JP7273469B2 - シャント抵抗器の製造方法 - Google Patents

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本発明は、シャント抵抗器およびその製造方法に関する。
近年、電子機器で使用される電流が大電流化されている。中でも、パワー半導体のスイッチングにより電力の変換や制御を行うパワーモジュールが盛んに開発されている。この様なパワーモジュールには、DBC基板と呼ばれるセラミック基板など、大電流を流すことができる高放熱基板が使用される。
高放熱基板では、アルミワイヤーなどを用いてワイヤーボンディングすることによって、電流経路を形成したり、信号をセンシングしたりする。
例えば、パワーモジュールとして用いられ、シャント抵抗器を利用した電流検出装置の場合には、電流の経路の確保や電圧信号のセンシングのためにワイヤーボンディングが行われることがある(例えば特許文献1参照)。
特開2015-115460号公報
シャント抵抗器にワイヤーボンディングを行うためには、ボンディングを行う部分(通常は電極面)の表面状態が、平坦な鏡面を有すること、酸化膜等が無いクリーンな状態であることなどが求められる。
通常、シャント抵抗器には、プリント基板上にシャント抵抗器を実装するための電極が形成されており、銅などの電極や、その表面にはんだメッキやSnめっきが行われ製品化される。その電極の鏡面仕上げや、酸化膜の少ないボンディング用めっき加工が行われることはない。
本発明は、シャント抵抗器の表面をワイヤーボンディングに適するように粗さ調整をすることを目的とする。また、本発明は、シャント抵抗器の粗さ調整を行いながら、シャント抵抗器の抵抗値を調整することを目的とする。
本発明の一観点によれば、抵抗材と前記抵抗材の両側に形成される第1の電極材および第2の電極材とからなるシャント抵抗器であって、前記第1の電極材および前記第2の電極材の少なくとも一の面の平均表面粗さRaが2μm以下であることを特徴とするシャント抵抗器が提供される。
前記一の面の最大粗さRzが4μm以下であることが望ましい。また、前記第1の電極材および前記第2の電極材の他の面は、前記一の面よりも平均表面粗さRaが大きい。
また、本発明は、抵抗材と前記抵抗材の両側に形成される第1の電極材および第2の電極材とからなるシャント抵抗器のチップ素材を準備する工程と、前記第1の電極材および前記第2の電極材の少なくとも一方の面を研磨する工程と、を有するシャント抵抗器の製造方法が提供される。また、前記研磨する工程は前記抵抗材も研磨する工程であり、前記チップ素材の抵抗値を測定する工程を更に含む製造方法が提供される。
本発明によれば、シャント抵抗器の表面をワイヤーボンディングに適するように粗さ調整をすることができる。また、本発明によれば、シャント抵抗器の粗さ調整を行いながら、シャント抵抗器の抵抗値を調整することができる。
本発明の実施の形態によるシャント抵抗器の製造方法を示す図であり、電極と抵抗とが突き合わされて接合されている突き合わせ構造のシャント抵抗器を作製する手順を簡単に示す図である。 シャント抵抗器の研磨装置の概略構成例を示す図である。 図3(a)はチップホルダーに嵌め込まれたシャント抵抗器の断面図であり、その拡大図も示している。図3(b)は、研磨工程を経た或いは研磨工程の途中においてシャント抵抗器の抵抗を測定する様子を示す図である。 図4は、これらの工程を含む本実施の形態によるシャント抵抗器の製造工程の流れの一例を示すフローチャート図である。 本発明の第2の実施の形態によるシャント抵抗器の製造方法における、シャントチップを、チップホルダーに嵌め込んだ状態の一例を示す図である。 本発明の第3の実施の形態によるシャント抵抗器の製造方法における、シャントチップを、チップホルダーに嵌め込んだ状態の一例を示す図である。 シャント抵抗器を実装した状態の一例を示す図である。 シャント抵抗器を実装した状態の他の例を示す図である。
本明細書において、シャント抵抗器のチップ素材とは、抵抗体の両端に電極が形成されている構成を指す。但し、抵抗体と電極材とが同じ材料で一体に形成されたものでも良い。
シャント抵抗器は、はんだペーストを使用してプリント基板に実装する用途向けに造られており、特許文献1のように、ワイヤーボンディングで使用することを意識して製造されている製品は少ない。
従って、電極の表面の粗度に着目した製造方法はほとんど存在しない。すなわち、通常は、ロール圧延での仕上げ状態であり、その平均表面の粗さ(平均粗度)Ra±10μm以上である。
