満だった。
5:寿命が1倍以下だった。
図7に示した精製装置を準備した。表2には、精製装置が備える各フィルタユニットのハウジングに収納されるろ過材の材料等について記載した。「Ra/R0」には、被精製物及び第2ろ過材の材料のハンセン溶解度パラメータから計算したRa/R0の値を示した。その他の欄の見出しの意味は、表1と同様である。
「1」:シクロヘキサノン
「2」:PGMEA
「3」:ジエチルカーボネート
・「親水化HDPE」:プラズマ処理により親水化されたHDPEからなるナノ多孔質膜層。なお、接触角計を用いて測定した25℃におけるろ過材表面の水接触角は50°だった。
・「HDPE」:HDPEからなるナノ多孔質膜層
・「HDPE」:HDPEからなるナノ多孔質膜層
〔実施例21~37、比較例8及び9〕
図7に示した精製装置を準備した。表3には、精製装置が備える各フィルタユニットのハウジングに収納されるろ過材の材料等について記載した。各欄の見出しの意味は、表1と同様である。
・「ナイロン」:ナイロンからなるナノ繊維層
・「HDPE1」:プラズマ処理により親水化されたHDPEからなるナノ多孔質膜層
なお、接触角計を用いて測定した25℃におけるろ過材表面の水接触角は50°だった。
・「HDPE」:HDPEからなるナノ多孔質膜層
・「PTFE」:ポリテトラフルオロエチレンからなるナノ多孔質膜層、なお、ポリテトラフルオロエチレンはプラズマ処理により親水化され、接触角計を用いて測定した、25℃における水接触角は、45°だった。
・「HDPE2」:HDPEからなるナノ多孔質膜層、なお、HDPEはプラズマ処理により親水化され、接触角計を用いて測定した、25℃における水接触角は、50°だった。
・「PESU」:ポリエーテルサルフォンからなるナノ多孔質膜層
なお、表3の「被精製物」欄における略号は以下を表す。
得られた薬液は上記と同様の方法により欠陥抑制性能を測定した。また、上記の方法により、ろ過材の寿命を測定した。これらの結果を表3に示した。
・1:FHD-5(アルカリ系水系現像液)
・2:FHD-402(アルカリ系水系現像液)
〔実施例38~48、比較例10及び11〕
まず、以下の方法により感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物1を準備した。
下記合成方法に従い合成した樹脂:0.77g
下記合成スキームの通り、11.9gのモノマー(1)と、8.0gのモノマー(1-2)と、15.1gのモノマー(1-3)と、1.12gの重合開始剤V-601(和光純薬工業(株)製)とを、129.0gのシクロヘキサノンに溶解させて混合液を得た。
次に、反応容器中に69.5gのシクロヘキサノンを入れ、窒素ガス雰囲気下、85℃に保持した反応容器中のシクロヘキサノンに混合液を4時間かけて滴下して、反応液を得た。反応液を2時間に亘って加熱しながら撹拌した後、反応液を室温まで放冷した。次に、反応液に、メタノール49.6gと4.9gのトリエチルアミンとを加え、50℃で18時間加熱撹拌した後、反応液を室温まで放冷した。次に、反応液に酢酸エチル200gと水200gとを加え、分液操作し、有機層を回収した。有機層を水で3回洗浄した後、溶媒を減圧留去した。残った固体をPGMEA(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート)200gに溶解し、溶媒を減圧留去することで共沸脱水した後、シクロヘキサノン198.5gを加え、溶液を得た。次に、溶液を、2336gの、n-ヘプタン及び酢酸エチルの混合溶液(n-ヘプタン/酢酸エチル=9/1(質量比))中に滴下し、固体を沈殿させ、ろ過した。次に、701gの、n-ヘプタン及び酢酸エチルの混合溶液(n-ヘプタン/酢酸エチル=9/1(質量比))を用いて、ろ過した固体のかけ洗いを行なった。その後、洗浄後の固体を減圧乾燥して、23.8gの樹脂(A-1)を得た。1H-NMR及び13C-NMRより、樹脂中の組成比は、繰り返し単位(a)/繰り返し単位(c)/繰り返し単位(b)=30/20/50(モル比)と算出された。なお、スキームには、樹脂の合成方法を簡略化して表した。
