JP7257147B2 - 架橋ポリオルガノシロキサン及びそれを含むパーソナルケア組成物 - Google Patents
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Description
本発明は、架橋ポリオルガノシロキサン、その調製、およびそれを含むパーソナルケア製品に関する。
MaMH bMV cM”dM* eDfDH gDV hD”iD* jTkTH lTV mT"nT* oQp I
M=R1R2R3SiO1/2;
MH=R4R5HSiO1/2;
MV=R6R7R8SiO1/2;
M”=R9R10R22SiO1/2;
M*=R11R12R23SiO1/2;
D=R13R14SiO2/2;
DH=R15HSiO2/2;
DV=R16R17SiO2/2;
D”=R18R22SiO2/2;
D*=R19R23SiO2/2;
T=R20SiO3/2;
TH=HSiO3/2;
TV=R21SiO3/2;
T”=R22SiO3/2;
T*=R23SiO3/2;
Q=SiO4/2
式中、R1、R2、R3、R4、R5、R7、R8、R13、R14、R15、R17及びR20はそれぞれ独立して、炭素数60まで、より具体的には炭素数30まで、さらに具体的には炭素数20までの1価の炭化水素基であり;R6、R16及びR21はそれぞれ独立してフリーラジカル重合性基、より具体的にはエチレン性不飽和基であり;R9、R10及びR18はそれぞれ独立して、炭素数60まで、より具体的には炭素数30まで、さらに具体的には炭素数20までの1価の炭化水素基、またはR22であり;各々のR22は独立して、炭素数60まで、より具体的には炭素数30まで、さらに具体的には炭素数20までの1価のアルコキシ基であり、また任意選択的に少なくとも1個のイオン性基、例えばカルボキシレート、サルフェート、スルホネート、第4級化アミド、スルホベタイン等のような、カチオン性、アニオン性及び/又は双性イオン性基を含み;R11、R12及びR19はそれぞれ独立して、炭素数60まで、より具体的には炭素数30まで、さらに具体的には炭素数20までの1価の炭化水素基、またはR23であり;各々のR23は、合計で2~200個の炭素原子、より具体的には100個まで、更により具体的には50個までの炭素原子を有する1以上のアルキレンオキシ基が結合している、炭素数3~6の2価のアルキレン基R24であり、任意選択的に水素、炭素原子20個までの炭素原子、より具体的には炭素原子8から10個までの炭素原子、さらにより具体的には4個までの炭素原子、又は例えばカルボキシレート、サルフェート、スルホネート、第4級化アミド、スルホベタインなどのカチオン性、アニオン性又は双性イオン性基である少なくとも1つのイオン性基で終端されており;下付き文字a、b、c、d、e、f、g、h、i、j、k、l、m、n、o及びpは、それぞれ独立して、0又は正の数であり、但しc+h+m≧2、例えば≧2且つ≦5000、より具体的には≧2且つ≦1000、さらに具体的には≧2且つ≦500であり、さらに、a+b+d+e+f+g+i+j+k+l+n+o+pは0又は≧1、例えば≧1且つ≦3000、より具体的には≧2且つ≦2000、更に具体的には≧2且つ≦1000である。
式中、各R25は独立して、炭素数20までの、より具体的には炭素数10までの2価の炭化水素基であり、任意に1またはより多くのヘテロ原子を含有し;各R26及びR27はそれぞれ独立に、アルケニル、ビニル、メタリル、アクリレート、アクリルアミド、メタクリルアミド、アクリリル基などの、エチレン性不飽和フリーラジカル重合可能な、すなわち架橋可能な基であり;R28は、炭素数20までの、より具体的には炭素数10までの3価の炭化水素基であり、任意に1またはより多くのヘテロ原子を含み;そして下付き文字q、r及びsはそれぞれ独立して、0又は正の数であり、但しq+r+sは≧1且つ≦60、より具体的には≧1且つ≦30、さらに具体的には≧1且つ≦20である:
式中、Yは存在しないか、又は前に定義したR25基であり、R29、R30及びR31はそれぞれ独立して、水素又は炭素数20までの1価の炭化水素基である。
