JP7247067B2 - 濃度監視システム、濃度管理システムおよび濃度監視方法 - Google Patents
濃度監視システム、濃度管理システムおよび濃度監視方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7247067B2 JP7247067B2 JP2019174990A JP2019174990A JP7247067B2 JP 7247067 B2 JP7247067 B2 JP 7247067B2 JP 2019174990 A JP2019174990 A JP 2019174990A JP 2019174990 A JP2019174990 A JP 2019174990A JP 7247067 B2 JP7247067 B2 JP 7247067B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- concentration
- valve
- densitometer
- chemical
- pump
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 title claims description 75
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 17
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 118
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 80
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 70
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 57
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims description 16
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 claims 3
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 156
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 78
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 17
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 13
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 11
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 11
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 8
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 7
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 7
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 7
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 6
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 5
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 5
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 5
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 4
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 3
- 238000001739 density measurement Methods 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N35/00—Automatic analysis not limited to methods or materials provided for in any single one of groups G01N1/00 - G01N33/00; Handling materials therefor
- G01N35/00584—Control arrangements for automatic analysers
- G01N35/00594—Quality control, including calibration or testing of components of the analyser
- G01N35/00613—Quality control
- G01N35/00623—Quality control of instruments
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N33/00—Investigating or analysing materials by specific methods not covered by groups G01N1/00 - G01N31/00
- G01N33/18—Water
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D11/00—Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
- C25D11/02—Anodisation
- C25D11/04—Anodisation of aluminium or alloys based thereon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D11/00—Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
- C25D11/02—Anodisation
- C25D11/04—Anodisation of aluminium or alloys based thereon
- C25D11/06—Anodisation of aluminium or alloys based thereon characterised by the electrolytes used
- C25D11/08—Anodisation of aluminium or alloys based thereon characterised by the electrolytes used containing inorganic acids
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N29/00—Investigating or analysing materials by the use of ultrasonic, sonic or infrasonic waves; Visualisation of the interior of objects by transmitting ultrasonic or sonic waves through the object
- G01N29/02—Analysing fluids
- G01N29/024—Analysing fluids by measuring propagation velocity or propagation time of acoustic waves
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N33/00—Investigating or analysing materials by specific methods not covered by groups G01N1/00 - G01N31/00
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N35/00—Automatic analysis not limited to methods or materials provided for in any single one of groups G01N1/00 - G01N33/00; Handling materials therefor
- G01N35/00584—Control arrangements for automatic analysers
- G01N35/00594—Quality control, including calibration or testing of components of the analyser
- G01N35/00613—Quality control
- G01N35/00663—Quality control of consumables
