JP7234501B2 - Copper alloy - Google Patents

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Description

本発明は、例えば、家電、リードフレーム等の半導体部品、プリント配線板、放熱板、開閉器部品、ブスバー、コネクタ等の等の電気・電子機器用部品などに好適な銅合金に関するものである。 The present invention relates to copper alloys suitable for electrical and electronic device parts such as home appliances, semiconductor parts such as lead frames, printed wiring boards, heat sinks, switch parts, busbars, connectors and the like.

上述の各種用途の銅合金としては、従来、FeとPとを含有するCu-Fe-P系合金が汎用されている。
Cu-Fe-P系合金は、銅母相中にFe又はFe-P等の金属間化合物を析出させた析出強化型合金であって、強度、導電性および熱伝導性に優れていることから、様々な用途で広く使用されている。
近年、Cu-Fe-P系合金の用途拡大や、電気・電子機器の軽量化、薄肉化、小型化などに伴い、Cu-Fe-P系合金に対しても、より一層の高強度化、高導電率化、良好な熱伝導性が求められている。
Cu--Fe--P alloys containing Fe and P have been widely used as copper alloys for the various uses described above.
A Cu—Fe—P alloy is a precipitation-strengthened alloy in which an intermetallic compound such as Fe or Fe—P is precipitated in a copper matrix, and is excellent in strength, electrical conductivity, and thermal conductivity. , are widely used in a variety of applications.
In recent years, with the expansion of the use of Cu-Fe-P alloys and the reduction in the weight, thickness and size of electrical and electronic equipment, the strength of Cu-Fe-P alloys has been further increased. High electrical conductivity and good thermal conductivity are required.

ここで、Cu-Fe-P系合金の板材からリードフレーム等の電気・電子機器用部品を製造する際には、スタンピング加工(プレス打ち抜き加工)によって、多ピン形状に加工することが一般的である。
最近では、さらなる多ピン化が進んでおり、これにともなって、スタンピング加工後の加工品に歪みが残留しやすく、ピンの形状が不揃いとなる傾向にある。
Here, when producing parts for electric/electronic devices such as lead frames from a plate material of Cu--Fe--P alloy, it is common to process it into a multi-pin shape by stamping (press punching). be.
Recently, the number of pins has been increasing, and along with this, distortion tends to remain in the stamped product, and the shape of the pins tends to be uneven.

そこで、スタンピング加工して得られた多ピン形状の加工品に対して、歪取りのための熱処理が実施されることがある。
しかし、このような熱処理を行った場合には、材料が軟化して強度が低下し、必要な強度を確保できなくなるおそれがある。また、生産性を向上させるために、上述の熱処理は、より高温、短時間で実施することが求められている。
このため、Cu-Fe-P系合金においては、熱処理後も十分な強度を確保することができる耐熱性が要求されている。
Therefore, a heat treatment for strain relief is sometimes performed on a multi-pin shaped product obtained by stamping.
However, when such a heat treatment is performed, the material is softened, the strength is lowered, and there is a possibility that the necessary strength cannot be secured. Moreover, in order to improve productivity, the heat treatment described above is required to be performed at a higher temperature in a shorter time.
Therefore, the Cu--Fe--P alloys are required to have heat resistance to ensure sufficient strength even after heat treatment.

そこで、例えば特許文献1-3には、微細な析出物粒子を分散させることによって、耐熱性を向上させたCu-Fe-P系合金が提案されている。
例えば、特許文献1においては、円相当直径が10~40nmのFe又はFe-P化合物の析出粒子の存在密度を20個/μm以上としたCu-Fe-P系合金が提案されている。
Therefore, for example, Patent Documents 1 to 3 propose a Cu--Fe--P alloy in which fine precipitate particles are dispersed to improve heat resistance.
For example, Patent Document 1 proposes a Cu--Fe--P alloy in which the existence density of precipitated particles of Fe or Fe--P compounds with an equivalent circle diameter of 10 to 40 nm is 20/μm 2 or more.

特許文献2においては、透過型電子顕微鏡観察において、1μmあたりの析出物粒子の直径のヒストグラムにおけるピーク値が直径15~35nmの範囲内であり、かつ、当該範囲内の直径の析出物粒子が総度数の50%以上の頻度で存在し、その半値幅が25nm以下であるCu-Fe-P系合金が提案されている。 In Patent Document 2, in observation with a transmission electron microscope, the peak value in the histogram of the diameter of precipitate particles per 1 μm 2 is within the range of 15 to 35 nm in diameter, and the precipitate particles with a diameter within this range are A Cu--Fe--P-based alloy has been proposed that exists at a frequency of 50% or more of the total frequency and has a half width of 25 nm or less.

特許文献3においては、銅母相中に分散するFeを含有する粒子の中で、直径が50nmより大きい粒子の数密度Nと直径が50nm以下である粒子の数密度Nとの比N/Nが5以上であり、直径が10nm以上50nm以下の粒子における平均粒子間隔が50nm以上300nm以下であるCu-Fe-P系合金が提案されている。なお、この特許文献3の段落番号0029には、「直径が20nm以下のFe粒子は粒界にせん断・吸収され再固溶されるため、ピン止め効果が期待できなくなる(再結晶を抑制できず、強度低下の原因となる)と考えられる。」と記載されている。 In Patent Document 3, among the Fe-containing particles dispersed in the copper matrix, the ratio N of the number density N 1 of particles having a diameter larger than 50 nm and the number density N 2 of particles having a diameter of 50 nm or less A Cu--Fe--P alloy has been proposed in which 2 / N1 is 5 or more and the average particle spacing of particles having a diameter of 10 nm or more and 50 nm or less is 50 nm or more and 300 nm or less. In addition, in paragraph number 0029 of this patent document 3, "Since Fe particles with a diameter of 20 nm or less are sheared and absorbed by the grain boundary and re-dissolved, the pinning effect cannot be expected (recrystallization cannot be suppressed. , causing a decrease in strength).”

特開2015-134955号公報JP 2015-134955 A 再公表WO2011/021245号公報Republished WO2011/021245 特開2012-107297号公報JP 2012-107297 A

ところで、例えば、リードフレーム等の電気・電子機器用部品に半導体素子を実装する場合には、はんだを用いた接合方法が適用される。銅合金からなるリードフレーム等においては、半導体素子を実装後の熱履歴により、はんだ層に含まれるSnとCuとの相互拡散が生じて合金層が形成される。この合金層においては、SnとCuとの拡散速度の違いに起因してボイドが生成し、このボイドを起点として界面で剥離が生じるおそれがあった。このような剥離に対する耐性は「はんだ耐候性」と呼ばれている。 By the way, for example, when a semiconductor element is mounted on a component for an electric/electronic device such as a lead frame, a joining method using solder is applied. In a lead frame or the like made of a copper alloy, interdiffusion of Sn and Cu contained in a solder layer occurs due to heat history after mounting a semiconductor element, and an alloy layer is formed. In this alloy layer, voids may be generated due to the difference in diffusion rate between Sn and Cu, and peeling may occur at the interface starting from the voids. This resistance to delamination is called "solder weather resistance".

最近では、自動車でも電装化が進み、多くの車載用途の半導体装置が使用されるようになっている。車載用途では、使用場所によっては使用環境温度が高温となるため、接合信頼性を確保するために、高温長時間の環境下でもはんだと剥離しない「はんだ耐候性」に優れたリードフレーム等の電気・電子機器用部品が求められている。 In recent years, automobiles have become increasingly electrified, and many semiconductor devices for in-vehicle use have come to be used. In automotive applications, the temperature of the operating environment can be high depending on where it is used.・There is a demand for parts for electronic devices.

しかしながら、Cu-Fe-P系合金においては、上述の特許文献1-3に開示されているように、耐熱性を向上させるために微細な析出物粒子を析出させたものが提案されているが、はんだ耐候性について十分に考慮されていなかった。すなわち、上述の特許文献1-3においては、耐熱性は向上しているものの、はんだ耐候性は不十分であった。なお、Znを添加することによってはんだ耐候性が向上することは示唆されているが、Znの添加のみでは、最近の使用環境に適用可能な十分なはんだ耐候性を得ることはできなかった。 However, in Cu—Fe—P alloys, as disclosed in the above-mentioned Patent Documents 1 to 3, proposals have been made to precipitate fine precipitate particles in order to improve heat resistance. , the weather resistance of the solder was not sufficiently considered. That is, in Patent Documents 1 to 3 described above, although the heat resistance is improved, the weather resistance of the solder is insufficient. Although it has been suggested that the addition of Zn improves the weather resistance of the solder, it was not possible to obtain sufficient weather resistance of the solder applicable to recent usage environments by adding Zn alone.

この発明は、前述した事情に鑑みてなされたものであって、耐熱性に優れ、かつ、はんだ耐候性に優れたCu-Fe-P系の銅合金を提供することを目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a Cu--Fe--P based copper alloy having excellent heat resistance and excellent solder weather resistance.

この課題を解決するために、本発明の銅合金は、Fe;1.5質量%以上2.7質量%以下、P;0.008質量%以上0.20質量%以下、Zn;0.01質量%以上0.5質量%以下、Mg及びSnのうちの一方又は両方を合計で0.01質量%以上0.5質量%以下含有し、残部がCu及び不可避不純物とされており、前記不可避不純物として含まれるCの含有量が5質量ppm未満、Crの含有量が7質量ppm未満、Moの含有量が5質量ppm未満、Wの含有量が1質量ppm未満、Vの含有量が1質量ppm未満、Nbの含有量が1質量ppm未満とされており、観察された粒径が5nm以上100nm未満の析出物粒子を対象として、粒径が50nm以上100nm未満の析出物粒子の個数割合が5.0%を超えるとともに、粒径が5nm以上15nm未満の析出物粒子の個数割合が50%を超えており、粒径が50nm以上100nm未満の析出物粒子の個数密度が2.0個/μm以上とされ、粒径が5nm以上15nm未満の析出物粒子の個数密度が15個/μm以上とされており、導電率が55%IACS以上であることを特徴としている。
なお、本発明における析出物粒子の粒径は、組織観察において、析出物粒子の面積に等しい面積を持つ円の直径(円相当直径)である。
In order to solve this problem, the copper alloy of the present invention has Fe; 1.5% by mass or more and 2.7% by mass or less, P; % by mass or more and 0.5% by mass or less, one or both of Mg and Sn in total of 0.01% by mass or more and 0.5% by mass or less, and the balance being Cu and unavoidable impurities, and the unavoidable The content of C contained as impurities is less than 5 ppm by mass, the content of Cr is less than 7 ppm by mass, the content of Mo is less than 5 ppm by mass, the content of W is less than 1 ppm by mass, and the content of V is 1 The number ratio of precipitate particles with a particle size of 50 nm or more and less than 100 nm, which is less than mass ppm, the Nb content is less than 1 mass ppm, and the observed precipitate particles have a particle size of 5 nm or more and less than 100 nm. exceeds 5.0%, the number ratio of precipitate particles with a particle size of 5 nm or more and less than 15 nm exceeds 50%, and the number density of precipitate particles with a particle size of 50 nm or more and less than 100 nm is 2.0. /μm 2 or more, the number density of precipitate particles with a particle diameter of 5 nm or more and less than 15 nm is 15 pieces/μm 2 or more , and the electrical conductivity is 55% IACS or more .
The particle size of the precipitate particles in the present invention is the diameter of a circle having an area equal to the area of the precipitate particles (equivalent circle diameter) in observation of the structure.

