JP7247038B2 - 被覆導体およびその製造方法 - Google Patents

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本発明は、導線に絶縁性の被覆材を巻きつけた被覆導体およびその製造方法に関する。
導線の表面に絶縁性の被覆材を巻きつけた被覆導体は、電線やケーブル等に用いられている。被覆導体には、耐熱性、電気絶縁性、耐薬品性、難燃性のほか、耐摩耗性、耐カットスルー性(切断抵抗性)等の耐久特性が要求される。
特許文献1には、ポリイミドフィルムと接着層としてのフッ素樹脂層とを積層した多層フィルムを被覆材として用いることにより、高温での優れた切断抵抗性を示すことが記載されている。特許文献2には、所定のひずみ時応力を有するポリイミドフィルムとフッ素樹脂層とを積層した被覆材が耐摩耗性に優れることが記載されている。
特開平10-100340号公報 国際公開第2014/192733号
航空機、ロケット、宇宙船等の航空宇宙用途に用いられるケーブルは、一般用途のケーブルに比べて、機内への設置の際の摩擦や飛行中の振動による摩擦に対して、より高い耐久性(耐摩耗性)が要求される。また、航空宇宙用途のケーブルは、軽量化に対する需要が高く、被覆材の厚みを小さくして軽量化を図りながら、耐摩耗性を向上することが求められている。
被覆導体は、一方向に延在する導線の外周に帯状の絶縁被覆材を螺旋状に巻きつけたものである。絶縁被覆材は絶縁フィルムを含み、絶縁フィルムの一方または両方の主面上に接着層を備えていてもよい。接着層はフッ素樹脂を含むものが好ましい。絶縁フィルムは、好ましくはポリイミドフィルムである。絶縁フィルムは、基準厚み75μmで規格化した分子配向度MOR_cが1.3以上であってもよい。
絶縁フィルムの分子配向軸と導線の延在方向が略平行であることにより、被覆導体の耐摩耗性を向上できる。絶縁フィルムの分子配向軸と導線の延在方向とのなす角度ωは、10°以下が好ましい。
絶縁フィルムの分子配向軸と導線の延在方向を略平行とするためには、絶縁フィルムが、絶縁被覆材の長手方向に対して平行でも直交でもない方向に分子配向軸を有することが好ましい。絶縁フィルムの分子配向軸と絶縁被覆材の長手方向とのなす角度φは、10°~80°が好ましい。
絶縁被覆材の長手方向に対して平行でも直交でもない方向に分子配向軸を有する絶縁フィルは、例えば、斜め延伸フィルムを所定の幅にスリットすることにより得られる。搬送方向と平行または直交する方向に分子配向軸を有するフィルムを、斜め方向にスリットしてもよい。
本発明の被覆導体は、絶縁フィルムの分子配向軸と導線の延在方向が略平行であり、絶縁被覆材の厚みが小さい場合でも耐摩耗性に優れるため、航空宇宙用途のケーブル等に好適である。
被覆導体の斜視図である。 帯状の被覆材の長手方向と分子配向軸の関係を説明するための図である。 導線に被覆材を巻きつける様子を示す模式図である。 導線に被覆材を巻きつける様子を示す模式図である。
[被覆導体の構成]
図1は、直径Dの導線1に、幅Wの帯状の絶縁被覆材3を螺旋状に巻きつけた被覆導体の斜視図である。本発明の被覆導体は、導線1の延在方向(A-A線に沿った方向)と、絶縁被覆材3のコア層としての絶縁フィルムの分子配向軸pが(略)平行であることを1つの特徴とする。
被覆導体に用いる導線1は、導体であればどのような材料でもよく、通常は、銅、アルミニウム、ステンレス等の金属が用いられる。金属は合金でもよく、表面が各種材料でメッキされていてもよい。導線の金属材料としては、導電性の観点から銅が好ましく、軽量化の観点からはアルミニウム等も好ましい。導線1は単線でもよく、複数の金属線(素線)を撚り合わせたものでもよい。導線1の直径Dは、0.2~10mm程度である。
被覆材3は、一方向に延在する帯状の絶縁テープである。被覆材3の幅Wは、導線1の直径Dや、被覆材の巻きつけ角度θ等に応じて適宜設定すればよい。幅Wは、例えば1~50mm程度である。被覆材3は絶縁性であり、絶縁フィルムを含む。被覆材3は、好ましくは、絶縁フィルムをコア層として、絶縁フィルムの少なくとも一方の面に接着層を備える。被覆材3は絶縁フィルムの両面に接着層を備えていてもよい。