また、シャント抵抗器においては、抵抗体と電極を溶接で接続するものが多く、抵抗体と電極との接続界面にはビードとよばれる瘡蓋状の凹凸部が存在し、抵抗体と電極との界面にはボンディングを行いにくい。
加えて、シャント抵抗器の電極の表面処理はワイヤーボンディングがしやすいかどうかが考慮されていない。
以下において説明する本発明は、パワーモジュールで使用される、ワイヤーボンディングに対応可能な平滑な電極を有し、ボンディングしやすい表面処理を施したシャント抵抗器の製造方法に関連する。
とりわけ、ワイヤーボンディングでシャント抵抗器に配線をする場合には、大電流を流すための電流線と電圧信号をセンシングするための電圧線をボンディングする必要があるため、何本ものワイヤーボンディングを1つの電極などに対して行う必要がある。従って、ワイヤーボンディングをするための大面積かつ平滑な面が求められる。
また、電圧センシング線は抵抗体と電極との境界線の出来るだけ近くにワイヤーボンディングすることによって、温度変化の影響を受けにくくなり、高精度に使用することができる。そのため、抵抗体と電極との境界部においては凹凸の少ない平滑面が求められる。抵抗体と電極との溶接による接合を行うと、ビードと呼ばれる瘡蓋状の凹凸部が形成され、ワイヤーボンディングがしにくくなる。従って、抵抗体と電極との境界線(接合面)をいかにして平坦に加工するかが大きなポイントとなる。
また、ワイヤーボンディングを高い信頼性を確保しつつ行うためには、シャント抵抗器の電極表面の粗度が重要であり、鏡面の様に綺麗な面とすることが望ましい。例えば、平均表面粗さRaとして2μm以下、最大粗さRzとして4μm以下が求められる。
これらの値は、通常の圧延加工技術を用いると、圧延加工用ロールの表面状態に影響されるため達成することが困難である。そして、溶接ビードのある状態では、さらに達成が困難である。
以下において、本発明の実施の形態によるシャント抵抗器の製造方法について図面を参照しながら詳細に説明する。
(第1の実施の形態)
図1から図4までは、本発明の第1の形態によるシャント抵抗器の製造方法を示す図である。図1は、電極と抵抗とが突き合わされて接合されている突き合わせ構造のシャント抵抗器を作製する手順を簡単に示す図である。図2は、シャント抵抗器の研磨装置の概略構成例を示す図である。図3(a)はチップホルダーに嵌め込まれたシャント抵抗器の断面図であり、その拡大図も示している。図3(b)は、研磨工程を経た或いは研磨工程の途中においてシャント抵抗器の抵抗を測定する様子を示す図である。図4は、これらの工程を含む本実施の形態によるシャント抵抗器の製造工程の流れの一例を示すフローチャート図である。
処理が開始され(Start)、ステップS1において、図1に示すように、平板状の電極材1,5と抵抗材3とを積層し、圧接加工により電極材1と抵抗材3,電極材5と抵抗材3とを圧接することで積層体Aを形成する。次いで、ステップS2において、積層体Aの一側面から長尺のフープ材Bを所定の厚さで切り出す(図1(b))。
次いで、ステップS3において、フープ材Bを接合面の位置Y1,Y2を含むように切り出して、突き合わせ構造を有するシャント抵抗器のチップ素材(シャントチップ)Cを形成する(図1(c))。
次いで、ステップS4において、図2に示すように、研磨用ホルダー11のチップホルダー15内に例えば上面13からシャントチップCを嵌め込む。この際、ワイヤーボンディングを行う研磨面を下面にする。ステップS5において、研磨用ホルダー11の研磨面側に、研磨剤33をペーストした下側回転板31を対向配置する。
尚、チップホルダー15は、研磨用ホルダー11上において、放射状に配置することが好ましい。これにより、チップホルダー15内の多数のシャントチップをより均一に研磨することができる。
次いで、ステップS6において、研磨用ホルダー11の非研磨面側(反対側:図の上側)に上側押圧プレート21を配置する。
尚、研磨用ホルダー11、下側回転板31、上側押圧プレート21は、いずれも円板の形状で、ほぼ同じ径を有していても良い。
ステップS7において、上側押圧プレート21で研磨用ホルダー11を矢印で示すように押圧しながら、下側回転板31を回転させて研磨用ホルダー11のチップホルダー15内に嵌め込まれたシャントチップCの下面を研磨する。
このような研磨方法をラッピング加工とも称する。ラッピング加工には、砥粒を用いた研磨加工が挙げられる。下側回転板31の上に研磨剤となる砥粒33を載せてその上に製品(この場合はシャントチップC)を押し当てて加工する方法である。砥粒の粒径や材質を選択することによって、表面研磨がなされるシャント抵抗などの表面粗さを制御することができる。