MV cDfDV hM2-c I(e)
式中、MV、D、DV及びMは前に定義した通りであり、添字c、f及びhは0又は正の数であり、但しfは0~2000であり、より具体的には10~1000、さらに具体的には10~500、hは0~500であり、より具体的には0~100、さらに具体的には0~50、cは0~2であり、c+hは2~500であり、より具体的には2~100、さらに具体的には2~50、という条件に従い;式(f):
MV cDfDV hM2-c I(f)
式中、MV、D、DV及びMは前に定義した通りであり、添字c、f及びhは0又は正の数であり、但しfは0~2000であり、より具体的には10~1000、さらに具体的には10~100、hは0~500であり、より具体的には0~100、cは0~50であり、c+hは2~500であり、より具体的には2~100、さらに具体的には2~50、という制約に従い;式II:
MV cQp I(g)
式中、MV及びQは前に定義した通りであり、添字c及びpは0又は正の数であり、但しc≧1、より具体的には≧2、さらに具体的には≧3であり、p≧1、より具体的には≧2、さらに具体的には≧3、c+pが2~20、より具体的には2~10、さらに具体的には2~6であるという制約に従い;式I(h):
MH bMV cDfDH gDV hM2-b I(h)
式中、MH、MV、D、DH、DV及びMは前に定義した通りであり、b、c、f、g及びhは0又は正の数であり、但しfは1~1000、より具体的には10~300、さらに具体的には10~100であり、bは0又は1であり、cは0~2であり、b+gは1であり、c+hは2~500、より具体的には2~100、さらに具体的には2~50であるという制約に従い;式II:
DfDV h I(i)
式中、D及びDVは先に定義した通りであり、添字f及びhは0又は正の数であり、但しf+hが3~8、より具体的には3~6であり、さらに具体的には3~5であるという制約に従うものを含んでいる。
MH bDfDH gM2-b II(a)
式中、MH、D、DH及びM'は前記定義の通りであり、b、f及びgは0又は正の数であり、但しfは10~50、より具体的には10~30、さらに具体的には10~25であり、gは0~50、より具体的には1~30、さらに具体的には2~10であり、bは0~2であり、b+gは1~100、より具体的には1~32、さらに具体的には2~12という制約に従い;式II(b):
MH bDfDH gD* jM'2-b II(b)
式中、MH、D、D*、DH及びMは、先に定義した通りであり、添え字b、f、g及びjは0又は正の数であり、但しbは0~2であり、gは0~50であり、より具体的には1~30、さらに具体的には2~10であり、jは0.1~10、より具体的には0.1~8、さらに具体的には0.1~6であり、b+gは1~100、より具体的には1~32、さらに具体的には2~12という制約に従い;式II(c):
MH bQpM'2-b II(c)
式中、MH、Q及びMは先に定義した通りであり、b及びpは0又は正の数であり、但しb≧1、より好ましくは≧2、更に好ましくは≧3であり、かつ、p≧1、より好ましくは≧2、更に好ましくは≧3であり、b+pは2~20、より具体的には2~10、更に具体的には2~6であるという制約に従い;式II(d):
MH bDfD”iDH gM2-b II(d)
式中、MH、D、D”、DH及びMは先に定義した通りであり、b、f、i及びgは0又は正の数であり、但しfが10~50、より具体的には10~40、さらに具体的には10~35、iが0~20、より具体的には1~12、さらにより具体的には1~8であり、bが0~2であり、b+gは1~100、より具体的には1~14、さらにより具体的には1~10であるという制約に従い;式II(e):
MH bMV cDfDH gDV hM2-b II(e)