被覆材3の厚みは、5~100μm程度である。軽量化の観点から、被覆材の厚みは小さい方が好ましい。被覆材3の厚みは、50μm以下、30μm以下、25μm以下または23μm以下であってもよい。
被覆材3のコア層としての絶縁フィルムは、分子配向度の面内異方性を有しており、フィルム面内の一方向に分子配向軸を有する。分子配向軸とは、フィルム面内で分子配向度が最も大きい方向である。分子配向度が面内異方性を有するフィルムは、分子配向軸と平行な向に沿って外力を付与した際の機械強度(引張強度、引裂強度、耐擦傷性、耐摩耗性等)が高い傾向がある。
分子配向軸を有するフィルムは、例えば、延伸により形成される。フィルムの形成過程において、フィルムを少なくとも一方向に延伸すると、延伸方向にポリマー分子が優先的に配向する。延伸に代えて弛緩処理(少なくとも一方向に縮める処理)によっても、所定方向に分子配向軸を有するフィルムが得られる。
一般的な延伸フィルムは、フィルム製造時の搬送方向(MD)、または搬送方向と直交する幅方向(TD)に分子配向軸を有する。このようなフィルムを、搬送方向に沿って帯状に切断(スリット)すると、分子配向軸は、テープの延在方向と平行または直交となる。
図2は、被覆導体の形成に用いられる帯状の被覆材の平面図である。被覆材3は帯状のテープである。絶縁フィルムの分子配向軸pは、テープの長手方向(B-B線に沿った方向)と平行でも直交でもなく、被覆材3の長手方向と絶縁フィルムの分子配向軸pとのなす角度(配向角)φは10~80°である。分子配向軸の方向(配向角)は、マイクロ波方式の分子配向計や、偏光を利用した複屈折計(位相差測定装置)等により測定できる。
長手方向に対して斜め方向に分子配向軸を有するフィルムを作製し、長手方向に沿って帯状にスリットすることにより、斜め方向に分子配向軸を有する被覆材が得られる。斜め方向に分子配向軸を有するフィルムは、例えば斜め延伸法により作製できる。フィルムの幅方向の両端をピンテンターやクリップテンター等により固定し、一端のテンターと他端のテンターの走行速度や走行軌跡に差を設けることにより、斜め方向に分子配向軸を有する斜め延伸フィルムが得られる。具体的には、一端のテンターによる保持開始点から保持解除点までの距離を他端のテンターによる保持開始点から保持解除点までの距離に比べて長くする方法、テンターの走行軌跡(テンターレールの形状)を全体的にカーブさせる方法、一端のテンターと他端のテンターを異なる走行軌跡に沿って移動させる方法、一端のテンターと他端のテンターを異なる速度で移動させる方法等が挙げられる。これらの複数を組み合わせてもよい。
フィルムの切断方向を調整することにより、斜め方向に分子配向軸を有する帯状のフィルムを得ることもできる。例えば、長手方向に平行または直交する分子配向軸を有するフィルムを、長手方向に直交でも平行でもない方向に沿って切断すれば、分子配向軸が傾斜した帯状のフィルムが得られる。
被覆材が絶縁フィルムの表面に接着層を備える場合は、接着層を設けた後にスリットを実施してもよく、スリット後のフィルム上に接着層を設けてもよい。生産性の観点からは、絶縁フィルム上に接着層を設けた被覆材を所定の幅Wにスリットする方法が好ましい。
[被覆材の巻きつけ]
帯状の被覆材3(以下、単に「絶縁テープ」とも記載する)を導線1の外周に螺旋状に巻きつけて、被覆導体を作製する。絶縁テープの巻きつけは、一般的な被覆導線の作製と同様の手順により実施すればよい。図1に示すように、螺旋のn周目の絶縁テープ31上の一部に、n+1周目の絶縁テープ32の一部が重なるように巻きつけることが好ましい。
図3および図4は、直径Dの導線1に、幅Wの絶縁テープ3を巻きつけ角度θで螺旋状に巻きつける様子を示す平面図である。巻きつけ角度θは、導線1の延在方向(A-A線)と絶縁テープ3の長手方向(B-B線)とのなす角度に等しい。