本実施の形態で使用することができる研磨材としては、アルミナ、ジルコニア、ガラスなどの球状体の研磨材が例示的に挙げられる。研磨材の粒径は、例えば、2μmφ以下のものを使用することができる。
抵抗材3用の材料としては、例えばCu-Ni系、Cu-Mn系、Ni-Cr系などの金属の板材を用いることができる。電極材1,3用の材料としては例えばCuなどを用いることができる。
図3は、研磨用ホルダー11内にシャントチップCを嵌め込み、実際に研磨を行っている様子を示す断面図であり、引き出し線でその拡大図を示す。研磨されるのは、チップホルダー15内に嵌め込まれたシャントチップCの下面S12であり、上面S11は上側押圧プレート21により押圧される。シャントチップCと下側回転板31の間には研磨剤33が介在している。拡大図に示されるように、シャントチップCの下面は、チップホルダー15に嵌め込まれた状態で、少なくともその下面がチップホルダー15の下側開口縁部L2よりも下側に位置している。すなわち、符号Tに示すように、シャントチップCの下面がΔt1(>0)だけ突出した状態で固定されている。従って、シャントチップCの下面を研磨することができる。
次いで、ステップS8において、研磨処理を一旦停止し、上側押圧プレート21を外す。すると、図3(b)に示すように、シャントチップCの裏面が露出する。
ステップS9において、例えば、プローブP1,P2を一方の電極1に、プローブP3,P4を他方の電極5に当てて裏面側から四端子法により、シャント抵抗器のその時点での抵抗値を測定する。多数のシャントチップを配置した場合には、例えば自動的にプローブP1からP4までをスキャンして一括して抵抗値を測定することもできる。すなわち、研磨後にシャントチップCを研磨用ホルダー11に嵌め込んだまま、シャントチップCの抵抗値を測定し、抵抗値が必要な抵抗になっているか確認する。
ステップS10において、ステップS9で測定したシャント抵抗器の抵抗値が設計目標値に達したか否かをステップS9の測定結果に基づいて判定し、抵抗値が設計目標値に達した場合には(Yes)、研磨が終了したと判定して、研磨を終了する(End)。
ステップS10において、Noの場合には、さらに研磨を続ける必要があるため、ステップS6に戻る。このように、もし、必要な抵抗値が得られていない場合は、再度ラッピング研磨を行い、シャントチップCの厚み調整を行う。抵抗値を確認しながらラッピング研磨を行うと、抵抗値調整と粗さ調整の両方の調整を1工程で行うことができる。
尚、ステップS6からステップS10までの処理は、最初から研磨量を大きくしすぎると、研磨によっては設計値よりも抵抗値を低くする調整は難しいため、最初は設計値よりも抵抗値が高くなりすぎないように研磨量を少なめにすることが好ましい。
すなわち、研磨によるラッピング加工では、厚みの仕上げ精度が±5~10μmで対応することができる。通常のシャントチップC材料の厚みは500μm以上であるため、±1%の高精度での抵抗値調整が可能である。
尚、電子ビームやレーザービーム等で、抵抗材と電極材とを溶接した場合でも、ビードと呼ばれる溶接部の発生する瘡蓋状の凹凸もラッピング加工で除去することができる。
このようにして、抵抗値の調整までできたシャントチップCにおいては、はんだ付けが可能で、ワイヤーボンディングを行いやすいようにめっき加工を行い製品を完成することもできる。ここで、めっきの種類は、NiP、NiW、Auめっきなどを用いることができる。
以上に説明したように、本実施の形態によるシャント抵抗器の製造方法によれば、シャント抵抗器の表面をワイヤーボンディングに適するように粗さ調整をすることを目的とする。また、本発明は、シャント抵抗器の粗さ調整を行いながら、シャント抵抗器の抵抗値を調整することができる。また、シャントチップCの研磨は、一面のみ行ってもよいが、他方の面、即ちシャントチップCの両面を研磨してもよい。なお、シャントチップCの研磨は一面のみとし、他の面はそれよりも粗さを有することで、シャントチップCを実装する際に、他の面を実装基板に当接して実装すれば、実装のための接着材とのアンカー効果により接着力を高める効果がある。
(第2の実施の形態)
次に、本発明の第2の実施の形態について説明する。基本的なシャント抵抗器の製造方法は第1の実施の形態と同様である。