上述の構成の銅合金によれば、Fe;1.5質量%以上2.7質量%以下、P;0.008質量%以上0.20質量%以下、Zn;0.01質量%以上0.5質量%以下、Mg及びSnのうちの一方又は両方を合計で0.01質量%以上0.5質量%以下含有し、残部がCu及び不可避不純物とした組成とされているので、強度、導電率に優れるとともに、良好な熱伝導性を有することができる。
また、本発明の銅合金においては、前記不可避不純物として含まれるCの含有量が5質量ppm未満、Crの含有量が7質量ppm未満、Moの含有量が5質量ppm未満、Wの含有量が1質量ppm未満、Vの含有量が1質量ppm未満、Nbの含有量が1質量ppm未満とされているので、溶解・鋳造時において液相分離を促進する作用を有する元素が低減されているので、鋳塊内に粗大なFe系晶出物が生成することを抑制でき、発生する表面欠陥の個数を低減することができる。
According to the copper alloy having the above configuration, Fe; 1.5% by mass or more and 2.7% by mass or less, P; 5% by mass or less, one or both of Mg and Sn are contained in a total of 0.01% by mass or more and 0.5% by mass or less, and the balance is Cu and inevitable impurities. It can have excellent thermal conductivity as well as excellent thermal conductivity.
Further, in the copper alloy of the present invention, the content of C contained as the inevitable impurities is less than 5 ppm by mass, the content of Cr is less than 7 ppm by mass, the content of Mo is less than 5 ppm by mass, and the content of W is less than 1 ppm by mass, the content of V is less than 1 ppm by mass, and the content of Nb is less than 1 ppm by mass. Therefore, the generation of coarse Fe-based crystallized substances in the ingot can be suppressed, and the number of surface defects generated can be reduced.

そして、粒径が50nm以上100nm未満の析出物粒子は、はんだ層と銅合金との間に形成された合金層において、Cuと対向して拡散する空孔の流れを阻害することを抑制でき、空孔が凝集してボイドが発生することを抑制できる。本発明合金は観察された粒径が5nm以上100nm未満の析出物粒子の総数に対する個数割合が5.0%を超えるとともに、個数密度が2.0個/μm以上とされているので、これにより、はんだ耐候性を向上させることが可能となる。
また、粒径が5nm以上15nm未満の析出物粒子は、観察された粒径が5nm以上100nm未満の析出物粒子の総数に対する個数割合が50%を超えるとともに個数密度が15個/μm以上とされているので、可動転位の移動を抑制して回復や再結晶を遅らせるとともに粒界に対するピン止め効果を発揮することができ、耐熱性を十分に向上させることができる。
よって、本発明の銅合金によれば、はんだ耐候性、および、耐熱性を両立することが可能となる。
また、本発明の銅合金においては、導電率が55%IACS以上とされているので、高い導電性が要求される用途にも適用することができる。
Then, the precipitate particles having a particle size of 50 nm or more and less than 100 nm can suppress the flow of vacancies diffusing facing Cu in the alloy layer formed between the solder layer and the copper alloy, It is possible to suppress the generation of voids due to aggregation of the pores. In the alloy of the present invention, the number ratio to the total number of precipitate particles having an observed particle size of 5 nm or more and less than 100 nm exceeds 5.0%, and the number density is 2.0 particles/μm 2 or more. Therefore, it becomes possible to improve the weather resistance of the solder.
In addition, the precipitate particles with a particle size of 5 nm or more and less than 15 nm have a number ratio of more than 50% to the total number of precipitate particles with a particle size of 5 nm or more and less than 100 nm, and a number density of 15 particles/μm 2 or more. Therefore, it is possible to suppress the movement of mobile dislocations, delay recovery and recrystallization, and exert a pinning effect on grain boundaries, so that heat resistance can be sufficiently improved.
Therefore, according to the copper alloy of the present invention, it is possible to achieve both solder weather resistance and heat resistance.
Moreover, since the copper alloy of the present invention has a conductivity of 55% IACS or more, it can be applied to applications requiring high conductivity.

ここで、本発明の銅合金においては、Co;0.005質量%以上0.5質量%以下を含有してもよい。
この場合、Coが母相中に固溶および一部がFe系およびFe-P系析出物に固溶することにより、固溶強化および析出強化によって、はんだ耐候性を維持したまま、耐熱性及び強度を向上させることが可能となる。
Here, the copper alloy of the present invention may contain Co; 0.005% by mass or more and 0.5% by mass or less.
In this case, Co dissolves in the mother phase and partly dissolves in the Fe-based and Fe—P-based precipitates, so that solid-solution strengthening and precipitation strengthening result in heat resistance and heat resistance while maintaining solder weather resistance. Strength can be improved.

また、本発明の銅合金においては、さらに、Ni;0.005質量%以上0.5質量%以下、Al;0.005質量%以上0.5質量%以下、Si;0.005質量%以上0.5質量%以下、のいずれか一種又は二種以上を含有してもよい。
この場合、Ni、Al、Siを含有することにより、耐熱性をさらに向上させることが可能となる。
Further, in the copper alloy of the present invention, Ni: 0.005 mass% to 0.5 mass%, Al: 0.005 mass% to 0.5 mass%, Si: 0.005 mass% or more Any one or more of 0.5% by mass or less may be contained.
In this case, the heat resistance can be further improved by containing Ni, Al, and Si.

また、本発明の銅合金においては、引張強度が400MPa以上であることが好ましい。
この場合、引張強度が400MPa以上とされているので、高い強度が要求される用途にも適用することができる。
Moreover, the copper alloy of the present invention preferably has a tensile strength of 400 MPa or more.
In this case, since the tensile strength is set to 400 MPa or more, it can be applied to applications requiring high strength.

さらに、本発明の銅合金においては、ビッカース硬度が120Hv以上であることが好ましい。
この場合、ビッカース硬度が120Hv以上とされているので、容易に変形することがなく、電気・電子機器用部品として特に適している。
Furthermore, the copper alloy of the present invention preferably has a Vickers hardness of 120 Hv or more.
In this case, since the Vickers hardness is set to 120 Hv or more, it is not easily deformed, and is particularly suitable as a component for electric/electronic equipment.

本発明によれば、耐熱性に優れ、かつ、はんだ耐候性に優れたCu-Fe-P系の銅合金を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a Cu--Fe--P based copper alloy which is excellent in heat resistance and solder weather resistance.

本実施形態である銅合金の製造方法のフロー図である。1 is a flowchart of a method for producing a copper alloy according to this embodiment; FIG. 実施例における本発明例4の銅合金の組織観察写真である。(a)がSEM写真、(b)が2値化処理図である。4 is a structure observation photograph of a copper alloy of Inventive Example 4 in Examples. (a) is an SEM photograph, and (b) is a binarization processing diagram.

以下に、本発明の一実施形態である銅合金について説明する。本実施形態である銅合金は、リードフレームやコネクタ等の電気・電子機器用部品の素材として用いられるものである。 A copper alloy that is one embodiment of the present invention will be described below. The copper alloy of this embodiment is used as a material for parts for electrical and electronic equipment such as lead frames and connectors.

本実施形態である銅合金は、Fe;1.5質量%以上2.7質量%以下、P;0.008質量%以上0.20質量%以下、Zn;0.01質量%以上0.5質量%以下、Mg及びSnのうちの一方又は両方を合計で0.01質量%以上0.5質量%以下含有し、残部がCu及び不可避不純物とした組成とされている。 The copper alloy of the present embodiment has Fe; 1.5 mass% or more and 2.7 mass% or less, P; 0.008 mass% or more and 0.20 mass% or less, Zn; 0.01 mass% or more and 0.5 The composition contains 0.01% by mass or more and 0.5% by mass or less of one or both of Mg and Sn in total, and the balance is Cu and unavoidable impurities.

ここで、本実施形態の銅合金においては、さらに、Co;0.005質量%以上0.5質量%以下を含有していてもよい。
また、本実施形態の銅合金においては、さらに、Ni;0.005質量%以上0.5質量%以下、Al;0.005質量%以上0.5質量%以下、Si;0.005質量%以上0.5質量%以下、のいずれか一種又は二種以上を含有していてもよい。
Here, the copper alloy of the present embodiment may further contain Co; 0.005% by mass or more and 0.5% by mass or less.
Further, in the copper alloy of the present embodiment, Ni; 0.005 mass% or more and 0.5 mass% or less, Al; Any one or more of 0.5% by mass or less may be contained.

さらに、本実施形態の銅合金においては、不可避不純物として含まれるCの含有量が5質量ppm未満、Crの含有量が7質量ppm未満、Moの含有量が5質量ppm未満、Wの含有量が1質量ppm未満、Vの含有量が1質量ppm未満、Nbの含有量が1質量ppm未満とされていてもよい。 Furthermore, in the copper alloy of the present embodiment, the content of C contained as inevitable impurities is less than 5 ppm by mass, the content of Cr is less than 7 ppm by mass, the content of Mo is less than 5 ppm by mass, and the content of W may be less than 1 ppm by mass, the content of V may be less than 1 ppm by mass, and the content of Nb may be less than 1 ppm by mass.

本実施形態である銅合金においては、母相中に、FeおよびFe-P等の析出物粒子が分散したものとされている。なお、母相とは、FeおよびFe-P等の析出物粒子以外の相のことであり、Cuを主成分(Cu含有量は97質量%を超え)としており、一部のFe,Zn,P、Sn等が固溶している相のことである。 In the copper alloy of the present embodiment, precipitate particles such as Fe and Fe—P are dispersed in the matrix. The parent phase is a phase other than precipitate particles such as Fe and Fe—P, and is mainly composed of Cu (the Cu content exceeds 97% by mass), and some Fe, Zn, It is a phase in which P, Sn, etc. are dissolved.

そして、本実施形態である銅合金においては、観察された粒径が5nm以上100nm未満の析出物粒子を対象として、粒径が50nm以上100nm未満の析出物粒子の個数割合が5.0%を超えるとともに、粒径が5nm以上15nm未満の析出物粒子の個数割合が50%を超えている。
また、粒径が50nm以上100nm未満の析出物粒子の個数密度が2.0個/μm以上とされ、粒径が5nm以上15nm未満の析出物粒子の個数密度が15個/μm以上とされている。
In the copper alloy of the present embodiment, the number ratio of precipitate particles having a particle size of 50 nm or more and less than 100 nm is 5.0% for the observed precipitate particles having a particle size of 5 nm or more and less than 100 nm. In addition, the number ratio of precipitate particles having a particle size of 5 nm or more and less than 15 nm exceeds 50%.
In addition, the number density of the precipitate particles having a particle size of 50 nm or more and less than 100 nm is 2.0 pieces/μm 2 or more, and the number density of the precipitate particles having a particle size of 5 nm or more and less than 15 nm is 15 pieces/μm 2 or more. It is

なお、析出物粒子の粒径は、組織観察において、析出物粒子の面積に等しい面積を持つ円の直径(円相当直径)とした。
析出物粒子の個数割合を算出する際には、粒径5nm未満の析出物粒子は、観察が困難であること、また、はんだ耐候性や耐熱性の向上に対して実質的に作用効果を有さないことから、析出物粒子の評価の対象外とした。また、粒径100nm以上の析出物粒子は、はんだ耐候性や耐熱性の向上に対して実質的に作用効果を有さないこと、また、表面欠陥の原因となり得ることから、析出物粒子の評価の対象外とした。
The particle size of the precipitate particles was defined as the diameter of a circle having an area equal to the area of the precipitate particles (equivalent circle diameter) in the observation of the structure.
When calculating the number ratio of precipitate particles, precipitate particles having a particle size of less than 5 nm are difficult to observe, and have a substantial effect on improving solder weather resistance and heat resistance. Therefore, it was excluded from the evaluation of precipitate particles. In addition, precipitate particles with a particle size of 100 nm or more have substantially no effect on the improvement of solder weather resistance and heat resistance, and can cause surface defects. was excluded from the scope of

また、本実施形態である銅合金においては、導電率が55%IACS以上とされていることが好ましい。
さらに、本実施形態である銅合金においては、引張強度が400MPa以上とされていることが好ましい。
また、本実施形態である銅合金においては、ビッカース硬度が120Hv以上とされていることが好ましい。
Moreover, in the copper alloy of the present embodiment, it is preferable that the electrical conductivity is set to 55%IACS or more.
Furthermore, it is preferable that the copper alloy of the present embodiment has a tensile strength of 400 MPa or more.
Moreover, it is preferable that the copper alloy of the present embodiment has a Vickers hardness of 120 Hv or more.