前述のように、絶縁テープ3のコア層(絶縁フィルム)の配向軸pは、導線1の延在方向と略平行である。絶縁フィルムの分子配向軸pと導線1の延在方向とのなす角度ωは、10°以下が好ましく、5°以下がより好ましく、3°以下がさらに好ましい。ωは2°以下、1°以下または0°でもよい。
ωが小さいことにより、被覆導体の耐摩耗性が向上する傾向がある。絶縁フィルムの配向軸pが、被覆導体の延在方向と平行であれば、被覆導体の延在方向に沿って外力が付与された場合(絶縁フィルムの配向方向に沿って外力が付与された場合)の絶縁フィルムの機械強度が高い。そのため、延在方向に沿った擦れ等に対する耐久性が向上し、耐摩耗性が向上すると考えられる。
導線1の延在方向(A-A線)を基準として、B-B線の回転方向と配向軸pの回転方向が等しい場合は、ω=θ―φの関係が成り立つ。例えば、図3ではA-A線に対して、配向軸pの方向およびB-B線の方向がいずれも反時計回りであり、ω=θ―φを満たす。図4に示すように、B-B線の回転方向(A-A線に対して半時計回り)と配向軸pの回転方向(A-A線に対して時計回り)が逆である場合は、ω=φ―θの関係が成り立つ。すなわち、角度ωは、巻きつけ角度θと配向角φの差の絶対値|θ-φ|に等しい。
巻きつけ角度θは、φ-10°~φ+10°が好ましく、φ-5°~φ+5°がより好ましく、φ-3°~φ+3°がさらに好ましい。θはφ±2°またはφ±1°の範囲内であってもよい。
絶縁テープが重なるように螺旋状に巻きつける際の巻きつけ角度θは、一般に20~70°程度であり、分子配向軸がテープの延在方向と平行または直交である場合(配向角φが0°または90°である場合)、ωは20°~70°となる。絶縁テープの長手方向に対して斜め方向に分子配向軸を有し、配向角φが10°~80°の範囲であれば、ωを10°以内に調整できる。ωを小さくするためには、配向角φは20°~70°がより好ましく、30°~65°がさらに好ましい。
絶縁テープを巻きつける向き(フィルムの表裏)が反転すると、角度ωが異なる。絶縁テープを巻きつける向きは、角度ωが小さくなるように設定すればよい。角度ωが小さくなる向きに絶縁フィルムを巻きつければ、上記のように、巻きつけ角度θ、配向角φおよび角度ωは、ω=|θ-φ|を満たす。
絶縁テープ3の幅W、および巻きつけ角度θは、被覆導体における絶縁テープの重なり率Rpが所定範囲となるように調整してもよい。重なり率(「ラップ率」ともいう)Rpは、螺旋のn周目の絶縁テープ31とn+1周目の絶縁テープ32との重なり幅Q(図1参照)、および絶縁テープの幅Wを用いて、下記式で定義される。
Rp(%)=100×Q/W
重なり率Rpが0より大きく50%未満の場合は、導線1の延在方向に沿ってみると、一部の領域では導線の外周に絶縁テープが2重巻かれており、他の領域では導線の外周に絶縁テープが1重に巻かれている。重なり率Rpが50%の場合は、全領域で導線の外周に絶縁テープが2重に巻かれている。重なり率Rpが50%より大きく66.7%未満の場合は、絶縁テープが2重に巻かれている領域と3重に巻かれている領域が存在する。重なり率Rpが66.7%の場合は、全領域で導線の外周に絶縁テープが3重に巻かれており、重なり率Rpが66.7%より大きく75%未満の場合は、絶縁テープが3重に巻かれている領域と4重に巻かれている領域が存在する。
導線の直径D、絶縁テープの幅W、絶縁テープの重なり幅Q、重なり率Rpおよび巻きつけ角度θは、以下の関係を満たす。
πD×cosθ=W-Q=W×(1-Rp/100)
設備面や製品仕様等の制約により、導線の直径D、絶縁テープの幅Wおよび重なり率Rpが所定値に定められている場合がある。その場合、巻きつけ角度θも一定の値となるため、絶縁テープ31の配向角φを調整して、角度ωを上記範囲とすればよい。一方、絶縁テープの配向角φが所定値である場合は、巻きつけ角度θを調整して、角度ωを上記範囲とすればよい。導線の直径D、絶縁テープの配向角φおよび重なり率Rpが所定値に定められている場合は、巻きつけ角度θに加えて、絶縁テープのスリット幅Wを調整すればよい。