PGMEA(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート):60g
PGME(プロピレングリコールモノメチルエーテル):15g
・「ナイロン」:ナイロンからなるナノ繊維層
・「HDPE」:HDPEからなるナノ多孔質膜層
・「PTFE」:PTFEからなるナノ多孔質膜層
・「HDPE」:HDPEからなるナノ多孔質膜層
・「ナイロン」:ナイロンからなるナノ繊維層
なお、表4の「被精製物」欄における略号は以下を表す。
「1」:感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物1
得られた薬液を用いて、以下の方法によりレジストパターンを形成して欠陥の発生状況を評価した。また上記の方法により、ろ過材の寿命を測定した。
シリコンウェハ上に有機反射防止膜形成用組成物ARC29SR(Brewer社製)を塗布し、205℃で60秒間ベークし、厚み86nmの反射防止膜をシリコンウェハ上に形成し、下表4に記載のプリウェット液を塗布後、上記薬液を塗布し、120℃で60秒間に亘ってベークし、シリコンウェハ上に、厚み40nmのレジスト膜を形成した。
パターン形成後、ラインパターン上面及びスペース部分を測長走査型電子顕微鏡(日立社製S9380II)を使用して観察し、形成された10nmのライン幅を有するパターンにおける欠陥発生状況を確認した。得られたパターンを観察した結果を1~3に分類し、その結果を表4に示した。
「1」:10nmのライン幅を有するパターンが形成できている。
「2」:パターンの一部に欠陥があった。
「3」:パターンに多数の欠陥があった。
ろ過材の寿命の評価は上記と同様の方法で実施し、結果を表4に示した。
図7に示した精製装置を準備した。表5には、精製装置が備える各フィルタユニットのハウジングに収納されるろ過材の材料等について記載した。また、「種類」欄には、それぞれ、収納されたフィルタが第1フィルタなのか、又は、第2フィルタなのかを示した。
具体的には、「材料」には各ろ過材の材料を記載した。特に、第1ろ過材については、層別に材料を記載した。このうち、「層1」「層2」「層3」とあるのは、一次側から「層1」「層2」「層3」の順番に積層されていることを示している。
ただし、三次フィルタユニットに関しては、実施例によっては使用しておらず、その場合、表5中の「三次フィルタユニット」欄が空欄となっている。
また、実施例62~66、68~69においては、三次フィルタユニットの更に二次側に四次フィルタユニットを配置している。
なお、表5の各欄における略号は以下のとおりである。
・「IEX」:表面がスルホン酸基で改質されたイオン交換型膜(PALL社製)
・「PTFE」:ポリテトラフルオロエチレンからなるナノ多孔質膜層(PALL社製)
・「ナイロン」:ナイロンからなるナノ繊維層
・「UPE」:超高分子量ポリエチレンを含むナノ多孔質膜層
・「HDPE」:高密度ポリエチレン(HDPE)からなるナノ多孔質膜層
・「PTFE」:ポリテトラフルオロエチレンからなるナノ多孔質膜層
・「PP」:ポリプロピレンからなるナノ多孔質膜層
・「Oktlex」:超高分子量ポリエチレンを基体として、その表面をナイロン系化合物で修飾したナノ多孔質膜層
・1:酢酸ブチル(富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ(FFEM)社製品)
・2:PGMEA/PGME(30/70(体積/体積)混合品、原料は富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ(FFEM)社製品))
・3:酢酸イソアミル(FFEM社製品)
・4:シクロヘキサノン(FFEM社製品)
・5:PGMEA(FFEM社製品)
以下の方法により、上記製造装置を用いて製造された薬液の欠陥抑制性能をそれぞれ評価し、結果を表5に示した。
まず、直径300mmのシリコン酸化膜基板を準備した。
次に、ウェハ表面上欠陥検出装置(KLA Tencor社製SP-5)で上記基板上に存在する直径30nm以上のパーティクルを検出した。次に、ウェハ表面上欠陥解析装置(AMAT社製G6)で欠陥の構成元素を解析し、炭素原子の含有量が75%を超えるカウント数を欠陥の数として評価した(これを初期値とする。)。次に、上記基板をスピン吐出装置にセットし、基板を回転させながら、基板の表面に対して、各薬液を1.5L/分の流速で吐出した。その後、基板をスピン乾燥した。