ここで、上述のように成分組成、析出物粒子の分布、各種特性を規定した理由について以下に説明する。 Here, the reason why the component composition, the distribution of precipitate particles, and various properties are defined as described above will be explained below.

(Fe)
Feは、母相中に固溶するとともに、FeまたはFe―Pの析出物粒子を生成する。このFeまたはFe―Pの析出物粒子が母相中に分散されることにより、導電率を低下させることなく、強度、硬さ、耐熱性を向上させる。
ここで、Feの含有量が1.5質量%未満では、強度向上の効果等が十分でない。一方、Feの含有量が2.7質量%を超えると、大きな晶出物が生成して表面の清浄性を損なうおそれがある。さらに導電率および加工性の低下をもたらすおそれがある。
したがって、本実施形態においては、Feの含有量を1.5質量%以上2.7質量%以下に設定している。
なお、上述の作用効果を確実に奏功せしめるためには、Feの含有量の下限を1.8質量%以上とすることが好ましく、2.1質量%以上とすることがさらに好ましい。また、大きな晶出物の生成を確実に抑制するためには、Feの含有量の上限を2.6質量%以下とすることが好ましく、2.4質量%以下とすることがさらに好ましい。
(Fe)
Fe forms a solid solution in the matrix phase and forms precipitate particles of Fe or Fe—P. By dispersing the Fe or Fe—P precipitate particles in the matrix phase, the strength, hardness and heat resistance are improved without lowering the electrical conductivity.
Here, if the Fe content is less than 1.5% by mass, the effect of improving the strength, etc. is not sufficient. On the other hand, if the Fe content exceeds 2.7% by mass, large crystallized substances may be formed, impairing the cleanness of the surface. Furthermore, there is a risk of causing a decrease in electrical conductivity and workability.
Therefore, in this embodiment, the Fe content is set to 1.5% by mass or more and 2.7% by mass or less.
In order to ensure the above effects, the lower limit of the Fe content is preferably 1.8% by mass or more, more preferably 2.1% by mass or more. In order to reliably suppress the formation of large crystallized substances, the upper limit of the Fe content is preferably 2.6% by mass or less, more preferably 2.4% by mass or less.

(P)
Pは、脱酸作用を有する元素である。また、上述のように、FeとともにFe―Pの析出物粒子を生成し、導電率を低下させることなく、強度、硬さ、耐熱性を向上させる。
ここで、Pの含有量が0.008質量%未満では、強度向上の効果等が十分でない。一方、Pの含有量が0.20質量%を超えると、導電率および加工性の低下をもたらすことになる。
したがって、本実施形態においては、Pの含有量を0.008質量%以上0.20質量%以下に設定している。
なお、上述の作用効果を確実に奏功せしめるためには、Pの含有量の下限を0.01質量%以上とすることが好ましく0.02質量%以上とすることがさらに好ましい。また、導電率および加工性の低下を確実に抑制するためには、Pの含有量の上限を0.15質量%以下とすることが好ましく、0.12質量%以下とすることがさらに好ましい。
(P)
P is an element having a deoxidizing action. In addition, as described above, Fe—P precipitate particles are formed together with Fe, and the strength, hardness, and heat resistance are improved without lowering the electrical conductivity.
Here, if the P content is less than 0.008% by mass, the effect of improving the strength, etc. is not sufficient. On the other hand, when the P content exceeds 0.20% by mass, the electrical conductivity and workability are lowered.
Therefore, in this embodiment, the P content is set to 0.008% by mass or more and 0.20% by mass or less.
In order to ensure the above effects, the lower limit of the P content is preferably 0.01% by mass or more, and more preferably 0.02% by mass or more. Also, in order to reliably suppress deterioration in electrical conductivity and workability, the upper limit of the P content is preferably 0.15% by mass or less, more preferably 0.12% by mass or less.

(Zn)
Znは、はんだ濡れ性及びはんだ耐候性を向上させる作用を有する元素である。
ここで、Znの含有量が0.01質量%未満では、はんだ濡れ性及びはんだ耐候性を向上させる作用効果を十分に奏功せしめることができない。一方、Znの含有量が0.5質量%を超えてもその効果が飽和することになる。
したがって、本実施形態においては、Znの含有量を0.01質量%以上0.5質量%以下に設定している。
なお、上述の作用効果を確実に奏功せしめるためには、Znの含有量の下限を0.03質量%以上とすることが好ましく、0.05質量%以上とすることがさらに好ましい。また、Znの含有量の上限を0.35質量%以下とすることが好ましく、0.20質量%以下とすることがさらに好ましい。
(Zn)
Zn is an element that acts to improve solder wettability and solder weather resistance.
Here, if the Zn content is less than 0.01% by mass, the effect of improving solder wettability and solder weather resistance cannot be sufficiently achieved. On the other hand, even if the Zn content exceeds 0.5% by mass, the effect is saturated.
Therefore, in this embodiment, the Zn content is set to 0.01% by mass or more and 0.5% by mass or less.
In order to ensure the above effects, the lower limit of the Zn content is preferably 0.03% by mass or more, more preferably 0.05% by mass or more. Also, the upper limit of the Zn content is preferably 0.35% by mass or less, more preferably 0.20% by mass or less.

(Mg,Sn)
Mg及びSnは、母相中に固溶することにより、はんだ耐候性を維持したまま、耐熱性および強度を向上させる作用を有する元素である。
ここで、Mg及びSnのうちの一方又は両方の合計含有量が0.01質量%未満では、上述の効果を十分に奏功せしめることができない。一方、Mg及びSnのうちの一方又は両方の合計含有量が0.5質量%を超えると、導電率が著しく低下することになる。
したがって、本実施形態においては、Mg及びSnのうちの一方又は両方の合計含有量を0.01質量%以上0.5質量%以下に設定している。
なお、上述の作用効果を確実に奏功せしめるためには、Mg及びSnのうちの一方又は両方の合計含有量の下限を0.02質量%以上とすることが好ましく、0.03質量%以上とすることがさらに好ましい。また、導電率の低下をさらに抑制するためには、Mg及びSnのうちの一方又は両方の合計含有量の上限を0.3質量%以下とすることが好ましく、0.2質量%以下とすることがさらに好ましい。より好ましくは0.1質量以下である。
(Mg, Sn)
Mg and Sn are elements that improve heat resistance and strength while maintaining solder weather resistance by forming a solid solution in the matrix.
Here, if the total content of one or both of Mg and Sn is less than 0.01% by mass, the above effects cannot be sufficiently exhibited. On the other hand, if the total content of one or both of Mg and Sn exceeds 0.5% by mass, the electrical conductivity will significantly decrease.
Therefore, in this embodiment, the total content of one or both of Mg and Sn is set to 0.01% by mass or more and 0.5% by mass or less.
In order to ensure the above effects, the lower limit of the total content of one or both of Mg and Sn is preferably 0.02% by mass or more, and 0.03% by mass or more. more preferably. Further, in order to further suppress the decrease in conductivity, the upper limit of the total content of one or both of Mg and Sn is preferably 0.3% by mass or less, and is 0.2% by mass or less. is more preferred. More preferably, it is 0.1 mass or less.

(Co)
Coは、母相中に固溶して固溶強化、また一部はFe系析出物もしくはFe-P系析出物に固溶することによって析出強化としても作用し、はんだ耐候性を維持したまま耐熱性および強度を向上させる作用を有している。また一部はこのため、要求特性に応じて、適宜添加してもよい。
ここで、Coの含有量が0.005質量%未満の場合には、上述の効果を十分に奏功せしめることができない。Coの含有量が0.5質量%を超える場合には、導電率が著しく低下することになる。
したがって、本実施形態においては、Coを添加する場合には、0.005質量%以上0.5質量%以下に設定している。
なお、Coを添加する場合には、下限を0.01質量%以上とすることが好ましく、さらには0.02質量%以上とすることが好ましい。さらに、Coの含有量の上限を0.2質量%以下とすることが好ましい。
(Co)
Co dissolves in the matrix phase to strengthen the solid solution, and partly dissolves in the Fe-based precipitates or Fe—P-based precipitates to act as precipitation strengthening, thereby maintaining the weather resistance of the solder. It has the effect of improving heat resistance and strength. Also, part of it may be added as appropriate depending on the required characteristics.
Here, if the Co content is less than 0.005% by mass, the above effects cannot be sufficiently achieved. If the Co content exceeds 0.5% by mass, the electrical conductivity is significantly lowered.
Therefore, in this embodiment, when Co is added, it is set to 0.005% by mass or more and 0.5% by mass or less.
When Co is added, the lower limit is preferably 0.01% by mass or more, more preferably 0.02% by mass or more. Furthermore, it is preferable to set the upper limit of the Co content to 0.2% by mass or less.

(Ni,Al,Si)
Ni,Al,Siは、耐熱性をさらに向上させる作用を有している。このため、要求特性に応じて、適宜添加してもよい。
ここで、Niの含有量が0.005質量%未満、Alの含有量が0.005質量%未満、あるいは、Siの含有量が0.005質量%未満の場合には、上述の効果を十分に奏功せしめることができない。一方、Niの含有量が0.5質量%を超える、Alの含有量が0.5質量%を超える、あるいは、Siの含有量が0.5質量%を超える場合には、導電率が著しく低下することになる。
したがって、本実施形態においては、Ni,Al,Siを添加する場合には、Niの含有量を0.005質量%以上0.5質量%以下、Alの含有量を0.005質量%以上0.5質量%以下、Siの含有量を0.005質量%以上0.5質量%以下に設定している。
なお、Ni,Al,Siを添加する場合には、Niの含有量の下限を0.01質量%以上とすることが好ましく、Alの含有量の下限を0.01質量%以上とすることが好ましく、Siの含有量の下限を0.01質量%以上とすることが好ましい。さらに、Niの含有量の上限を0.1質量%以下とすることが好ましく、Alの含有量の上限を0.1質量%以下とすることが好ましく、Siの含有量の上限を0.1質量%以下とすることが好ましい。
(Ni, Al, Si)
Ni, Al, and Si have the effect of further improving the heat resistance. Therefore, it may be added as appropriate depending on the required properties.
Here, when the Ni content is less than 0.005% by mass, the Al content is less than 0.005% by mass, or the Si content is less than 0.005% by mass, the above effects are sufficiently obtained. can't make it work. On the other hand, when the Ni content exceeds 0.5% by mass, the Al content exceeds 0.5% by mass, or the Si content exceeds 0.5% by mass, the conductivity is significantly reduced. will decline.
Therefore, in the present embodiment, when Ni, Al, and Si are added, the Ni content is 0.005% by mass or more and 0.5% by mass or less, and the Al content is 0.005% by mass or more and 0.5% by mass or less. .5 mass % or less, and the Si content is set to 0.005 mass % or more and 0.5 mass % or less.
When adding Ni, Al, and Si, the lower limit of the Ni content is preferably 0.01% by mass or more, and the lower limit of the Al content is preferably 0.01% by mass or more. Preferably, the lower limit of the Si content is set at 0.01% by mass or more. Furthermore, the upper limit of the Ni content is preferably 0.1% by mass or less, the upper limit of the Al content is preferably 0.1% by mass or less, and the upper limit of the Si content is 0.1% by mass. % or less is preferable.