式中、MH、MV、D、DH、DV及びMは、先に定義した通りであり、b、c、f、g及びhは0又は正の数であり、但しfは1~300、より具体的には10~30、さらに具体的には10~25であり、b+g≧1であり、より具体的には≧2であり、さらに具体的には≧3であり、且つ、c+hは0又は1であるという制約に従い;式II(f):
DfDH gDV h II(f)
D、DH及びDVは、先に定義した通りであり、f、g及びhは0又は正の数であり、但しf+g+hは3~7であり、より具体的には3~5であり、hは0又は1であるいう制約に従う正の数であるものを含む。
(w2-w3)/w1×100=最大膨潤度
25℃で約5Pa・sの粘度を有するビニルポリジメチルシロキサン40重量部、25℃で約0.02Pa・sの粘度を有するビス-ハイドロジェンジメチコン10重量部、及びイソドデカン20重量部の混合物を十分に混合し、ポリオキシエチレンラウリルエーテル5重量部、セテアリル硫酸ナトリウム0.5重量部、および脱イオン水5重量部の混合物と撹拌器中で組み合わせて、安定なエマルションを得た。エマルションへの脱イオン水の添加により、架橋ポリオルガノシロキサンの含有量を40重量%に減少させた。次いで、エマルションを60℃に加熱し、pHを4に調整し、続いて0.05重量部の過硫酸アンモニウムを添加して、ビニルポリジメチルシロキサンのフリーラジカル重合及びビス-ハイドロジェンジメチコンによるヒドロシリル化を開始させた。4時間後、得られた安定なO/Wエマルションゲル中の未反応のSiHは、Luoらによる、「Silicone Resin and its Application」、ChemicalIndustry Press、Beijing、pp.227-228(2002)に記載の発酵管法により測定したところ、0.1cc/g未満であった。このエマルションをトリエタノールアミンでpHを7に調整し、防腐剤としてフェノキシエタノール0.8重量部を添加した。
25℃で約2Pa・sの粘度を有するビニルポリジメチルシロキサン50重量部、25℃で0.01Pa・sの粘度を有するヒドロシリル基含有ポリオルガノシロキサン10重量部、25℃で約0.003Pa・sの粘度を有するセテアリルメチコン5重量部、及び25℃で約0.01Pa・sの粘度を有するジメチコン80重量部をの混合物を50℃で混合し、その後セトステアリル硫酸ナトリウム1.5重量部、ポリオキシエチレンラウリルエーテル6重量部、ポリオキシエチレンモノステアレート8重量部、及び脱イオン水30重量部の混合物と撹拌器中で組み合わせて、安定なエマルションを得た。エマルションへ脱イオン水をさらに添加することで、架橋ポリオルガノシロキサンの含有量を50重量%に減少させた。エマルションを40℃に加熱し、pHを4に調整した後、過酸化水素及びアスコルビン酸をそれぞれ0.1重量部添加してビニルポリジメチルシロキサンのフリーラジカル重合とヒドロシリル基を含有するポリオルガノシロキサンによるヒドロシリル化を開始させた。4時間後、エマルション中の未反応SiHは発酵管法で測定したところ、0.1cc/g未満であった。0.5重量部の安息香酸ナトリウムを防腐剤としてエマルションに添加した。
25℃で約0.5Pa・sの粘度を有するビニルポリジメチルシロキサン樹脂100重量部、25℃で約0.2Pa・sの粘度を有するメチルハイドロジェンポリオルガノシロキサン20重量部、イソプロピルミリステート20重量部、及び過酸化ベンゾイル1重量部の混合物を60℃で、6重量部のステアレス-2と4重量部のステアレス-21の混合物、モノステアリン酸ポリオキシエチレン8重量部と脱イオン水30重量部の混合物と撹拌器中で混合して、ポリオルガノシロキサンの安定なエマルションを得た。エマルションへ脱イオン水をさらに添加して、架橋ポリオルガノシロキサンの含有量を50重量%に低減させた。次いで、エマルションを80℃に加熱して、フリーラジカル重合/ヒドロシリル化を開始し、4時間で完了させた。発酵管法で測定したところ、SiHは0.1cc/g未満であった。pHを7に調整した後、防腐剤としてフェノキシエタノール0.8重量部を架橋ポリオルガノシロキサンO/W安定性エマルションに添加した。