図5(a),(b)は、本実施の形態によるシャント抵抗器の製造方法における、シャントチップC1,C2を、チップホルダー15に嵌め込んだ状態の一例を示す図である。第1の実施の形態では、平板状の突き合わせ構造のシャントチップCを用いた例を示したが、本実施の形態では、電極1a,1bおよび5a,5bに対して、抵抗体3a,3bおよびその両側の電極部分(Y11,Y12を境界とする)が持ち上がった持ち上がり構造(スタンドオフ構造)のシャントチップC1,C2を用いている。図5(a)は、立ち上がり部分43aが、電極1a,5aの平板に対してほぼ垂直に立ち上がっている構造を示しており、図5(b)は、立ち上がり部分43bが、電極1b,5bの平板に対して斜めに立ち上がっている構造を示している。このような持ち上がり構造のシャントチップC1,C2をチップホルダー15に嵌め込んで、シャント抵抗器の持ち上がった部分、すなわち、抵抗体3a,3bおよびその両側の電極部分を研磨するようにしても良い。この場合においても、チップホルダー15の下面の開口縁部からΔt2,Δt3(いずれも、t>0)だけ抵抗体3a,3bおよびその両側の電極部分を突出させて研磨を行うことで、抵抗体3a,3bおよびその両側の電極部分を研磨することにより電極部の平坦化が可能であり、電極部にワイヤーボンディングを行うことができるように平坦にすることができるとともに、抵抗値を調整することができる。
(第3の実施の形態)
次に、本発明の第3の実施の形態について説明する。基本的なシャント抵抗器の製造方法は第1,第2の実施の形態と同様である。
図6は、本実施の形態によるシャント抵抗器の製造方法における、シャントチップC3を、チップホルダー15に嵌め込んだ状態の一例を示す図である。第1の実施の形態では、平板状の突き合わせ構造のシャントチップCを用いた例を示したが、本実施の形態では、電極1c,5cに対して、抵抗体3c部分が凹んだ構造のシャントチップC3を用いている。このような構造のシャントチップC3をチップホルダー15に嵌め込んで、両側の電極部分を研磨するようにしても良い。この場合においても、チップホルダー15の下面の開口縁部からΔt4(>0)だけ抵抗体3cを突出させているが、それよりも電極部分が突出しているため、研磨を行うことで、電極部分を研磨によりワイヤーボンディングを行うことができるように平坦にすることができる。抵抗値調整が不要な場合は本実施の形態が好適である。なお、図6に示す上面側を研磨面とすれば、上述の実施例と同様に、抵抗体3cおよびその両側の電極1c,5c部分を研磨することができ、表面研磨できるとともに、抵抗値の調整も可能となる。
図7は、シャント抵抗器Cを実装した状態の一例を示す図である。回路基板に形成された配線50a,50b間に、シャント抵抗器Cが配置されている。電極1と配線50aは3本のワイヤ30aで接続されている。電極5と配線50bは3本のワイヤ30bで接続されている。シャント抵抗器Cの電極1,5には、電圧測定のためのワイヤ40a,40bがそれぞれ接続されている。ワイヤ40a,40bの他端は、IC55に接続されている。IC55は、A/D変換回路、増幅回路、絶縁回路等が組み込まれ、電圧信号に応じた信号を各種機器に出力する。この構造により、配線50a,50bの電流をシャント抵抗器Cにより計測することができる。シャント抵抗器Cの電極1,5におけるボンディング面(図7において上面側)は研磨されており、表面の凹凸が少なく、超音波等によるワイヤーボンディングにおいて好適な表面状態が形成されている。
図8は、シャント抵抗器Cを実装した状態の他の例を示す図である。多層基板60は、複数のセラミックシートを重ねて多層に形成されている。セラミックシートには配線パターンが形成され、各層はビア接続されている。図8はこのような多層基板60の断面を示している。シャント抵抗器Cは多層基板60の内部に埋め込まれている。シャント抵抗器Cによる測定対象の電流は、配線51a,51bを流れる電流である。配線51aはビア52aを通じて電極1に接続されている。配線51bはビア52bを通じて電極5に接続されている。電圧信号は、電極1に接続されたビア41aと、電極5に接続されたビア41bにより取得され、電圧検出回路により処理される。シャント抵抗器Cの電極1,5の表面は、上述のとおり研磨されているため、各ビアと接続するのに好適である。なお、電極1,5の表裏面の両方を研磨しておくと、表裏面でビア接続するのに好適であり、回路設計の自由度が増す。
尚、上記の各実施の形態では電極と抵抗体との材料が異なるシャントチップを用いた例について説明したが、電極と抵抗体とが同じ材料で構成されている単体の板体状のシャントチップを利用して、同様の製造方法で表面研磨と抵抗値調整とを行うことができる。
このように、シャントチップの形態に依存せずに、同様の製造方法でワイヤーボンディングに適した表面が形成でき、かつ、抵抗値の調整も可能である。