(不可避不純物であるC、Cr、Mo、W、V、Nb)
C、Cr、Mo、W、V、Nbは、不可避不純物として上述の銅合金中に含有されるものである。ここで、C、Cr、Mo、W、V、Nbの含有量が多い場合、上述の銅合金の表面欠陥が大幅に増加することになる。この表面欠陥は、Cr、Mo、W、V、Nbのうちの少なくとも1種以上とFeとCとを含有する鉄合金粒子が起因となる。
(Inevitable impurities C, Cr, Mo, W, V, Nb)
C, Cr, Mo, W, V, and Nb are contained in the above copper alloy as unavoidable impurities. Here, when the contents of C, Cr, Mo, W, V, and Nb are large, the surface defects of the copper alloy described above are greatly increased. These surface defects are caused by iron alloy particles containing at least one of Cr, Mo, W, V, and Nb, and Fe and C.

通常、上述の銅合金を溶解鋳造する際に、Fe元素はCuを主成分とする液相中に溶解した状態で存在する。しかし、C、Cr、Mo、W、V、Nbが一定量以上存在する場合、銅合金溶湯は、Cuを主成分とする液相と、Feを主成分としCとCr、Mo、W、V、Nbのうちの少なくとも1種以上を含有する液相とに分離され、結果としてCr、Mo、W、V、Nbのうちの少なくとも1種以上とFeとCとを含有する粗大な晶出物が鋳塊内に存在することになる。その後、鋳塊を圧延することにより、鉄合金粒子が銅合金の表面に露出し、上述の表面欠陥が発生すると考えられる。また、この鉄合金粒子に起因してプレス加工、エッチング加工又は銀めっきを行った際に、形状不良が発生することになる。 Generally, when the above copper alloy is melted and cast, the Fe element exists in a dissolved state in a liquid phase containing Cu as a main component. However, when C, Cr, Mo, W, V, and Nb are present in a certain amount or more, the molten copper alloy has a liquid phase containing Cu as the main component and a liquid phase containing Fe as the main component, and C and Cr, Mo, W, and V , and a liquid phase containing at least one of Nb, resulting in coarse crystallized substances containing at least one of Cr, Mo, W, V, and Nb and Fe and C. will be present in the ingot. It is considered that the iron alloy particles are then exposed on the surface of the copper alloy by rolling the ingot, and the surface defects described above are generated. In addition, due to the iron alloy particles, shape defects occur when press working, etching or silver plating is performed.

したがって、C、Cr、Mo、W、V、Nbを低減することにより、鉄合金粒子に起因する表面欠陥及び製品の形状不良を抑制することが可能となる。特に、本実施形態においては、粒径50nm以上100nm未満の析出物粒子の個数を確保しており、粗大な析出物粒子が発生して表面欠陥が生じるおそれがあることから、C、Cr、Mo、W、V、Nbを低減して粗大な晶出物の発生を抑制することにより、表面欠陥の発生個数を抑えることが好ましい。 Therefore, by reducing C, Cr, Mo, W, V, and Nb, it is possible to suppress surface defects and product shape defects caused by iron alloy particles. In particular, in the present embodiment, the number of precipitate particles having a particle size of 50 nm or more and less than 100 nm is ensured, and coarse precipitate particles may occur and surface defects may occur. , W, V, and Nb to suppress the occurrence of coarse crystallized substances, thereby suppressing the number of surface defects.

そこで、本実施形態においては、粗大な晶出物の発生を抑制するために、不可避不純物であるCの含有量を5質量ppm未満、Crの含有量を7質量ppm未満、Moの含有量を5質量ppm未満、Wの含有量を1質量ppm未満、Vの含有量を1質量ppm、Nbの含有量を1質量ppm未満に制限してもよい。
なお、さらに粗大な晶出物の発生を抑制するためには、不可避不純物であるCの含有量を4質量ppm未満とすることが好ましい。さらに好ましくは3質量ppm以下、より好ましくは2質量ppm以下である。Moの含有量を1質量ppm未満、さらに0.6質量ppm未満とすることが望ましい。また、Crの含有量を5質量ppm未満、Wの含有量を0.6質量ppm未満、Vの含有量を0.6質量ppm未満、Nbの含有量を0.6質量ppm未満とすることが好ましい。
Therefore, in the present embodiment, in order to suppress the generation of coarse crystallized substances, the content of C, which is an inevitable impurity, is less than 5 ppm by mass, the content of Cr is less than 7 mass ppm, and the content of Mo is The content of W may be limited to less than 5 ppm by mass, the content of W to less than 1 ppm by mass, the content of V to less than 1 ppm by mass, and the content of Nb to less than 1 ppm by mass.
In order to further suppress the generation of coarse crystallized substances, the content of C, which is an unavoidable impurity, is preferably less than 4 ppm by mass. More preferably 3 mass ppm or less, more preferably 2 mass ppm or less. The Mo content is desirably less than 1 ppm by mass, more preferably less than 0.6 ppm by mass. In addition, the Cr content is less than 5 mass ppm, the W content is less than 0.6 mass ppm, the V content is less than 0.6 mass ppm, and the Nb content is less than 0.6 mass ppm. is preferred.

なお、上述した元素およびC、Cr、Mo、W、V、Nb以外の不可避不純物としては、Ca、Sr、Ba、希土類元素、Zr、Be、Ti、H、Li、B、N、O、F、Na、S、Cl、K、Mn、Ga、Ge、As、Se、Br、Rb、Tc、Ru、Rh、Pd、Ag、Cd、In、Sb、Te、I、Cs、Hf、Ta、Re、Os、Ir、Pt、Au、Hg、Tl、Pb、Bi等が挙げられる。 In addition, the above elements and inevitable impurities other than C, Cr, Mo, W, V, and Nb include Ca, Sr, Ba, rare earth elements, Zr, Be, Ti, H, Li, B, N, O, F , Na, S, Cl, K, Mn, Ga, Ge, As, Se, Br, Rb, Tc, Ru, Rh, Pd, Ag, Cd, In, Sb, Te, I, Cs, Hf, Ta, Re , Os, Ir, Pt, Au, Hg, Tl, Pb, Bi and the like.

(粒径が50nm以上100nm未満の析出物粒子)
例えば175℃といった高温環境下で長時間使用した場合には、はんだ層中におけるCuの拡散が銅合金中よりも速いため、カーケンダル効果によって銅合金とはんだ層との界面に粒径15nm未満の微細な析出物粒子が凝集する。これらの微細な析出物粒子は、銅合金からはんだ層側に拡散するCuと対向して拡散する空孔の流れを妨げ、結果として空孔の拡散が遅延する。その結果、時間とともに界面近傍に空孔が凝集し、粗大なボイドを生じさせて剥離が生じ、はんだ耐候性が低下することになる。
(Precipitate particles having a particle size of 50 nm or more and less than 100 nm)
For example, when used in a high-temperature environment such as 175°C for a long time, Cu diffusion in the solder layer is faster than in the copper alloy, so the Kirkendall effect causes fine particles with a grain size of less than 15 nm to form at the interface between the copper alloy and the solder layer. fine precipitate particles agglomerate. These fine precipitate particles impede the flow of vacancies diffusing counter to Cu diffusing from the copper alloy toward the solder layer, resulting in a retardation of vacancy diffusion. As a result, vacancies agglomerate in the vicinity of the interface over time, causing large voids and detachment, thereby deteriorating the weather resistance of the solder.

ここで、粒径が50nm以上100nm未満の析出物粒子は、空孔の流れを阻害することはない。また、析出熱処理時に、オストワルド成長によって周囲の粒径15nm未満の微細な析出物粒子を吸収することにより、微細な析出物粒子の個数を低減することができる。これにより、空孔の凝集によるボイドの生成を抑制でき、はんだ耐候性を向上させることが可能となる。
以上のことから、本実施形態においては、粒径が50nm以上100nm未満の析出物粒子の個数割合を5.0%超えとし、個数密度を2.0個/μm以上としている。
なお、上述の作用効果を奏功せしめるためには、粒径が50nm以上100nm未満の析出物粒子の個数割合を7.5%以上とすることが好ましく、10.0%以上とすることがさらに好ましい。また、粒径が50nm以上100nm未満の析出物粒子の個数密度を2.5個/μm以上とすることが好ましく、3.0個/μm以上とすることがさらに好ましい。
Here, precipitate particles with a particle size of 50 nm or more and less than 100 nm do not impede the flow of pores. In addition, the number of fine precipitate particles can be reduced by absorbing surrounding fine precipitate particles having a particle size of less than 15 nm due to Ostwald growth during the precipitation heat treatment. As a result, it is possible to suppress the generation of voids due to aggregation of pores, and to improve the weather resistance of the solder.
Based on the above, in the present embodiment, the number ratio of precipitate particles having a particle size of 50 nm or more and less than 100 nm is set to more than 5.0%, and the number density is set to 2.0 pieces/μm 2 or more.
In order to achieve the above effects, the number ratio of precipitate particles having a particle size of 50 nm or more and less than 100 nm is preferably 7.5% or more, more preferably 10.0% or more. . In addition, the number density of precipitate particles having a particle size of 50 nm or more and less than 100 nm is preferably 2.5/μm 2 or more, more preferably 3.0/μm 2 or more.

(粒径が5nm以上15nm未満の析出物粒子)
粒径が5nm以上15nm未満の析出物粒子は、可動転位に対して障害となり、回復や再結晶を遅らせる効果、及び、粒界に対するピン止め効果、を有しており、耐熱性を大きく向上させる。
以上のことから、本実施形態においては、粒径が5nm以上15nm未満の析出物粒子の個数割合を50%超えとし、個数密度を15個/μm以上としている。
なお、上述の作用効果を奏功せしめるためには、粒径が5nm以上15nm未満の析出物粒子の個数割合を55%以上とすることが好ましく、60%以上とすることがさらに好ましい。また、粒径が5nm以上15nm未満の析出物粒子の個数密度を20個/μm以上とすることが好ましく、25個/μm以上とすることがさらに好ましい。
(Precipitate particles having a particle size of 5 nm or more and less than 15 nm)
Precipitate particles with a particle size of 5 nm or more and less than 15 nm hinder mobile dislocations, have the effect of delaying recovery and recrystallization, and have the effect of pinning grain boundaries, greatly improving heat resistance. .
Based on the above, in the present embodiment, the number ratio of precipitate particles having a particle size of 5 nm or more and less than 15 nm is set to more than 50%, and the number density is set to 15 pieces/μm 2 or more.
In order to achieve the above effects, the number ratio of precipitate particles having a particle size of 5 nm or more and less than 15 nm is preferably 55% or more, more preferably 60% or more. In addition, the number density of precipitate particles having a particle size of 5 nm or more and less than 15 nm is preferably 20 particles/μm 2 or more, more preferably 25 particles/μm 2 or more.