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N35/00—Automatic analysis not limited to methods or materials provided for in any single one of groups G01N1/00 - G01N33/00; Handling materials therefor
- G01N35/00584—Control arrangements for automatic analysers
- G01N35/00594—Quality control, including calibration or testing of components of the analyser
- G01N35/00693—Calibration
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N35/00—Automatic analysis not limited to methods or materials provided for in any single one of groups G01N1/00 - G01N33/00; Handling materials therefor
- G01N35/00584—Control arrangements for automatic analysers
- G01N35/00594—Quality control, including calibration or testing of components of the analyser
- G01N35/00613—Quality control
- G01N35/00663—Quality control of consumables
- G01N2035/00673—Quality control of consumables of reagents
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Pathology (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Quality & Reliability (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Food Science & Technology (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Acoustics & Sound (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Ultrasonic Waves (AREA)
Description
本開示は、濃度監視システム、濃度管理システムおよび濃度監視方法に関する。
アルミ、チタンなどの航空機部材の表面処理を行うラインには、脱脂、洗浄、エッチング、皮膜などの処理工程が存在する。各処理工程では、処理液の薬品の濃度を管理する必要がある。例えば、アノダイズ処理によって皮膜を形成する工程では、処理液中のリン酸濃度を、中和滴定法やアルミニウム分析法などの方法により手作業で計測し、濃度管理を行う。
なお、特許文献１には、半導体基板の表面洗浄工程における処理液中の各物質の濃度を測定する方法が開示されている。特許文献１の測定方法では、処理液中の特定物質に反応して化学発光する発光物質を処理液に加えて発光させ、その発光光度に基づいて、特定物質の濃度を測定する。
上記のようにリン酸濃度の計測は、手分析によって行うことが多い。処理液のリン酸濃度を、常に定められた範囲内に維持するためには、連続的、継続的な濃度監視が必要である。しかし、手作業による濃度計測には時間が掛かり、定期的に濃度計測を行ったとしても、連続的な監視は難しい。また、処理槽の処理液濃度は、対象製品の処理数、処理時間、上流側の他の処理工程の影響を受ける。例えば、製品の処理数が急激に増加すれば、処理液濃度の変化も急激になる。しかし、手作業による濃度計測では、このような変化に対応しきれない可能性がある。
本開示は、上記課題を解決することができる濃度監視システム、濃度管理システムおよび濃度監視方法を提供する。
本開示の濃度監視システムは、薬品が添加された処理液を貯留する処理槽から前記処理液のサンプルを採取して前記薬品の濃度を計測する濃度計へ供給する第１サイクルと、前記薬品の濃度が既知の薬液を前記濃度計へ供給する第２サイクルと、前記第１サイクルを制御して前記濃度計が計測した前記サンプルの濃度に基づいて前記処理槽の前記薬品の濃度を評価し、前記第２サイクルを制御して前記濃度計が計測した前記薬液の濃度に基づいて前記濃度計の精度を評価する制御装置と、を備え、前記第１サイクルは、前記処理槽と前記濃度計の入口側を接続する第1の配管と、前記処理槽と前記濃度計の出口側を接続する第２の配管とを含み、前記第1の配管には第１のポンプと第１の弁が設けられ、前記第２の配管には第２の弁が設けられ、前記第２サイクルは、前記薬品の濃度が既知の薬液を貯留する標準薬液槽と前記濃度計の入口側を接続する第３の配管と、前記標準薬液槽と前記濃度計の出口側を接続する第４の配管とを含み、前記第３の配管には第３のポンプと第３の弁が設けられ、前記第４の配管には第４の弁が設けられ、前記制御装置は、前記処理槽の前記薬品の濃度を評価するときには前記第１の弁および前記第２の弁を開とし、前記第３の弁および前記第４の弁を閉とし、前記第１のポンプを起動し、前記第３のポンプを停止し、前記標準薬液槽の前記薬品の濃度を評価するときには前記第３の弁および前記第４の弁を開とし、前記第１の弁および前記第２の弁を閉とし、前記第３のポンプを起動し、前記第１のポンプを停止する。
本開示の濃度管理システムは、上記の濃度監視システムと、前記濃度監視システムが、前記処理槽の前記濃度が異常であると評価した場合、前記薬品または前記薬品の希釈液を前記処理槽に添加する自動添加システムと、を備える。
また、本開示の濃度監視方法は、薬品が添加された処理液を貯留する処理槽と濃度計の入口側を接続する第1の配管と、前記処理槽と前記濃度計の出口側を接続する第２の配管とを含み、前記第1の配管には第１のポンプと第１の弁が設けられ、前記第２の配管には第２の弁が設けられる第１のサイクルと、前記薬品の濃度が既知の薬液を貯留する標準薬液槽と前記濃度計の入口側を接続する第３の配管と、前記標準薬液槽と前記濃度計の出口側を接続する第４の配管とを含み、前記第３の配管には第３のポンプと第３の弁が設けられ、前記第４の配管には第４の弁が設けられる第２サイクルと、を含む濃度監視システムにおいて、前記第１の弁および前記第２の弁を開とし、前記第３の弁および前記第４の弁を閉とし、前記第１のポンプを起動し、前記第３のポンプを停止し、前記処理槽から前記処理液のサンプルを採取して前記薬品の濃度を計測する濃度計へ供給して、前記処理槽の前記薬品の濃度を評価し、前記サンプルが前記濃度計へ供給されていない間に、前記第３の弁および前記第４の弁を開とし、前記第１の弁および前記第２の弁を閉とし、前記第３のポンプを起動し、前記第１のポンプを停止し、前記薬品の濃度が既知の薬液を前記濃度計へ供給し、前記濃度計が計測した前記薬液の濃度に基づいて前記濃度計の精度を評価する。
上述の濃度監視システム、濃度管理システムおよび濃度監視方法によれば、処理液濃度の監視を継続して連続的に行うことができる。
＜実施形態＞
以下、一実施形態に係る濃度監視システムおよび濃度管理システムについて、図１～図６を参照しながら説明する。
（システム構成）
図１は、一実施形態に係る濃度監視システムを含む表面処理ラインの概要図である。
図１に例示する表面処理ライン（例えば、航空機部材の表面処理ライン）は、全体工程のうちアノダイズ処理を行う工程を抜粋したものである。アノダイズ処理のラインには、リン酸処理槽２、１次水洗処理槽３、２次水洗処理槽４などの複数の処理槽が設置されている。図示しないクレーンは、アルミを材料とする製品５を保持し、リン酸処理槽２、１次水洗処理槽３、２次水洗処理槽４の順に搬送し、製品５を各処理槽の処理液へ浸漬させる。例えば、リン酸処理槽２には、リン酸が希釈された処理液が貯留されており、製品５をリン酸処理槽２に浸漬させて皮膜処理を行う。その後、製品５は、純水が貯留された１次水洗処理槽３および２次水洗処理槽４にて洗浄される。各処理槽の処理液に浸漬されつつ移動することで、製品５に対するアノダイズ処理（皮膜処理）が実行される。リン酸処理槽２には、濃度監視システム１が接続されている。濃度監視システム１は、リン酸処理槽２の処理液を採取し、リン酸処理槽２の処理液のリン酸濃度を監視する。
以下、一実施形態に係る濃度監視システムおよび濃度管理システムについて、図１～図６を参照しながら説明する。
（システム構成）
図１は、一実施形態に係る濃度監視システムを含む表面処理ラインの概要図である。
図１に例示する表面処理ライン（例えば、航空機部材の表面処理ライン）は、全体工程のうちアノダイズ処理を行う工程を抜粋したものである。アノダイズ処理のラインには、リン酸処理槽２、１次水洗処理槽３、２次水洗処理槽４などの複数の処理槽が設置されている。図示しないクレーンは、アルミを材料とする製品５を保持し、リン酸処理槽２、１次水洗処理槽３、２次水洗処理槽４の順に搬送し、製品５を各処理槽の処理液へ浸漬させる。例えば、リン酸処理槽２には、リン酸が希釈された処理液が貯留されており、製品５をリン酸処理槽２に浸漬させて皮膜処理を行う。その後、製品５は、純水が貯留された１次水洗処理槽３および２次水洗処理槽４にて洗浄される。各処理槽の処理液に浸漬されつつ移動することで、製品５に対するアノダイズ処理（皮膜処理）が実行される。リン酸処理槽２には、濃度監視システム１が接続されている。濃度監視システム１は、リン酸処理槽２の処理液を採取し、リン酸処理槽２の処理液のリン酸濃度を監視する。