次に、同様の方法で欠陥数を計測した(これを計測値とする。)。次に、初期値と計測値の差を(計測値-初期値)を計算した。得られた結果は下記の基準に基づいて評価し、結果を表5に示した。
「1」:欠陥数の初期値と計測値の差が6~10個だった。
「2」:欠陥数の初期値と計測値の差が11~100個だった。
「3」:欠陥数の計測値-初期値の差が101~200個だった。
「4」:欠陥数の計測値-初期値の差が201~1000個だった。
「5」:欠陥数の計測値-初期値の差が1001個以上だった。
上記精製装置を用いて各被精製物を連続して精製した。途中、通液量10000kgごとに精製後に得られた薬液を試験用に回収した。次に、300mmシリコン基板上に、東京エレクトロン株式会社製コーターデベロッパーLITHIUSを用いて、上記試験用の各薬液を60秒間塗布処理した。次に、得られた塗膜付きシリコン基板について、KLA-Tencor社製基板上異物検査装置SP-5を用いて、直径30nm以上の異物数を計数した。計数される値が、初期値の2倍となった際の通液量をろ過材の寿命とした。
結果は、第1フィルタのみを単独で用いた場合の寿命を1としたときの比として計算され、以下の基準で評価して、表5に示した。
1:寿命が10倍以上、15倍未満だった。
2:寿命が5倍以上、10倍未満だった。
3:寿命が2倍以上、5倍未満だった。
4:寿命が1倍を超え、2倍未満だった。
5:寿命が1倍以下だった。
「差(累積75%径-累積10%径)」欄は、ろ過材の累積細孔分布における累積75%径(nm)と累積10%径(nm)との差(累積75%径(nm)-累積10%径(nm))を表す。
「比(累積75%径/累積10%径)」欄は、ろ過材の累積細孔分布における累積10%径(nm)に対する累積75%径(nm)の比を表す。
また、実施例49~52と67との比較より、差(累積75%径-累積10%径)が3nm以上の場合、効果がより優れていた。
また、実施例62~66と69との比較より、比(累積75%径/累積10%径)が2.0~20.0の場合、効果がより優れていた。
図7に示した精製装置を準備した。表6には、精製装置が備える各フィルタユニットのハウジングに収納されるろ過材の材料等について記載した。また、「種類」欄には、それぞれ、収納されたフィルタが第1フィルタなのか、又は、第2フィルタなのかを示した。
具体的には、「材料」には各ろ過材の材料を記載した。特に、第1ろ過材については、層別に材料を記載した。このうち、「層1」「層2」「層3」とあるのは、一次側から「層1」「層2」「層3」の順番に積層されていることを示している。
ただし、三次フィルタユニットに関しては、実施例によっては使用しておらず、その場合、表6中の「三次フィルタユニット」欄が空欄となっている。
また、実施例80においては、三次フィルタユニットの更に二次側に四次フィルタユニットを配置している。
なお、表6の各欄における略号は以下のとおりである。
・「IEX」:表面がスルホン酸基で改質されたイオン交換型膜(PALL社製)
・「PTFE」:ポリテトラフルオロエチレンからなるナノ多孔質膜層(PALL社製)
・「ナイロン」:ナイロンからなるナノ繊維層
・「UPE」:超高分子量ポリエチレンを含むナノ多孔質膜層
・「HDPE1」:プラズマ処理により親水化されたHDPEからなるナノ多孔質膜層
なお、接触角計を用いて測定した25℃におけるろ過材表面の水接触角は50°だった。
・「PP」:ポリプロピレンからなるナノ多孔質膜層
・「HDPE」:高密度ポリエチレン(HDPE)からなるナノ多孔質膜層
・「Oktlex」:超高分子量ポリエチレンを基体として、その表面をナイロン系化合物で修飾したナノ多孔質膜層
・1:FHD-5(アルカリ系水系現像液)
・2:FHD-402(アルカリ系水系現像液)
得られた薬液は上記<実施例49~69>と同様の方法により欠陥抑制性能を測定した。また、上記<実施例49~69>の方法により、ろ過材の寿命を測定した。これらの結果を表6に示した。
