JP6311299B2 - Copper alloy for electronic / electric equipment, copper alloy plastic working material for electronic / electric equipment, manufacturing method of copper alloy plastic working material for electronic / electric equipment, electronic / electric equipment parts and terminals - Google Patents

Copper alloy for electronic / electric equipment, copper alloy plastic working material for electronic / electric equipment, manufacturing method of copper alloy plastic working material for electronic / electric equipment, electronic / electric equipment parts and terminals Download PDF

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本発明は、半導体装置のコネクタ等の端子、あるいは電磁リレーの可動導電片や、リードフレームなどの電子・電気機器用部品として使用される電子・電気機器用銅合金と、それを用いた電子・電気機器用銅合金塑性加工材、電子・電気機器用銅合金塑性加工材の製造方法、電子・電気機器用部品及び端子に関するものである。 The present invention relates to a copper alloy for electronic / electric equipment used as a terminal for a connector of a semiconductor device, a movable conductive piece of an electromagnetic relay, or a component for electronic / electric equipment such as a lead frame, and an electronic / electronic device using the same. The present invention relates to a copper alloy plastic working material for electric equipment, a method for producing a copper alloy plastic working material for electronic / electric equipment, parts for electronic / electric equipment, and terminals.

従来、電子機器や電気機器等の小型化にともない、これら電子機器や電気機器等に使用されるコネクタ等の端子、リレー、リードフレーム等の電子・電気機器用部品の小型化および薄肉化が図られている。このため、電子・電気機器用部品を構成する材料として、ばね性、強度、曲げ加工性に優れた銅合金が要求されている。特に、非特許文献1に記載されているように、コネクタ等の端子、リレー、リードフレーム等の電子・電気機器用部品として使用される銅合金としては、耐力が高いものが望ましい。   Conventionally, along with downsizing of electronic equipment and electrical equipment, etc., miniaturization and thinning of electronic and electrical equipment parts such as connectors, relays, lead frames and other terminals used in such electronic equipment and electrical equipment are being attempted. It has been. For this reason, a copper alloy excellent in springiness, strength, and bending workability is required as a material constituting electronic / electric equipment parts. In particular, as described in Non-Patent Document 1, a copper alloy having high proof strength is desirable as a copper alloy used as a component for electronic and electrical equipment such as a terminal such as a connector, a relay, and a lead frame.

ここで、コネクタ等の端子、リレー、リードフレーム等の電子・電気機器用部品に使用される銅合金として、非特許文献2に記載されているCu−Mg合金、や、特許文献1に記載されているCu−Mg−Zn−B合金等が開発されている。
これらのCu−Mg系合金では、図1に示すCu−Mg系状態図から分かるように、Mgの含有量が3.3原子%以上の場合、溶体化処理と、析出処理を行うことで、CuとMgからなる金属間化合物を析出させることができる。すなわち、これらのCu−Mg系合金においては、析出硬化によって比較的高い導電率と強度を有することが可能となるのである。
Here, as a copper alloy used for electronic and electrical equipment parts such as terminals such as connectors, relays, and lead frames, Cu-Mg alloys described in Non-Patent Document 2 and Patent Document 1 are described. Cu-Mg-Zn-B alloys and the like have been developed.
In these Cu-Mg based alloys, as can be seen from the Cu-Mg based phase diagram shown in Fig. 1, when the Mg content is 3.3 atomic% or more, by performing solution treatment and precipitation treatment, An intermetallic compound composed of Cu and Mg can be deposited. That is, these Cu—Mg alloys can have relatively high electrical conductivity and strength by precipitation hardening.

