JP7244769B2 - 光学部材の製造方法、発光装置の製造方法、及び発光モジュールの製造方法 - Google Patents

Description

本開示は、光学部材の製造方法、発光装置の製造方法、及び発光モジュールの製造方法に関する。

目的や用途に応じて、種々の配光特性を備えた光学部材、発光装置、及び発光モジュールが知られている。

韓国公開特許第１０－２００９－０１１７４１９号公報

光学部材、発光装置、及び発光モジュールの配光特性を調整可能な方法を提供する。

本開示は、以下の構成を含む。
光透過率が５０％以上である樹脂部材を準備する工程と、
前記樹脂部材の少なくとも一部である第１部分に処理液としてフッ酸、バッファードフッ酸、フッ酸又はバッファードフッ酸と過酸化水素水の混合液のいずれかを配置し、前記第１部分の光透過率を１５％以下とする処理工程と、
を備える光学部材の製造方法。

本開示のある実施形態によれば、配光特性を調整された光学部材、発光装置、及び発光モジュールを得ることが可能な新規な方法が提供される。

実施形態１に係る光学部材の製造方法によって得られる光学部材の一例を示す模式斜視図である。 図１ＡのＩＢ－ＩＢ線における模式断面図である。 実施形態１に係る光学部材の製造方法を説明するための模式平面図である。 図２ＡのＩＩＢ－ＩＩＢ線における模式断面図である。 実施形態１に係る光学部材の製造方法を説明するための模式平面図である。 図３ＡのＩＩＩＢ－ＩＩＩＢ線における模式断面図である。 実施形態１に係る光学部品の製造方法を説明するための模式断面図である。 実施形態１に係る光学部品の製造方法を説明するための模式断面図である。 実施形態１に係る光学部材の製造方法によって得られる光学部材の一例を示す模式断面図である。 実施形態１に係る光学部材の製造方法によって得られる光学部材の一例を示す模式拡大断面図である。 実施形態１に係る光学部材の製造方法によって得られる光学部材の一例を示す模式拡大断面図である。 実施形態１に係る光学部材の製造方法によって得られる光学部材の一例を示す模式拡大断面図である。 実施形態１に係る光学部品の製造方法を説明するための模式断面図である。 実施形態１に係る光学部品の製造方法によって得られる光学部品の一例を示す模式断面図である。 実施形態２に係る発光装置の製造方法によって得られる発光装置の一例を示す模式斜視図である。 図８ＡのＶＩＩＩＢ－ＶＩＩＩＢ線における模式断面図である。 実施形態２に係る発光装置の製造方法を説明するための模式断面図である。 実施形態２に係る発光装置の製造方法を説明するための模式断面図である。 実施形態２に係る発光装置の製造方法を説明するための模式断面図である。 実施形態２に係る発光装置の製造方法を説明するための模式断面図である。 実施形態２に係る発光装置の製造方法を説明するための模式断面図である。 実施形態３に係る発光装置の製造方法を説明するための模式断面図である。 実施形態３に係る発光装置の製造方法を説明するための模式断面図である。 実施形態３に係る発光装置の製造方法を説明するための模式断面図である。 実施形態４に係る発光装置の製造方法によって得られる発光装置の一例を示す模式斜視図である。 図１１ＡのＸＩＢ－ＸＢ線における模式断面図である。 実施形態４に係る発光装置の製造方法を説明するための模式断面図である。 実施形態４に係る発光装置の製造方法を説明するための模式断面図である。 実施形態４に係る発光装置の製造方法を説明するための模式断面図である。 実施形態５に係る発光モジュールの製造方法によって得られる発光モジュールの一例を示す模式平面図及び模式断面図である。 図１３ＡのＸＩＩＩＢ線における模式拡大断面図である。 実施形態５に係る発光モジュールの製造方法を説明するための模式断面図である。 実施形態６に係る発光モジュールの製造方法によって得られる発光モジュールの一例を示す模式平面図である。 図１５ＡのＸＶＢ線における模式拡大断面図である。 実施形態６に係る発光モジュールの製造方法を説明するための模式断面図である。

以下、図面に基づいて本発明を詳細に説明する。なお、以下の説明では、必要に応じて特定の方向や位置を示す用語（例えば、「上」、「下」、及びそれらの用語を含む別の用語）を用いるが、それらの用語の使用は図面を参照した発明の理解を容易にするためであって、それらの用語の意味によって本発明の技術的範囲が制限されるものではない。また、複数の図面に表れる同一符号の部分は同一もしくは同等の部分又は部材を示す。また、各部材は、例えば硬化の前後において、あるいは、切断の前後等において、状態や形状等が異なる場合であっても同じ名称を用いる場合がある。

さらに以下に示す実施形態は、本発明の技術思想を具体化するための発光モジュールを例示するものであって、本発明を以下に限定するものではない。また、以下に記載されている構成部品の寸法、材質、形状、その相対的配置等は、特定的な記載がない限り、本発明の範囲をそれのみに限定する趣旨ではなく、例示することを意図したものである。また、一の実施の形態において説明する内容は、他の実施の形態にも適用可能である。また、図面が示す部材の大きさや位置関係等は、説明を明確にするため誇張していることがある。

また、処理液によって処理される前の状態のものを「中間体」と称する。例えば、光学部材は樹脂部材を処理液で処理することによって得られるものであるため、樹脂部材は光学部材の中間体である。同様に、発光装置の中間体を処理液で処理することで発光装置が得られ、発光モジュールの中間体を処理液で処理することで発光モジュールが得られる。

各中間体は、樹脂部材、又は樹脂部材を備える部材である。樹脂部材は光透過率が５０％以上である。光学部材の第２部分は、樹脂部材の光透過率と同じである。発光装置及びその中間体における光透過率は、発光素子から出射される光のピーク波長の光に対する光透過率と定義できる。発光モジュール及びその中間体における光透過率は、光源から出射される光のピーク波長の光に対する光透過率と定義できる。光学部材及びその中間体における光透過率は、これらを用いて得られる発光装置又は発光モジュールの発光素子又は光源から出射される光のピーク波長に対する光透過率と定義できる。

樹脂部材は、光透過率が５０％以上である。そして、処理液としてフッ酸、バッファードフッ酸、フッ酸又はバッファードフッ酸と過酸化水素水の混合液と樹脂部材とを反応させることで、樹脂部材を改質して光透過率を１５％以下とすることができる。

光学部材の第１部分は、樹脂部材と処理液とが反応することで改質された部分である。つまり、樹脂部材は、処理液と反応する材料を含み、具体的には、フェニルシリコーン又はジメチルシリコーン等のポリシロキサン結合を含むシリコーン系樹脂を含む。そして、樹脂部材の一部が、処理液と反応してシロキサン結合が切断されることで、微細な凹部が生成され、この部分が第１部分となる。第１部分は、第２部分よりも表面粗さが粗くなっており、これにより光が拡散されることで光透過率が低下している。処理液と反応させる条件によって、改質の度合いを調整することができる。

光透過率が５０％以上である樹脂部材の全てを改質して、光透過率が１５％の第１部分とすることができる。つまり、第２部分を備えず、第１部分のみからなる光学部材とすることができる。あるいは、樹脂部材の一部を改質して光透過率が１５％以下の第１部分と、改質せずに光透過率が５０％以上の第２部分と、の２つの領域を備えた光学部材とすることができる。

また、樹脂部材を改質して光透過率を５０％より小さく、かつ、１５％よりも大きい部分を含む光学部材とすることができる。このような第１部分と第２部分の間の光透過率の部分を第３部分と称する。つまり、光学部材は、少なくとも第１部分を含み、第２部分と第３部分の少なくとも一方を備えることで２つの部分を備えることができる。あるいは、光学部材は、第１部分と第２部分と第３部分の３つの部分を含むことができる。