「差(累積75%径-累積10%径)」欄は、ろ過材の累積細孔分布における累積75%径(nm)と累積10%径(nm)との差(累積75%径(nm)-累積10%径(nm))を表す。
「比(累積75%径/累積10%径)」欄は、ろ過材の累積細孔分布における累積10%径(nm)に対する累積75%径(nm)の比を表す。
11a、11b、11c 層
12、21 ろ過材
13、22 コア
14、23 キャップ
15、24 液体入口
20 第2フィルタ
30 フィルタユニット
31 本体
32 蓋
33(a)、33(b) 管路
34、53、57、62 液体流入口
35、54、58、63 液体流出口
41、42 内部管路
43 フィルタ
50、60 ろ過装置
51(a)~51(d) 管路
52 一次フィルタユニット
56 二次フィルタユニット
61 三次フィルタユニット
70、80 精製装置
71 製造タンク
72 充填装置
73(a)~73(g) 管路
74(a)~74(f) 弁
75(a)、75(b) 管路
81 蒸留塔
90 製造装置
91 調合装置
92(a)~92(c) 貯留槽
93(a)、93(b) 反応槽
Claims (39)
- 被精製物が供給される管路中に、独立して配置された、
以下の要件1~3からなる群から選択される少なくとも1つ;
要件1:フィルタが、それぞれ異なる材料を含む2つ以上の層を含むろ過材を有する。
要件2:フィルタが、異なる細孔構造を有する2つ以上の層を含むろ過材を有する
要件3:フィルタが、異なる材料が混合された1つの層を含むろ過材を有する
を満たす第1フィルタ及び前記第1フィルタを収容するハウジングからなる第1フィルタユニットと、
前記第1フィルタとは異なる第2フィルタ及び前記第2フィルタを収納するハウジングからなる第2フィルタユニットと、を有するろ過装置であって、
前記第1フィルタが有するろ過材の累積細孔分布における累積10%径と累積75%径との差が3nm以上であり、
前記累積10%径に対する、前記累積75%径の比が2.0~20.0であり、
前記第1フィルタが有するろ過材が、ナイロン、ポリオレフィン、ポリスチレン、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリスルホン、ポリフルオロカーボン、ポリビニルアルコール、ポリエステル、セルロース、及び、セルロースアセテートからなる群から選択される少なくとも1種の材料を含み、
前記第1フィルタが有するろ過材の孔径が、1~100nmであり、
前記第2フィルタが有するろ過材が、ポリオレフィン、ポリフルオロカーボン、及び、ナイロンからなる群から選択される少なくとも1種の材料を含み、
前記第2フィルタが有するろ過材の孔径が、1~200nmであり、
前記被精製物が、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、乳酸エチル、メトキシプロピオン酸メチル、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、γ-ブチロラクトン、ジイソアミルエーテル、酢酸ブチル、酢酸イソアミル、イソプロパノール、4-メチル-2-ペンタノール、ジメチルスルホキシド、n-メチル-2-ピロリドン、ジエチレングリコール、エチレングリコール、ジプロピレングリコール、プロピレングリコール、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、スルフォラン、シクロヘプタノン、及び、2-ヘプタノンからなる群から選択される少なくとも1種の有機溶剤を含有するか;又は、前記被精製物がアルカリ水系現像液であり、
前記被精製物における溶剤の含有量が、前記被精製物の全質量に対して97.0~99.999質量%である、ろ過装置。 - 被精製物が供給される管路中に、独立して配置された、
以下の要件1~3からなる群から選択される少なくとも1つ;
要件1:フィルタが、それぞれ異なる材料を含む2つ以上の層を含むろ過材を有する。
要件2:フィルタが、異なる細孔構造を有する2つ以上の層を含むろ過材を有する
要件3:フィルタが、異なる材料が混合された1つの層を含むろ過材を有する