しかしながら、非特許文献2および特許文献1に記載されたCu−Mg系合金では、母相中に多くの粗大なCuとMgを主成分とする金属間化合物が分散されていることから、曲げ加工時にこれらの金属間化合物が起点となって割れ等が発生しやすいため、複雑な形状の電子・電気機器用部品を成形することができないといった問題があった。
特に、携帯電話やパソコン等の民生品に使用される電子・電気機器用部品においては、小型化及び軽量化が求められており、強度と曲げ加工性とを両立した電子・電気機器用銅合金が求められている。しかしながら、上述のCu−Mg系合金のような析出硬化型合金においては、析出硬化によって強度及び耐力を向上させると曲げ加工性が著しく低下してしまうことになる。このため、薄肉で複雑な形状の電子・電気機器用部品を成形することはできなかった。
However, in the Cu—Mg-based alloys described in Non-Patent Document 2 and Patent Document 1, a large amount of coarse intermetallic compounds containing Cu and Mg are dispersed in the parent phase. Since these intermetallic compounds sometimes start from cracks and the like, there is a problem in that it is impossible to mold parts for electronic / electric equipment having complicated shapes.
In particular, electronic and electrical equipment parts used in consumer products such as mobile phones and personal computers are required to be smaller and lighter. Copper alloys for electronic and electrical equipment that have both strength and bending workability. Is required. However, in a precipitation hardening type alloy such as the above-described Cu-Mg alloy, bending workability is significantly reduced when the strength and proof stress are improved by precipitation hardening. For this reason, it was not possible to mold a thin and complicated part for electronic / electric equipment.

そこで、特許文献2には、Cu−Mg合金を溶体化後に急冷することによって作製したCu−Mg過飽和固溶体の加工硬化型銅合金が提案されている。
このCu−Mg合金は、優れた強度、導電率、曲げ性のバランスに優れており、上述の電子・電気機器用部品の素材として、特に適している。
Therefore, Patent Document 2 proposes a work-hardening type copper alloy of a Cu—Mg supersaturated solid solution prepared by quenching a Cu—Mg alloy after solution.
This Cu-Mg alloy is excellent in balance of excellent strength, electrical conductivity, and bendability, and is particularly suitable as a material for the above-mentioned parts for electronic and electrical equipment.

特開平07−018354号公報Japanese Patent Laid-Open No. 07-018354 特許第5045783号公報Japanese Patent No. 5045783

野村幸矢、「コネクタ用高性能銅合金板条の技術動向と当社の開発戦略」、神戸製鋼技報Vol.54No.1(2004)p.2−8Yukiya Nomura, “Technology Trends of High Performance Copper Alloy Sheets for Connectors and Our Development Strategy”, Kobe Steel Technical Report Vol. 54No. 1 (2004) p. 2-8 掘茂徳、他2名、「Cu−Mg合金における粒界反応型析出」、伸銅技術研究会誌Vol.19(1980)p.115−124M. Motokori and two others, “Grain boundary reaction type precipitation in Cu—Mg alloy”, Vol. 19 (1980) p. 115-124

ところで、例えばコネクタ等の電子・電気機器用部品は、一般に、厚みが0.05〜1.0mm程度の薄板(圧延板)に打ち抜き加工を施すことによって所定の形状とし、その少なくとも一部に曲げ加工を施すことによって製造される。
最近では、電子・電気機器のさらなる小型化及び軽量化にともない、これら小型化及び軽量化された電子・電気機器に用いられる電子・電気機器用部品を製造する際には、プレス成型(打ち抜き加工)時の高精度化が重要な課題となっている。また、操業上では、プレス金型の摩耗や打ち抜き屑の発生による生産性の低下も問題となっている。これらの観点から、従来にも増して、せん断加工性に優れた電子・電気機器用銅合金の開発が強く求められている。
By the way, parts for electronic and electrical equipment such as connectors are generally formed into a predetermined shape by punching a thin plate (rolled plate) having a thickness of about 0.05 to 1.0 mm, and bent to at least a part thereof. Manufactured by processing.
Recently, as electronic and electrical equipment is further reduced in size and weight, electronic parts for electronic and electrical equipment that have been reduced in size and weight have been manufactured by press molding (punching). ) High accuracy in time is an important issue. Further, in operation, there is a problem of a decrease in productivity due to wear of a press die and generation of punching scraps. From these viewpoints, there is a strong demand for the development of copper alloys for electronic and electrical equipment, which are superior in shear workability, compared to the prior art.