第１部分又は第３部分は、光透過率のほかに、フーリエ変換赤外分光測定法（ＦＴ－ＩＲ法）等の分析方法によって分析することができる。詳細には、ＦＴ－ＩＲ法で得られる吸光スペクトルにおいて、１０００ｃｍ^－１～１２００ｃｍ^－１の範囲に出現するスペクトルで比較することができる。この範囲において、樹脂部材（つまり第２部分）では高い値を示し、第１部分又は第３部分はそれよりも低い値を示す。

実施形態に係る各製造方法では、あらかじめ光透過率が１５％以下の部材を用いるのではなく、光透過率が５０％以上の樹脂部材を備える中間体を準備し、その一部を処理液によって光透過率を１５％以下に改質している。これにより、中間体の形状を基本的には変形させることなく、中間体の光学特性を変化させた光学部材、発光装置、及び発光モジュールを得ることができる。

また、硬化された状態の樹脂部材中間体を処理液によって改質しているため、硬化されていない状態の樹脂部材中間体を用いる場合に比して、取り扱い易い。つまり、硬化された状態の樹脂部材中間体は、硬化されていない状態の樹脂部材中間体に比して粘度や形状の変化がない。そのため、粘度の変化や形状の変化を気にすることなく、光透過率や配光特性などの光学特性を確認しながら、処理条件を調整することができる。
このように、樹脂部材を改質させることで光透過率を変化させることができるため、あらかじめ光透過率の低い部材を、樹脂部材とは別に準備する必要がない。

＜実施形態１＞
図１Ａ及び図１Ｂは、実施形態１に係る光学部材の製造方法で得られる光学部材１０の一例を示す模式図である。光学部材１０は、光透過率が１５％以下である第１部分１１１と、光透過率が５０％以上の第２部分１１２と、を備える。

光学部材１０は、例えば、第１面１１と第１面１１の反対側の第２面１２と、を備えるシート状又は板状の部材である。光学部材１０の大きさ又は形状は目的や用途に応じて種々選択することができる。

光学部材１０は、第１面１１及び第２面１２のいずれか一方又は両方において、少なくともその一部が第１部分１１１である。例えば、図１Ａ及び図１Ｂに示す光学部材１０では、第１面１１に第１部分１１１及び第２部分１１２を有する。光学部材１０は、第２面１２にも第１部分１１１及び第２部分１１２を備える例を示している。また、図７Ｂに示す光学部材２０では、第１面１１に第１部分１１１を有し、第２面１２に第２部分１１２を備える。

図１Ａに示す光学部材１０は、第１面１１側から見た平面視において四角形であり、４つの第２部分１１２と、これらを囲むように配置される第１部分１１１と、を備える。換言すると、光学部材１０は、格子状の第１部分１１１と、格子の開口部に配置される４つの第２部分１１２と、を備える。第２部分１１２は、それぞれ四角形である。尚、光学部材１０の形状は、四角形のほか、三角形、五角形等の多角形や、円形、楕円形、さらにはこれらの一部が欠けた形状や変形された形状等とすることができる。また、第１部分１１１の形状や大きさ、第２部分１１２の形状や大きさについては、目的や用途に応じて適宜選択することができる。

このような光学部材１０は、後述の発光装置又は発光モジュールの一部として用いることができる。例えば、光学部材１０を発光装置の一部として用いる場合、第２部分１１２は発光装置の光取り出し部として用い、第１部分１１１は光を拡散又は遮る部分であり、光取り出し部との明暗の差をつけてコントラストを向上させる部分として用いることができる。あるいは、第１部分１１１を発光装置の上面の全面に配置することで、発光装置の上方向への光を抑制し、横方向に出射される光を多くすることができる。

このよう光学部材の製造方法は、主として以下の工程を備える。
（１－１）光透過率が５０％以上である樹脂部材を準備する工程と、
（１－２）樹脂部材の少なくとも一部である第１部分に、処理液としてフッ酸、バッファードフッ酸、フッ酸又はバッファードフッ酸と過酸化水素水の混合液のいずれかを配置することで第１部分の光透過率を１５％の第１部分とする処理工程と、
を備える。

（１－１：樹脂部材準備工程）
図２Ａ及び図２Ｂに示すような樹脂部材１０Ａを準備する。樹脂部材１０Ａの光透過率は５０％以上である。

樹脂部材１０Ａは、板状又はシート状のほか、これらを切断した棒状又はブロック状等、種々の形状とすることができる。樹脂部材１０Ａは、例えば、厚みが０．０２ｍｍ～２ｍｍ程度とすることができる。以下、板状の樹脂部材１０Ａを例に挙げて説明する。板状の樹脂部材１０Ａは、あらかじめ所望の形状に成形されたものを購入して準備することができる。また、あらかじめ成形された樹脂成型品を購入し、所望の形状に加工することで準備することができる。あるいは、樹脂部材の材料を購入又は製造し、成形することで樹脂部材１０Ａを準備することができる。

板状の樹脂部材１０Ａは、第１面１１と、第１面１１の反対側の第２面１２と、を備える。図２Ａにおいて破線で示す４つの四角形のそれぞれの内側の第２部分１１２Ａは、光学部材１０の第２部分１１２となる部分である。また、破線で示す４つの四角形を囲む格子状の第１部分１１１Ａは、光学部材１０の第１部分１１１となる部分である。樹脂部材１０Ａの段階では、第１部分１１１Ａと第２部分１１２Ａは同じ部材である。

なお、第１部分１１１Ａは、少なくとも処理液と直接的に接する第１面１１に位置する部分は、改質されて第１部分１１１となる。ただし、深さ方向においては、その全体が第１部分１１１となる場合と、第１部分１１１とはならない場合とがある。この点については後述する。

（１－２：処理工程）
次に、樹脂部材１０Ａの第１面１１に、処理液を配置する。第１面１１の一部を第１部分１１１とする場合、第１面１１の一部をマスクで被覆することが好ましい。マスクで被覆された部分に位置する樹脂部材１０Ａは、後述の処理液によって改質されない部分であり、光学部材１０の第２部分１１２となる部分である。マスクは、第１部分１１１又は第２部分１１２の形状、大きさ、数等に応じて適宜選択することができる。図１Ａに示すような、四角形の第２部分１１２とする場合は、図３Ａに示すように、マスクＭの形状を第２部分１１２と略同じ大きさの四角形とする。また、マスクＭは、図５に示すように、樹脂部材１０Ａの第１面１１及び第２面１２の両方に配置してもよい。尚、第１面１１の全面を第１部分１１１とする場合は、図７Ａに示すように、マスクＭを用いなくてもよい。

マスクＭの材料は、樹脂部材１０Ａや、後述の処理液と反応しにくい材料が用いられる。例えば、ノボラック系樹脂、アクリル系樹脂等のフォトレジスト、金属板、フッ素樹脂シート、エチレンプロピレンゴムシート等が挙げられる。液状又はペースト状のレジストをマスクＭとする場合は、レジストを樹脂部材１０Ａの所望の位置に印刷、ポッティング、スプレー等で配置する方法が挙げられる。また、金属板やレジストテープ等の固体状のマスクＭを用いる場合は、接着剤等で樹脂部材１０Ａの所望の位置に貼り付ける方法が挙げられる。