(導電率)
本実施形態である銅合金において、導電率が55%IACS以上である場合には、リードフレームやコネクタ等の電気・電子機器用部品の素材として特に適している。
なお、本実施形態である銅合金の導電率は、57%IACS以上であることが好ましく、60%IACS以上であることがさらに好ましい。
(conductivity)
In the copper alloy of this embodiment, when the electrical conductivity is 55% IACS or more, it is particularly suitable as a material for parts for electrical and electronic equipment such as lead frames and connectors.
The electrical conductivity of the copper alloy of the present embodiment is preferably 57%IACS or higher, more preferably 60%IACS or higher.

(引張強度)
本実施形態である銅合金において、引張強度が400MPa以上である場合には、強度に優れており、リードフレームやコネクタ等の電気・電子機器用部品の素材として特に適している。なお、本実施形態では、圧延方向に対して平行方向に引張試験を行った際の引張強度が400MPa以上とされている。
なお、本実施形態である銅合金の引張強度は420MPa以上であることが好ましく、450MPa以上であることがさらに好ましい。
(tensile strength)
When the copper alloy of the present embodiment has a tensile strength of 400 MPa or more, it is excellent in strength and is particularly suitable as a material for parts for electrical and electronic equipment such as lead frames and connectors. In addition, in this embodiment, the tensile strength when a tensile test is performed in a direction parallel to the rolling direction is set to 400 MPa or more.
The tensile strength of the copper alloy of this embodiment is preferably 420 MPa or more, more preferably 450 MPa or more.

(ビッカース硬度)
本実施形態である銅合金において、ビッカース硬度が120Hv以上である場合には、容易に変形することがなく、リードフレームやコネクタ等の電気・電子機器用部品の素材として特に適している。
なお、本実施形態である銅合金のビッカース硬度は130Hv以上であることが好ましく、140Hv以上であることがさらに好ましい。
(Vickers hardness)
When the copper alloy of the present embodiment has a Vickers hardness of 120 Hv or more, it is not easily deformed and is particularly suitable as a material for parts for electrical and electronic equipment such as lead frames and connectors.
The Vickers hardness of the copper alloy of this embodiment is preferably 130 Hv or higher, more preferably 140 Hv or higher.

次に、このような構成とされた本実施形態である銅合金の製造方法の一例について、図1に示すフロー図を参照して説明する。 Next, an example of the method for producing a copper alloy according to the present embodiment having such a configuration will be described with reference to the flowchart shown in FIG.

(溶解・鋳造工程S01)
まず、銅原料を溶解して得られた銅溶湯に、前述の元素を添加して成分調整を行い、銅合金溶湯を製出する。なお、各種元素の添加には、元素単体や母合金等を用いることができる。また、上述の元素を含む原料を銅原料とともに溶解してもよい。また、本合金のリサイクル材およびスクラップ材を用いてもよい。ここで、銅溶湯は、純度が99.99質量%以上とされたいわゆる4NCu、あるいは99.999質量%以上とされたいわゆる5NCuとすることが好ましい。
そして、成分調整された銅合金溶湯を鋳型に注入して鋳塊を製出する。なお、量産を考慮した場合には、連続鋳造法または半連続鋳造法を用いることが好ましい。
(Melting/casting step S01)
First, the above elements are added to the molten copper obtained by melting the copper raw material to adjust the composition, thereby producing the molten copper alloy. For addition of various elements, simple elements, master alloys, or the like can be used. Also, a raw material containing the above elements may be melted together with the copper raw material. Recycled materials and scrap materials of the present alloy may also be used. Here, the molten copper is preferably so-called 4NCu with a purity of 99.99% by mass or more, or so-called 5NCu with a purity of 99.999% by mass or more.
Then, an ingot is produced by injecting the molten copper alloy with the adjusted composition into the mold. In addition, when considering mass production, it is preferable to use a continuous casting method or a semi-continuous casting method.

(均質化工程S02)
次に、得られた鋳塊の均質化のために熱処理を行う。鋳塊を850℃以上1050℃以下で1時間以上保持することが好ましい。
ここで、均質化工程S02における保持時間の上限に制限はないが、コストや製造効率を考慮すると24時間以下とすることが好ましい。
また、均質化工程S02における冷却速度に特に制限はなく、空冷や水冷を実施すればよい。
(Homogenization step S02)
Next, heat treatment is performed to homogenize the obtained ingot. It is preferable to hold the ingot at 850° C. or higher and 1050° C. or lower for 1 hour or more.
Although there is no upper limit for the holding time in the homogenization step S02, it is preferably 24 hours or less in consideration of cost and production efficiency.
Moreover, the cooling rate in the homogenization step S02 is not particularly limited, and air cooling or water cooling may be performed.

(熱間加工工程S03)
次に、必要に応じて熱間加工を実施する。また、この熱間加工工程S03において均質化工程S02を兼ねてもよい。この熱間加工工程S03において、後の工程で析出物の粒径を制御するために十分に溶体化させる。
850℃以上1050℃以下で1時間以上保持した後、550℃以上1050℃以下で熱間加工を実施する。
そして、熱間加工工程S03後の導電率を40%IACS以下、好ましくは35%IACS以下、さらに好ましくは30%IACS以下の範囲内とする。
このような導電率にするためには、熱間加工終了温度を600℃以上にし、その後、空冷もしくは水冷を選択すればよい。
また、この熱間加工工程S03においては、加工方法について特に限定はなく、例えば圧延、線引き、押出、溝圧延、鍛造、プレス等を採用することができる。なお、本実施形態では、圧延加工を行うものとしている。
(Hot working step S03)
Next, hot working is performed as necessary. Further, the hot working step S03 may also serve as the homogenizing step S02. In this hot working step S03, the steel is sufficiently solutionized in order to control the grain size of precipitates in the subsequent steps.
After holding at 850° C. or higher and 1050° C. or lower for 1 hour or more, hot working is performed at 550° C. or higher and 1050° C. or lower.
Then, the electrical conductivity after the hot working step S03 is set to 40%IACS or less, preferably 35%IACS or less, more preferably 30%IACS or less.
In order to obtain such conductivity, the hot working end temperature is set to 600° C. or higher, and then air cooling or water cooling is selected.
In addition, in this hot working step S03, the working method is not particularly limited, and for example, rolling, wire drawing, extrusion, groove rolling, forging, pressing, etc. can be employed. In addition, in this embodiment, rolling processing shall be performed.

(粗加工工程S04)
熱間加工工程S03の後に、必要に応じて冷間で粗加工を実施する。このときの加工率は10%以上95%以下の範囲内とすることが好ましい。
なお、この粗加工工程S04においては、加工方法について特に限定はなく、例えば圧延、線引き、押出、溝圧延、鍛造、プレス等を採用することができる。なお、本実施形態では、圧延加工を行うものとしている。
(Rough processing step S04)
After the hot working step S03, cold rough working is performed as necessary. The processing rate at this time is preferably in the range of 10% or more and 95% or less.
In this rough processing step S04, the processing method is not particularly limited, and for example, rolling, wire drawing, extrusion, groove rolling, forging, pressing, etc. can be employed. In addition, in this embodiment, rolling processing shall be performed.

(溶体化熱処理工程S05)
粗加工工程S04後に溶体化熱処理工程S05を行う。この溶体化熱処理工程S05は、後の析出物の粒径を制御するのに重要な工程である。ここでは、熱処理温度を800℃以上1000℃未満、熱処理温度での保持時間を1分以上24時間未満の条件で実施する。熱処理温度は、850℃以上1000℃未満とすることが好ましく、900℃以上1000℃未満とすることがより好ましい。
熱処理後は溶体化状態を保つために水冷すればよい。もしくは500℃以下まで400℃/分の冷却速度で冷却すればよい。溶体化を確実に実施したことを確認するために、溶体化熱処理S05の導電率は35%IACS以下、好ましくは30%IACS以下、より好ましくは25%IACS以下とするのがよい。
(Solution heat treatment step S05)
A solution heat treatment step S05 is performed after the rough processing step S04. This solution heat treatment step S05 is an important step for controlling the grain size of subsequent precipitates. Here, the heat treatment temperature is 800° C. or more and less than 1000° C., and the holding time at the heat treatment temperature is 1 minute or more and less than 24 hours. The heat treatment temperature is preferably 850°C or higher and lower than 1000°C, more preferably 900°C or higher and lower than 1000°C.
After the heat treatment, water cooling may be performed to maintain the solution state. Alternatively, it may be cooled to 500° C. or lower at a cooling rate of 400° C./min. In order to confirm that the solution treatment has been performed reliably, the conductivity of the solution heat treatment S05 should be 35%IACS or less, preferably 30%IACS or less, and more preferably 25%IACS or less.

(第1冷間加工工程S06)
溶体化熱処理工程S05の後に、冷間加工を実施する。このときの加工率を10%以上95%以下の範囲内とすることが好ましい。
なお、この第1冷間加工工程S06においては、加工方法について特に限定はなく、例えば圧延、線引き、押出、溝圧延、鍛造、プレス等を採用することができる。なお、本実施形態では、圧延加工を行うものとしている。
(First cold working step S06)
Cold working is implemented after the solution heat treatment step S05. It is preferable that the processing rate at this time is within the range of 10% or more and 95% or less.
In addition, in this first cold working step S06, the working method is not particularly limited, and for example, rolling, wire drawing, extrusion, groove rolling, forging, pressing, etc. can be adopted. In addition, in this embodiment, rolling processing shall be performed.

(第1析出熱処理工程S07)
次に、550℃以上800℃未満で1秒以上1時間未満保持する熱処理を実施する。この第1析出熱処理工程S07により、粒径50nm以上の析出物粒子の個数密度を向上させる。
そして、第1析出熱処理工程S07後の導電率を20%IACS以上40%IACS以下の範囲内、好ましくは25%IACS以上40%IACS以下の範囲内、さらに好ましくは25%IACS以上37%IACS以下の範囲内、より好ましくは25%IACS以上35%IACS以下の範囲内とする。
このような導電率にするために、第1析出熱処理工程S07における昇温速度および降温速度を適宜設定することが好ましい。
(First precipitation heat treatment step S07)
Next, heat treatment is performed at 550° C. or more and less than 800° C. for 1 second or more and less than 1 hour. This first precipitation heat treatment step S07 improves the number density of precipitate particles having a particle size of 50 nm or more.
Then, the electrical conductivity after the first precipitation heat treatment step S07 is within the range of 20%IACS or more and 40%IACS or less, preferably 25%IACS or more and 40%IACS or less, more preferably 25%IACS or more and 37%IACS or less. , more preferably 25% IACS or more and 35% IACS or less.
In order to obtain such electrical conductivity, it is preferable to appropriately set the rate of temperature increase and the rate of temperature decrease in the first precipitation heat treatment step S07.

(第2冷間加工工程S08)
第1析出熱処理工程S07の後に、冷間加工を実施する。このときの加工率を10%以上95%以下の範囲内とすることが好ましい。
なお、この第2冷間加工工程S08においては、加工方法について特に限定はなく、例えば圧延、線引き、押出、溝圧延、鍛造、プレス等を採用することができる。なお、本実施形態では、圧延加工を行うものとしている。
(Second cold working step S08)
Cold working is performed after the first precipitation heat treatment step S07. It is preferable that the processing rate at this time is within the range of 10% or more and 95% or less.
In addition, in the second cold working step S08, the working method is not particularly limited, and for example, rolling, wire drawing, extrusion, groove rolling, forging, pressing, etc. can be adopted. In addition, in this embodiment, rolling processing shall be performed.