図２は、一実施形態に係る濃度監視システムの一例を示す構成図である。
濃度監視システム１は、処理液の濃度を監視するための機構である第１サイクルと、濃度が既知の薬液によって濃度計Ｃ１の計測精度を検査するための機構である第２サイクルと、純水によって濃度計Ｃ１の０点を検査するための機構である第３サイクルと、各サイクルを制御する制御装置２０と、を備える。
濃度監視システム１は、処理液の濃度を監視するための機構である第１サイクルと、濃度が既知の薬液によって濃度計Ｃ１の計測精度を検査するための機構である第２サイクルと、純水によって濃度計Ｃ１の０点を検査するための機構である第３サイクルと、各サイクルを制御する制御装置２０と、を備える。
第１サイクルは、ストレーナＳＴと、ポンプＰ１～Ｐ２と、手動弁Ｖ１～Ｖ３、Ｖ８と、電磁弁ＥＶ１、Ｅ５と、濃度計Ｃ１と、流量計Ｃ２と、これらを接続する配管Ｌ１、Ｌ２、Ｌ４，Ｌ５、Ｌ６、Ｌ７、Ｌ８、Ｌ１０を含んで構成される。
第２サイクルは、標準薬液槽１１と、ポンプＰ３と、手動弁Ｖ４～Ｖ５、Ｖ８と、電磁弁ＥＶ２、Ｅ４と、濃度計Ｃ１と、流量計Ｃ２と、これらを接続する配管Ｌ１１、Ｌ１２、Ｌ６、Ｌ７、Ｌ８、Ｌ１３を含んで構成される。
第３サイクルは、純水槽１２と、ポンプＰ４と、手動弁Ｖ６～Ｖ７、Ｖ８と、電磁弁ＥＶ３、Ｅ６と、濃度計Ｃ１と、流量計Ｃ２と、これらを接続する配管Ｌ１４、Ｌ１５、Ｌ５、Ｌ６、Ｌ７、Ｌ８、Ｌ９を含んで構成される。
制御装置２０は、ポンプＰ１～Ｐ４と接続されていて、ポンプＰ１～Ｐ４の動作を制御する。制御装置２０は、電磁弁ＥＶ１～ＥＶ６と接続されていて、電磁弁ＥＶ１～ＥＶ６の開度を制御する。制御装置２０は、濃度計Ｃ１、流量計Ｃ２と接続されていて各センサが計測した値を取得する。また、制御装置２０は、モニタ、ランプ、ブザー等の通知手段と接続されていて、リン酸処理槽２の処理液のリン酸濃度に異常があると、その異常の発生を、通知手段を通じて監視員に通知する。
（第１サイクル）
ポンプＰ１は、リン酸処理槽２に接続された配管Ｌ１を通じて、リン酸処理槽２から処理液のサンプルを濃度監視システム１へ引き込む循環用のポンプである。ポンプＰ１が吸引した処理液は、ポンプＰ１の出口側に接続された配管Ｌ２へ送られる。配管Ｌ２には、ストレーナＳＴ、手動弁Ｖ１、ポンプＰ２、電磁弁ＥＶ１が設けられている。手動弁Ｖ１は、通常、開状態とされており、ポンプＰ１が吸引した処理液サンプルは、ストレーナＳＴでろ過されて、配管Ｌ２を通じてポンプＰ２へ供給される。配管Ｌ２には、ポンプＰ２をバイパスする配管Ｌ３が接続され、配管Ｌ３には手動弁Ｖ２が設けられている。手動弁Ｖ２は、ポンプＰ２を流れる処理液サンプルの流量を調整するためのバルブである。手動弁Ｖ２は、通常、所定の開度とされている。配管Ｌ２のポンプＰ２の出口側には、処理液サンプルをリン酸処理槽２へ還流する配管Ｌ１０に導く配管Ｌ４が接続され、配管Ｌ４には手動弁Ｖ３が設けられている。例えば、濃度監視システム１のメンテナンスなどを行う場合、一時的に手動弁Ｖ３を開とすることにより、処理液サンプルを濃度計Ｃ１へ流すことなく、リン酸処理槽２へ還流できるようになっている。電磁弁ＥＶ１は、濃度センサＳ１へ供給する処理液サンプルの流量を調整するバルブである。配管Ｌ２は配管Ｌ５と接続し、配管Ｌ５は配管Ｌ６と接続する。配管Ｌ６には流量計Ｃ２が設けられており、配管Ｌ６は濃度計Ｃ１と接続する。配管Ｌ２の電磁弁ＥＶ１を通過した処理液サンプルは、配管Ｌ５、Ｌ６、流量計Ｃ２、配管Ｌ６を通過して濃度計Ｃ１へ供給される。濃度計Ｃ１は、供給された処理液サンプルのリン酸濃度を計測する。濃度計Ｃ１の出口側には配管Ｌ７が接続し、配管Ｌ７は配管Ｌ８、Ｌ９、Ｌ１０、Ｌ１３と接続する。計測後の処理液サンプルは、濃度計Ｃ１を出て配管Ｌ７、Ｌ１０を通過して元のリン酸処理槽２へ戻される。なお、配管Ｌ１０には、処理液サンプルの流量を調整する電磁弁ＥＶ５が設けられている。また、濃度計Ｃ１をバイパスする配管Ｌ８が配管Ｌ６と配管Ｌ７に接続されている。配管Ｌ８には、手動弁Ｖ８が設けられている。手動弁Ｖ８は、濃度計Ｃ１を流れる処理液サンプル等の流量を調整するためのバルブである。
ポンプＰ１は、リン酸処理槽２に接続された配管Ｌ１を通じて、リン酸処理槽２から処理液のサンプルを濃度監視システム１へ引き込む循環用のポンプである。ポンプＰ１が吸引した処理液は、ポンプＰ１の出口側に接続された配管Ｌ２へ送られる。配管Ｌ２には、ストレーナＳＴ、手動弁Ｖ１、ポンプＰ２、電磁弁ＥＶ１が設けられている。手動弁Ｖ１は、通常、開状態とされており、ポンプＰ１が吸引した処理液サンプルは、ストレーナＳＴでろ過されて、配管Ｌ２を通じてポンプＰ２へ供給される。配管Ｌ２には、ポンプＰ２をバイパスする配管Ｌ３が接続され、配管Ｌ３には手動弁Ｖ２が設けられている。手動弁Ｖ２は、ポンプＰ２を流れる処理液サンプルの流量を調整するためのバルブである。手動弁Ｖ２は、通常、所定の開度とされている。配管Ｌ２のポンプＰ２の出口側には、処理液サンプルをリン酸処理槽２へ還流する配管Ｌ１０に導く配管Ｌ４が接続され、配管Ｌ４には手動弁Ｖ３が設けられている。例えば、濃度監視システム１のメンテナンスなどを行う場合、一時的に手動弁Ｖ３を開とすることにより、処理液サンプルを濃度計Ｃ１へ流すことなく、リン酸処理槽２へ還流できるようになっている。電磁弁ＥＶ１は、濃度センサＳ１へ供給する処理液サンプルの流量を調整するバルブである。配管Ｌ２は配管Ｌ５と接続し、配管Ｌ５は配管Ｌ６と接続する。配管Ｌ６には流量計Ｃ２が設けられており、配管Ｌ６は濃度計Ｃ１と接続する。配管Ｌ２の電磁弁ＥＶ１を通過した処理液サンプルは、配管Ｌ５、Ｌ６、流量計Ｃ２、配管Ｌ６を通過して濃度計Ｃ１へ供給される。濃度計Ｃ１は、供給された処理液サンプルのリン酸濃度を計測する。濃度計Ｃ１の出口側には配管Ｌ７が接続し、配管Ｌ７は配管Ｌ８、Ｌ９、Ｌ１０、Ｌ１３と接続する。計測後の処理液サンプルは、濃度計Ｃ１を出て配管Ｌ７、Ｌ１０を通過して元のリン酸処理槽２へ戻される。なお、配管Ｌ１０には、処理液サンプルの流量を調整する電磁弁ＥＶ５が設けられている。また、濃度計Ｃ１をバイパスする配管Ｌ８が配管Ｌ６と配管Ｌ７に接続されている。配管Ｌ８には、手動弁Ｖ８が設けられている。手動弁Ｖ８は、濃度計Ｃ１を流れる処理液サンプル等の流量を調整するためのバルブである。
制御装置２０は、リン酸処理槽２から採取した処理液サンプルのリン酸濃度の監視を行う間は、ポンプＰ１、Ｐ２を動作させ、ポンプＰ３、Ｐ４を停止する。制御装置２０は、流量計Ｃ２によって計測される処理液の流量が、所定の範囲となるよう電磁弁ＥＶ１、ＥＶ５の開度を調整する。また、制御装置２０は、電磁弁ＥＶ２、ＥＶ３、ＥＶ４、ＥＶ６を閉に制御する。図２の実線矢印は、第１サイクルを動作させて、リン酸処理槽２の濃度監視を行うときの処理液サンプルの流れを示す。
濃度計Ｃ１は、上記第１サイクルによりリン酸処理槽２から供給された処理液のリン酸濃度を計測する。濃度計Ｃ１は、計測した濃度を制御装置２０へ送信する。制御装置２０は、濃度計Ｃ１が計測したリン酸濃度と、所定の設定値とを比較して両者の差が許容範囲内かどうかを判定する。計測されたリン酸濃度と設定値との差が許容範囲を超える場合、制御装置２０は、リン酸の補充指令等を通知する。
濃度監視システム１は、リン酸処理槽２の処理液の濃度を計測する機構に加え、濃度計Ｃ１の精度を検査するための機構（第２、第３サイクル）を有している。例えば、濃度監視システム１は、リン酸濃度が既知の薬液や純水を濃度計Ｃ１へ供給し、それらの液が供給されたときの濃度計Ｃ１の計測値に基づいて、濃度計Ｃ１の計測精度を検査する。次にこれらの機構について説明する。
（第２サイクル）
標準薬液槽１１には、濃度が既知のリン酸薬液が貯留されている。標準薬液槽１１には薬液を濃度計Ｃ１へ供給するための配管Ｌ１１が接続されている。配管Ｌ１１には、手動弁Ｖ４、標準薬液を吸引するポンプＰ３、濃度計Ｃ１へ供給する標準薬液の流量を調節するための電磁弁ＥＶ２が設けられている。また、配管Ｌ１１には、ポンプＰ３をバイパスする配管Ｌ１２が接続されている。配管Ｌ１２にはポンプＰ３を流れる標準薬液の流量を調整するための手動弁Ｖ５が設けられている。手動弁Ｖ４と手動弁Ｖ５は、所定の開度とされている。また、配管Ｌ１１は配管Ｌ６に接続する。配管Ｌ１１の電磁弁ＥＶ２を通過した標準薬液は、配管Ｌ６、流量計Ｃ２、配管Ｌ６を通過して濃度計Ｃ１へ供給される。濃度計Ｃ１は、供給された標準薬液のリン酸濃度を計測する。計測後の標準薬液は、濃度計Ｃ１を出て配管Ｌ７、Ｌ１３を通過して元の標準薬液槽１１へ戻される。なお、配管Ｌ１３には、標準薬液の流量を調整する電磁弁ＥＶ４が設けられている。制御装置２０は、標準薬液による濃度計Ｃ１の精度検査を行う場合、ポンプＰ１、Ｐ２、Ｐ４を停止させ、ポンプＰ３を動作させる。また、制御装置２０は、流量計Ｃ２が計測する標準薬液の流量が所定の設定値となるよう電磁弁ＥＶ２、ＥＶ４の開度を調整し、電磁弁ＥＶ１、ＥＶ３、ＥＶ５、ＥＶ６を閉とする。標準薬液の流れを破線矢印で示す。