導線1へ絶縁テープ3の巻きつけは、標準電線被覆機械(ラッピングマシーン)等を用いて行ってもよい。巻きつけの際に絶縁テープに掛ける張力は、縮緬皺(wrinkling)の発生を避けるのに十分なだけの張力から、ネックダウンを生じさせるのに十分に強い張力の範囲まで、広く変化させることができる。仮に張力が低い場合でも、巻きつけ後のヒートシール時の熱(例えば、240℃~500℃)により絶縁テープが縮むため、良好な密着性で導線を被覆できる。ヒートシールを行う場合は、絶縁テープ(絶縁フィルムおよび接着層)の厚み、導線の材料、生産ラインの速度、オーブンの長さ等に応じて、条件を適宜設定すればよい。
導線1の周りに絶縁テープ3を巻きつけた後、さらに別の絶縁材料を重ね合わせて巻きつけてもよい。絶縁テープに重ねる別の絶縁材料は配向軸を有していてもよく、有していなくてもよい。絶縁テープに重ねる別の絶縁材料は配向軸を有し、その配向軸方向が導線の延在方向と(略)平行であれば、被覆導体の耐摩耗性がさらに向上する傾向がある。
[絶縁被覆材の好ましい形態]
上記のように、絶縁被覆材(絶縁テープ)3は、絶縁フィルムを含み、好ましくは絶縁フィルムの少なくとも一方の面に接着層を備える。
<絶縁フィルム>
絶縁フィルムとしては、種々のポリマー材料からなるフィルムを用いることができる。絶縁フィルムはフィラーを含んでいてもよい。フィラーの材料としては、シリカ、酸化チタン、アルミナ、窒化珪素、窒化ホウ素、リン酸水素カルシウム、リン酸カルシウム、雲母等が挙げられる。
絶縁フィルムのポリマー材料としては、ポリウレタン樹脂、ポリ(メタ)アクリル樹脂、ポリビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂等が挙げられる。これらの中でも、耐熱性、電気絶縁性、耐薬品性、および難燃性等の諸特性に優れることから、ポリイミド樹脂を含むフィルム(ポリイミドフィルム)が好ましい。
(ポリイミドフィルム)
ポリイミドフィルムの作製方法は特に限定されないが、一般には、前駆体としてのポリアミド酸を膜状に形成した後、ポリアミド酸を脱水環化(イミド化)することにより得られる。ポリアミド酸は、通常、ジアミンとテトラカルボン酸二無水物(以下、単に「酸二無水物」と記載する場合がある)とを、実質的に等モル量で有機溶媒中に溶解させ、重合することにより得られる。
ジアミンとしては、4,4’-ジアミノジフェニルプロパン、4,4’-ジアミノジフェニルメタン、4,4’-ジアミノジフェニルスルフィド、3,3’-ジアミノジフェニルスルホン、4,4’-ジアミノジフェニルスルホン、4,4’-オキシジアニリン、3,3’-オキシジアニリン、3,4’-オキシジアニリン、4,4’-ジアミノジフェニルジエチルシラン、4,4’-ジアミノジフェニルシラン、4,4’-ジアミノジフェニルエチルホスフィンオキシド、4,4’-ジアミノジフェニル-N-メチルアミン、4,4’-ジアミノジフェニル-N-フェニルアミン、パラフェニレンジアミン、ビス{4-(4-アミノフェノキシ)フェニル}スルホン、ビス{4-(3-アミノフェノキシ)フェニル}スルホン、4,4’-ビス(4-アミノフェノキシ)ビフェニル、4,4’-ビス(3-アミノフェノキシ)ビフェニル、1,3-ビス(3-アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3-ビス(3-アミノフェノキシ)ベンゼン、3,3’-ジアミノベンゾフェノン、4,4'-ジアミノベンゾフェノン、2,2’-ジメチル-4,4’-ジアミノビフェニル、2,2-ビス(4-アミノフェノキシフェニル)プロパン、3,3’-ジヒドロキシ-4,4’-ジアミノ-1,1’-ビフェニル等が挙げられる。これらの中でも、パラフェニレンジアミン(PDA、4,4’-オキシジアニリン(ODA)、2,2-ビス〔4-(4-アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン(BAPP)、3,4’-オキシジアニリン、1,3-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼンが好ましい。