(第2析出熱処理工程S09)
次に、550℃以上900℃未満で1時間以上24時間未満保持する熱処理を実施する。この第2析出熱処理工程S09により、粒径50nm以上の析出物粒子の個数密度をさらに向上させる。
そして、第2析出熱処理工程S09後の導電率を20%IACS以上40%IACS以下の範囲内、好ましくは25%IACS以上40%IACS以下の範囲内、さらに好ましくは25%IACS以上37%IACS以下の範囲内、より好ましくは25%IACS以上35%IACS以下の範囲内とする。
このような導電率にするために、第2析出熱処理工程S09における昇温速度および降温速度を適宜設定することが好ましい。
(Second precipitation heat treatment step S09)
Next, heat treatment is performed at 550° C. or more and less than 900° C. for 1 hour or more and less than 24 hours. This second precipitation heat treatment step S09 further improves the number density of precipitate particles having a particle size of 50 nm or more.
Then, the electrical conductivity after the second precipitation heat treatment step S09 is within the range of 20%IACS or more and 40%IACS or less, preferably 25%IACS or more and 40%IACS or less, more preferably 25%IACS or more and 37%IACS or less. , more preferably 25% IACS or more and 35% IACS or less.
In order to achieve such electrical conductivity, it is preferable to appropriately set the rate of temperature increase and the rate of temperature decrease in the second precipitation heat treatment step S09.

(第3冷間加工工程S10)
第2析出熱処理工程S09の後に、第3冷間加工工程S10を実施する。このときの加工率は10%以上95%以下の範囲内とすることが好ましい。
なお、この第3冷間加工工程S10においては、加工方法について特に限定はなく、例えば圧延、線引き、押出、溝圧延、鍛造、プレス等を採用することができる。なお、本実施形態では、圧延加工を行うものとしている。
(Third cold working step S10)
After the second precipitation heat treatment step S09, the third cold working step S10 is performed. The processing rate at this time is preferably in the range of 10% or more and 95% or less.
In addition, in the third cold working step S10, the working method is not particularly limited, and for example, rolling, wire drawing, extrusion, groove rolling, forging, pressing, etc. can be adopted. In addition, in this embodiment, rolling processing shall be performed.

(第3析出熱処理工程S11)
次に、450℃以上600℃以下で1時間を超えて24時間以下保持する熱処理を実施する。高温で熱処理する場合には保持時間を短く、低温で熱処理する場合には保持時間を長くすることが好ましい。この第3析出熱処理工程S11により、粒径が5nm以上15nm未満の析出物粒子の個数を増加させる。
そして、第3析出熱処理工程S11の条件については、その後の工程の条件を考慮して、最終製品における導電率が55%IACS以上となるように設定することが好ましい。
第3析出熱処理工程S11における昇温速度や降温速度は適宜設定すればよいが、昇温速度は1℃/分以上、降温速度は300℃まで0.1℃/分以上とすることが好ましい。
(Third precipitation heat treatment step S11)
Next, a heat treatment is performed at a temperature of 450° C. or higher and 600° C. or lower for more than 1 hour and 24 hours or less. It is preferable to shorten the holding time when heat-treating at a high temperature, and lengthen the holding time when heat-treating at a low temperature. This third precipitation heat treatment step S11 increases the number of precipitate particles having a particle size of 5 nm or more and less than 15 nm.
Then, it is preferable to set the conditions of the third precipitation heat treatment step S11 so that the electrical conductivity of the final product is 55% IACS or more in consideration of the conditions of the subsequent steps.
The temperature increase rate and temperature decrease rate in the third precipitation heat treatment step S11 may be appropriately set, but it is preferable that the temperature increase rate is 1°C/min or more and the temperature decrease rate is 0.1°C/min or more up to 300°C.

(第4冷間加工工程S12)
第3析出熱処理工程S11の後に、冷間加工を実施する。このときの加工率を1%以上95%以下の範囲内とすることが好ましい。
なお、この第4冷間加工工程S12においては、加工方法について特に限定はなく、例えば圧延、線引き、押出、溝圧延、鍛造、プレス等を採用することができる。なお、本実施形態では、圧延加工を行うものとしている。
(Fourth cold working step S12)
Cold working is performed after the third precipitation heat treatment step S11. It is preferable that the processing rate at this time is within the range of 1% or more and 95% or less.
In addition, in the fourth cold working step S12, the working method is not particularly limited, and for example, rolling, wire drawing, extrusion, groove rolling, forging, pressing, etc. can be adopted. In addition, in this embodiment, rolling processing shall be performed.

(第4析出熱処理工程S13)
次に、450℃以上800℃以下で1秒以上24時間以下保持する熱処理を実施する。高温で熱処理する場合には保持時間を短く、低温で熱処理する場合には保持時間を長くすることが好ましい。この第4析出熱処理工程S13ではオストワルド成長によって粒径50nm以上の析出物粒子の個数割合および密度を増加させるとともに、微細な析出物粒子の個数割合および密度を低減させる。
このため、第4析出熱処理工程S13の条件については、その後の工程の条件を考慮して、最終製品における導電率が55%IACS以上となるように設定することが好ましい。より好ましくは60%IACS以上さらに好ましくは62%IACS以上である。
(Fourth precipitation heat treatment step S13)
Next, heat treatment is performed at 450° C. or higher and 800° C. or lower for 1 second or longer and 24 hours or shorter. It is preferable to shorten the holding time when heat-treating at a high temperature, and lengthen the holding time when heat-treating at a low temperature. In the fourth precipitation heat treatment step S13, the number ratio and density of precipitate particles having a diameter of 50 nm or more are increased by Ostwald growth, and the number ratio and density of fine precipitate particles are decreased.
For this reason, it is preferable to set the conditions of the fourth precipitation heat treatment step S13 so that the electrical conductivity of the final product is 55% IACS or more in consideration of the conditions of subsequent steps. More preferably 60% IACS or more, still more preferably 62% IACS or more.

(仕上げ加工工程S14)
第4析出熱処理工程S13の後に、仕上げ加工を実施する。このときの加工率を10%以上95%以下の範囲内とすることが好ましい。
なお、この仕上げ加工工程S14においては、加工方法について特に限定はなく、例えば圧延、線引き、押出、溝圧延、鍛造、プレス等を採用することができる。なお、本実施形態では、圧延加工を行うものとしている。
(Finishing process S14)
Finishing is performed after the fourth precipitation heat treatment step S13. It is preferable that the processing rate at this time is within the range of 10% or more and 95% or less.
In the finishing step S14, the working method is not particularly limited, and for example, rolling, wire drawing, extrusion, groove rolling, forging, pressing, etc. can be adopted. In addition, in this embodiment, rolling processing shall be performed.

(歪除去熱処理工程S15)
次に、必要に応じて、仕上げ加工工程S14で生じた残留歪みを除去することを目的として200℃以上700℃未満で1秒以上24時間未満保持する歪除去熱処理を実施する。高温で熱処理する場合には保持時間を短く、低温で熱処理する場合には保持時間を長くすることが好ましい。
(Strain removal heat treatment step S15)
Next, if necessary, strain removal heat treatment is performed at 200° C. or more and less than 700° C. for 1 second or more and less than 24 hours for the purpose of removing the residual strain generated in the finishing step S14. It is preferable to shorten the holding time when heat-treating at a high temperature, and lengthen the holding time when heat-treating at a low temperature.

以上のような工程により、本実施形態である銅合金が製造されることになる。本実施形態では、仕上げ加工工程S14における加工方法として圧延を行っているので、所定の板厚の銅合金板条材が製造されることになる。 The copper alloy of the present embodiment is produced through the steps described above. In the present embodiment, since rolling is performed as the processing method in the finishing step S14, a copper alloy strip having a predetermined thickness is manufactured.

以上のような構成とされた本実施形態である銅合金によれば、Fe;1.5質量%以上2.7質量%以下、P;0.008質量%以上0.20質量%以下、Zn;0.01質量%以上0.5質量%以下、Mg及びSnのうちの一方又は両方を合計で0.01質量%以上0.5質量%以下含有し、残部がCu及び不可避不純物とした組成とされているので、強度、導電率に優れるとともに、良好な熱伝導性を有することができる。 According to the copper alloy of the present embodiment configured as described above, Fe; 1.5% by mass or more and 2.7% by mass or less, P; a composition containing 0.01% by mass or more and 0.5% by mass or less, a total of 0.01% by mass or more and 0.5% by mass or less of one or both of Mg and Sn, and the balance being Cu and unavoidable impurities Therefore, it is possible to have excellent strength and electrical conductivity as well as good thermal conductivity.

そして、粒径が50nm以上100nm未満の析出物粒子は、観察された粒径が5nm以上100nm未満の析出物粒子に対する個数割合が5.0%を超えるとともに、その個数密度が2.0個/μm以上とされているので、はんだ層と銅合金の界面で拡散する空孔の流れを阻害することがなく、空孔の凝集によってボイドが発生することを抑制できる。よって、はんだ耐候性を向上させることが可能となる。 Then, the precipitate particles with a particle size of 50 nm or more and less than 100 nm have a number ratio of more than 5.0% with respect to the observed precipitate particles with a particle size of 5 nm or more and less than 100 nm, and the number density is 2.0 / Since the thickness is set to 2 μm 2 or more, the flow of vacancies diffusing at the interface between the solder layer and the copper alloy is not hindered, and the formation of voids due to aggregation of the vacancies can be suppressed. Therefore, it becomes possible to improve solder weather resistance.

また、粒径が5nm以上15nm未満の析出物粒子は、観察された粒径が5nm以上100nm未満の析出物粒子に対する個数割合が50%を超えるとともに、その個数密度が15個/μm以上とされているので、回復や再結晶を遅らせることができるとともに粒界に対するピン止め効果を得ることができ、耐熱性を十分に向上させることが可能となる。 In addition, the precipitate particles with a particle size of 5 nm or more and less than 15 nm have a number ratio of more than 50% with respect to the observed precipitate particles with a particle size of 5 nm or more and less than 100 nm, and the number density is 15 particles / μm 2 or more. As a result, recovery and recrystallization can be delayed, and a grain boundary pinning effect can be obtained, so that heat resistance can be sufficiently improved.

また、本実施形態である銅合金において、さらに、Coを0.005質量%以上0.5質量%以下の範囲で含有した場合には、Coが母相に固溶すること、及び、Coの一部がFe系およびFe-P系析出物に固溶することにより、固溶強化、及び、析出強化によって、はんだ耐候性を維持したまま、耐熱性及び強度を向上させることが可能となる。 Further, in the copper alloy of the present embodiment, when Co is further contained in the range of 0.005% by mass or more and 0.5% by mass or less, Co dissolves in the matrix phase, and Co Part of it dissolves in the Fe-based and Fe—P-based precipitates, so that solid-solution strengthening and precipitation strengthening can improve heat resistance and strength while maintaining solder weather resistance.

また、本実施形態である銅合金において、さらに、Ni;0.005質量%以上0.5質量%以下、Al;0.005質量%以上0.5質量%以下、Si;0.005質量%以上0.5質量%以下、のいずれか一種又は二種以上を含有した場合には、耐熱性をさらに向上させることが可能となる。 Further, in the copper alloy of the present embodiment, Ni; When any one or two or more of above 0.5% by mass or less are contained, it is possible to further improve the heat resistance.