標準薬液槽１１には、濃度が既知のリン酸薬液が貯留されている。標準薬液槽１１には薬液を濃度計Ｃ１へ供給するための配管Ｌ１１が接続されている。配管Ｌ１１には、手動弁Ｖ４、標準薬液を吸引するポンプＰ３、濃度計Ｃ１へ供給する標準薬液の流量を調節するための電磁弁ＥＶ２が設けられている。また、配管Ｌ１１には、ポンプＰ３をバイパスする配管Ｌ１２が接続されている。配管Ｌ１２にはポンプＰ３を流れる標準薬液の流量を調整するための手動弁Ｖ５が設けられている。手動弁Ｖ４と手動弁Ｖ５は、所定の開度とされている。また、配管Ｌ１１は配管Ｌ６に接続する。配管Ｌ１１の電磁弁ＥＶ２を通過した標準薬液は、配管Ｌ６、流量計Ｃ２、配管Ｌ６を通過して濃度計Ｃ１へ供給される。濃度計Ｃ１は、供給された標準薬液のリン酸濃度を計測する。計測後の標準薬液は、濃度計Ｃ１を出て配管Ｌ７、Ｌ１３を通過して元の標準薬液槽１１へ戻される。なお、配管Ｌ１３には、標準薬液の流量を調整する電磁弁ＥＶ４が設けられている。制御装置２０は、標準薬液による濃度計Ｃ１の精度検査を行う場合、ポンプＰ１、Ｐ２、Ｐ４を停止させ、ポンプＰ３を動作させる。また、制御装置２０は、流量計Ｃ２が計測する標準薬液の流量が所定の設定値となるよう電磁弁ＥＶ２、ＥＶ４の開度を調整し、電磁弁ＥＶ１、ＥＶ３、ＥＶ５、ＥＶ６を閉とする。標準薬液の流れを破線矢印で示す。
濃度計Ｃ１は、上記第２サイクルにより標準薬液槽１１から供給された標準薬液のリン酸濃度を計測する。濃度計Ｃ１は、計測した濃度を制御装置２０へ送信する。制御装置２０は、濃度計Ｃ１が計測したリン酸濃度を標準薬液の既知のリン酸濃度と比較して、その差が所定の許容範囲内かどうかを判定する。両者の差が許容範囲内ではない場合、制御装置２０は、濃度計Ｃ１に故障の疑いがあることを通知する。
（第３サイクル）
純水槽１２には、純水が貯留されている。純水槽１２には純水を濃度計Ｃ１へ供給するための配管Ｌ１４が接続されている。配管Ｌ１４には、手動弁Ｖ６、純水を吸引するポンプＰ４、濃度計Ｃ１へ供給する純水の流量を調節するための電磁弁ＥＶ３が設けられている。また、配管Ｌ１４には、ポンプＰ４をバイパスする配管Ｌ１５が接続され、配管Ｌ１５にはポンプＰ４を流れる純水の流量を調整するための手動弁Ｖ７が設けられている。手動弁Ｖ６と手動弁Ｖ７は、所定の開度とされている。配管Ｌ１４は、配管Ｌ５に接続する。配管Ｌ１４の電磁弁ＥＶ３を通過した純水は、配管Ｌ５、Ｌ６、流量計Ｃ２、配管Ｌ６を通過して濃度計Ｃ１へ供給される。濃度計Ｃ１は、供給された純水のリン酸の濃度を計測する。計測後の純水は、濃度計Ｃ１を出て配管Ｌ７、Ｌ９を通過して破棄される。配管Ｌ９には、破棄する純水の流量を調整する電磁弁ＥＶ６が設けられている。なお、純水槽１２には、貯留されている純水の量を検出するフローセンサＣ３が設けられている。純水の量が所定値よりも低下した場合、純水槽１２には、図示しない純水タンクから純水が供給される。制御装置２０は、純水による濃度計Ｃ１の精度検査（０点検査）を行う場合、ポンプＰ１、Ｐ２、Ｐ３を停止させ、ポンプＰ４を動作させる。制御装置２０は、流量計Ｃ２が計測する純水の流量が所定の設定値となるよう電磁弁ＥＶ３、ＥＶ６の開度を調整する。また、制御装置２０は、電磁弁ＥＶ１、ＥＶ２、ＥＶ４、ＥＶ５を閉に制御する。純水の流れを１点鎖線矢印で示す。
純水槽１２には、純水が貯留されている。純水槽１２には純水を濃度計Ｃ１へ供給するための配管Ｌ１４が接続されている。配管Ｌ１４には、手動弁Ｖ６、純水を吸引するポンプＰ４、濃度計Ｃ１へ供給する純水の流量を調節するための電磁弁ＥＶ３が設けられている。また、配管Ｌ１４には、ポンプＰ４をバイパスする配管Ｌ１５が接続され、配管Ｌ１５にはポンプＰ４を流れる純水の流量を調整するための手動弁Ｖ７が設けられている。手動弁Ｖ６と手動弁Ｖ７は、所定の開度とされている。配管Ｌ１４は、配管Ｌ５に接続する。配管Ｌ１４の電磁弁ＥＶ３を通過した純水は、配管Ｌ５、Ｌ６、流量計Ｃ２、配管Ｌ６を通過して濃度計Ｃ１へ供給される。濃度計Ｃ１は、供給された純水のリン酸の濃度を計測する。計測後の純水は、濃度計Ｃ１を出て配管Ｌ７、Ｌ９を通過して破棄される。配管Ｌ９には、破棄する純水の流量を調整する電磁弁ＥＶ６が設けられている。なお、純水槽１２には、貯留されている純水の量を検出するフローセンサＣ３が設けられている。純水の量が所定値よりも低下した場合、純水槽１２には、図示しない純水タンクから純水が供給される。制御装置２０は、純水による濃度計Ｃ１の精度検査（０点検査）を行う場合、ポンプＰ１、Ｐ２、Ｐ３を停止させ、ポンプＰ４を動作させる。制御装置２０は、流量計Ｃ２が計測する純水の流量が所定の設定値となるよう電磁弁ＥＶ３、ＥＶ６の開度を調整する。また、制御装置２０は、電磁弁ＥＶ１、ＥＶ２、ＥＶ４、ＥＶ５を閉に制御する。純水の流れを１点鎖線矢印で示す。
濃度計Ｃ１は、上記第３サイクルにより純水槽１２から供給された純水のリン酸濃度を計測する。濃度計Ｃ１は、計測した濃度を制御装置２０へ送信する。制御装置２０は、濃度計Ｃ１が計測したリン酸濃度を０と比較してその差が所定の許容範囲内かどうかを判定する。計測されたリン酸の濃度が０から大きく乖離する場合、制御装置２０は、濃度計Ｃ１に故障の疑いがあることを通知する。
濃度監視システム１では、第１サイクルによるリン酸処理槽２の濃度監視を所定の時間間隔（例えば、数分ごと）で継続して連続的に行い、第２サイクルや第３サイクルによる濃度計Ｃ１の精度検査を間欠的（例えば、1日ごと）に行う。上記のように制御装置２０の制御により、リン酸処理槽２の濃度監視と濃度計の精度検査をスムーズに切り替えることができる。従って、リン酸処理槽２の濃度監視を阻害することなく、濃度計Ｃ１の精度検査を行って、濃度監視の精度を維持することができる。また、濃度計Ｃ１の計測精度が低下した場合には、速やかに濃度計Ｃ１のメンテナンス、交換などを行って、精度のよい濃度監視を再開することができる。
本実施形態の濃度計Ｃ１は、密度・音速複合センサである。濃度計Ｃ１の計測性能を図３に示す。図３は、一実施形態に係る濃度計について説明する図である。
図３の縦軸は、濃度計Ｃ１が計測した試験用処理液のリン酸濃度の計測値、横軸は、試験用処理液のリン酸濃度である。試験用処理液のリン酸濃度は、既知である。
図中、菱形の点は、密度・音速複合センサのうち、音速センサで計測した試験用処理液中のアルミの濃度である。音速センサは、濃度により音速が変化する性質を利用してアルミの濃度を計測する。密度・音速複合センサを用いることにより、処理液中に溶けだしたアルミの濃度を計測することができる。図中、三角の点は、密度・音速複合センサのうち、密度センサで計測した試験用処理液のリン酸濃度を、音速センサによるアルミの濃度で補正した値である。三角の点が示すように、密度・音速複合センサによれば、リン酸濃度を正確に計測することができる。
なお、四角の点は、屈折率によってリン酸濃度を計測する屈折率計による計測結果である。屈折率計によってもリン酸濃度を正確に計測することができる。
図３の縦軸は、濃度計Ｃ１が計測した試験用処理液のリン酸濃度の計測値、横軸は、試験用処理液のリン酸濃度である。試験用処理液のリン酸濃度は、既知である。
図中、菱形の点は、密度・音速複合センサのうち、音速センサで計測した試験用処理液中のアルミの濃度である。音速センサは、濃度により音速が変化する性質を利用してアルミの濃度を計測する。密度・音速複合センサを用いることにより、処理液中に溶けだしたアルミの濃度を計測することができる。図中、三角の点は、密度・音速複合センサのうち、密度センサで計測した試験用処理液のリン酸濃度を、音速センサによるアルミの濃度で補正した値である。三角の点が示すように、密度・音速複合センサによれば、リン酸濃度を正確に計測することができる。
なお、四角の点は、屈折率によってリン酸濃度を計測する屈折率計による計測結果である。屈折率計によってもリン酸濃度を正確に計測することができる。
（動作）
次に図４を参照して、濃度監視システム１によるリン酸処理槽２の処理液の監視処理について説明する。
図４は、一実施形態に係る濃度監視処理の一例を示すフローチャートである。
前提として、制御装置２０は、濃度計Ｃ１の精度検査を行う時間（例えば、１日１回）、リン酸処理槽２の監視を行う時間帯（例えば、精度検査を行う時間を除く時間帯）、リン酸処理槽２の処理液のリン酸濃度の許容範囲、標準薬液のリン酸濃度、流量計Ｃ２が計測する流量の設定値などの各情報を予め記憶しているとする。また、制御装置２０は、濃度監視システム１の稼働中、以下の処理を所定の制御周期で行う。
次に図４を参照して、濃度監視システム１によるリン酸処理槽２の処理液の監視処理について説明する。
図４は、一実施形態に係る濃度監視処理の一例を示すフローチャートである。
前提として、制御装置２０は、濃度計Ｃ１の精度検査を行う時間（例えば、１日１回）、リン酸処理槽２の監視を行う時間帯（例えば、精度検査を行う時間を除く時間帯）、リン酸処理槽２の処理液のリン酸濃度の許容範囲、標準薬液のリン酸濃度、流量計Ｃ２が計測する流量の設定値などの各情報を予め記憶しているとする。また、制御装置２０は、濃度監視システム１の稼働中、以下の処理を所定の制御周期で行う。
まず、制御装置２０が、濃度計Ｃ１の精度検査を行う時間かどうかを判定する（ステップＳ１１）。例えば、現在の時刻が濃度計Ｃ１の精度検査を行う時間に含まれている場合、制御装置２０は、精度検査を行うと判定する。
精度検査を行うと判定した場合（ステップＳ１１；Ｙｅｓ）、制御装置２０は、標準薬液による濃度計Ｃ１の精度検査用にポンプＰ１等を制御する（ステップＳ１７）。具体的には、制御装置２０は、ポンプＰ３を動作させ、他のポンプＰ１等を停止する。また、制御装置２０は、流量計Ｃ２が計測する流量を参照しながら、電磁弁ＥＶ２、ＥＶ４を適切な開度で開き、他の電磁弁ＥＶ１等を閉とする。これにより、標準薬液が標準薬液槽１１から濃度計Ｃ１へ供給される。濃度計Ｃ１は、標準薬液のリン酸濃度を計測する（ステップＳ１８）。濃度計Ｃ１は、計測したリン酸濃度の値を制御装置２０へ出力する。制御装置２０は、リン酸濃度の計測値を取得し、一時的に保持する。