酸二無水物としては、ピロメリット酸二無水物、2,3,6,7-ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)プロパン酸二無水物、p-フェニレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)、4,4’-オキシジフタル酸二無水物等が挙げられる。これらの中でも、ピロメリット酸二無水物(PMDA)、3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(BTDA)、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(BPDA)が好ましい。
ポリアミド酸の重合に用いる有機溶媒は、ポリアミド酸を溶解可能であれば特に限定されない。有機溶媒としては、N,N-ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N-ジメチルアセトアミド(DMAc)、N-メチル-2-ピロリドン(NMP)等のアミド系溶媒が好ましく、中でもDMFおよびDMAcが好ましい。
有機溶媒にモノマー(ジアミンおよび酸二無水物)を溶解させ、撹拌することによりポリアミド酸の重合が進行する。モノマーは、一度に添加してもよく、複数回に分けて添加してもよい。モノマーの添加順序を調整することにより、モノマーのシーケンスを調整し、ポリイミドの諸物性を制御できる。例えば、第一段階として柔軟な化学構造を有するセグメントを形成した後、第二段階として剛直な化学構造を有するセグメントを形成することによりブロック共重合体を形成してもよい。
柔軟な化学構造を有するセグメントは、ジアミン成分としてODAを含み、酸二無水物としてBTDAを含むことが好ましい。酸二無水物成分のうちBTDAを10~30モル%含むことが好ましく、ジアミン成分のうちODAを40~60モル%含むことが好ましい。剛直な化学構造を有するセグメントは、酸二無水物成分としてPDA、PMDA、BPDA等を含むことが好ましく、中でもPDAとPMDAを主成分とすることがより好ましい。ポリイミド全体のジアミン成分のうち40~60モル%がPDAであることが好ましく、ポリイミド全体の酸二無水物成分のうち45モル%~65モル%がPMDAであることが好ましい。
ポリアミド酸溶液からポリイミドフィルムを製造する際のイミド化は、熱イミド化法および化学イミド化法のいずれでもよく、両者を併用してもよい。化学イミド化では、ポリアミド酸溶液に脱水剤およびイミド化触媒を添加することが好ましい。脱水剤としては、無水酢酸等の酸無水物が好ましい。イミド化触媒としては、イソキノリン、キノリン、β-ピコリン、ピリジン、ジメチルピリジン、ジエチルピリジン等の第三級アミン類が好ましい。
ポリアミド酸溶液からのポリイミドフィルムの作製は、一般には、ポリアミド酸溶液を支持体上に流延し、支持体上で加熱した後、支持体からゲルフィルムを引き剥がし、ゲルフィルムの両端を保持して搬送しながら加熱して、溶媒等を除去するとともに残ったアミド酸をイミド化することにより行われる。支持体からゲルフィルムを引き剥がした後、延伸することにより、所定方向に配向軸を有するポリイミドフィルムが得られる。
ゲルフィルムを延伸して所定方向に分子を配向させる場合、ゲルフィルムの残存揮発成分量(ゲル残揮)は、固形分100重量部に対して60~500重量部が好ましく100~400重量部がより好ましい。ゲル残揮が500重量部以下であれば、ポリイミドフィルムの分子配向角が均一となりやすく、ゲル残揮が60重量部以上であれば、ポリイミドフィルムの平滑性が良好となりやすい。
(絶縁フィルムの分子配向度)
ポリマーフィルムにおける分子の配向の程度を表す指標として、分子配向度(Molecular Orientation Ratio:MOR)がある。MORは、マイクロ波方式の分子配向計を用いて測定する。接着層を形成後の被覆材における絶縁フィルムの分子配向度を測定する場合は、接着層を除去して絶縁フィルム単体で測定を行う。