25℃で約5Pa・sの粘度を有するビニルポリジメチルシロキサン30重量部、イソドデカン10重量部、及び25℃で約1Pa・sの粘度を有するジメチコン10重量部の混合物を、ポリオキシエチレンラウリルエーテル5重量部、セテアリル硫酸ナトリウム0.5重量部、及び脱イオン水5重量部の混合物と撹拌器で混合して安定なエマルションを得た。エマルションへ脱イオン水をさらに添加して、架橋ポリオルガノシロキサンの含有量を30重量%に低減させた。その後、エマルションを60℃に加熱し、pH4に調整した後、0.05重量部の過硫酸アンモニウムを添加して、ビニルポリジメチルシロキサンのフリーラジカル重合を開始させた。4時間後、得られた架橋ポリオルガノシロキサン安定O/WエマルションのpHをトリエタノールアミンで7に調整し、フェノキシエタノール0.8重量部を防腐剤として添加した。
ビニル基及びヒドロシリル基を有するポリオルガノシロキサンIを、以下のように調製した。1,3,5,7-テトラメチル-1,3,5,7-テトラビニルテトラメチルシクロテトラシロキサン700重量部と25℃で約0.001Pa・sの粘度を有するビスハイドロジェンジメチコン30質量部の混合物を、80℃で12時間にわたって酸性ケイソウ土1部と混合した。濾過して酸性ケイソウ土を除去した後の、架橋性ポリオルガノシロキサン反応生成物は、25℃で約0.2Pa・sの粘度であった。
この実施例は、実施例2のO/Wゲルエマルションの架橋ポリオルガノシロキサン成分を濃縮し、得られた濃縮物を膨潤剤中で再膨潤させる手順を示す。
1.A部の成分を混合する。
2.成分7及び8を予め混合し、B部の残りの成分と混合する。A部混合物とB部混合物を混合する。
1.成分7及び8を部分的に混合してプレミックスを得る。
2.成分7の残りに成分9を均一になるまで分散させ、水を加える。10分間均質化する。
3.均質なA+B混合物が得られるまで、A部及び残りの成分8を攪拌しながらB部に加える。
1.A部を混合し、80℃に加熱する。
2.A部を混合し、80℃に加熱する;A部にB部をゆっくりと添加する。
3.C部を混合し、A+B混合物に加える。A+B+C混合物を短時間均質化し、攪拌する。
1.成分1と成分2を予め混合し、A部の他の成分と混合する。75℃に加熱する。
2.B部の成分を混合し、75℃に加熱する。A部とB部を混合する。
3.A+B混合物を45℃に冷却し、攪拌しながらそこにC部を加える。
1.A部の成分を混合する。
2.A部にB部の成分を順に追加する。
1.成分1と成分2を予め混合し、A部の他の成分と混合し、80℃に加熱する。
2.B部の成分を混合し、80℃に加熱する。A部とB部を混合する。
3.45℃に冷却し、攪拌しながらC部をA+B部に加える。
1.A部を70~75℃に加熱し、均一になるまで混合する。
2.B部をA部に加え、A+B混合物を均質化する。
3.C部をA+B混合物に添加し、A+B+C混合物を均質化する。
4.D部をA+B+C混合物に加え、均一になるまでA+B+C+D混合物を均質化する。
5.A+B+C+D混合物を40~45℃に冷却し、E部を加え、よく混合する。
以下の表3は、アクリロイルジメチルタウリン/ビニルピロリドンコポリマー水性増粘剤(クラリアント社のAristoflex)を用いて調製された、幾つかのスキンクリーム組成物の処方例を示す。実施例15~21は、実施例1の架橋ポリオルガノシロキサンO/Wゲルエマルションのソフトフォーカス(光拡散)効果を示し、実施例16、20及び21は該エマルションと窒化ホウ素粉末(Softouch CC9097、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社)の組み合わせのソフトフォーカス効果を実証する。比較例1は対照スキンクリーム配合物として提供され、したがってソフトフォーカス効果添加剤を含まない。比較例2は、カプリリルメチコンとC30~45アルキルセテアリルジメチコン(Velvesil 034、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社)と乳化剤PEG-8ジメチコン(Silsoft 840、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社)との混合物のソフトフォーカス効果を実証する。