次に、図４に示すように、マスクＭが配置された第１面１１を上側にして、作業台等の上に樹脂部材１０Ａを載置し、処理液Ｌを配置する。

処理液としては、フッ酸、バッファードフッ酸、フッ酸又はバッファードフッ酸と過酸化水素水の混合液のいずれかを用いることができる。

フッ酸の濃度は、例えば、１％～５５％とすることができる。フッ酸のｐＨは、例えば、０～２とすることができる。フッ酸の温度は、例えば、２７℃程度とすることができる。

バッファードフッ酸は、例えば、ＮＨ_４ＨＦ_２の濃度を０．１％～２０％、ＮＨ_４Ｆの濃度を３％～２０％とすることができる。バッファードフッ酸のｐＨは、例えば、３～７とすることができる。バッファードフッ酸の温度は、例えば２７℃程度とすることができる。

フッ酸又はバッファードフッ酸と過酸化水素水の混合液は、例えば、混合比は５：１～１：５等とすることができる。また、フッ酸又はバッファードフッ酸と過酸化水素水の混合液のｐＨは、例えば、０～７とすることができる。フッ酸又はバッファードフッ酸と過酸化水素水の混合液の温度は、例えば２７℃とすることができる。

処理液Ｌの配置方法としては、印刷、ポッティング、スプレー、浸漬処理、ミスト処理等が挙げられる。例えば、図４に示す例のように、樹脂部材１０Ａの第１面１１にマスクＭが配置されており、その上方から、ノズルＮを用いて処理液Ｌをスプレーする。これにより、マスクＭ上と第１部分１１１Ａ上に処理液を配置することができる。樹脂部材１０Ａの大きさによって、ノズルＮ又は樹脂部材１０Ａを相対的に移動させることで、樹脂部材１０Ａの第１面１１の全体に処理液Ｌを配置することができる。その場合、ノズルＮは、第１部分１１１Ａの上方のみを移動してもよく、あるいは、マスクＭをと第１部分１１１Ａの両方の上方を移動してもよい。また、複数のノズルＮを用いることで、複数のノズルＮと樹脂部材１０Ａとを相対的に移動せずに固定した状態で処理液Ｌを配置することができる。また、樹脂部材１０Ａの面積が小さい場合は、１つのノズルＮを固定した状態で処理液Ｌを配置することができる。

樹脂部材１０Ａの第１部分１１１Ａ上に配置された処理液Ｌと第１部分１１１Ａとが反応することで第１部分１１１Ａが改質され、光透過率が１５％以下の第１部分１１１が形成される。処理液Ｌは、樹脂部材１０Ａの第１部分１１１Ａの表面のみを改質して第１部分１１１とすることができる。あるいは、処理液Ｌは、樹脂部材１０Ａの第１部分１１１Ａの深さ方向に位置する部分も改質して第１部分１１１とすることができる。

処理液Ｌによって改質することが可能な第１部分１１１Ａの深さは、処理液Ｌの濃度、処理液の配置時間等の処理条件によって調整することができる。例えば、樹脂部材１０Ａの第１面１１から深い位置にある第１部分１１１Ａまで改質させたい場合は、処理液の濃度を高くする、又は、処理液を配置する時間を長くする等の方法で行うことができる。また、処理液Ｌの配置回数を多くする、例えば、スプレーする回数を多くすることで、深い位置にある第１部分１１１Ａを改質して第１部分１１１を形成することができる。樹脂部材１０Ａの厚みによっては、第１面１１上に配置した処理液によって、樹脂部材１０Ａの第１面１１から第２面１２まで達する部分を改質して、第１面１１から第２面１２まで達する第１部分１１１を形成することができる。樹脂部材１０Ａの内部において、例えば、第１面１１から１５０μｍ～２００μｍ程度までの部分を改質し、光透過率が１５％以下の第１部分１１１とすることができる。

樹脂部材１０Ａの第１面１１と第２面１２の両方に第１部分１１１を形成したい場合は、第１面１１と第２面１２のそれぞれに、必要に応じてマスクＭを配置して処理液Ｌを配置することができる。第１面１１と第２面１２のそれぞれのマスクＭの位置は、図５に示すように平面視において重なる位置とすることができる。また、これに限らず第１面１１と第２面１２のマスクＭの位置は、異なる位置であってもよい。

また、処理液Ｌの配置方法としては、図５に示すように、容器Ｒ内に入れられた処理液Ｌ内に、樹脂部材１０Ａを浸漬させる方法を用いることができる。例えば、樹脂部材１０Ａの第１面１１及び第２面１２の両方に第１部分１１１を形成させたい場合は、図５に示すように、第１面１１及び第２面１２の両方にマスクＭを配置した状態で、樹脂部材１０Ａを処理液Ｌ内に浸漬させることで、短時間で処理を完了させることができる。

図６Ｂ～図６Ｄは、図６Ａに示す光学部材１０の第１部分１１１と第２部分１１２の境界部分を含む部分を拡大して示す模式拡大断面図である。第１部分１１１と第２部分１１２とは、もともとは同じ樹脂部材１０Ａで構成された部分であり、第１部分１１１は、処理液と反応することによって改質された部分である。第２部分１１２は改質されていない部分である。つまり、第２部分１１２は、元の樹脂部材１０Ａの材料そのものである部分である。処理液Ｌによって樹脂部材１０Ａの一部が改質される場合、図６Ｂに示すように、その境界が明確に視認できる場合と、明確ではなく視認しにくい場合とがある。例えば、図６Ｃに示すように、第１部分１１１と第２部分１１２との間に、第３部分１１３が存在する場合がある。第３部分１１３は、光透過率が５０％より小さく、かつ、１５％よりも大きい。つまり、第３部分は、第１部分１１１と第２部分１１２の間の透過率を示す部分である。第１部分１１１と第３部分１１３の境界は、明確に視認できる場合と、明確ではなく視認しにくい場合がある。同様に、第２部分１１２と第３部分１１３の境界も、明確に視認できる場合と、明確ではなく視認しにくい場合がある。

また、樹脂部材１０Ａの厚み、処理液Ｌの濃度や処理時間等の処理条件によって、樹脂部材１０Ａの深さ方向における第１部分１１１の深さを調整することができる。例えば、図６Ｂ及び図６Ｃに示す光学部材は、第１部分１１１は、第１面１１から第２面１２に達している。

また、図６Ｄに示す光学部材は、第１部分１１１は、第２面１２から離隔している。このような場合、第１部分１１１と第２面１２との間には、第２部分１１２が位置している。あるいは、第１部分１１１と第２面１２の間に、第３部分１１３が位置していてもよい。深さ方向においても、第１部分１１１と第２部分１１２との境界は明確でない場合がある。

図７Ａに示すように、マスクＭを用いずに樹脂部材１０Ａの第１面１１の全面に処理液Ｌを配置する場合も、図７Ｂに示すように、第１部分１１１と第２部分１１２との境界が明確な場合と、明確ではない場合とがある。

第２部分の光透過率を１５％以下にまで低下させた後、光学部材を純水によって洗浄する。これにより、更なる改質が進行することを抑制することができる。その後、必要に応じてマスクを除去し、乾燥させる。

＜実施形態２＞
図８Ａ及び図８Ｂは、実施形態２に係る発光装置の製造方法で得られる発光装置３０の一例を示す模式図である。

発光装置３０は、発光素子２１と、光学部材１０と、を備える。光学部材１０は、実施形態１に係る方法で得られたものを一例として用いている。発光素子２１は、半導体積層体２１１と電極２１２と、を備える。半導体積層体２１１の電極２１２を上にし、電極２１２の反対側の発光面の上に、光学部材１０の第２部分１１２が位置するように配置される。光学部材１０と発光素子２１とは、接合部材２２で接合される。また、発光素子２１の側方には、接合部材２２を介して被覆部材２３が配置されている。被覆部材２３の上方には、光学部材１０の第１部分１１１が位置している。