MORが1の場合は分子配向が等方性であり、MORが1より大きいフィルムは分子配向度の面内異方性を有する。MORが大きいほど、分子配向度の面内異方性が大きく、被覆導体の耐摩耗性が向上する傾向がある。
分子配向の異方性の程度が同等である場合、試料(フィルム)の厚みが大きいほど分子配向計により測定されるMORの値は大きくなる。そのため、分子配向の異方性の程度を評価する際には、所定の基準厚みに換算した規格化分子配向:MOR_cが用いられる。
MOR_c=(tc/t)×(MOR-1)+1
tは試料の厚み、tcは基準厚みである。
絶縁フィルムの基準厚みtc=75μmで規格化した分子配向度MOR_cは、1.3以上が好ましく、1.4以上がより好ましく、1.5以上がさらに好ましい。MOR_cは、1.6以上、1.7以上または1.8以上であってもよい。絶縁フィルムのMOR_cが大きいほど、被覆導体の耐摩耗性が向上する傾向がある。MOR_cの上限は特に限定されないが、一般には5以下である。MOR_cは4以下または3以下であってもよい。
絶縁フィルムの厚みは特に限定されない。被覆導体を軽量化する観点から、絶縁フィルムの厚みは小さい方が好ましい。絶縁フィルムの厚みは、25μm以下が好ましく、20μm以下がより好ましく、19μm以下がさらに好ましい。絶縁フィルムの厚みは18μm以下であってもよい。前述のように、本発明においては、絶縁フィルムの分子配向軸と導線の延在方向とを略平行とすることにより耐摩耗性を向上できるため、絶縁フィルムの厚みが小さい場合でも耐摩耗性に優れる被覆導体を形成できる。
絶縁フィルムの厚みの下限は特に限定されないが、取扱い性および機械強度を確保する観点から5μm以上が好ましく、7μm以上がより好ましい。絶縁フィルムの厚みおよび被覆材の厚みは、接触厚み計を用いて測定する。
<接着層>
絶縁被覆材の接着層の材料は、導線と絶縁フィルムとの接着性を向上できるものであれば特に限定されない。ヒートシールにより接着性を向上可能であることから、熱可塑性樹脂が好ましく、中でも、絶縁性および耐薬品性等の観点から、フッ素樹脂が好ましい。
フッ素樹脂は分子中にフッ素原子を含むポリマーであり、テトラフルオロエチレン重合体、テトラフルオロエチレン・ヘキサフルオロプロピレン共重合体、テトラフルオロエチレン・パーフルオロ(アルキルビニルエーテル)共重合体、テトラフルオロエチレン・エチレン共重合体、ポリクロロトリフルオロエチレン、エチレン・クロロトリフルオロエチレン共重合体、ポリフッ化ビニリデン、フッ化ビニリデン・ヘキサフルオロプロピレン共重合体およびポリフッ化ビニル等が挙げられる。中でも、テトラフルオロエチレン重合体、またはテトラフルオロエチレン・パーフルオロ(アルキルビニルエーテル)共重合体が好ましい。
接着層の厚みは、接着性を発現可能であれば特に限定されず、例えば、0.5~13μm程度である。絶縁フィルムの一方の面に複数の接着層を形成してもよい。絶縁フィルムの両面に接着層を設ける場合、表裏の接着層の材料および厚みは同一でもよく異なっていてもよい。接着層の表面や絶縁フィルムの表面には、接着性向上等を目的として、コロナ放電処理やプラズマ放電処理等の表面処理を施してもよい。
節煙フィルムの主面上に接着剤層を形成する方法としては、フィルム状の接着層をラミネートする方法、コア層としての絶縁フィルムと接着層とを多層共押出により形成する方法、絶縁フィルム上に接着層を構成する樹脂を含む溶液または分散液(ディスパージョン)を塗布する方法等が挙げられる。ディスパージョンとしては、接着層を構成する樹脂材料を水または有機溶剤に分散したものが用いられる。ディスパージョンの固形成分濃度は、10~70重量%程度である。ディスパージョンは、適切な厚みに達するまで複数回塗布してもよい。絶縁フィルムの主面上に接着層を形成後に、加熱焼成を行ってもよい。
[被覆導体の用途]
被覆導体は、各種の電線やケーブル等に用いられる。本発明の被覆導体は、耐摩耗性に優れるため、航空宇宙用の電線・ケーブル等としても有用である。
以下に実施例を示して本発明をより詳細に説明するが、本発明は下記の実施例に限定されるものではない。
[測定方法]