さらに、本実施形態である銅合金において、不可避不純物として含まれるCの含有量を5質量ppm未満、Crの含有量を7質量ppm未満、Moの含有量を5質量ppm未満、Wの含有量を1質量ppm未満、Vの含有量を1質量ppm未満、Nbの含有量を1質量ppm未満とした場合には、溶解・鋳造工程S01において液相分離を促進する作用を有する元素が低減されており、鋳塊内に粗大なFe系晶出物が生成することを抑制でき、発生する表面欠陥の個数を低減することができる。 Furthermore, in the copper alloy of the present embodiment, the content of C contained as inevitable impurities is less than 5 ppm by mass, the content of Cr is less than 7 ppm by mass, the content of Mo is less than 5 ppm by mass, and the content of W is is less than 1 ppm by mass, the content of V is less than 1 ppm by mass, and the content of Nb is less than 1 ppm by mass, the elements that promote liquid phase separation in the melting/casting step S01 are reduced. It is possible to suppress the formation of coarse Fe-based crystallized substances in the ingot and reduce the number of surface defects that occur.

また、本実施形態である銅合金において、導電率が55%IACS以上とされている場合には、高い導電性が要求される用途にも適用することができる。
さらに、本実施形態である銅合金において、引張強度が400MPa以上である場合には、高い強度が要求される用途にも適用することができる。
また、本実施形態である銅合金において、ビッカース硬度が120Hv以上とされている場合には、容易に変形することがなく、電気・電子機器用部品として特に適している。
Moreover, in the copper alloy of the present embodiment, when the electrical conductivity is 55% IACS or more, it can be applied to applications requiring high electrical conductivity.
Furthermore, when the copper alloy of the present embodiment has a tensile strength of 400 MPa or more, it can be applied to applications requiring high strength.
In addition, when the copper alloy of the present embodiment has a Vickers hardness of 120 Hv or more, it is not easily deformed and is particularly suitable as a component for electrical and electronic equipment.

以上、本発明の実施形態である銅合金について説明したが、本発明はこれに限定されることはなく、その発明の技術的思想を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。
上述の実施形態では、銅合金の製造方法の一例について説明したが、銅合金の製造方法は、実施形態に記載したものに限定されることはなく、既存の製造方法を適宜選択して製造してもよい。
Although the copper alloy that is the embodiment of the present invention has been described above, the present invention is not limited to this, and can be appropriately modified without departing from the technical idea of the invention.
In the above-described embodiment, an example of a method for producing a copper alloy has been described, but the method for producing a copper alloy is not limited to the one described in the embodiment, and can be produced by appropriately selecting an existing production method. may

例えば、本実施形態では、加工方法として圧延を実施しており、本発明の銅合金からなる銅合金板条材を得ているが、加工方法として線引き、押出、溝圧延等を実施した場合には、本発明の銅合金からなる銅合金線棒材を得ることができ、加工方法として鍛造やプレス等を実施した場合には、本発明の銅合金からなる様々な形状の銅合金部材を得ることができる。 For example, in the present embodiment, rolling is performed as a processing method to obtain a copper alloy sheet material made of the copper alloy of the present invention. can obtain a copper alloy wire rod made of the copper alloy of the present invention, and when forging, pressing, etc. are performed as a processing method, copper alloy members of various shapes made of the copper alloy of the present invention can be obtained. be able to.

以下に、本発明の効果を確認すべく行った確認実験の結果について説明する。 The results of confirmatory experiments conducted to confirm the effects of the present invention will be described below.

まず、溶解・鋳造工程として、純度99.99質量%以上の無酸素銅(ASTM B152 C10100)からなる銅原料を準備し、これをアルミナ坩堝内に装入して、Arガス雰囲気とされた高周波溶解炉にて、溶解した。得られた銅溶湯内にFe、P、Zn、Mg、Al、Si、Co、Niを添加した。なお、これらの元素はCuの母合金を用いて添加した。
これにより、表1,2に示す成分組成の銅合金溶湯を溶製し、カーボン鋳型に注湯して鋳塊を製出した。また、鋳塊の大きさは、厚さ約25mm×幅約70mm×長さ約100mmとした。
First, in the melting and casting process, a copper raw material made of oxygen-free copper (ASTM B152 C10100) with a purity of 99.99% by mass or more is prepared, charged into an alumina crucible, and subjected to a high frequency in an Ar gas atmosphere. Melted in a melting furnace. Fe, P, Zn, Mg, Al, Si, Co and Ni were added to the obtained molten copper. These elements were added using a Cu master alloy.
As a result, molten copper alloys having the chemical compositions shown in Tables 1 and 2 were melted and poured into carbon molds to produce ingots. The size of the ingot was about 25 mm thick×about 70 mm wide×about 100 mm long.

次に、熱間圧延工程として、得られた鋳塊に対して、表3,4に記載の熱間圧延開始温度で4時間の熱処理をした後、厚さ12mmとなるまで熱間加工を実施した。なお、熱間圧延終了温度が800℃以上となるように、必要に応じて適宜再加熱を行った。熱間圧延終了後は水冷を行った。
熱間圧延後に形成された表面の酸化膜を除去するために面削を行い、熱間圧延後の導電率を渦電流法によって測定した。測定された導電率を表3,4に示す。
次に、粗圧延工程として、得られた熱間圧延材に対して厚さが8mmになるまで冷間圧延を実施した。
Next, as a hot rolling step, the obtained ingot is heat treated for 4 hours at the hot rolling start temperature shown in Tables 3 and 4, and then hot worked until the thickness becomes 12 mm. bottom. In addition, reheating was appropriately performed as necessary so that the hot rolling end temperature was 800° C. or higher. After completion of hot rolling, water cooling was performed.
Chamfering was performed to remove the oxide film formed on the surface after hot rolling, and the electrical conductivity after hot rolling was measured by an eddy current method. Tables 3 and 4 show the measured conductivities.
Next, as a rough rolling step, the obtained hot rolled material was cold rolled to a thickness of 8 mm.

その後、溶体化処理として950℃で2時間の熱処理を実施し、熱処理後水冷した。溶体化処理後、表面を研磨した後、渦電流法によって導電率を計測した。得られた導電率を表3,4に示す。
次に、第1冷間圧延工程として、厚さが4mmとなるまで冷間圧延を実施した。
Thereafter, heat treatment was performed at 950° C. for 2 hours as a solution treatment, and water cooling was performed after the heat treatment. After the solution treatment, the surface was polished, and the electrical conductivity was measured by the eddy current method. The obtained conductivity is shown in Tables 3 and 4.
Next, as the first cold rolling step, cold rolling was performed until the thickness became 4 mm.

その後、第1析出熱処理工程として、電気炉を用いて表3,4に記載の熱処理温度で1時間から4時間の間で所定時間保持した後、空冷、炉冷もしくは水冷した。
熱処理後に形成された表面の酸化膜を除去するために研磨を行った。その後、第1析出熱処理工程後の導電率を渦電流法によって測定した。測定された導電率を表3,4に示す。
After that, as the first precipitation heat treatment step, an electric furnace was used to hold the heat treatment temperature shown in Tables 3 and 4 for a predetermined time between 1 hour and 4 hours, followed by air cooling, furnace cooling, or water cooling.
Polishing was performed to remove the surface oxide film formed after the heat treatment. After that, the electrical conductivity after the first precipitation heat treatment step was measured by an eddy current method. Tables 3 and 4 show the measured conductivities.

次に、第2冷間圧延工程として、厚さが2mmとなるまで冷間圧延を実施した。 Next, as a second cold rolling step, cold rolling was performed until the thickness became 2 mm.

次に、第2析出熱処理工程として、電気炉を用いて表3,4に記載の熱処理温度で1時間から4時間の間で所定時間保持した後、空冷、炉冷もしくは水冷した。
熱処理後に形成された表面の酸化膜を除去するために研磨を行い、第2析出熱処理工程後の導電率を渦電流法によって測定した。測定された導電率を表3,4に示す。
Next, as a second precipitation heat treatment step, an electric furnace was used to maintain the heat treatment temperatures shown in Tables 3 and 4 for a predetermined time between 1 hour and 4 hours, followed by air cooling, furnace cooling, or water cooling.
Polishing was performed to remove the oxide film formed on the surface after the heat treatment, and the electrical conductivity after the second precipitation heat treatment step was measured by an eddy current method. Tables 3 and 4 show the measured conductivities.

次に、第3冷間圧延工程として、厚さが0.4mm以上0.8mm以下の範囲内となるまで冷間圧延を実施した。
次に、第3析出熱処理工程として、電気炉を用いて表3,4に記載の熱処理温度で1時間から24時間の間で所定時間保持した。熱処理後には空冷もしくは水冷した。
その後、第3析出熱処理工程後の導電率を四端子法によって測定した。測定された導電率を表3,4に示す。
Next, as a third cold rolling step, cold rolling was carried out until the thickness became within the range of 0.4 mm or more and 0.8 mm or less.
Next, as a third precipitation heat treatment step, an electric furnace was used and the heat treatment temperatures shown in Tables 3 and 4 were maintained for a predetermined time between 1 hour and 24 hours. After the heat treatment, it was air-cooled or water-cooled.
After that, the electrical conductivity after the third precipitation heat treatment step was measured by the four-probe method. Tables 3 and 4 show the measured conductivities.

次に、第4冷間圧延工程として、厚さが0.3mmとなるまで冷間圧延を実施した。
次に、第4析出熱処理工程として、ソルトバス炉を用いて表3,4に記載の温度で、1分未満の所定の時間熱処理した。第4析出熱処理工程後の導電率を四端子法によって測定した。測定された導電率を表3,4に示す。
Next, as a fourth cold rolling step, cold rolling was performed until the thickness reached 0.3 mm.
Next, as a fourth precipitation heat treatment step, heat treatment was performed for a predetermined time of less than 1 minute at the temperatures shown in Tables 3 and 4 using a salt bath furnace. The electrical conductivity after the fourth precipitation heat treatment step was measured by the four-probe method. Tables 3 and 4 show the measured conductivities.

次に、仕上げ圧延工程として、厚さが0.15mmとなるまで冷間圧延を実施し、評価測定用のサンプルとした。 Next, as a finish rolling step, cold rolling was performed until the thickness became 0.15 mm, and a sample for evaluation measurement was obtained.

その後、表に示すように、一部の試料については、ソルトバス炉を用いて表3,4に記載温度で1分間の歪除去熱処理を実施し、表面を研磨した後、評価測定用のサンプルとした。 After that, as shown in the table, some samples were subjected to strain removal heat treatment for 1 minute at the temperatures shown in Tables 3 and 4 using a salt bath furnace, and after the surface was polished, samples for evaluation measurement and

得られた試料について、以下に示すように評価を実施した。 The obtained samples were evaluated as described below.