発光装置３０は、第２部分１１２を発光部とし、第１部分１１１を非発光部とすることでコントラストを向上させることができる。

実施形態２に係る発光装置の製造方法は、主として以下の工程を備える。
（２－１）光透過率が１５％以下である第１部分と、光透過率が５０％以上である第２部分とを備える光学部材を準備する工程と、
（２－２）発光面と、発光面の反対側に電極を備える電極形成面と、を備える発光素子を準備する工程と、
（２－３）光学部材の第２面上に、接合部材を配置する工程と、
（２－４）接合部材上に発光素子の発光面を対向させて載置する工程と、
（２－５）発光素子の電極が露出するよう、光学部材の第２面上に被覆部材を配置する工程と、
を備える。

つまり、実施形態２に係る発光装置の製造方法は、実施形態１に係る方法で得られる光学部材を用いる工程を含む。

以下、各工程について詳説する。

（２－１：光学部材準備工程）
まず、図９Ａに示すように、光学部材１０を準備する。光学部材１０は、実施形態１に係る方法で得られたものである。光学部材１０は、図１Ａに示すように、平面視において四角形の第２部分１１２と、第２部分１１２を囲むように配置された格子状の第１部分１１１と、を備える。

光学部材１０は、例えば支持部材上に配置される。ここでは、光学部材１０は、第１面１１を下側に向け、第２面１２を上側に向けている例を示している。第１面１１は、処理液と直接接する側の面であるため、第１部分１１１と第２部分１１２との境界が、第２面１２側よりも明確となり易い。そのため、第１面１１側が、後述の発光装置の発光面となるようにすることが好ましい。尚、第１面１１を上側に向け、第２面１２を下側に向けてもよい。第２部分１１２の数や大きさ等は、適宜選択することができる。以下では、４つの第２部分１１２を備える光学部材１０を例示して説明する。

（２－２：発光素子準備工程）
次に、複数の発光素子２１を準備する。発光素子２１は、半導体積層体２１１と正負一対の電極２１２とを備える。正負一対の電極２１２は、発光面とは反対側の半導体積層体２１１の電極形成面側に配置されている。

（２－３：接合部材配置工程）
次に、図９Ｂに示すように、光学部材１０の上に、液状の接合部材２２を配置する。液状の接合部材２２は、光学部材１０の第２部分１１２の上に配置する。接合部材２２は、第１部分１１１の上には配置されない。つまり、図９Ｂに示すように、複数の接合部材２２はそれぞれ離隔して配置される。接合部材２２は、ポッティング、印刷、スプレー等の方法で配置することができる。尚、接合部材２２は、発光素子２１側に配置してもよい。

（２－４：発光素子載置工程）
次に、図９Ｃに示すように、各接合部材２２の上に、発光素子２１を配置する。発光素子２１は、接合部材２２の上に、発光素子２１の発光面を対向させて載置する。発光素子２１と光学部材１０の間には、図示していないが厚みの薄い接合部材２２が存在している。発光素子２１を液状の接合部材２２の上に配置すると、接合部材２２は発光素子２１の側面に這い上がる。これにより、接合部材２２の外面が、斜め上方向に向くような形状になる。発光素子２１を接合部材２２上に配置した後、必要に応じて発光素子２１を押圧してもよい。発光素子２１を配置後に、液状の接合部材２２を加熱することで、硬化された接合部材２２が形成される。

（２－５：被覆部材配置工程）
次に、図９Ｄに示すように、光学部材１０の第２面１２上に、発光素子２１及び接合部材２２を覆う被覆部材２３を配置する。被覆部材２３は、複数の発光素子２１を一体的に覆うように設ける。被覆部材２３は、例えば、シリコーン樹脂に酸化チタンが６０ｗｔ％程度含有された部材等を用いることができる。被覆部材２３は、例えば、圧縮成形、トランスファモールド、射出成形、印刷、スプレー等により形成することができる。

被覆部材２３は、あらかじめ発光素子２１の電極２１２の少なくとも一部が露出するように配置することができる。あるいは、被覆部材２３は、発光素子２１の電極２１２の全体を覆うように配置し、硬化させた後に、被覆部材２３の一部を除去して発光素子２１の電極２１２を露出させてもよい。被覆部材２３の一部を除去する方法としては、ブラストや研磨が挙げられる。また、被覆部材２３を配置した後、露出された電極２１２を被覆する金属膜を形成してもよい。この金属膜は、電極２１２の上だけでなく、被覆部材２３の上にも延在して形成することができる。

次に、隣接する発光素子２１の間に位置する第１部分１１１及び被覆部材２３を切断することで、図９Ｅに示すような個片化された発光装置３０を得ることができる。

＜実施形態３＞
図８Ａに示す発光装置３０は、実施形態３に係る発光装置の製造方法でも得ることができる。実施形態２に係る製造方法は、あらかじめ処理液を用いて光透過率を１５％以下とした第１部分１１１と、光透過率が５０％以上の第２部分１１２とを備える光学部材１０を準備する。これに対し、実施形態３に係る製造方法では、樹脂部材を備える発光装置中間体を準備し、処理液を用いて発光装置中間体の樹脂部材の少なくとも一部の光透過率を低下させる。

実施形態３に係る発光装置の製造方法は、主として以下の工程を備える。
（３－１）発光面と、前記発光面の反対側に電極を備える電極形成面と、を備える発光素子と、発光素子の発光面上に配置され、光透過率が５０％以上の樹脂部材と、を備える発光装置中間体を準備する工程と、
（３－２）樹脂部材の上面の少なくとも一部に、処理液としてフッ酸、バッファードフッ酸、フッ酸又はバッファードフッ酸と過酸化水素水の混合液のいずれかを配置することで、光透過率が１５％以下とする処理工程と、
を備える。

（３－１：発光装置中間体準備工程）
まず、発光装置中間体３０Ａを準備する。図１０Ａは発光装置中間体３０Ａの一例を示す模式断面図である。発光装置中間体３０Ａは、発光素子２１と、樹脂部材３４Ａと、を備える。樹脂部材３４Ａは、後に光学部材３４となる部材である。つまり、樹脂部材３４Ａは光学部材中間体ともいえる。樹脂部材３４Ａは、発光素子２１上に配置される第２部分３４２Ａと、発光素子２１の側方に位置する被覆部材２３上に配置される第１部分３４１Ａと、を備える。この時点では、樹脂部材３４Ａの第１部分３４１Ａと第２部分３４２Ａとは同じ特性であり、具体的には光透過率が５０％である。

樹脂部材３４Ａは、発光素子２１の発光面上に配置されている。樹脂部材３４Ａは、被覆部材２３上にも配置されている。接合部材２２は、発光素子２１の発光面と樹脂部材３４Ａとを接合している。

発光装置中間体３０Ａは、発光素子２１を２つ備えている。ただし、これに限らず、発光装置中間体３０Ａは、発光素子２１を１つ、又は３以上備えることができる。さらに、発光装置中間体３０Ａは、発光素子の側面を被覆する被覆部材２３を備えてもよい。また、発光素子２１の発光面と樹脂部材１０Ａとの間に、これらを接合する接合部材２２を備えてもおい。接合部材２２は、発光素子２１の半導体積層体２１１の側面を被覆してもよい。接合部材２２を備える場合は、被覆部材２３は接合部材２２の側面を被覆する。つまり、被覆部材２３は、発光素子２１の半導体積層体２１１の側面を直接又は間接的に被覆する。