<ポリイミドフィルムの分子配向軸および分子配向度>
マイクロ波方式分子配向計(王子計測機器製「MOA-6015」)を用いてポリイミドフィルムの分子配向度(MOR)および配向角(φ)を求めた。ポリイミドフィルムの厚みtと基準厚みtc=75μmから、下記式に基づいて、基準厚み75μmで規格化した分子配向度MOR_cを算出した。
MOR_c=(tc/t)(MOR-1)+1
<被覆導体の耐摩耗性>
スクレープ摩耗試験機(WELLMAN製「REPEATED SCRAPE ABRASION TESTER(CAT.158L238G1)」を用い、英国規格協会航空機部品仕様(British Standard Institution Aerospace Series)「BS EN3475-503」に則って、被覆導体の摩耗試験を実施した。5回の試験値の平均値を被覆導体の耐磨耗回数とした。
[実施例1]
<ポリイミド前駆体の調製>
重合容器にジメチルホルムアミド(DMF)を326.0kg投入し、2,2-ビス〔4-(4-アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン(BAPP):14.7kg、4,4’-オキシジアニリン(ODA):6.6kg、3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(BTDA):9.8kg、およびピロメリット酸二無水物(PMDA):6.9kgを順に添加した後、50分間攪拌して溶解させた。その後、パラフェニレンジアミン(PDA):7.5kg、およびPMDA:15.6kgを添加し、1時間攪拌して溶解させた。別途調整しておいたPMDAのDMF溶液(7wt%)を上記反応液に徐々に添加し、23℃における粘度が2400ポイズに達したところで添加を止め、ポリイミド前駆体(ポリアミド酸溶液)を得た。
<ポリイミドフィルムの作製>
上記のポリイミド前駆体に、下記の量の無水酢酸(化学脱水剤)およびイソキノリン(触媒)を添加し、さらに、DMFを添加して固形分濃度10wt%のワニスを調製した。
無水酢酸:ポリアミド酸のアミド酸ユニット1モルに対して2.7モル
イソキノリン:ポリアミド酸のアミド酸ユニット1モルに対して0.6モル
上記のワニスを、0℃に冷却したリップ幅520mmのダイスから連続的に吐出して、SUS製のエンドレスベルト上にに流延し、50℃から100℃の範囲で段階的に100秒間加熱し、自己支持性を有するゲルフィルムとした。エンドレスベルトから引き剥がしたゲルフィルムの両端をテンターに固定し、長手方向にテンターを移動させながら20℃から100℃の範囲で段階的に加熱した。この際、左右のテンターの走行速度差を10%として、斜め方向に延伸を行った。
その後、150℃から400℃の範囲で段階的に加熱して、乾燥およびイミド化を行った。得られたポリイミドフィルムの厚みは17μmであり、長手方向を基準とする配向角φは32°、MOR_cは2.0であった。
<絶縁被覆材の作製>
ポリイミドフィルムの両面に、テトラフルオロエチレン・ヘキサフルオロプロピレン共重合体(FEP)の水性ディスパージョンを塗布し、150℃で65秒乾燥した後、410℃で15秒間焼成して、ポリイミドフィルムの両面のそれぞれに、厚み約2μmのFEP層が設けられた積層体を得た。この積層体を、幅5.0mmの帯状にスリットして、絶縁テープを得た。
<被覆導体の作製>
直径0.8mmの導線(Phelps doges製「High performance conductor Nickel coated copper」(AWG:20、CONST:19/32))に、絶縁テープの重なり幅Qが2.5mm、重なり率Rpが50%(2重巻き)となるように、巻きつけ角度θ=28°で上記の絶縁テープを螺旋状に巻きつけて、被覆導体を作製した。導線の延在方向とポリイミドフィルムの分子配向軸とのなす角度ωは4°であった。
[実施例2~4および比較例3,4]