(析出物粒子の観察)
析出物粒子の観察は以下の方法で実施した。評価測定用のサンプルの圧延方向に直交する面、すなわちRD面を機械研磨し、鏡面状に仕上げたのち、日立ハイテクノロジーズ製のIM-4000を用いて、表面をArイオンによって4.0kVの加速電圧でイオンミリング加工したのち、電界放出型走査電子顕微鏡(日立ハイテクノロジーズ製、SU8220)を用いて行った。
析出物粒子サイズが20nm以上100nm未満のものについては観察倍率を30000倍の視野(約13μm)、5nm以上20nm未満の析出物粒子サイズについては観察倍率を100000倍の視野(約1μm)で観察したSEM写真より、画像処理し析出物のみにコントラストをつけた。
コントラストをつけた画像から、画像解析ソフト「Win ROOF」を用いて、析出物の面積から円相当径を算出した。析出物分布を求める際には、析出物粒子サイズが20nm以上100nm未満のものについては30000倍の視野(約13μm)で3視野以上、5nm以下20nm未満の析出物粒子サイズについては観察倍率を100000倍の視野(約1μm)で3視野以上で行った。なお、図2に、本発明例4の100000倍で観察したSEM写真(図2(a))およびその写真を用いて析出物のみにコントラストをつけた画像(図2(b))を示した。
(Observation of precipitate particles)
Observation of precipitate particles was carried out by the following method. The surface perpendicular to the rolling direction of the sample for evaluation measurement, that is, the RD surface is mechanically polished and mirror-finished, and then using IM-4000 manufactured by Hitachi High Technologies, the surface is accelerated at 4.0 kV by Ar ions. After ion milling with voltage, a field emission scanning electron microscope (SU8220, manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation) was used.
For the precipitate particle size of 20 nm or more and less than 100 nm, the observation magnification is 30,000 times the field of view (about 13 μm 2 ), and for the precipitate particle size of 5 nm or more and less than 20 nm, the observation magnification is the field of view of 100,000 times (about 1 μm 2 ). From the observed SEM photograph, image processing was performed to add contrast only to the precipitates.
From the contrasted image, the equivalent circle diameter was calculated from the area of the precipitate using the image analysis software "Win ROOF". When determining the precipitate distribution, for precipitate particle sizes of 20 nm or more and less than 100 nm, a field of view of 30,000 times (about 13 μm 2 ) is used for 3 or more fields of view, and for precipitate particle sizes of 5 nm or less and less than 20 nm, observation magnification is increased. Three or more fields of view (approximately 1 μm 2 ) were used at a magnification of 100,000 times. FIG. 2 shows an SEM photograph of Inventive Example 4 observed at a magnification of 100,000 (FIG. 2(a)) and an image (FIG. 2(b)) in which only the precipitates are contrasted using the photograph. .

(引張強度)
JIS Z 2241に準じ、試料から13号B試験片を採取し、引張強度を測定した。なお、試験片は、引張方向が圧延方向と平行となるように採取した。評価結果を表5,6に示す。
(tensile strength)
A No. 13B test piece was taken from the sample according to JIS Z 2241, and the tensile strength was measured. The test piece was taken so that the tensile direction was parallel to the rolling direction. Tables 5 and 6 show the evaluation results.

(導電率)
評価測定用のサンプルから幅10mm×長さ100mmの試験片を採取し、四端子法によって電気抵抗を求めた。またマイクロメータを用いて試験片の寸法測定を行い、試験片の体積を算出した。そして測定した電気抵抗率、算出した体積から、導電率を測定した。なお、試験片は、その長手方向が圧延方向と平行になるように採取した。測定結果を表5,6に示す。
(conductivity)
A test piece having a width of 10 mm and a length of 100 mm was taken from the sample for evaluation measurement, and the electric resistance was determined by the four-probe method. Also, the dimensions of the test piece were measured using a micrometer, and the volume of the test piece was calculated. Then, the electrical conductivity was measured from the measured electrical resistivity and the calculated volume. The test piece was taken so that its longitudinal direction was parallel to the rolling direction. Tables 5 and 6 show the measurement results.

(ビッカース硬度)
JIS Z 2244に規定されているマイクロビッカース硬さ試験方法に準拠し、試験荷重0.98Nでビッカース硬さを測定した。評価結果を表5,6に示す。
(Vickers hardness)
The Vickers hardness was measured with a test load of 0.98 N according to the micro Vickers hardness test method specified in JIS Z 2244. Tables 5 and 6 show the evaluation results.

(耐熱性)
耐熱試験前の試料のビッカース硬さをHvRTとし、耐熱試験として450℃で1分保持する熱処理を実施した後に急冷し、室温で測定したときの硬度をHv450℃とし、Hv450℃/HvRTが90%以上であるものを「○」、90%未満であるものを「×」と表記した。評価結果を表5,6に示す。
(Heat-resistant)
The Vickers hardness of the sample before the heat resistance test is Hv RT , and the hardness measured at room temperature after being heat-treated at 450° C. for 1 minute as a heat resistance test and then rapidly cooled is Hv 450 ° C. , Hv 450° C./Hv. A sample with an RT of 90% or more was marked with “◯”, and a sample with RT of less than 90% was marked with “×”. Tables 5 and 6 show the evaluation results.

(はんだ耐候性)
試料から採取した短冊状(幅10mm、長さ50mm)の試験片を5個用意し、200℃に加熱したSn-40質量%Pbはんだ浴に5秒間浸漬することで、試験片の表面にはんだ層を形成した。このあと、175℃で500時間保持の熱処理を行った後、この試験片に180°曲げを加え、曲げた部分のはんだが剥離するか否かを確認した。5個とも剥離が確認されなかったものを「A」、1~2個に剥離が生じたものを「B」、3個以上で剥離が生じたものを「C」と表記した。評価結果を表5,6に示す。
(solder weather resistance)
Five strip-shaped (width 10 mm, length 50 mm) test pieces taken from the sample were prepared and immersed in a Sn-40 mass% Pb solder bath heated to 200 ° C. for 5 seconds, so that solder was applied to the surface of the test piece. formed a layer. Then, after heat treatment was performed at 175° C. for 500 hours, the test piece was bent by 180°, and it was confirmed whether or not the solder peeled off from the bent portion. "A" indicates that no peeling was observed in any of the 5 pieces, "B" indicates that 1 to 2 peels occurred, and "C" indicates that 3 or more peels occurred. Tables 5 and 6 show the evaluation results.

Figure 0007234501000001
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Figure 0007234501000002
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Figure 0007234501000003
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Figure 0007234501000004
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Figure 0007234501000005
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Figure 0007234501000006
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粒径が50nm以上100nm未満の析出物粒子の個数割合が0.7%、個数密度が0.9個/μmとされた比較例1においては、はんだ耐候性が「C」判定となった。粒径が50nm以上100nm未満の析出物粒子が少なく、ボイドの発生を抑制することができなかったためと推測される。
粒径が5nm以上15nm未満の析出物粒子の個数割合が42%、個数密度が11.0個/μmとされた比較例2においては、耐熱性が不十分であった。なお、はんだ耐候性は評価しなかった。
Snの含有量が0.61質量%とされた比較例3においては、導電率が51%IACSと低くなった。このため、耐熱性及びはんだ耐候性は評価しなかった。
In Comparative Example 1 in which the number ratio of precipitate particles with a particle size of 50 nm or more and less than 100 nm was 0.7% and the number density was 0.9/μm 2 , the weather resistance of the solder was judged to be "C". . It is presumed that the number of precipitate particles with a particle size of 50 nm or more and less than 100 nm was small, and the generation of voids could not be suppressed.
In Comparative Example 2, in which the number ratio of precipitate particles having a particle size of 5 nm or more and less than 15 nm was 42% and the number density was 11.0/μm 2 , the heat resistance was insufficient. The solder weather resistance was not evaluated.
In Comparative Example 3 in which the Sn content was 0.61% by mass, the electrical conductivity was as low as 51%IACS. Therefore, heat resistance and solder weather resistance were not evaluated.

これに対して、本発明例においては、耐熱性、および、はんだ耐候性に優れていることが確認された。また、引張強度、導電率、ビッカース硬さにも優れていた。
以上のことから、本発明例によれば、耐熱性に優れ、かつ、はんだ耐候性に優れたCu-Fe-P系の銅合金を提供できることが確認された。
On the other hand, it was confirmed that the inventive examples are excellent in heat resistance and solder weather resistance. It was also excellent in tensile strength, electrical conductivity and Vickers hardness.
From the above, it was confirmed that according to the present invention, a Cu--Fe--P-based copper alloy having excellent heat resistance and excellent solder weather resistance can be provided.

Claims (5)

Fe;1.5質量%以上2.7質量%以下、P;0.008質量%以上0.20質量%以下、Zn;0.01質量%以上0.5質量%以下、Mg及びSnのうちの一方又は両方を合計で0.01質量%以上0.5質量%以下含有し、残部がCu及び不可避不純物とされており、
前記不可避不純物として含まれるCの含有量が5質量ppm未満、Crの含有量が7質量ppm未満、Moの含有量が5質量ppm未満、Wの含有量が1質量ppm未満、Vの含有量が1質量ppm未満、Nbの含有量が1質量ppm未満とされており、
観察された粒径が5nm以上100nm未満の析出物粒子を対象として、粒径が50nm以上100nm未満の析出物粒子の個数割合が5.0%を超えるとともに、粒径が5nm以上15nm未満の析出物粒子の個数割合が50%を超えており、
粒径が50nm以上100nm未満の析出物粒子の個数密度が2.0個/μm以上とされ、粒径が5nm以上15nm未満の析出物粒子の個数密度が15個/μm以上とされており、
導電率が55%IACS以上であることを特徴とする銅合金。
Fe; 1.5 mass% or more and 2.7 mass% or less, P; 0.008 mass% or more and 0.20 mass% or less, Zn; 0.01 mass% or more and 0.5 mass% or less, among Mg and Sn Contains one or both of 0.01% by mass or more and 0.5% by mass or less in total, and the balance is Cu and inevitable impurities,
The content of C contained as the inevitable impurities is less than 5 ppm by mass, the content of Cr is less than 7 ppm by mass, the content of Mo is less than 5 ppm by mass, the content of W is less than 1 ppm by mass, and the content of V is less than 1 mass ppm, and the content of Nb is less than 1 mass ppm,
For the observed precipitate particles with a particle size of 5 nm or more and less than 100 nm, the number ratio of the precipitate particles with a particle size of 50 nm or more and less than 100 nm exceeds 5.0%, and the precipitates with a particle size of 5 nm or more and less than 15 nm the number ratio of particles exceeds 50%,
The number density of precipitate particles with a particle size of 50 nm or more and less than 100 nm is 2.0/μm 2 or more, and the number density of precipitate particles with a particle size of 5 nm or more and less than 15 nm is 15/μm 2 or more. cage,
A copper alloy characterized by having an electrical conductivity of 55% IACS or higher .
さらに、Co;0.005質量%以上0.5質量%以下を含有することを特徴とする請求項1に記載の銅合金。 2. The copper alloy according to claim 1, further comprising Co; 0.005% by mass or more and 0.5% by mass or less. さらに、Ni;0.005質量%以上0.5質量%以下、Al;0.005質量%以上0.5質量%以下、Si;0.005質量%以上0.5質量%以下、のいずれか一種又は二種以上を含有することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の銅合金。 Furthermore, Ni; 0.005 mass% or more and 0.5 mass% or less, Al; 0.005 mass% or more and 0.5 mass% or less, Si; 3. The copper alloy according to claim 1 or 2, containing one or more. 引張強度が400MPa以上であることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の銅合金。 4. The copper alloy according to any one of claims 1 to 3, having a tensile strength of 400 MPa or more. ビッカース硬度が120Hv以上であることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の銅合金。 5. The copper alloy according to any one of claims 1 to 4, having a Vickers hardness of 120 Hv or more.
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