次に制御装置２０は、純水による濃度計Ｃ１の精度検査用にポンプＰ１等を制御する（ステップＳ１９）。具体的には、制御装置２０は、ポンプＰ４を動作させ、他のポンプＰ１等を停止する。また、制御装置２０は、流量計Ｃ２が計測する流量を参照しながら、電磁弁ＥＶ３、ＥＶ６を適切な開度で開き、他の電磁弁ＥＶ１等を閉とする。これにより、純水が純水槽１２から濃度計Ｃ１へ供給される。濃度計Ｃ１は、純水のリン酸濃度を計測する（ステップＳ２０）。濃度計Ｃ１は、計測したリン酸濃度の値を制御装置２０へ出力する。制御装置２０は、リン酸濃度の計測値を取得し、一時的に保持する。
次に制御装置２０は、ステップＳ１８、Ｓ２０で計測された濃度計測値が正確かどうかを判定する（ステップＳ２１）。具体的には、制御装置２０は、ステップＳ１８で計測されたリン酸濃度と、標準薬液の濃度との差が所定の許容範囲内であれば濃度計Ｃ１の測値は正確であると判定し、差が許容範囲外であれば、濃度計Ｃ１の計測値は正確ではないと判定する。また、制御装置２０は、ステップＳ２０で計測されたリン酸濃度と、純水のリン酸濃度（濃度０）との差が所定の許容範囲内であれば濃度計Ｃ１の計測値は正確であると判定し、差が許容範囲外であれば、濃度計Ｃ１の計測値は正確ではないと判定する。なお、制御装置２０は、ステップＳ１８、Ｓ２０で計測されたリン酸濃度とそれぞれの設定値との差の何れかが所定の許容範囲外であれば、濃度計Ｃ１の計測値は正確ではないと判定してもよい。あるいは、制御装置２０は、ステップＳ１８、Ｓ２０で計測されたリン酸濃度とそれぞれの設定値との差の両方が所定の許容範囲外であれば、濃度計Ｃ１の計測値は正確ではないと判定してもよい。濃度計Ｃ１の計測値が正確ではないと判定した場合（ステップＳ２１；Ｎｏ）、制御装置２０は、濃度計Ｃ１が故障している可能性があるとの警報を通知する（ステップＳ２２）。例えば、制御装置２０は、モニタに濃度計測値とともに警報を表示してもよい。濃度計測値が正確と判定した場合（ステップＳ２１；Ｙｅｓ）、制御装置２０は、濃度計Ｃ１の計測値が正確であるとの通知を行う（ステップＳ２３）。
ステップＳ２０の判定結果に関わらず、制御装置２０は、ステップＳ１１からの処理を繰り返す。
ステップＳ２０の判定結果に関わらず、制御装置２０は、ステップＳ１１からの処理を繰り返す。
なお、ここでは、濃度計Ｃ１の精度検査を行う場合に、標準薬液による精度検査と、純水による精度検査を連続的に行うこととしたが、標準薬液による精度検査を行う時間と純水による精度検査を行う時間をずらして独立して行ってもよい。
一方、ステップＳ１１の判定にて、精度検査を実行しないと判定した場合（ステップＳ１１；Ｎｏ）、制御装置２０は、リン酸処理槽２のリン酸濃度の監視用にポンプＰ１等を制御する（ステップＳ１２）。具体的には、制御装置２０は、ポンプＰ１、Ｐ２を動作させ、他のポンプＰ３、Ｐ４を停止する。また、制御装置２０は、流量計Ｃ２が計測する流量を参照しながら、電磁弁ＥＶ１、ＥＶ５を適切な開度で開き、他の電磁弁ＥＶ２等を閉とする。これにより、リン酸処理槽２から採取された処理液サンプルが濃度計Ｃ１へ供給される。濃度計Ｃ１は、処理液サンプルのリン酸濃度を計測する（ステップＳ１３）。濃度計Ｃ１は、計測したリン酸濃度の値を制御装置２０へ出力する。制御装置２０は、リン酸濃度の計測値を取得し、一時的に保持する。
次に制御装置２０は、ステップＳ１３で計測された濃度計測値が適切かどうかを判定する（ステップＳ１４）。具体的には、制御装置２０は、ステップＳ１３で計測されたリン酸濃度と、リン酸処理槽２のリン酸濃度の設定値との差が所定の許容範囲内であれば、リン酸処理槽２のリン酸濃度は適切であると判定する。リン酸濃度が適切であると判定した場合（ステップＳ１４；Ｙｅｓ）、制御装置２０は、リン酸処理槽２のリン酸濃度が適切である旨を通知する（ステップＳ１６）。リン酸濃度が適切ではないと判定した場合（ステップＳ１４；Ｎｏ）、制御装置２０は、リン酸処理槽２のリン酸濃度の異常を通知する（ステップＳ１５）。例えば、制御装置２０は、モニタに濃度計測値とともにリン酸や希釈液の添加を指示する表示を行ってもよい。
ステップＳ１４の判定結果に関わらず、制御装置２０は、ステップＳ１１からの処理を繰り返す。
ステップＳ１４の判定結果に関わらず、制御装置２０は、ステップＳ１１からの処理を繰り返す。
本実施形態の濃度監視システム１は、リン酸処理槽２の処理液サンプルを濃度計Ｃ１に供給する第１サイクルと、標準薬液（リン酸濃度既知液）を濃度計Ｃ１に供給する第２サイクルと、純水（リン酸濃度０）を濃度計Ｃ１に供給する第３サイクルとを備える。そして、通常は、第１サイクルを動作させて、リン酸処理槽２の濃度監視を継続して行う。また、間欠的に第２サイクルおよび第３サイクルを動作させて、濃度計Ｃ１の計測精度の検査を行う。本実施形態によれば、リン酸濃度の計測精度が保証された濃度監視を連続的に行うことができる。これにより、製品５の生産数のばらつき等によってリン酸処理槽２のリン酸濃度に変動が生じたとしても、その変動を速やかに検出し、対処することができる。従って、表面処理ラインにおける製品５の品質を確保し、歩留まりの発生を抑制することができる。
なお、図２において、第２サイクルと第３サイクルの両方の機構を設ける濃度監視システム１の構成例を示したが、片方だけを設ける構成としてもよい。また、密度・音速複合センサの代わりに、濃度計Ｃ１に屈折率計を用いてもよい。
（濃度管理システムの構成）
次に濃度監視システム１が検出したリン酸処理槽２の濃度異常に対して、リン酸処理槽２に薬品や希釈液を自動的に添加して濃度を正常に保つことができる濃度管理システム１００について説明する。
図５は、一実施形態に係る濃度管理システムの一例を示す構成図である。
濃度管理システム１００は、リン酸処理槽２と、濃度監視システム１と、自動添加システム２００とを備える。自動添加システム２００は、リン酸タンクＴ１０と、ポンプＰ１０と、電磁弁ＥＶ１０と、流量計Ｃ１０と、希釈液タンクＴ１１と、ポンプＰ１１と、電磁弁ＥＶ１１と、流量計Ｃ１１と、制御装置３０とを備える。
リン酸タンクＴ１０と、ポンプＰ１０と、電磁弁ＥＶ１０と、流量計Ｃ１０は配管Ｌ２０で接続され、この配管Ｌ２０は、リン酸処理槽２へ接続される。希釈液タンクＴ１１と、ポンプＰ１１と、電磁弁ＥＶ１１と、流量計Ｃ１１は配管Ｌ２１で接続され、配管Ｌ２１は、リン酸処理槽２へ接続される。
次に濃度監視システム１が検出したリン酸処理槽２の濃度異常に対して、リン酸処理槽２に薬品や希釈液を自動的に添加して濃度を正常に保つことができる濃度管理システム１００について説明する。
図５は、一実施形態に係る濃度管理システムの一例を示す構成図である。
濃度管理システム１００は、リン酸処理槽２と、濃度監視システム１と、自動添加システム２００とを備える。自動添加システム２００は、リン酸タンクＴ１０と、ポンプＰ１０と、電磁弁ＥＶ１０と、流量計Ｃ１０と、希釈液タンクＴ１１と、ポンプＰ１１と、電磁弁ＥＶ１１と、流量計Ｃ１１と、制御装置３０とを備える。
リン酸タンクＴ１０と、ポンプＰ１０と、電磁弁ＥＶ１０と、流量計Ｃ１０は配管Ｌ２０で接続され、この配管Ｌ２０は、リン酸処理槽２へ接続される。希釈液タンクＴ１１と、ポンプＰ１１と、電磁弁ＥＶ１１と、流量計Ｃ１１は配管Ｌ２１で接続され、配管Ｌ２１は、リン酸処理槽２へ接続される。
制御装置３０は、濃度監視システム１、ポンプＰ１０、Ｐ１１、電磁弁ＥＶ１０、ＥＶ１１、流量計Ｃ１０、Ｃ１１と、接続されている。制御装置３０は、濃度監視システム１からリン酸処理槽２の濃度異常の通知を取得する。制御装置３０は、流量計Ｃ１０、Ｃ１１が計測した流量の計測値を取得する。制御装置３０は、ポンプＰ１０、Ｐ１１の動作、電磁弁ＥＶ１０、ＥＶ１１の開度を制御する。
（動作）
通常時、制御装置３０は、ポンプＰ１０、Ｐ１１を停止させる。図１で例示した表面処理ラインでは、製品５が各処理槽２～４へと搬送され、アノダイズ処理が行われる。濃度監視システム１は、リン酸処理槽２のリン酸濃度を監視する。制御装置２０は、リン酸濃度の異常を検出すると（図４のステップＳ１４でＮｏ）、濃度異常を制御装置３０へ通知する。例えば、制御装置２０は、処理液サンプルのリン酸濃度を制御装置３０へ通知する。すると、制御装置３０は、制御装置２０から取得した処理液サンプルのリン酸濃度と、所定の設定値に基づいて、リン酸処理槽２のリン酸濃度が高低を判定する。リン酸濃度が高いと判定すると、制御装置３０は、リン酸濃度を設定値に戻すために必要な希釈液の量を、所定の計算式や学習済みモデルに基づいて算出する。制御装置３０は、算出した量の希釈液をリン酸処理槽２へ供給する。例えば、制御装置３０は、ポンプＰ１１を起動し、希釈液タンクＴ１１から希釈液を吸引する。制御装置３０は、流量計Ｃ１１の計測値を参照しながら、電磁弁ＥＶ１１の開度を調整し、算出した量の希釈液をリン酸処理槽２へ供給する。反対にリン酸濃度が低いと判定すると、制御装置３０は、リン酸濃度を設定値に戻すために必要なリン酸の量を、所定の計算式や学習済みモデルに基づいて算出する。制御装置３０は、算出した量のリン酸をリン酸処理槽２へ供給する。例えば、制御装置３０は、ポンプＰ１０を起動し、リン酸タンクＴ１０からリン酸を吸引する。制御装置３０は、流量計Ｃ１０の計測値を参照しながら、電磁弁ＥＶ１０の開度を調整し、算出した量の希釈液をリン酸処理槽２へ供給する。希釈液やリン酸の添加中、濃度監視システム１は、リン酸処理槽２のリン酸濃度を監視し、計測した濃度を制御装置３０へ送信する。制御装置３０は、リン酸処理槽２のリン酸濃度が設定値に整定するまで、希釈液またはリン酸の供給を継続する。