また、シャント抵抗器において電極と抵抗体との溶接部分を平坦にするために、上記の構成を用いても良い。このようにすると、溶接部分を平坦にすることができるため、ワイヤーボンディングを行う際に、溶接部分のビードなどの影響を抑制することができる。
上記の実施の形態において、図示されている構成等については、これらに限定されるものではなく、本発明の効果を発揮する範囲内で適宜変更することが可能である。その他、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施することが可能である。
また、本発明の各構成要素は、任意に取捨選択することができ、取捨選択した構成を具備する発明も本発明に含まれるものである。
本発明は、シャント抵抗器の製造方法に利用可能である。
C,C1,C2,C3 シャントチップ
1,5 電極材
3 抵抗材
11 研磨用ホルダー
15 チップホルダー
21 上側押圧プレート
31 下側回転板
33 砥粒〔研磨剤〕
P1~P4 抵抗測定用のプローブ

Claims (4)

  1. 抵抗材と前記抵抗材の両側に形成される第1の電極材および第2の電極材とからなるシャント抵抗器の製造方法であって、
    前記抵抗材と前記第1の電極材および第2の電極材を突き合せて接合したチップ素材を準備する工程と、
    前記抵抗材と前記第1の電極材および第2の電極材とが接合された境界を含めて、前記チップ素材の一方の面を研磨する工程と、
    前記研磨する工程の後に、前記チップ素材の抵抗値を測定する工程と、を有し、
    前記抵抗値が設計目標値に達するまで、前記研磨する工程と前記抵抗値を測定する工程とを繰り返し行う、シャント抵抗器の製造方法。
  2. 前記第1の電極材および前記第2の電極材の少なくとも前記一方の面の平均表面粗さRaが2μm以下であることを特徴とする請求項1に記載のシャント抵抗器の製造方法。
  3. 前記一方の面の最大粗さRzが4μm以下であることを特徴とする請求項に記載のシャント抵抗器の製造方法。
  4. 前記チップ素材の他の面は、前記一方の面よりも平均表面粗さRaが大きいことを特徴とする請求項1に記載のシャント抵抗器の製造方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7421416B2 (ja) 2020-05-15 2024-01-24 Koa株式会社 抵抗器
JPWO2023286552A1 (ja) * 2021-07-14 2023-01-19
WO2023248729A1 (ja) * 2022-06-24 2023-12-28 ローム株式会社 抵抗体の実装構造

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004288999A (ja) 2003-03-24 2004-10-14 Sanken Electric Co Ltd 半導体装置及びその製造方法
WO2016063928A1 (ja) 2014-10-22 2016-04-28 Koa株式会社 電流検出装置および電流検出用抵抗器
WO2017129361A1 (de) 2016-01-25 2017-08-03 Isabellenhütte Heusler Gmbh & Co. Kg Herstellungsverfahren für einen widerstand, widerstand und entsprechende herstellungsanlage

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4036274B2 (ja) * 1997-12-16 2008-01-23 北陸電気工業株式会社 抵抗器の製造方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004288999A (ja) 2003-03-24 2004-10-14 Sanken Electric Co Ltd 半導体装置及びその製造方法
WO2016063928A1 (ja) 2014-10-22 2016-04-28 Koa株式会社 電流検出装置および電流検出用抵抗器
WO2017129361A1 (de) 2016-01-25 2017-08-03 Isabellenhütte Heusler Gmbh & Co. Kg Herstellungsverfahren für einen widerstand, widerstand und entsprechende herstellungsanlage

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