Claims (24)
- (a)≧2のフリーラジカル重合可能な基及び0若しくは≧1のヒドロシリル基を含むポリオルガノシロキサンI、および、0若しくは≧1のフリーラジカル重合可能な基及び≧1のヒドロシリル基を含むポリオルガノシロキサンIIの、乳化重合反応の下でのフリーラジカル開始付加重合から得られる架橋ポリオルガノシロキサンO/Wゲルエマルション、(b)貴金属を実質的に欠いた架橋ポリオルガノシロキサンO/Wゲルエマルション(a)、(c)架橋ポリオルガノシロキサンO/Wゲルエマルション(a)の濃縮物、及び(d)架橋ポリオルガノシロキサンO/Wゲルエマルション(b)の濃縮物からなる群より選ばれる少なくとも1種を含む、架橋ポリオルガノシロキサン。
- デュロメーターで測定した、JIS K6253規格によるタイプA硬度として表される10~90の架橋密度;レオメトリーにより測定された500~50,000Paの貯蔵弾性率;及びミリスチン酸イソプロピル中で測定された600重量/重量%を超えない最大膨潤度のうち、少なくとも1つの特性を示す、請求項1に記載の架橋ポリオルガノシロキサン。
- デュロメーターで測定した、JIS K6253規格によるタイプA硬度として表される架橋密度が、貴金属ヒドロシリル化触媒の存在下で同じ数の官能基を有する同じ重量の量のポリオルガノシロキサン反応物のヒドロシリル化によって調製された、既知の架橋ポリオルガノシロキサンO/Wゲルの架橋密度よりも少なくとも5%大きいこと;レオメトリーによって測定される貯蔵弾性率G'が前記既知の架橋ポリオルガノシロキサンO/Wゲルエマルションの貯蔵弾性率よりも少なくとも10%大きいこと;及びミリスチン酸イソプロピル中における最大膨潤度が、前記既知の架橋ポリオルガノシロキサンO/Wゲルエマルションの最大膨潤度よりも少なくとも5%小さいことのうち、少なくとも1つの特性を示す、請求項1に記載の架橋ポリオルガノシロキサン。
- 架橋ポリオルガノシロキサンIが一般式(I)で表される、請求項1に記載の架橋ポリオルガノシロキサン。
MaMH bMV cM”dM* eDfDH gDV hD”iD* jTkTH lTV mT”nT* oQp (I)
M=R1R2R3SiO1/2;
MH=R4R5HSiO1/2;
MV=R6R7R8SiO1/2;
M”=R9R10R22SiO1/2;
M*=R11R12R23SiO1/2;
D=R13R14SiO2/2;
DH=R15HSiO2/2;
DV=R16R17SiO2/2;
D”=R18R22SiO2/2;
D*=R19R23SiO2/2;
T=R20SiO3/2;
TH=HSiO3/2;
TV=R21SiO3/2;
T”=R22SiO3/2;
T*=R23SiO3/2;
Q=SiO4/2
式中、R1、R2、R3、R4、R5、R7、R8、R13、R14、R15、R17及びR20はそれぞれ独立して、炭素数60までの1価の炭化水素基;R6、R16及びR21はそれぞれ独立してフリーラジカル重合性基;R9、R10及びR18はそれぞれ独立して、炭素数60までの1価の炭化水素基又はR22であり;各々のR22は独立して、炭素数60までの1価のアルコキシ基であり、また任意選択的に少なくとも1個のイオン性基を含み;R11、R12及びR19はそれぞれ独立して炭素数60までの1価の炭化水素基又はR23であり;各々のR23は独立して1以上のエーテル部位を有し、合計で2~200個の炭素原子を有する1以上のアルキレンオキシ基が結合している、炭素数3~6の2価のアルキレン基であり;下付き文字a、b、c、d、e、f、g、h、i、j、k、l、m、n、o及びpはそれぞれ独立して0又は正の数であり、但しc+h+m≧2であり;そして
ポリオルガノシロキサンIIは、ポリオルガノシロキサンIと同様に定義されるが、c+h+mは0又は1であり、且つb+g+l≧1であり、ポリオルガノシロキサンIIのR1~R23と添え字a~pは、ポリオルガノシロキサンIのR1~R23と添え字a~pとは独立して選択される。 - ポリオルガノシロキサンIが、以下からなる群より選択される少なくとも1種である、請求項4に記載の架橋ポリオルガノシロキサン。