（３－２：処理工程）
次に、図１０Ｂに示すように樹脂部材３４Ａの第２部分３４２ＡをマスクＭで被覆する。マスクＭで被覆された部分は、後述の処理液によって改質されない部分であり、光学部材３４の第２部分３４２となる部分である。マスクＭは、発光素子２１の直上に位置する第２部分３４２Ａの少なくとも５０％以上を被覆するように配置する。好ましくは、発光素子２１の直上に位置する第２部分３４２Ａの全体を被覆するようにマスクＭを配置する。また、発光装置中間体３０Ａが接合部材２２を備える場合は、接合部材２２の上方の樹脂部材３４Ａ上にもマスクＭを配置することができる。つまり、接合部材２２上の樹脂部材３４Ａも第２部分３４２Ａとすることができる。ただし、マスクＭは、接合部材２２の一部を被覆してもよい。

次に、発光装置中間体３０Ａの樹脂部材３４Ａの上面に、処理液Ｌを配置する。処理液を配置する方法は、実施形態１と同様の方法を用いることができる。マスクＭから露出されている樹脂部材３４Ａの第１部分３４１Ａは、処理液Ｌと反応して光透過率が１５％以下の第１部分３４１となる。これにより、光学部材３４を備える発光装置の集合体とすることができる。そして、図１０Ｃに示すように、発光素子２１間に位置する樹脂部材３４Ａの第１部分３４１及びその下方に位置する被覆部材２３を、破線で示すような幅のダイサー等を用いて切断する。これにより図８Ａ、図８Ｂに示す発光装置３０を得ることができる。

このような、方法によって得られる発光装置３０は、実施形態２に係る方法で得られる発光装置３０と同様に、発光部と非発光部とのコントラストを向上可能な発光装置３０を得ることができる。

＜実施形態４＞
図１１Ａ及び図１１Ｂは、実施形態４に係る発光装置の製造方法で得られる発光装置４０の一例を示す模式図である。発光装置４０は、発光素子２１と、発光素子２１の発光面を被覆する光学部材４４と、を備える。光学部材４４は、発光素子２１の上面と接する第２部分４４２と、第２部分４４２の上に配置される第１部分４４１と、を備える。発光装置４０では、光学部材４４の第２部分４４２が発光素子２１の側面も覆っている。また、発光素子２１の半導体積層体２１１の下面（電極形成面）は、被覆部材４３で覆われている。電極２１２の側面は被覆部材４３で被覆され、電極２１２の下面は被覆部材４３から露出している。被覆部材４３は光学部材４４の第２部分４４２の下面も被覆している。

発光装置４０は、光透過率が１５％以下の第１部分４４１が、発光装置４０の上面の全体に配置されている。つまり、発光素子２１から上方に出射される光の少なくとも一部は、第１部分４４１によって遮られる。これにより、発光素子２１の上方に第１部分を備えない発光装置に比して、横方向に出射される光の割合を多くすることができる。

実施形態４に係る発光装置の製造方法は、主として以下の工程を備える。
（４－１）発光面と、発光面の反対側に電極を備える電極形成面と、前記発光面と前記電極形成面との間の側面と、を備える半導体積層体と、電極と、を備える発光素子と、発光素子の発光面に配置され、光透過率が５０％以上の樹脂部材と、を備える発光装置中間体を準備する工程と、
（４－２）樹脂部材の上面の全面に、処理液としてフッ酸、バッファードフッ酸、フッ酸又はバッファードフッ酸と過酸化水素水の混合液のいずれかを配置することで、光透過率を１５％以下とする処理工程と、
を備える。

つまり、実施形態４に係る発光装置の製造方法は、実施形態３に係る発光装置の製造方法とは、以下の点において異なる。まず、樹脂部材３４Ａが発光素子２１の側面に配置されている発光装置中間体４０Ａを準備する点において異なる。また、発光素子２１の上方を含む樹脂部材３４Ａの上面の全面の光透過率を1５％以下の第１部分４４１とする点において異なる。

（４－１：発光装置中間体準備工程）
まず、図１２Ａに示すように、発光素子２１と樹脂部材４４Ａとを備える発光装置中間体４０Ａを準備する。図１２Ａに示す例では、さらに発光素子２１の下面側に被覆部材４３を備える発光装置中間体４０Ａを例に挙げる。ここでは、被覆部材４３は、発光素子２１の電極形成面を被覆し、電極２１２の下面を露出している。また、樹脂部材４４Ａは発光素子２１の側面を覆っており、被覆部材４３は、その樹脂部材４４Ａの下面を覆うように配置される。

（４－２：処理工程）
次に、図１２Ｂに示すように、樹脂部材４４Ａの上面の全面である第１部分４４１Ａに処理液Ｌを配置する。処理液を配置する方法は、実施形態１と同様の方法を用いることができる。これにより、図１２Ｃに示すように、光学部材４４を備える発光装置の集合体とし、破線で示すような幅のダイサー等を用いて切断する。これにより図１１Ａ、図１１Ｂに示す発光装置４０を得ることができる。

＜実施形態５＞
図１３Ａ及び図１３Ｂは、実施形態５に係る発光モジュールの製造方法で得られる発光モジュール５０の一例を示す模式図である。

発光モジュール５０は、導光部材５１と、光源５２と、光学部材５３と、を備える。導光部材５１は第１主面５１１と第２主面５１２と、を備える。導光部材５１は、第２主面５１２側に開口する孔部５１３を備える。光源５２は、孔部５１３内に配置される。孔部５１３は側面と底面とを備える有底孔部（凹部）である。導光部材５１の第１主面５１１には、平面視において孔部５１３と重なる位置に第１凹部５１４を備える。そして、第１凹部５１４内に、光透過率が１５％以下の第１部分５３１を備える光学部材５３を備える。

光源５２から出射された光は、導光部材５１内に入射される。そして、導光部材５１内を導光し、第１主面５１１側から出射される。このとき、光源５２の直上に位置する第１部分５３１を含む光学部材５３によって、光源５２からの光が遮られる。これにより、光源５２の直上方向に出射される光を低減することができる。つまり、面状の発光モジュール５０において、光源５２の直上が他所よりも明るくなりすぎることを低減し、輝度ムラを低減した発光モジュール５０とすることができる。

実施形態５に係る発光モジュールの製造方法は、主として以下の工程を備える。
（１）第１主面と、前記第１主面の反対側の第２主面と、前記第２主面側に開口を有する孔部を備える導光部材と、前記孔部内に配置される光源と、平面視において前記光源と重なる位置に配置される光透過率が５０％以上の樹脂部材と、を備える発光モジュール中間体を準備する工程と、
（２）前記樹脂部材の上面の少なくとも一部である第１部分の上に、処理液としてフッ酸、バッファードフッ酸、フッ酸又はバッファードフッ酸と過酸化水素水の混合液のいずれかを配置し、前記第１部分の光透過率を１５％以下とする処理工程と、
を備える発光モジュールの製造方法。

（５－１：発光モジュール中間体準備工程）
まず、発光モジュール中間体を準備する。図１４は発光モジュール中間体５０Ａの一例を示す模式断面図である。発光モジュール中間体５０Ａは、図１３Ｂに示す発光モジュール５０における光学部材５３が、光透過率が５０％以上の樹脂部材５３Ａである。その他の構成は、発光モジュール５０と同じである。樹脂部材５３Ａは、導光部材５１の第１凹部５１４内に配置されている。樹脂部材５３Ａの上面は、第１主面５１１よりも低い位置にある。ただしこれに限らず、樹脂部材５３Ａは、第１主面５１１と同じ高さであってもよい。