この発明は、前述した事情に鑑みてなされたものであって、強度、せん断加工性に優れた電子・電気機器用銅合金、電子・電気機器用銅合金塑性加工材、電子・電気機器用銅合金塑性加工材の製造方法、電子・電気機器用部品及び端子を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above-described circumstances, and is a copper alloy for electronic / electric equipment that is excellent in strength and shear workability, a copper alloy plastic working material for electronic / electric equipment, and a copper for electronic / electric equipment. An object of the present invention is to provide a method for producing an alloy plastic processed material, a component for electronic / electric equipment, and a terminal.

この課題を解決するために、本発明の電子・電気機器用銅合金は、Mgを1.3mass%以上2.8mass%以下の範囲で含み、さらに、Ca,Sr,Y,Te及び希土類元素のうちの1種または2種以上を合計で0.001mass%以上0.020mass%以下の範囲内で含み、Sの含有量が0.1massppm以上50.0massppm以下の範囲内とされ、残部がCu及び不可避不純物とされており、導電率σ(%IACS)が、Mgの含有量をX原子%としたときに、
σ≦1.7241/(−0.0347×X +0.6569×X+1.7)×100の範囲内とされており、Ca,Sr,Y,Te,希土類元素のうちの1種または2種以上の晶出物が存在することを特徴としている。
In order to solve this problem, the copper alloy for electronic and electrical equipment of the present invention contains Mg in the range of 1.3 mass% to 2.8 mass%, and further contains Ca, Sr, Y, Te and rare earth elements. One or more of them is included in the range of 0.001 mass% or more and 0.020 mass% or less in total, the S content is in the range of 0.1 massppm or more and 50.0 massppm or less, and the balance is Cu. When the conductivity σ (% IACS) is Mg content X atom%,
σ ≦ 1.7241 / (− 0.0347 × X 2 + 0.6569 × X + 1.7) × 100, and one or two of Ca, Sr, Y, Te and rare earth elements It is characterized by the presence of the above crystallized products .

上述の構成の電子・電気機器用銅合金によれば、Ca,Sr,Y,Te及び希土類元素の中から選択される少なくとも1種または2種以上を合計で0.001mass%以上0.020mass%以下の範囲内で含んでいるので、これらの元素の多くが晶出物として存在することになり、この晶出物が打ち抜き加工時に破壊の起点となり、せん断加工性が大幅に向上する。また、Ca,Sr,Y,Te,希土類元素といった元素は、不可避不純物であるOやSと反応して酸化物や硫化物を生成することから、これらの酸化物や硫化物も打ち抜き加工時に破壊の起点となり、せん断加工性の向上に寄与することになる。
また、図1の状態図に示すように、Mgを固溶限度以上のMgを1.3mass%以上2.8mass%以下(3.3原子%以上6.9原子%以下)の範囲で含有しており、かつ、導電率が上記の範囲内とされていることから、Mgが母相中に過飽和に固溶したCu−Mg過飽和固溶体となる。
According to the copper alloy for electronic / electric equipment having the above-described configuration, a total of at least one or two or more selected from Ca, Sr, Y, Te and rare earth elements is 0.001 mass% or more and 0.020 mass%. Since these elements are contained within the following ranges, many of these elements exist as crystallized substances, and these crystallized substances become the starting point of fracture during punching, and the shear workability is greatly improved. In addition, elements such as Ca, Sr, Y, Te, and rare earth elements react with O and S, which are inevitable impurities, to generate oxides and sulfides. Therefore, these oxides and sulfides are also destroyed during stamping. This contributes to the improvement of shear workability.
Further, as shown in the phase diagram of FIG. 1, Mg is contained in a range of 1.3 mass% to 2.8 mass% (3.3 atomic% to 6.9 atomic%) above the solid solution limit. In addition, since the electrical conductivity is within the above range, a Cu—Mg supersaturated solid solution in which Mg is supersaturated in the parent phase is obtained.