MV cDfDV hM2-c I(e)
式中、MV、D、DV及びMは前に定義した通りであり、添字c、f及びhは0又は正の数であり、但しfは0~2000、hは0~500、cは0~2、c+hは2~500である;
MV cQp I(g)
式中、MV及びQは前に定義した通りであり、添字c及びpは0又は正の数であり、但しc≧1、p≧1、c+pが2~100であり;
MH bMV cDfDH gDV hM2-b I(h)
式中、MH、MV、D、DH、DV及びMは前に定義した通りであり、b、c、f、g及びhは0又は正の数であり、但しfは1~1000、bは0又は1、cは0~2、b+gは1、c+hは2~500であり;
DfDV h I(i)
式中、D及びDVは先に定義した通りであり、添字f及びhは0又は正の数であり、但しf+hが3~8である。 - ポリオルガノシロキサンI(e)において、fは10~1000、hは0~100、c+hは2~100、MVとDV部分はそれぞれ独立してビニル基、アリル基、メタリル基、アクリレート基及び/又はアルカクリレート基を含み;
ポリオルガノシロキサンI(g)において、c≧2、p≧2、c+pは4~40、MV部分はそれぞれ独立してビニル基、メタリル基、アクリレート基及び/又はアルカクリレート基を含み;
ポリオルガノシロキサンI(h)において、fは10~300、c+hは2~100、MVとDV部分はそれぞれ独立して、ビニル基、アリル基、メタリル基、アクリレート基及び/又はアルカクリレート基を含み;そして
ポリオルガノシロキサンI(i)において、f+hは3~6、DV部分はそれぞれ独立して、ビニル基、アリル基、メタリル基、アクリレート基及び/又はアルカクリレート基を含む、請求項7に記載の架橋ポリオルガノシロキサン。 - ポリオルガノシロキサンI(e)において、fは10~500、hは0~50、c+hは2~50、MVとDV部分はそれぞれ独立してビニル基を含み;
ポリオルガノシロキサンI(g)において、c≧3、p≧3、c+pは6~20、MV部分はそれぞれ独立してビニル基を含み;
ポリオルガノシロキサンI(h)において、fは10~100、c+hは2~50、MVとDV部分はそれぞれ独立してビニル基を含み;
ポリオルガノシロキサンI(i)において、f+hは3~5、DV部分はそれぞれ独立
してビニル基を含む、請求項7に記載の架橋ポリオルガノシロキサン。 - ポリオルガノシロキサンIIが、以下の群から選択される1種以上である、請求項4に記載の架橋ポリオルガノシロキサン。
MH bDfDH gM2-b II(a)
式中、MH、D、DH及びMは前に定義した通りであり、添字b、f及びgは0又は正の数であり、但しfは10~300、gは0~50、bは0~2、b+gは1~52であり;
MH bDfDH gD* jM2-b II(b)
式中、MH、D、D*、DH及びMは前に定義した通りであり、添字b、f、g及びjは0又は正の数であり、但しbは0~2、gは0~50、jは0.1~50、fは0~500、b+gは1~52であり;
MH bQpM2-b II(c)
式中、MH、Q及びMは前に定義した通りであり、b及びpは0又は正の数であり、但しb≧1、p≧1、b+pは2~40であり;
MH bDfD”iDH gM2-b II(d)
式中、MH、D、D”、DH及びMは前に定義した通りであり、b、f、i及びgは0又は正の数であり、但しfは10~50、iは0~20、b+gは1~100であり;
MH bMV cDfDH gDV hM2-b II(e)
式中、MH、MV、D、DH、DV及びMは前に定義した通りであり、b、c、f、g及びhは0又は正の数であり、但しfは1~300、b+g≧1、c+hは1~100であり;
DfDH gDV h II(f)
式中、D、DH及びDVは前に定義した通りであり、f、g及びhは0又は正の数であり、但しf+g+hは3~7である。 - ポリオルガノシロキサンII(a)において、fは10~30、gは1~30、b+gは1~32;