このような発光モジュール中間体５０Ａは、購入して準備することができる。または、以下に示すような工程の一部又は全てを行って準備することができる。例えば、シート状又は板状の導光部材５１の第２主面５１２側に光源５２を配置し、封止部材５５で封止し、配線部材５７を配置することで得ることができる。光源５２は、半導体発光素子、又は、半導体発光素子と樹脂材料等を組み合わせた発光装置を用いることができる。実施形態２～実施形態４に係る方法で得られた発光装置を用いることもできる。光源５２は、透光性部材５６によって導光部材５１と接合されている。導光部材５１の第２主面５１２側には、光源５２が配置される孔部（第１孔部）５１３を取り囲むように、第２凹部５１５を備えていてもよい。第２凹部５１５内には封止部材５５が配置される。

（５－２：処理工程）
次に、図１４に示すように、樹脂部材５３Ａの上面に、処理液Ｌを配置する。樹脂部材５３Ａの上面に処理液を配置する場合、導光部材５１の第１主面５１１にマスクを配置することができる。あるいは、導光部材５１の材料が、処理液Ｌと反応しない材料の場合は、第１主面５１１に、マスクを配置する工程を省略することができる。例えば、導光部材５１がポリカーボネートであり、樹脂部材５３Ａがシリコーン樹脂であり、処理液がフッ酸の場合は、マスクを用いなくてもよい。ポリカーボネートはフッ酸と反応しないため透過率は低下しない。シリコーン樹脂は、フッ酸と反応して透過率が低下する。ポリカーボネートの導光部材５１とシリコーン樹脂の樹脂部材５３Ａの両方の上に、つまり、発光モジュール中間体５０Ａの上面の全面にフッ酸を配置したとしても、選択的にシリコーン樹脂の樹脂部材５３Ａのみ光透過率を低下させることができる。図１３Ｂに示す例では、樹脂部材５３Ａの全体が光学部材５３の第１部分５３１となっている例を示している。ただし、これに限らず処理条件を調整することで、第１部分５３１と第２部分とを備える光学部材５３とすることもできる。

＜実施形態６＞
図１５Ａ及び図１５Ｂは、実施形態６に係る発光モジュールの製造方法で得られる発光モジュール６０の一例を示す模式図である。

発光モジュール６０は、導光部材６１と、光源６２と、光学部材６３と、を備える。導光部材６１は第１主面６１１と第２主面６１２と、を備える。導光部材６１は、第２主面６１２側に開口を有する孔部６１３を備える。光源６２は、孔部６１３内に配置される。実施形態６に係る発光モジュール６０は、導光部材６１の孔部６１３は貫通孔部（貫通孔）である。換言すると、孔部６１３は第１主面６１１及び第２主面６１２に開口する貫通孔であり、第１主面６１１から第２主面６１２に達する側面によって画定される。そして、孔部６１３内に光学部材６３が配置され、この光学部材６３の一部が、光透過率が１５％以下の第１部分６３１である。導光部材６１の第２主面６１２側には封止部材６５が配置される。また、図示していないが、封止部材６５の内部又は下面に、光源６２に電圧を印加可能な配線部材を備える。

実施形態５では、光学部材５３の第１部分５３１と光源５２との間に導光部材５１が介在しているのに対し、実施形態６では、光学部材６３の第１部分６３１と光源６２の間には、導光部材が介在していない。実施形態６では、第１部分６３１は光源６２と接する光学部材６３の一部である。実施形態６のような形態においても、光源６２からの光のうち、直上方向に出射される光は、第１部分６３１によって遮られる。つまり、実施形態５と同様に、面状の発光モジュール６０において、光源６２直上が他所よりも明るくなりすぎることを低減し、輝度ムラを低減した発光モジュール６０とすることができる。

また、発光モジュール６０は、平面視において光源６２が配置される孔部６１３を囲む溝部６１５を有する。そして、溝部６１５内にも、光透過率が１５％以下の第１部分６４１を有する第２光学部材６４が配置されている。平面視において略四角形の溝部６１５で囲まれた領域を１つの発光領域とすると、その発光領域に含まれる光源６２からの光は、溝部６１５内の第２光学部材６４の第１部分６４１によって、隣接する発光領域に伝搬することを抑制することができる。これにより、発光部と非発光部とのコントラストを向上させることができる。

実施形態６に係る発光モジュールの製造方法は、主として以下の工程を備える。
（１）第１主面と、前記第１主面の反対側の第２主面と、前記第１主面から第２主面まで開口を有する孔部を備える導光部材と、前記孔部内に配置される光源と、前記孔部内において前記光源上に配置される光透過率が５０％以上の樹脂部材と、を備える発光モジュール中間体を準備する工程と、
（２）前記樹脂部材の上面の少なくとも一部である第１部分の上に、処理液としてフッ酸、バッファードフッ酸、フッ酸又はバッファードフッ酸と過酸化水素水の混合液のいずれかを配置し、前記第１部分の光透過率を１５％以下とする処理工程と、
を備える発光モジュールの製造方法。

つまり、実施形態６に係る発光モジュールの製造方法は、実施形態に係る発光モジュールの製造方法とは、以下の点において異なる。まず、導光部材６１の孔部６１３が貫通孔部である点において異なる。また、樹脂部材６３Ａが、光源６２と共に孔部６１３内に配置されている点において異なる。

（６－１：発光モジュール中間体準備工程）
まず、発光モジュール中間体を準備する。図１６は発光装置中間体６０Ａの一例を示す模式断面図である。発光モジュール中間体６０Ａは、図１５Ｂに示す発光モジュール６０における光学部材６３が、光透過率が５０％以上の樹脂部材６３Ａである。また、第２光学部材６４が、光透過率が５０％以上の第２樹脂部材６４Ａである。その他の構成は、発光モジュール６０と同じである。

このような発光モジュール中間体６０Ａは、購入して準備することができる。または、以下に示すような工程の一部又は全てを行って準備することができる。例えば、配線部材と封止部材とを含む複合基板上に光源６２を配置し、その光源６２が孔部６１３内に位置するように導光部材６１を配置する。その後、孔部６１３内に樹脂部材６３Ａを配置する。さらに、導光部材６１の第１主面６１１側から溝部６１５を形成し、その内部に第２樹脂部材６４Ａを配置する。複合基板上に、先に導光部材６１を配置した後に光源６２を配置してもよい。また、溝部６１５は、孔部６１３と同じ工程で形成してもよい。

（６－２：処理工程）
樹脂部材６３Ａの上面に、処理液Ｌを配置する工程は、実施形態５と同様に行うことができる。また、光源６２が配置される孔部６１３内の樹脂部材６３Ａと、孔部６１３を囲む溝部６１５内の第２樹脂部材６４Ａとの両方に、処理液Ｌを配置することができる。この場合、処理液Ｌは、孔部６１３内の樹脂部材６３Ａと、溝部６１５内の第２樹脂部材６４Ａに、それぞれ同じものを用いてもよく、又は異なるものを用いてもよい。異なる処理液を用いる場合は、例えば、材料が異なるもの、同じ材料で濃度が異なるもの、を用いることができる。さらに、処理時間は、同じ時間であってもよく、異なる時間であってもよい。また、処理液Ｌを配置する順番は、孔部６１３内の第２樹脂部材６４Ａと溝部６１５内の第２樹脂部材６４Ａとの上面に同時又は異なるタイミングで配置することができる。