通常時、制御装置３０は、ポンプＰ１０、Ｐ１１を停止させる。図１で例示した表面処理ラインでは、製品５が各処理槽２～４へと搬送され、アノダイズ処理が行われる。濃度監視システム１は、リン酸処理槽２のリン酸濃度を監視する。制御装置２０は、リン酸濃度の異常を検出すると（図４のステップＳ１４でＮｏ）、濃度異常を制御装置３０へ通知する。例えば、制御装置２０は、処理液サンプルのリン酸濃度を制御装置３０へ通知する。すると、制御装置３０は、制御装置２０から取得した処理液サンプルのリン酸濃度と、所定の設定値に基づいて、リン酸処理槽２のリン酸濃度が高低を判定する。リン酸濃度が高いと判定すると、制御装置３０は、リン酸濃度を設定値に戻すために必要な希釈液の量を、所定の計算式や学習済みモデルに基づいて算出する。制御装置３０は、算出した量の希釈液をリン酸処理槽２へ供給する。例えば、制御装置３０は、ポンプＰ１１を起動し、希釈液タンクＴ１１から希釈液を吸引する。制御装置３０は、流量計Ｃ１１の計測値を参照しながら、電磁弁ＥＶ１１の開度を調整し、算出した量の希釈液をリン酸処理槽２へ供給する。反対にリン酸濃度が低いと判定すると、制御装置３０は、リン酸濃度を設定値に戻すために必要なリン酸の量を、所定の計算式や学習済みモデルに基づいて算出する。制御装置３０は、算出した量のリン酸をリン酸処理槽２へ供給する。例えば、制御装置３０は、ポンプＰ１０を起動し、リン酸タンクＴ１０からリン酸を吸引する。制御装置３０は、流量計Ｃ１０の計測値を参照しながら、電磁弁ＥＶ１０の開度を調整し、算出した量の希釈液をリン酸処理槽２へ供給する。希釈液やリン酸の添加中、濃度監視システム１は、リン酸処理槽２のリン酸濃度を監視し、計測した濃度を制御装置３０へ送信する。制御装置３０は、リン酸処理槽２のリン酸濃度が設定値に整定するまで、希釈液またはリン酸の供給を継続する。
本実施形態の濃度管理システム１００によれば、リン酸処理槽２のリン酸濃度を自動的に所定の濃度に維持することができる。
図６は、一実施形態に係る制御装置のハードウェア構成の一例を示す図である。
コンピュータ９００は、ＣＰＵ９０１、主記憶装置９０２、補助記憶装置９０３、入出力インタフェース９０４、通信インタフェース９０５を備える。
上述の制御装置２０、３０は、コンピュータ９００に実装される。そして、上述した各機能は、プログラムの形式で補助記憶装置９０３に記憶されている。ＣＰＵ９０１は、プログラムを補助記憶装置９０３から読み出して主記憶装置９０２に展開し、当該プログラムに従って上記処理を実行する。また、ＣＰＵ９０１は、プログラムに従って、記憶領域を主記憶装置９０２に確保する。また、ＣＰＵ９０１は、プログラムに従って、処理中のデータを記憶する記憶領域を補助記憶装置９０３に確保する。
コンピュータ９００は、ＣＰＵ９０１、主記憶装置９０２、補助記憶装置９０３、入出力インタフェース９０４、通信インタフェース９０５を備える。
上述の制御装置２０、３０は、コンピュータ９００に実装される。そして、上述した各機能は、プログラムの形式で補助記憶装置９０３に記憶されている。ＣＰＵ９０１は、プログラムを補助記憶装置９０３から読み出して主記憶装置９０２に展開し、当該プログラムに従って上記処理を実行する。また、ＣＰＵ９０１は、プログラムに従って、記憶領域を主記憶装置９０２に確保する。また、ＣＰＵ９０１は、プログラムに従って、処理中のデータを記憶する記憶領域を補助記憶装置９０３に確保する。
なお、制御装置２０、３０の全部または一部の機能を実現するためのプログラムをコンピュータ読み取り可能な記録媒体に記録して、この記録媒体に記録されたプログラムをコンピュータシステムに読み込ませ、実行することにより各機能部による処理を行ってもよい。ここでいう「コンピュータシステム」とは、ＯＳや周辺機器等のハードウェアを含むものとする。また、「コンピュータシステム」は、ＷＷＷシステムを利用している場合であれば、ホームページ提供環境（あるいは表示環境）も含むものとする。また、「コンピュータ読み取り可能な記録媒体」とは、ＣＤ、ＤＶＤ、ＵＳＢ等の可搬媒体、コンピュータシステムに内蔵されるハードディスク等の記憶装置のことをいう。また、このプログラムが通信回線によってコンピュータ９００に配信される場合、配信を受けたコンピュータ９００が当該プログラムを主記憶装置９０２に展開し、上記処理を実行しても良い。また、上記プログラムは、前述した機能の一部を実現するためのものであっても良く、さらに前述した機能をコンピュータシステムにすでに記録されているプログラムとの組み合わせで実現できるものであってもよい。
なお、制御装置２０、３０は、それぞれ通信可能な複数のコンピュータ９００によって構成されていても良い。
なお、制御装置２０、３０は、それぞれ通信可能な複数のコンピュータ９００によって構成されていても良い。
以上のとおり、本開示に係るいくつかの実施形態を説明したが、これら全ての実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することを意図していない。これらの実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これらの実施形態及びその変形は、発明の範囲や要旨に含まれると同様に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
＜付記＞
各実施形態に記載の濃度監視システム１、濃度管理システム１００、濃度監視方法は、例えば以下のように把握される。
各実施形態に記載の濃度監視システム１、濃度管理システム１００、濃度監視方法は、例えば以下のように把握される。
（１）第１の態様に係る濃度監視システム１は、薬品（リン酸）が添加された処理液を貯留する処理槽（リン酸処理槽２）から前記処理液のサンプルを採取して前記薬品の濃度を計測する濃度計Ｃ１へ供給する第１サイクルと、前記薬品の濃度が既知の薬液（標準薬液）を前記濃度計Ｓへ供給する第２サイクルと、前記第１サイクルを制御して前記濃度計Ｃ１が計測した前記サンプルの濃度に基づいて前記処理槽の前記薬品の濃度を評価し、前記第２サイクルを制御して前記濃度計が計測した前記薬液の濃度に基づいて前記濃度計Ｃ１の精度を評価する制御装置２０と、を備える。
濃度監視システム１によれば、第１サイクルによって処理液のサンプルを採取して濃度計Ｃ１へ供給し、濃度計Ｃ１が計測した濃度を判定することによって、処理槽の濃度が適切かどうかを監視することができる。第１サイクルによって、連続的にサンプルを濃度計Ｃ１へ供給することによって、連続的、継続的な濃度監視を行うことができる。
また、濃度監視システム１によれば、第２サイクルによって濃度が既知の薬液を濃度計Ｃ１へ供給し、濃度計Ｃ１が計測した濃度と既知の濃度とを比較することにより、濃度計Ｃ１の計測精度を検査することができる。濃度計Ｃ１の精度検査を行うことにより、濃度監視の精度を確保することができる。
また、濃度監視システム１によれば、第２サイクルによって濃度が既知の薬液を濃度計Ｃ１へ供給し、濃度計Ｃ１が計測した濃度と既知の濃度とを比較することにより、濃度計Ｃ１の計測精度を検査することができる。濃度計Ｃ１の精度検査を行うことにより、濃度監視の精度を確保することができる。
（２）第２の態様に係る濃度監視システム１は、（１）の濃度監視システム１であって、前記制御装置２０は、前記第１サイクルを動作させ、前記第２サイクルを停止させて前記処理槽の前記濃度の監視を行い、間欠的に前記第１サイクルを停止させ、その間、前記第２サイクルを動作させて前記濃度計の精度検査を行う。
これにより、リン酸処理槽２の処理液の濃度監視を連続的に行い、濃度監視の合間に濃度計Ｃ１の精度検査を行うことができる。また、リン酸処理槽２の処理液の濃度の影響を受けることなく濃度計Ｃ１の精度検査を行うことができる。また、濃度が既知の薬液の影響を受けることなく、リン酸処理槽２の処理液の濃度監視を行うことができる。
（３）第３の態様に係る濃度監視システム１は、（１）、（２）の濃度監視システム１であって、純水を前記濃度計へ供給する第３サイクルをさらに備え、前記制御装置２０は、前記濃度計Ｃ１が計測した前記純水における前記薬品の濃度に基づいて前記濃度計Ｃ１の精度を評価する。
薬品を含まない純水を用いて濃度計Ｃ１の精度検査を行うことで、濃度計Ｃ１の０点が正しいか否かを評価することができる。
薬品を含まない純水を用いて濃度計Ｃ１の精度検査を行うことで、濃度計Ｃ１の０点が正しいか否かを評価することができる。
（４）第４の態様に係る濃度監視システム１は、薬品（リン酸）が添加された処理液を貯留する処理槽（リン酸処理槽２）から前記処理液のサンプルを採取して前記薬品の濃度を計測する濃度計Ｃ１へ供給する第１サイクルと、前記薬品の濃度が０の薬液（純水）を前記濃度計Ｃ１へ供給する第３サイクルと、前記第１サイクルを制御して前記濃度計Ｃ１が計測した前記サンプルの濃度に基づいて前記処理槽の前記薬品の濃度を評価し、前記第３サイクルを制御して前記濃度計Ｃ１が計測した前記薬液の濃度に基づいて前記濃度計の０点の検査を行う制御装置と、を備える。
濃度監視システム１によれば、第１サイクルによって処理液のサンプルを採取して濃度計Ｃ１へ供給し、濃度計Ｃ１が計測した濃度を判定することによって、処理槽の濃度が適切かどうかを監視することができる。また、濃度監視システム１によれば、第３サイクルによって薬品濃度が０の薬液を濃度計Ｃ１へ供給し、濃度計Ｃ１が計測した濃度に基づいて、濃度計Ｃ１の０点が正しいか否かを評価することで、濃度計Ｃ１の計測精度を検査することができる。濃度計Ｃ１の精度検査を行うことにより、濃度監視の精度を確保することができる。
（５）第５の態様に係る濃度管理システム１００は、（１）から（４）の何れかに記載の濃度監視システム１と、前記濃度監視システム１が、前記処理槽の前記濃度が異常であると評価した場合、前記薬品または前記薬品の希釈液を前記処理槽に添加する自動添加システム２００と、を備える。