ポリオルガノシロキサンII(b)において、gは1~30、jは0.1~8、fは10~150、b+gは1~32;
ポリオルガノシロキサンII(c)において、b≧3、p≧3、b+pは6~20;
ポリオルガノシロキサンII(d)において、fは10~40、iは1~8、b+gは1~14;
ポリオルガノシロキサンII(e)において、fは10~30、b+g≧2、c+hは1~100;そして
ポリオルガノシロキサンII(f)において、f+g+hは3~6である、請求項10に記載の架橋ポリオルガノシロキサン。 - ポリオルガノシロキサンII(a)において、fは10~25、gは2~10、b+gは2~12;
ポリオルガノシロキサンII(b)において、gは2~10、jは0.1~6、fは10~125、b+gは2~12;
ポリオルガノシロキサンII(c)において、b≧3、p≧3、b+pは6~18;
ポリオルガノシロキサンII(d)において、fは10~35、b+gは1~10;
ポリオルガノシロキサンII(e)において、fは10~24、b+g≧3;
ポリオルガノシロキサンII(f)において、f+g+hは3~5、DVはビニル基である、請求項10に記載の架橋ポリオルガノシロキサン。 - 請求項1に記載の架橋ポリオルガノシロキサンを含むパーソナルケア組成物。
- 請求項2に記載の架橋ポリオルガノシロキサンを含むパーソナルケア組成物。
- 請求項3に記載の架橋ポリオルガノシロキサンを含むパーソナルケア組成物。
- 請求項4に記載の架橋ポリオルガノシロキサンを含むパーソナルケア組成物。
- 消臭剤、制汗剤、制汗剤/消臭剤、スティック及びロールオン調製物、スキンローション、保湿剤、トナー、クレンジング調製物、スタイリングジェル、染毛剤、ヘアカラー調製物、ヘアストレートナー、ネイルポリッシュ、ネイルポリッシュリムーバー、日焼け止め剤、アンチエイジング剤、リップスティック、リップバーム、リップグロス、ファンデーション、フェイスパウダー、アイライナー、アイシャドー、頬紅、メイクアップ、美容クリーム、マスカラ、保湿調製剤、ファンデーション、コンシーラー、ボディーアンドハンドプレパレーション、スキンケアプレパレーション、フェイスアンドネックプレパレーション、フレグランスプレパレーション、ソフトフォーカスプレパレーション、日中スキンケアプレパレーション、日焼けプレパレーション、ハンドリキッド、パーソナルケア用不織布、ティッシュペーパー、ベビーローション、フェイシャルクレンジング製剤、ヘアキューティクルコート、ジェル、フォームバス、ボディーウォッシュ、スクラブクレンザー、徐放性パーソナルケア製剤、ヘアシャンプー、ヘアコンディショナー、ヘアスプレー、スキンケア保湿ミスト、スキンワイプ、ポアスキンワイプ、ポアクリーナー、傷み防止剤、皮膚剥離剤、皮膚落屑増強剤、抗ニキビ製剤、皮膚タオル、スキンクロス、脱毛剤、パーソナルケア潤滑剤、ネイルカラーリング及び局所的に適用される治療薬と医薬品用の薬物送達システムからなる群から選択される請求項13に記載のパーソナルケア組成物。
- 消臭剤、制汗剤、制汗剤/消臭剤、スティック及びロールオン調製物、スキンローション、保湿剤、トナー、クレンジング調製物、スタイリングジェル、染毛剤、ヘアカラー調製物、ヘアストレートナー、ネイルポリッシュ、ネイルポリッシュリムーバー、日焼け止め剤、アンチエイジング剤、リップスティック、リップバーム、リップグロス、ファンデーション、フェイスパウダー、アイライナー、アイシャドー、頬紅、メイクアップ、美容クリーム、マスカラ、保湿調製剤、ファンデーション、コンシーラー、ボディーアンドハンドプレパレーション、スキンケアプレパレーション、フェイスアンドネックプレパレーション、フレグランスプレパレーション、ソフトフォーカスプレパレーション、日中スキンケアプレパレーション、日焼けプレパレーション、ハンドリキッド、パーソナルケア用不織布、ティッシュペーパー、ベビーローション、フェイシャルクレンジング製剤、ヘアキューティクルコート、ジェル、フォームバス、ボディーウォッシュ、スクラブクレンザー、徐放性パーソナルケア製剤、ヘアシャンプー、ヘアコンディショナー、ヘアスプレー、スキンケア保湿ミスト、スキンワイプ、ポアスキンワイプ、ポアクリーナー、傷み防止剤、皮膚剥離剤、皮膚落屑増強剤、抗ニキビ製剤、皮膚タオル、スキンクロス、脱毛剤、パーソナルケア潤滑剤、ネイルカラーリング及び局所的に適用される治療薬と医薬品用の薬物送達システムからなる群から選択される請求項14に記載のパーソナルケア組成物。