孔部６１３内の光学部材６３の第１部分６３１の厚みと、溝部６１５内の第２光学部材６４の第１部分６４１の厚みとは、同じであってもよく、異なっていてもよい。図１５Ｂに示す例では、孔部６１３内の光学部材６３の第１部分６３１の厚みよりも、溝部６１５内の第２光学部材６４の第１部分６４１の厚みの方が大きい。換言すると、溝部６１５内の第２光学部材６４の第１部分６４１が、第２主面６１２に近い位置に配置されている。これにより、光源６２からの光を隣接する発光領域に伝搬させにくくすることができる。図１５Ｂでは、溝部６１５は導光部材６１の第２主面６１２から離隔している。換言すると溝部６１５は有底の凹部ともいえる。ただし、これに限らず、溝部６１５は、導光部材６１の第１主面６１１から第２主面６１２まで貫通していてもよい。また、第２光学部材６４の全てが、第１部分６４１であってもよい。

図１５Ｂに示すように、孔部６１３内において、第１部分６３１は光源６２と直接接していない。詳細には、第１部分６３１は光源６２上の第２部分６３２の上に配置されており、光源６２とは離隔している。これにより、光源６２の直上方向から出射される光を過度に遮ることを抑制することができる。

以下、各部材について詳説する。

（光学部材／樹脂部材）
光学部材は、光透過率が１５％以下の第１部分と、光透過率が５０％以上の第２部分と、を備える。光学部材の第１部分は、光学部材の中間体である樹脂部材を、処理液によって改質された部分である。光学部材の第２部分は、中間体である樹脂部材から改質されてない部分、つまり、樹脂部材そのものの部分である。光学部材は、第１部分と第２部分の間に、光透過率が１５％より大きく、５０％よりも小さい第３部分を備える場合がある。

光学部材の中間体である樹脂部材は、フェニルシリコーン、又は、ジメチルシリコーンを主として含む。光学部材の第２部分は、樹脂部材から改質されてない部分である。つまり、第２部分は、フェニルシリコーン、又は、ジメチルシリコーンを主として含む。第２部分は、処理液によって改質された部分を含まない部分である。

樹脂部材は、光透過率が５０％以上となる範囲において、光拡散物質又は蛍光体を含んでいてもよい。光拡散物質としては、例えばＳｉＯ_２、ＴｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、ＺｎＯ等の微粒子が挙げられる。

蛍光体としては、例えば、イットリウム・アルミニウム・ガーネット系蛍光体（例えばＹ_３（Ａｌ，Ｇａ）_５Ｏ_１２：Ｃｅ）、ルテチウム・アルミニウム・ガーネット系蛍光体（例えばＬｕ_３（Ａｌ，Ｇａ）_５Ｏ_１２：Ｃｅ）、テルビウム・アルミニウム・ガーネット系蛍光体（例えばＴｂ_３（Ａｌ，Ｇａ）_５Ｏ_１２：Ｃｅ）系蛍光体、シリケート系蛍光体（例えば（Ｂａ，Ｓｒ）_２ＳｉＯ_４：Ｅｕ）、クロロシリケート系蛍光体（例えばＣａ_８Ｍｇ（ＳｉＯ_４）_４Ｃｌ_２：Ｅｕ）が挙げられる。さらに、窒化物系蛍光体として、βサイアロン系蛍光体（例えばＳｉ_６－ｚＡｌ_ｚＯ_ｚＮ_８－ｚ：Ｅｕ（０＜ｚ＜４．２））、αサイアロン系蛍光体（例えばＭｚ（Ｓｉ，Ａｌ）_１２（Ｏ，Ｎ）_１６（但し、０＜ｚ≦２であり、ＭはＬｉ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｙ、及びＬａとＣｅを除くランタニド元素）、窒素含有アルミノ珪酸カルシウム（ＣＡＳＮ又はＳＣＡＳＮ）系蛍光体（例えば（Ｓｒ，Ｃａ）ＡｌＳｉＮ_３：Ｅｕ）などが挙げられる。一般式（Ｉ）Ｍａ_ｘＭｂ_ｙＡｌ_３Ｎ_ｚ：Ｅｕで表される蛍光体（ただし、上記一般式（I））中、Ｍａは、Ｃａ、Ｓｒ及びＢａからなる群から選択される少なくとも１種の元素であり、Ｍｂは、Ｌｉ、Ｎａ及びＫからなる群から選択される少なくとも１種の元素であり、ｘ、ｙ及びｚはそれぞれ、０．５≦ｘ≦１．５、０．５≦ｙ≦１．２、及び３．５≦ｚ≦４．５を満たす）、が挙げられる。さらに、ＳＧＳ系蛍光体（例えばＳｒＧａ_２Ｓ_４：Ｅｕ）が挙げられる。このほか、マンガン賦活フッ化物系蛍光体（一般式（ＩＩ）Ａ_２［Ｍ_１－ａＭｎ_ａＦ_６］で表される蛍光体（但し、上記一般式（ＩＩ）中、Ａは、Ｋ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｒｂ、Ｃｓ及びＮＨ_４からなる群から選ばれる少なくとも１種であり、Ｍは、第４族元素及び第１４族元素からなる群から選ばれる少なくとも１種の元素であり、ａは０＜ａ＜０．２を満たす））が挙げられる。このマンガン賦活フッ化物系蛍光体の代表例としては、マンガン賦活フッ化珪酸カリウムの蛍光体（例えばＫＳＦ（Ｋ_２ＳｉＦ_６：Ｍｎ））がある。

（発光装置／発光装置の中間体）
発光装置は、上述の光学部材に加え、発光素子、接合部材、被覆部材、金属膜等を備えることができる。発光装置に含まれる光学部材は、樹脂部材又は発光装置の中間体に含まれる樹脂部材の少なくとも一部が改質されたものである。

発光装置の発光素子は、半導体積層体と、正負一対の電極とを含む。発光素子は、可視光又は紫外光を発光可能である。発光素子は、可視光として、青色から赤色までを発光可能である。半導体積層体は、例えばＩｎ_ｘＡｌ_ｙＧａ_{１－ｘ－ｙ}Ｎ（０≦ｘ、０≦ｙ、ｘ＋ｙ≦１）を含むことができる。

半導体積層体は、上述のような発光色を発光可能な発光層を、少なくとも１つ備えることができる。例えば、半導体積層体は、ｎ型半導体層と、ｐ型半導体層との間に１つの発光色を発光可能な発光層を含むことができる。なお、前記発光層は、ダブルヘテロ接合や単一量子井戸構造(ＳＱＷ)などの単一の活性層を持つ構造でもよいし、多重量子井戸構造(ＭＱＷ)のようにひとまとまりの活性層群を持つ構造でもよい。また、半導体積層体は、複数の発光層を含むこともできる。例えば、半導体積層体は、ｎ型半導体層とｐ型半導体層との間に複数の発光層を含む構造であってもよいし、ｎ型半導体層と発光層とｐ型半導体層とを順に含む構造が複数回繰り返された構造であってもよい。複数の発光層には、発光色が異なる活性層を含んでいてもよいし、発光色が同じ活性層を含んでいてもよい。なお、同じ発光色とは、使用上同じ発光色とみなせる範囲、例えば、主波長で数ｎｍ程度のばらつきがあってもよい。発光色の組み合わせとしては適宜選択することができる。例えば、半導体積層体に２つの活性層を含む場合、発光色の組み合わせとしては、青色光と青色光、緑色光と緑色光、赤色光と赤色光、紫外光と紫外光、青色光と緑色光、青色光と赤色光、又は緑色光と赤色光などが挙げられる

発光装置の接合部材は、光学部材と発光素子とを接合させる部材である。例えば、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリエチレンテレフタレート等の透光性の熱硬化性の樹脂材料等を用いることができる。

発光装置の被覆部材は、発光素子からの光の一部を反射する機能を備えることが好ましい。例えば、発光素子から出射される光に対して５０％～９０％の反射率を有し、好ましくは６０％～８０％の反射率を有する。被覆部材の材料は、例えば、白色の樹脂材料を用いることができる。白色の樹脂材料としては、例えば、光反射性物質としてＳｉＯ_２、ＴｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、ＺｎＯ等を含む樹脂材料が挙げ有られる。樹脂材料としては、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂等の透光性の熱硬化性の樹脂材料等を用いることができる。

（発光モジュール／発光モジュールの中間体）
発光モジュールの導光部材は、光源から出射される光を面状に広げる透光性の部材である。導光部材の材料としては、アクリル、ポリカーボネート、環状ポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエステル等の熱可塑性樹脂やガラスなどの光学的に透明な材料を用いることができる。特に、熱可塑性樹脂は、射出成形によって効率よく製造することができるため、好ましい。

発光モジュールの光源は、前述の発光装置を用いることができる。あるいは、発光素子のみを光源として用いることができる。

発光モジュールの封止部材は、光源と導光部材の第２主面とを被覆する光反射性の部材である。封止部材は、光源から出射される光に対して６０％以上の反射率を有し、好ましくは９０％以上の反射率を有する。封止部材の材料は、例えば、金属や、白色の樹脂材料等を用いることができる。また、封止部材としてＤＢＲ膜を用いることができる。封止部材の材料は、特に、白色の樹脂材料が好ましい。白色の樹脂材料としては、例えば、光反射性物質としてＳｉＯ_２、ＴｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、ＺｎＯ等を含む樹脂材料や、発泡樹脂材料等が挙げ有られる。樹脂材料としては、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリエチレンテレフタレート等の透光性の熱硬化性の樹脂材料等を用いることができる。

発光モジュールの導光部材が、第２主面側に有底孔部を備えており、この有底孔部内に光源が配置される場合、導光部材と光源とは透光性部材によって固定される。透光性部材は、光源から出射される光を透過させる透光性である。透光性部材は、光源から出射される光の６０％以上を透過し、好ましくは９０％以上を透過する。透光性部材は、導光部材の材料と同程度の屈折率を有する材料が好ましい。例えば、母材の材料として、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、これらを混合した樹脂、または、ガラスなどの透光性材料を用いることができる。

（配線部材）
発光モジュールの配線部材は、配線のみを用いることができる。あるいは、配線部材は、配線と絶縁部材と備えた配線基板を用いることができる。絶縁部材の上面と下面とに配線を備える配線基板の場合は、上面の配線と下面の配線とが導電性のビアで接合されていてもよい。

１０、２０…光学部材
１０Ａ…樹脂部材（光学部材中間体）
１１…光学部材の第１面／樹脂部材の第１面
１２…光学部材の第２面／樹脂部材の第２面
１１１、１１１Ａ…第１部分
１１２…第２部分
１１３…第３部分
３０、４０…発光装置
３０Ａ、４０Ａ…発光装置中間体
２１…発光素子
２１１…半導体積層体
２１２…電極
２２…接合部材
２３、４３…被覆部材
３４、４４…光学部材
３４Ａ、４４Ａ…樹脂部材（光学部材中間体）
３４１、３４１Ａ、４４１、４４１Ａ…第１部分
３４２、３４２Ａ、４４２…第２部分
５０、６０…発光モジュール
５０Ａ、６０Ａ…発光モジュール中間体
５１…導光部材（５１１…第１主面、５１２…第２主面、５１３…孔部（第１孔部／有底孔部）、５１４…第１凹部（天面凹部）、５１５…第２凹部）
６１…導光部材（６１１…第１主面、６１２…第２主面、６１３…孔部（第２孔部／貫通孔部）、６１５…溝部）
５２、６２…光源
５３、６３…光学部材
５３Ａ、６３Ａ…樹脂部材（光学部材中間体）
５３１、５３１Ａ、６３１…第１部分
６３２…第２部分
６４…第２光学部材
６４Ａ…第２樹脂部材
６４１…第１部分
６４２…第２部分
５５、６５…封止部材
５６…透光性部材
５７…配線部材
Ｎ…ノズル
Ｌ…処理液（フッ酸等）
Ｍ…マスク
Ｒ…容器

Claims (9)

1. 光透過率が５０％以上であり、ポリシロキサン結合を含むシリコーン系樹脂を含みシリカ粉末を含まない樹脂部材を準備する工程と、
   前記樹脂部材の少なくとも一部である第１部分に処理液としてフッ酸、バッファードフッ酸、フッ酸又はバッファードフッ酸と過酸化水素水の混合液のいずれかを配置し、前記第１部分の光透過率を１５％以下とする処理工程と、
   を備える光学部材の製造方法。
2. 前記処理工程は、前記樹脂部材の一部をマスクで被覆し、前記マスクで被覆された部分を光透過率が５０％以上の第２部分とする工程を含む、請求項１に記載の光学部材の製造方法。
3. 前記処理工程は、光透過率が５０％より小さく、かつ、１５％よりも大きい第３部分を形成する工程を含む、請求項１又は請求項２に記載の光学部材の製造方法。
4. 請求項１～請求項３のいずれか１項で得られる光学部材であって、第１主面と前記第１主面の反対側の第２主面とを備える光学部材を準備する工程と、
   発光面と、発光面の反対側に電極を備える電極形成面と、を備える発光素子を準備する工程と、
   前記光学部材の前記第２主面上に、接合部材を配置する工程と、
   前記接合部材上に前記発光素子の前記発光面を対向させて載置する工程と、
   前記発光素子の電極が露出するよう、前記光学部材の第２主面上に封止部材を配置する工程と、
   を備える発光装置の製造方法。
5. 発光面と前記発光面の反対側に電極を備える電極形成面とを備える半導体積層体と電極とを備える発光素子と、前記発光素子の発光面上に配置され、光透過率が５０％以上であり、ポリシロキサン結合を含むシリコーン系樹脂を含みシリカ粉末を含まない樹脂部材と、を備える発光装置中間体を準備する工程と、
   前記樹脂部材の上面の少なくとも一部である第１部分に、処理液としてフッ酸、バッファードフッ酸、フッ酸又はバッファードフッ酸と過酸化水素水の混合液のいずれかを配置し、前記第１部分の光透過率を１５％以下とする工程と、
   を含む発光装置の製造方法。
6. 前記発光装置中間体は、前記発光素子の側面を被覆する被覆部材を備え、前記第１部分は、前記被覆部材上に位置する、請求項５に記載の発光装置の製造方法。
7. 前記発光素子は、前記発光面と前記電極形成面との間の側面を有し、前記樹脂部材は、前記半導体積層体の側面を被覆し、前記第１部分は、前記樹脂部材の上面の全面である、請求項５に記載の発光装置の製造方法。
8. 第１主面と、前記第１主面の反対側の第２主面と、前記第２主面側に開口を有する貫通孔部を備える導光部材と、前記貫通孔部内に配置される光源と、平面視において前記光源と重なる位置に配置される光透過率が５０％以上の樹脂部材と、を備える発光モジュール中間体を準備する工程と、
   前記樹脂部材の上面の少なくとも一部である第１部分の上に、処理液としてフッ酸、バッファードフッ酸、フッ酸又はバッファードフッ酸と過酸化水素水の混合液のいずれかを配置し、前記第１部分の光透過率を１５％以下とする工程と、
   を備える発光モジュールの製造方法。
9. 前記孔部は、有底孔部であり、前記樹脂部材は、前記導光部材の前記第１主面上に配置される、請求項８に記載の発光モジュールの製造方法。

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