濃度管理システム１００によれば、リン酸処理槽２のリン酸濃度を適切な濃度に維持することができる。
濃度管理システム１００によれば、リン酸処理槽２のリン酸濃度を適切な濃度に維持することができる。
（６）第６の態様に係る濃度監視方法は、薬品（リン酸）が添加された処理液を貯留する処理槽（リン酸処理槽２）から前記処理液のサンプルを採取して前記薬品の濃度を計測する濃度計Ｃ１へ供給して、前記処理槽の前記薬品の濃度を評価し、前記サンプルが前記濃度計へ供給されていない間に、前記薬品の濃度が既知の薬液を前記濃度計Ｃ１へ供給し、前記濃度計Ｃ１が計測した前記薬液の濃度に基づいて前記濃度計Ｃ１の精度を評価する。
１・・・濃度監視システム
２・・・リン酸処理槽
３・・・１次水洗処理槽
４・・・２次水洗処理槽
Ｐ１～Ｐ４、Ｐ１０、Ｐ１１・・・ポンプ
Ｖ１～Ｖ８・・・手動弁
ＥＶ１～ＥＶ６、ＥＶ１０、ＥＶ１１・・・電磁弁
Ｃ１・・・濃度計
Ｃ２、Ｃ１０、Ｃ１１・・・流量計
Ｃ３・・・フローセンサ
１１・・・標準薬液槽
１２・・・純水槽
２０、３０・・・制御装置
１００・・・濃度管理システム
２００・・・自動添加システム
９００・・・コンピュータ
９０１・・・ＣＰＵ
９０２・・・主記憶装置
９０３・・・補助記憶装置
９０４・・・入出力インタフェース
９０５・・・通信インタフェース
２・・・リン酸処理槽
３・・・１次水洗処理槽
４・・・２次水洗処理槽
Ｐ１～Ｐ４、Ｐ１０、Ｐ１１・・・ポンプ
Ｖ１～Ｖ８・・・手動弁
ＥＶ１～ＥＶ６、ＥＶ１０、ＥＶ１１・・・電磁弁
Ｃ１・・・濃度計
Ｃ２、Ｃ１０、Ｃ１１・・・流量計
Ｃ３・・・フローセンサ
１１・・・標準薬液槽
１２・・・純水槽
２０、３０・・・制御装置
１００・・・濃度管理システム
２００・・・自動添加システム
９００・・・コンピュータ
９０１・・・ＣＰＵ
９０２・・・主記憶装置
９０３・・・補助記憶装置
９０４・・・入出力インタフェース
９０５・・・通信インタフェース
Claims (6)
- 薬品が添加された処理液を貯留する処理槽から前記処理液のサンプルを採取して前記薬品の濃度を計測する濃度計へ供給する第１サイクルと、
前記薬品の濃度が既知の薬液を前記濃度計へ供給する第２サイクルと、
前記第１サイクルを制御して前記濃度計が計測した前記サンプルの濃度に基づいて前記処理槽の前記薬品の濃度を評価し、前記第２サイクルを制御して前記濃度計が計測した前記薬液の濃度に基づいて前記濃度計の精度を評価する制御装置と、
を備え、
前記第１サイクルは、前記処理槽と前記濃度計の入口側を接続する第1の配管と、前記処理槽と前記濃度計の出口側を接続する第２の配管とを含み、前記第1の配管には第１のポンプと第１の弁が設けられ、前記第２の配管には第２の弁が設けられ、
前記第２サイクルは、前記薬品の濃度が既知の薬液を貯留する標準薬液槽と前記濃度計の入口側を接続する第３の配管と、前記標準薬液槽と前記濃度計の出口側を接続する第４の配管とを含み、前記第３の配管には第３のポンプと第３の弁が設けられ、前記第４の配管には第４の弁が設けられ、
前記制御装置は、
前記処理槽の前記薬品の濃度を評価するときには前記第１の弁および前記第２の弁を開とし、前記第３の弁および前記第４の弁を閉とし、前記第１のポンプを起動し、前記第３のポンプを停止し、
前記標準薬液槽の前記薬品の濃度を評価するときには前記第３の弁および前記第４の弁を開とし、前記第１の弁および前記第２の弁を閉とし、前記第３のポンプを起動し、前記第１のポンプを停止する、
濃度監視システム。 - 前記制御装置は、前記第１サイクルを動作させ、前記第２サイクルを停止させて前記処理槽の前記濃度の監視を行い、
間欠的に前記第１サイクルを停止させ、その間、前記第２サイクルを動作させて前記濃度計の精度検査を行う、
請求項１に記載の濃度監視システム。 - 純水を前記濃度計へ供給する第３サイクル、をさらに備え、
前記第３サイクルは、前記純水を貯留する純水槽と前記濃度計の入口側を接続する第５の配管と、前記純水槽と前記濃度計の出口側を接続する第６の配管とを含み、前記第５の配管には第５のポンプと第５の弁が設けられ、前記第６の配管には第６の弁が設けられ、
前記制御装置は、前記濃度計が計測した前記純水における前記薬品の濃度に基づいて前記濃度計の精度を評価し、
前記処理槽の前記薬品の濃度を評価するときには前記第１の弁および前記第２の弁を開とし、前記第３の弁、前記第４の弁、前記第５の弁および前記第６の弁を閉とし、前記第１のポンプを起動し、前記第３のポンプと前記第５のポンプを停止し、
前記標準薬液槽の前記薬品の濃度を評価するときには前記第３の弁および前記第４の弁を開とし、前記第１の弁、前記第２の弁、前記第５の弁および前記第６の弁を閉とし、前記第３のポンプを起動し、前記第１のポンプと前記第５のポンプを停止し、
前記純水槽の前記純水の濃度を評価するときには前記第５の弁および前記第６の弁を開とし、前記第１の弁、前記第２の弁、前記第３の弁および前記第４の弁を閉とし、前記第５のポンプを起動し、前記第１のポンプと前記第３のポンプを停止する、
請求項１または請求項２に記載の濃度監視システム。 - 薬品が添加された処理液を貯留する処理槽から前記処理液のサンプルを採取して前記薬品の濃度を計測する濃度計へ供給する第１サイクルと、
前記薬品の濃度が０の薬液を前記濃度計へ供給する第３サイクルと、
前記第１サイクルを制御して前記濃度計が計測した前記サンプルの濃度に基づいて前記処理槽の前記薬品の濃度を評価し、前記第３サイクルを制御して前記濃度計が計測した前記薬液の濃度に基づいて前記濃度計の０点の検査を行う制御装置と、
を備え、
前記第１サイクルは、前記処理槽と前記濃度計の入口側を接続する第1の配管と、前記処理槽と前記濃度計の出口側を接続する第２の配管とを含み、前記第1の配管には第１のポンプと第１の弁が設けられ、前記第２の配管には第２の弁が設けられ、
前記第３サイクルは、純水を貯留する純水槽と前記濃度計の入口側を接続する第３の配管と、前記純水槽と前記濃度計の出口側を接続する第４の配管とを含み、前記第３の配管には第３のポンプと第３の弁が設けられ、前記第４の配管には第４の弁が設けられ、
前記制御装置は、
前記処理槽の前記薬品の濃度を評価するときには前記第１の弁および前記第２の弁を開とし、前記第３の弁および前記第４の弁を閉とし、前記第１のポンプを起動し、前記第３のポンプを停止し、
前記濃度計の０点の検査を行うときには前記第３の弁および前記第４の弁を開とし、前記第１の弁および前記第２の弁を閉とし、前記第３のポンプを起動し、前記第１のポンプを停止する、
濃度監視システム。 - 請求項１から請求項４の何れか１項に記載の濃度監視システムと、
前記濃度監視システムが、前記処理槽の前記濃度が異常であると評価した場合、前記薬品または前記薬品の希釈液を前記処理槽に添加する自動添加システムと、
を備える濃度管理システム。 - 薬品が添加された処理液を貯留する処理槽と濃度計の入口側を接続する第1の配管と、前記処理槽と前記濃度計の出口側を接続する第２の配管とを含み、前記第1の配管には第１のポンプと第１の弁が設けられ、前記第２の配管には第２の弁が設けられる第１のサイクルと、前記薬品の濃度が既知の薬液を貯留する標準薬液槽と前記濃度計の入口側を接続する第３の配管と、前記標準薬液槽と前記濃度計の出口側を接続する第４の配管とを含み、前記第３の配管には第３のポンプと第３の弁が設けられ、前記第４の配管には第４の弁が設けられる第２サイクルと、を含む濃度監視システムにおいて、
前記第１の弁および前記第２の弁を開とし、前記第３の弁および前記第４の弁を閉とし、前記第１のポンプを起動し、前記第３のポンプを停止し、前記処理槽から前記処理液のサンプルを採取して前記薬品の濃度を計測する濃度計へ供給して、前記処理槽の前記薬品の濃度を評価し、
前記サンプルが前記濃度計へ供給されていない間に、前記第３の弁および前記第４の弁を開とし、前記第１の弁および前記第２の弁を閉とし、前記第３のポンプを起動し、前記第１のポンプを停止し、前記薬品の濃度が既知の薬液を前記濃度計へ供給し、前記濃度計が計測した前記薬液の濃度に基づいて前記濃度計の精度を評価する、
濃度監視方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2019174990A JP7247067B2 (ja) | 2019-09-26 | 2019-09-26 | 濃度監視システム、濃度管理システムおよび濃度監視方法 |
| PCT/JP2020/029886 WO2021059754A1 (ja) | 2019-09-26 | 2020-08-04 | 濃度監視システム、濃度管理システムおよび濃度監視方法 |
| US17/631,041 US20220268752A1 (en) | 2019-09-26 | 2020-08-04 | Concentration monitoring system, concentration management system, and concentration monitoring method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2019174990A JP7247067B2 (ja) | 2019-09-26 | 2019-09-26 | 濃度監視システム、濃度管理システムおよび濃度監視方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2021051030A JP2021051030A (ja) | 2021-04-01 |