ポリイミドフィルムの作製において、ゲルフィルムを20℃から100℃の範囲で段階的に加熱しながら搬送する際の左右のテンターの走行速度差を表1に示すように変更した。さらに、テープのスリット幅W、および巻きつけ角度θを表1に示すように変更した。比較例4では、ポリイミドフィルムの作製において、ダイスからのワニスの吐出量を実施例1の60%に低減して厚みを調整し、被覆導体の作製において、絶縁テープの重なり率Rpが66.7%(3重巻き)となるように、巻きつけ角度θを調整した。これらの変更点以外は実施例1と同様にして被覆導体を作製した。
[実施例5~7および比較例2]
ポリイミドフィルムの作製において、ゲルフィルムを20℃から100℃の範囲で段階的に加熱しながら搬送する際に、左右のテンターの走行速度差を表1に示すように変更するとともに、左右のテンター間の距離を4%縮めた。さらに、テープのスリット幅W、および巻きつけ角度θを表1に示すように変更した。実施例7では、ポリイミドフィルムの作製において、ダイスからのワニスの吐出量を実施例1の70%に低減して厚みを調整し、被覆導体の作製において、絶縁テープの重なり率Rpが66.7%(3重巻き)となるように、巻きつけ角度θを調整した。これらの変更点以外は実施例1と同様にして被覆導体を作製した。
[比較例1]
ポリイミドフィルムの作製において、ゲルフィルムを20℃から100℃の範囲で段階的に加熱しながら搬送する際に、左右のテンターの走行速度差を設けず、左右のテンター間の距離を18%拡げて、幅方向に延伸した。それ以外は実施例1と同様にして被覆導体を作製した。
[評価結果]
上記の実施例および比較例におけるポリイミドフィルム(ゲルフィルム)の延伸条件、ポリイミドフィルムの特性、被覆導体の作製条件、および耐摩耗性の評価結果を、表1に示す。
Figure 0007247038000001
実施例1~7の被覆導体は、耐摩耗回数が400回を超えており、優れた耐摩耗性を示した。実施例と比較例の対比から、導線の延在方向とポリイミドフィルムの配向軸とのなす角度ωが小さいほど、耐摩耗性が向上する傾向あることが分かる。また、実施例1と実施例6との対比から、角度ωが同程度の場合は、ポリイミドフィルムの分子配向度が大きいほど、被覆導体の耐摩耗性が高いことが分かる。
1 導線
3 絶縁被覆材(絶縁テープ)

Claims (8)

  1. 第一方向に延在する導線の外周に帯状の絶縁被覆材を螺旋状に巻きつけた被覆導体であって、
    前記絶縁被覆材は絶縁フィルムを含み、
    前記絶縁フィルムの分子配向軸と前記絶縁被覆材の長手方向とのなす角度φが10°~80°であり、前記絶縁フィルムの分子配向軸と前記第一方向とのなす角度ωが10°以下である、被覆導体。
  2. 前記絶縁フィルムがポリイミドを含む、請求項1に記載の被覆導体。
  3. 前記絶縁フィルムの基準厚み75μmで規格化した分子配向度MOR_cが、1.3以上である、請求項1または2に記載の被覆導体。
  4. 前記絶縁被覆材は、前記絶縁フィルムの少なくとも一方の主面上に接着層を備える、請求項1~3のいずれか1項に記載の被覆導体。
  5. 前記接着層がフッ素樹脂を含む、請求項4に記載の被覆導体。
  6. 第一方向に延在する導線の外周に帯状の絶縁被覆材を螺旋状に巻きつける被覆導体の製造方法であって、
    前記絶縁被覆材は絶縁フィルムを含み、前記絶縁フィルムの分子配向軸と前記絶縁被覆材の長手方向とのなす角度φが10°~80°であり、
    前記絶縁フィルムの分子配向軸と前記第一方向とのなす角度ωが10°以下となるように、前記導線の外周に前記絶縁被覆材を巻きつける、被覆導体の製造方法。
  7. 前記絶縁被覆材の前記絶縁フィルムは、搬送方向と分子配向軸とのなす角度が10°~80°である斜め延伸フィルムを、搬送方向と平行にスリットしたものである、請求項6に記載の被覆導体の製造方法。
  8. 前記絶縁被覆材の前記絶縁フィルムは、搬送方向と平行または直交する方向に分子配向軸を有するフィルムを、搬送方向に対して10°~80°の方向に沿ってスリットしたものである、請求項6に記載の被覆導体の製造方法。

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