- 消臭剤、制汗剤、制汗剤/消臭剤、スティック及びロールオン調製物、スキンローション、保湿剤、トナー、クレンジング調製物、スタイリングジェル、染毛剤、ヘアカラー調製物、ヘアストレートナー、ネイルポリッシュ、ネイルポリッシュリムーバー、日焼け止め剤、アンチエイジング剤、リップスティック、リップバーム、リップグロス、ファンデーション、フェイスパウダー、アイライナー、アイシャドー、頬紅、メイクアップ、美容クリーム、マスカラ、保湿調製剤、ファンデーション、コンシーラー、ボディーアンドハンドプレパレーション、スキンケアプレパレーション、フェイスアンドネックプレパレーション、フレグランスプレパレーション、ソフトフォーカスプレパレーション、日中スキンケアプレパレーション、日焼けプレパレーション、ハンドリキッド、パーソナルケア用不織布、ティッシュペーパー、ベビーローション、フェイシャルクレンジング製剤、ヘアキューティクルコート、ジェル、フォームバス、ボディーウォッシュ、スクラブクレンザ
ー、徐放性パーソナルケア製剤、ヘアシャンプー、ヘアコンディショナー、ヘアスプレー、スキンケア保湿ミスト、スキンワイプ、ポアスキンワイプ、ポアクリーナー、傷み防止剤、皮膚剥離剤、皮膚落屑増強剤、抗ニキビ製剤、皮膚タオル、スキンクロス、脱毛剤、パーソナルケア潤滑剤、ネイルカラーリング及び局所的に適用される治療薬と医薬品用の薬物送達システムからなる群から選択される請求項15に記載のパーソナルケア組成物。 - 消臭剤、制汗剤、制汗剤/消臭剤、スティック及びロールオン調製物、スキンローション、保湿剤、トナー、クレンジング調製物、スタイリングジェル、染毛剤、ヘアカラー調製物、ヘアストレートナー、ネイルポリッシュ、ネイルポリッシュリムーバー、日焼け止め剤、アンチエイジング剤、リップスティック、リップバーム、リップグロス、ファンデーション、フェイスパウダー、アイライナー、アイシャドー、頬紅、メイクアップ、美容クリーム、マスカラ、保湿調製剤、ファンデーション、コンシーラー、ボディーアンドハンドプレパレーション、スキンケアプレパレーション、フェイスアンドネックプレパレーション、フレグランスプレパレーション、ソフトフォーカスプレパレーション、日中スキンケアプレパレーション、日焼けプレパレーション、ハンドリキッド、パーソナルケア用不織布、ティッシュペーパー、ベビーローション、フェイシャルクレンジング製剤、ヘアキューティクルコート、ジェル、フォームバス、ボディーウォッシュ、スクラブクレンザー、徐放性パーソナルケア製剤、ヘアシャンプー、ヘアコンディショナー、ヘアスプレー、スキンケア保湿ミスト、スキンワイプ、ポアスキンワイプ、ポアクリーナー、傷み防止剤、皮膚剥離剤、皮膚落屑増強剤、抗ニキビ製剤、皮膚タオル、スキンクロス、脱毛剤、パーソナルケア潤滑剤、ネイルカラーリング及び局所的に適用される治療薬と医薬品用の薬物送達システムからなる群から選択される請求項16に記載のパーソナルケア組成物。
- 請求項1に記載の架橋ポリオルガノシロキサンと少なくとも1種の他のソフトフォーカス効果添加剤とを含むソフトフォーカス効果組成物。
- 請求項4に記載の架橋ポリオルガノシロキサンと少なくとも1種の他のソフトフォーカス効果添加剤とを含むソフトフォーカス効果組成物。
- ソフトフォーカス効果を与える量の請求項21に記載のソフトフォーカス効果組成物を含む、ソフトフォーカス効果を示すパーソナルケア組成物。
- ソフトフォーカス効果を与える量の請求項22に記載のソフトフォーカス効果組成物を含む、ソフトフォーカス効果を示すパーソナルケア組成物。
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