| JP7247067B2 true JP7247067B2 (ja) | 2023-03-28 |
Family
ID=75157611
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2019174990A Active JP7247067B2 (ja) | 2019-09-26 | 2019-09-26 | 濃度監視システム、濃度管理システムおよび濃度監視方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20220268752A1 (ja) |
| JP (1) | JP7247067B2 (ja) |
| WO (1) | WO2021059754A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7267360B2 (ja) * | 2021-08-31 | 2023-05-01 | 三菱重工業株式会社 | 試料分析装置及び試料分析方法 |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS604842A (ja) * | 1983-06-22 | 1985-01-11 | Kawasaki Steel Corp | 薬液濃度測定方法 |
| JPS6021443A (ja) * | 1983-07-15 | 1985-02-02 | Nippon Paint Co Ltd | アルミニウム食品罐表面処理液のフツ酸濃度の自動測定装置 |
| JPS6130686A (ja) * | 1984-07-19 | 1986-02-12 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | 酸洗処理液濃度の自動制御方法 |
| JP2876411B2 (ja) * | 1989-09-25 | 1999-03-31 | 株式会社ニッテク | 自動分析装置 |
| JPH08178913A (ja) * | 1994-12-22 | 1996-07-12 | Meidensha Corp | 水質測定制御装置 |
| US5639954A (en) * | 1995-11-13 | 1997-06-17 | Delco Electronics Corporation | Method and apparatus for automatic titration of solder flux |
| JPH1090275A (ja) * | 1996-09-12 | 1998-04-10 | Hitachi Ltd | 自動化学分析装置 |
| US6255123B1 (en) * | 1998-11-17 | 2001-07-03 | Kenneth P. Reis | Methods of monitoring and maintaining concentrations of selected species in solutions during semiconductor processing |
| JP2001324489A (ja) * | 2000-05-16 | 2001-11-22 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 処理液中の酸濃度の測定方法および金属被処理物の処理装置 |
| JP4654534B2 (ja) * | 2000-05-22 | 2011-03-23 | 上村工業株式会社 | 無電解複合ニッケルめっき液の自動分析・管理装置 |
| US6592736B2 (en) * | 2001-07-09 | 2003-07-15 | Semitool, Inc. | Methods and apparatus for controlling an amount of a chemical constituent of an electrochemical bath |
| JP2007187446A (ja) * | 2006-01-11 | 2007-07-26 | Hitachi High-Technologies Corp | 自動分析装置 |
| JP5557750B2 (ja) * | 2008-12-09 | 2014-07-23 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 自動分析装置 |
| FR2951272B1 (fr) * | 2009-10-09 | 2011-12-09 | Millipore Corp | Methode de calibration d'un dispositif de mesure de la teneur en carbone organique total |
| KR20160010257A (ko) * | 2014-07-17 | 2016-01-27 | 가부시키가이샤 히라마 리카 켄큐쇼 | 에칭액 관리장치, 용해금속 농도 측정장치 및 용해금속 농도 측정방법 |
-
2019
- 2019-09-26 JP JP2019174990A patent/JP7247067B2/ja active Active
-
2020
- 2020-08-04 WO PCT/JP2020/029886 patent/WO2021059754A1/ja active Application Filing
- 2020-08-04 US US17/631,041 patent/US20220268752A1/en active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2021051030A (ja) | 2021-04-01 |
| WO2021059754A1 (ja) | 2021-04-01 |
| US20220268752A1 (en) | 2022-08-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN103813863B (zh) | 清洁设备 | |
| CN105738287B (zh) | 水质分析仪 | |
| JP7247067B2 (ja) | 濃度監視システム、濃度管理システムおよび濃度監視方法 | |
| CN105928638B (zh) | 流量计 | |
| CN107966406A (zh) | 一种水质自动检测设备 | |
| CN107167417A (zh) | 一种水浴型金属腐蚀试验装置及其控制方法 | |
| TW201704900A (zh) | 顯影液的成分濃度測定裝置、成分濃度測定方法、顯影液管理裝置、及顯影液管理方法 | |
| DK202000433A1 (en) | CIP control surveillance system and application of the system | |
| JP2016143779A5 (ja) | ||
| JP7316898B2 (ja) | 監視システムおよび監視方法 | |
| FI104653B (fi) | Menetelmä massan ominaisuuksien määrittämiseksi | |
| KR20170117251A (ko) | 이동식 수도미터 성능 검사장치 | |
| JP7267360B2 (ja) | 試料分析装置及び試料分析方法 | |
| JP7139301B2 (ja) | 純水製造管理システムおよび純水製造管理方法 | |
| KR20020016911A (ko) | 무전해 복합 도금액의 자동분석·관리장치 | |
| JP2022178844A (ja) | 自動分析装置 | |
| JP6672876B2 (ja) | 接液部材への付着物検出装置及び検出方法 | |
| RU2675573C9 (ru) | Устройство и способ борьбы с образованием отложений | |
| JP2020144007A (ja) | 自動ろ過装置 | |
| US11612840B2 (en) | Filter life determination | |
| CN109142260A (zh) | 一种紫外光度法cod在线分析仪及其工作方法 | |
| JP6979110B2 (ja) | 分析装置の状態をチェックする技術 | |
| KR102404178B1 (ko) | 연속형 용존 유기물질 모니터링 시스템 | |
| TWI689726B (zh) | 水質分析計 | |
| WO2022074820A1 (ja) | 分析システム及び管理システム、並びに分析方法、並びに分析プログラム |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20211216 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20221122 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230116 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230307 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230315 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7247067 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |