JP7241017B2 - リソグラフィ装置 - Google Patents
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Description
本出願は、2016年12月14日に出願された欧州特許出願第16203954.9号の優先権を主張し、その全体が参照により本明細書に援用される。
検出面での回折次数の投影の位置は、基準面でのビームの位置および/または方向の変化に対して異なる応答をする。したがって、検出面内の投影の位置を分析することにより、ビームが基準面内で望ましい位置と望ましい方向を有しているかどうかについての情報を得ることができる。検出面内の投影の位置から、基準面内でビームを所望の位置および所望の方向に移動させるために、放射源システムのどの光学デバイス(レンズ、ミラー、またはビームスプリッタなど)を調整する必要があるかを推測できる。
例えば、0次回折次数と1次回折次数について考察する。検出面内でのこれらの異なる回折次数の像の位置は、電磁放射の伝播方向に垂直な方向のビームの変位(つまり、線形成分の変化)に対して異なる応答をし、電磁放射の伝播方向の変化(つまり、角度成分の変化)に対して異なる応答をする。要するに、検出面内の異なる回折次数の像または投影の位置は、使用されるレンズの焦点距離によって決定される基準面と交差するビームの角度成分だけでなく、線形成分に関する情報を含んでいる。
したがって、検出面内の基準マークに対する像の実際の位置を決定することにより、オペレータは、所望の位置で像を取得するために、回折光学素子の上流の1つまたは複数のミラー、レンズ、またはビームスプリッタを調整することができる。あるいは、データ処理システムは、検出面内の所望の位置で像を取得し、その結果ビームを適切に位置合わせするために、検出面内の像の相対位置の分析を実行し、レンズ、ミラー、またはビームスプリッタの関連するものに関連付けられたアクチュエータに指示して、それらの位置および/または向きを調整する。
本発明の任意の態様に従って上記で定義された特徴、または本発明の任意の特定の実施形態に関して以下で定義される特徴は、単独で、または他の定義された特徴と組み合わせて、本発明の他の態様または実施形態で利用できることを理解されたい。
Claims (10)
- レーザと、前記レーザからのレーザビームを使用して放射ビームを生成するよう構成された放射源とを備えるリソグラフィ装置のための放射源システムであって、
前記放射源システムは、基準面内の基準位置に対する前記レーザビームの位置を決定し、前記基準面内の基準方向に対する前記レーザビームの方向を決定するように構成されたアライメントシステムを備え、
前記アライメントシステムは、前記基準面と交差する前記レーザビームを表す像を検出面上に投影するように構成され、
前記アライメントシステムは、回折光学システムを含み、
前記回折光学システムは、前記レーザビームを異なる回折次数に回折するように動作し、
前記回折光学システムは、第1レンズと、前記第1レンズとは別の第2レンズとを有し、
前記第1レンズは、前記異なる回折次数のうちの第1の特定の1つの第1の投影を、前記検出面内の第1の位置に生成するように動作し、
前記第2レンズは、前記異なる回折次数のうちの第2の特定の1つの第2の投影を、前記第1の位置と異なる前記検出面内の第2の位置に生成するよう動作する、
放射源システムと、
前記放射源システムからの放射ビームにパターンを付与するパターニングデバイスと、
前記パターンが付与された放射ビームを基板に投影する投影システムと、
を備えるリソグラフィ装置。 - 前記第1の投影および前記第2の投影は実質的に重ならない、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記異なる回折次数のうちの前記第1の特定の1つは、0次回折次数であり、
前記第1レンズは、前記基準面との断面における前記レーザビームの強度分布の第1の像を前記検出面上に投影するように動作可能であり、
前記異なる回折次数のうちの前記第2の特定の1つは、1次回折次数であり、
前記第2レンズは、前記第2レンズと前記検出面との間の距離に実質的に等しい焦点距離を有する、
請求項1または2に記載のリソグラフィ装置。 - 前記回折光学システムは、前記第1レンズおよび前記第2レンズとは別の第3レンズを有し、
前記第3レンズは、前記異なる回折次数のうちの第3の特定の1つの第3の投影を、前記第1の位置と異なり且つ前記第2の位置と異なる前記検出面内の第3の位置に生成するよう動作する、
請求項1、2または3に記載のリソグラフィ装置。 - 前記異なる回折次数のうちの前記第2の特定の1つは1次回折次数であり、
前記異なる回折次数のうちの前記第3の特定の1つは別の1次回折次数である、
請求項4に記載のリソグラフィ装置。 - 前記回折光学システムは、前記第1レンズおよび前記第2レンズとは別の第3レンズと、第4レンズと、第5レンズとを有し、
前記第3レンズは、前記異なる回折次数のうちの第3の特定の1つの第3の投影を、前記第1の位置と異なり且つ前記第2の位置と異なる前記検出面内の第3の位置に生成するよう動作し、
前記第4レンズは、前記異なる回折次数のうちの第4の特定の1つの第4の投影を、前記第1の位置と異なり且つ前記第2の位置と異なり且つ前記第3の位置と異なる前記検出面内の第4の位置に生成するよう動作し、
前記第5レンズは、前記異なる回折次数のうちの第5の特定の1つの第5の投影を、前記第1の位置と異なり且つ前記第2の位置と異なり且つ前記第3の位置と異なり且つ前記第4の位置と異なる前記検出面内の第5の位置に生成するよう動作する、
請求項1または2に記載のリソグラフィ装置。 - 前記回折光学システムは二次元格子を実現し、
前記二次元格子は、4つの異なる1次回折次数(0,1)、(1,0)、(-1,0)および(0、-1)を生成するように動作し、
前記異なる回折次数のうちの前記第1の特定の1つは、0次回折次数であり、
前記異なる回折次数のうちの前記第2の特定の1つは、前記4つの異なる1次回折次数のうちの第1の1つであり、
前記異なる回折次数のうちの前記第3の特定の1つは、前記4つの異なる1次回折次数のうちの第2の1つであり、
前記異なる回折次数のうちの前記第4の特定の1つは、前記4つの異なる1次回折次数のうちの第3の1つであり、
前記異なる回折次数のうちの前記第5の特定の1つは、前記4つの異なる1次回折次数のうちの第4の1つであり、
前記第1レンズは、前記基準面との断面における前記レーザビームの強度分布の第1の像を前記検出面上に投影するように動作可能であり、
前記第2レンズ、前記第3レンズ、前記第4レンズおよび前記第5レンズの各々は、それぞれのレンズと前記検出面との間の距離に実質的に等しいそれぞれの焦点距離を有する、
請求項6に記載のリソグラフィ装置。 - 前記回折光学システムがホログラムを含む、請求項1、2、3、4、5、6または7に記載のリソグラフィ装置。
- 前記アライメントシステムは、前記第1の投影と前記第2の投影とを検出するように構成された検出システムを含む、請求項1、2、3、4、5、6、7または8に記載のリソグラフィ装置。
- 前記アライメントシステムは、
前記基準位置に対する前記レーザビームの位置、
前記基準方向に対する前記レーザビームの方向、
のうちの少なくとも1つを制御するように構成された光学デバイスと、
前記光学デバイスの位置および向きのうちの少なくとも1つを調整するように構成されたアクチュエータと、
前記検出システムから出力信号を受け取り、受け取った出力信号に応じて前記アクチュエータを制御するように構成されたコントローラと、
を備える、請求項9に記載のリソグラフィ装置。
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