を満たす第1フィルタ及び前記第1フィルタを収容するハウジングからなる第1フィルタユニットと、
前記第1フィルタとは異なる第2フィルタ及び前記第2フィルタを収納するハウジングからなる第2フィルタユニットと、を有するろ過装置であって、
前記第1フィルタが有するろ過材の累積細孔分布における累積10%径と累積75%径との差が3nm以上であり、
前記第1フィルタが有するろ過材が、ナイロン、ポリオレフィン、ポリスチレン、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリスルホン、ポリフルオロカーボン、ポリビニルアルコール、ポリエステル、セルロース、及び、セルロースアセテートからなる群から選択される少なくとも1種の材料を含み、
前記第1フィルタが有するろ過材の孔径が、1~100nmであり、
前記第2フィルタが有するろ過材が、ポリオレフィン、ポリフルオロカーボン、及び、ナイロンからなる群から選択される少なくとも1種の材料を含み、
前記第2フィルタが有するろ過材の孔径が、1~200nmであり、
前記被精製物が、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、乳酸エチル、メトキシプロピオン酸メチル、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、γ-ブチロラクトン、ジイソアミルエーテル、酢酸ブチル、酢酸イソアミル、イソプロパノール、4-メチル-2-ペンタノール、ジメチルスルホキシド、n-メチル-2-ピロリドン、ジエチレングリコール、エチレングリコール、ジプロピレングリコール、プロピレングリコール、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、スルフォラン、シクロヘプタノン、及び、2-ヘプタノンからなる群から選択される少なくとも1種の有機溶剤を含有するか;又は、前記被精製物がアルカリ水系現像液であり、
前記被精製物における溶剤の含有量が、前記被精製物の全質量に対して97.0~99.999質量%である、ろ過装置。 - 被精製物が供給される管路中に、独立して配置された、
以下の要件1~3からなる群から選択される少なくとも1つ;
要件1:フィルタが、それぞれ異なる材料を含む2つ以上の層を含むろ過材を有する。
要件2:フィルタが、異なる細孔構造を有する2つ以上の層を含むろ過材を有する
要件3:フィルタが、異なる材料が混合された1つの層を含むろ過材を有する
を満たす第1フィルタ及び前記第1フィルタを収容するハウジングからなる第1フィルタユニットと、
前記第1フィルタとは異なる第2フィルタ及び前記第2フィルタを収納するハウジングからなる第2フィルタユニットと、を有するろ過装置であって、
前記第1フィルタが有するろ過材の累積細孔分布における累積10%径と累積75%径との差が3nm以上であり、
前記累積10%径に対する、前記累積75%径の比が2.0~20.0であり、
前記第1フィルタが有するろ過材が、ナイロン、ポリオレフィン、ポリスチレン、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリスルホン、ポリフルオロカーボン、ポリビニルアルコール、ポリエステル、セルロース、及び、セルロースアセテートからなる群から選択される少なくとも1種の材料を含み、
前記第1フィルタが有するろ過材の孔径が、1~100nmであり、
前記第2フィルタが有するろ過材が、ポリオレフィン、ポリフルオロカーボン、及び、ナイロンからなる群から選択される少なくとも1種の材料を含み、
前記第2フィルタが有するろ過材の孔径が、1~200nmであり、
前記被精製物が、前記被精製物がアルカリ水系現像液である、ろ過装置。 - 被精製物が供給される管路中に、独立して配置された、
以下の要件1~3からなる群から選択される少なくとも1つ;
要件1:フィルタが、それぞれ異なる材料を含む2つ以上の層を含むろ過材を有する。
要件2:フィルタが、異なる細孔構造を有する2つ以上の層を含むろ過材を有する
要件3:フィルタが、異なる材料が混合された1つの層を含むろ過材を有する
を満たす第1フィルタ及び前記第1フィルタを収容するハウジングからなる第1フィルタユニットと、
前記第1フィルタとは異なる第2フィルタ及び前記第2フィルタを収納するハウジングからなる第2フィルタユニットと、を有するろ過装置であって、
前記第1フィルタが有するろ過材の累積細孔分布における累積10%径と累積75%径との差が3nm以上であり、
前記第1フィルタが有するろ過材が、ナイロン、ポリオレフィン、ポリスチレン、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリスルホン、ポリフルオロカーボン、ポリビニルアルコール、ポリエステル、セルロース、及び、セルロースアセテートからなる群から選択される少なくとも1種の材料を含み、
前記第1フィルタが有するろ過材の孔径が、1~100nmであり、
前記第2フィルタが有するろ過材が、ポリオレフィン、ポリフルオロカーボン、及び、ナイロンからなる群から選択される少なくとも1種の材料を含み、
前記第2フィルタが有するろ過材の孔径が、1~200nmであり、
前記被精製物が、前記被精製物がアルカリ水系現像液である、ろ過装置。 - 前記第2フィルタユニットは第1フィルタユニットの二次側にあり、
前記第2フィルタが有するろ過材の孔径が、前記第1フィルタが有するろ過材の孔径以下である、請求項1~4のいずれか一項に記載のろ過装置。 - 前記第2フィルタユニットが一次側に配置され、前記第1フィルタユニットが二次側に配置された、請求項1~4のいずれか一項に記載のろ過装置。
- 前記第1フィルタが有するろ過材が、表面処理済み基材を含む層と、表面処理されていない前記基材を含む層と、を含む、請求項1~6のいずれか一項に記載のろ過装置。
- 前記第2フィルタが有するろ過材の孔径が、1~100nmである、請求項1~7のいずれか一項に記載のろ過装置。
- 前記第2フィルタが有するろ過材の孔径が、前記第1フィルタが有するろ過材の孔径以下である、請求項8に記載のろ過装置。
- 前記第2フィルタが有するろ過材の孔径が、前記第1フィルタが有するろ過材の孔径以上である、請求項6に記載のろ過装置。
- 前記第1フィルタユニットの二次側に、第2フィルタユニットが更に配置され、二次側に配置された前記第2フィルタユニットが有するろ過材の孔径は、前記第1フィルタが有するろ過材の孔径以下であり、前記第1フィルタが有するろ過材が、表面処理済み基材を含む層を含む、請求項1~10のいずれか一項に記載のろ過装置。
- 前記第1フィルタが、それぞれ異なる材料を含む2つ以上の層を含むろ過材を有する、請求項1~11のいずれか一項に記載のろ過装置。
- 前記第2フィルタが有するろ過材が、前記2つ以上の層のいずれか1層と同じ材料を含む、請求項1に記載のろ過装置。
- 前記第1フィルタが有するろ過材、及び、前記第2フィルタが有するろ過材からなる群から選択される少なくとも1種のろ過材が有する、ハンセン溶解度パラメータδDp、δPp、及び、δHp、並びに、相互作用半径R0が、
前記被精製物が有する、ハンセン溶解度パラメータδDs、δPs、及び、δHsとの関係において、Raが下記式
Ra2=4(δDs-δDp)2+(δPs-δPp)2+(δHs-δHp)2
で表される場合、R0に対するRaの比が1.0以下である、請求項1~13のいずれか一項に記載のろ過装置。 - 前記第1フィルタが、異なる細孔構造を有する2つ以上の層を含むろ過材を有する、請求項1~14のいずれか一項に記載のろ過装置。
- 前記第1フィルタが、厚み方向に異なる細孔構造を有する層を含むろ過材を有する、請求項1~15のいずれか一項に記載のろ過装置。
- 前記第1フィルタが有するろ過材が、イオン交換基を有する基材を含む層を含む、請求項1~16のいずれか一項に記載のろ過装置。
- 前記第1フィルタ及び前記第2フィルタからなる群から選択される少なくとも1種を逆洗可能である、請求項1~17のいずれか一項に記載のろ過装置。
- 前記第1フィルタが有するろ過材が、ナイロン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリフルオロカーボン、セルロース、ポリスチレン、及び、ポリスルホンからなる群から選択される少なくとも1種の材料を含む、請求項1~18のいずれか一項に記載のろ過装置。
- 前記第2フィルタが有するろ過材が、ポリエチレン、ポリプロピレン、及び、ポリフルオロカーボンからなる群から選択される少なくとも1種の材料を含む、請求項1~19のいずれか一項に記載のろ過装置。
- 前記第1フィルタが有するろ過材、及び、前記第2フィルタが有するろ過材からなる群から選択される少なくとも1種のろ過材が、ナノ多孔質膜層、及び、ナノ繊維層からなる群から選択される少なくとも1種の層を含む、請求項1~20のいずれか一項に記載のろ過装置。
- 前記第1フィルタが有するろ過材が、少なくとも、前記ナノ多孔質膜層と、前記ナノ繊維層とを含む、請求項21に記載のろ過装置。
- 前記第1フィルタが有するろ過材が、10~50nmの孔径分布を有する非ふるい膜層と、2~50nmの孔径分布を有するふるい膜層と、ナイロンナノ繊維層と、を含む、請求項1~22のいずれか一項に記載のろ過装置。
- 前記ナイロンナノ繊維層が、前記非ふるい膜層と前記ふるい膜層との間に介在している請求項23に記載のろ過装置。
- 前記非ふるい膜層が、前記ふるい膜層と前記ナイロンナノ繊維層との間に介在している請求項23に記載のろ過装置。
- 前記ふるい膜層が、前記非ふるい膜層と前記ナイロンナノ繊維層との間に介在している請求項23に記載のろ過装置。
- 前記第1フィルタが、更に1層又は2層以上の多孔質支持体を含む、請求項20~26のいずれか一項に記載のろ過装置。
- 前記第1フィルタユニットの二次側から、前記第1フィルタユニットの一次側へ洗浄液を流すことにより、前記第1フィルタを逆洗可能な、請求項1~27のいずれか一項に記載のろ過装置。
- 前記被精製物が、前記有機溶剤を含有する、請求項1~28のいずれか一項に記載のろ過装置。
- 前記被精製物が、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、酢酸ブチル、及び、酢酸イソアミルからなる群から選択される少なくとも1種を含有する、請求項1~29のいずれか一項に記載のろ過装置。
- 請求項1~30のいずれか一項に記載のろ過装置と、前記ろ過装置の一次側に、被精製物を貯留可能なタンクとを備える、精製装置。
- 前記第1フィルタユニットの二次側と、前記タンクとが管路により接続され、少なくとも前記第1フィルタでろ過したろ過済み被精製物を、前記管路を経て、前記タンクに返送可能である、請求項31に記載の精製装置。
- 前記ろ過装置の一次側に、更に蒸留装置を備える、請求項31又は32に記載の精製装置。
- 前記ろ過装置に、更に循環可能な経路を備える、請求項31~33のいずれか一項に記載の精製装置。
- 請求項1~30のいずれか一項に記載のろ過装置と、1又は2以上の原料を混合して被精製物を調製する、調合装置と、を備える、薬液の製造装置。
- 被精製物を、請求項1~30のいずれか一項に記載のろ過装置を用いてろ過してろ過済み被精製物を得る、ろ過済み被精製物の製造方法。
- 請求項1又は2に記載のろ過装置を用いて被精製物をろ過して薬液を得る、薬液の製造方法であって、
前記被精製物が、前記有機溶剤を含有する、薬液の製造方法。 - 請求項1~30のいずれか一項に記載のろ過装置を用いて被精製物をろ過して薬液を得る、薬液の製造方法であって、
前記被精製物がアルカリ水系現像液である、薬液の製造方法。 - 前記薬液が半導体製造用である、請求項37又は38に記載の薬液の製造方法。
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Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003535836A (ja) | 2000-06-02 | 2003-12-02 | エクソンモービル・ケミカル・パテンツ・インク | 超高純度イソプロパノールの製造方法 |
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Patent Citations (6)
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