また、Sの含有量が0.1massppm以上50.0massppm以下の範囲内とされているので、銅中に存在するSが、Mg,Ca,Sr,Y,Te及び希土類元素と反応し、金属間化合物または硫化物として晶出物や析出物を形成する。これらの晶出物や析出物は、打ち抜き加工時に破壊の起点となり、せん断加工性を大幅に向上させることが可能となる。 Further, since the content of S is in a range of less 50.0massppm above 0.1Massppm, S present in the copper reacts Mg, Ca, Sr, Y, and Te, and rare earth elements, the intermetallic Crystallized substances and precipitates are formed as compounds or sulfides. These crystallized substances and precipitates become the starting point of fracture during punching, and the shear workability can be greatly improved.

このようなCu−Mg過飽和固溶体からなる銅合金においては、母相中には、割れの起点となる粗大なCuとMgを主成分とする金属間化合物が多く分散されておらず、曲げ加工性が向上することになることから、複雑な形状のコネクタ等の端子、リレー、リードフレーム等の電子・電気機器用部品等を成形することが可能となる。
さらに、Mgを過飽和に固溶させていることから、加工硬化によって強度を向上させることが可能となる。
なお、Mgの原子%については、Cu、Mg、Ca,Sr,Y,Te及び希土類元素のみからなると仮定して算出した。また、Ca,Sr,Y,Te,希土類元素といった元素は、銅中にほとんど固溶しないことから、導電率σの計算において、これらの元素を除いて算出した。
In a copper alloy composed of such a Cu-Mg supersaturated solid solution, a large amount of coarse intermetallic compounds mainly composed of Cu and Mg, which are the starting points of cracks, are not dispersed in the matrix phase, and bending workability is increased. Therefore, it becomes possible to mold terminals for complicated shapes such as connectors, and parts for electronic and electric devices such as relays and lead frames.
Further, since Mg is supersaturated, the strength can be improved by work hardening.
Note that the atomic% of Mg was calculated on the assumption that it was composed only of Cu, Mg, Ca, Sr, Y, Te, and rare earth elements. Further, since elements such as Ca, Sr, Y, Te, and rare earth elements hardly dissolve in copper, the calculation was performed by removing these elements in the calculation of the conductivity σ.

さらに、本発明の電子・電気機器用銅合金では、走査型電子顕微鏡観察において、粒径0.1μm以上のCuとMgを主成分とする金属間化合物の平均個数が、1個/μm以下とされていることが好ましい。
この場合、図1の状態図に示すように、Mgを固溶限度以上の1.3mass%以上2.8mass%以下(3.3原子%以上6.9原子%以下)の範囲で含有しており、かつ、走査型電子顕微鏡観察において、粒径0.1μm以上のCuとMgを主成分とする金属間化合物の平均個数が、1個/μm以下とされていることから、CuとMgを主成分とする金属間化合物の析出が抑制されており、Mgが母相中に過飽和に固溶したCu−Mg過飽和固溶体となる。よって、上述のように、母相中には、割れの起点となる粗大なCuとMgを主成分とする金属間化合物が多く分散されておらず、曲げ加工性が向上することができる。さらに、Mgを過飽和に固溶させていることから、加工硬化によって強度を向上させることが可能となる。
Furthermore, in the copper alloy for electronic / electric equipment of the present invention, the average number of intermetallic compounds mainly composed of Cu and Mg having a particle size of 0.1 μm or more is 1 / μm 2 or less in the scanning electron microscope observation. It is preferable that
In this case, as shown in the phase diagram of FIG. 1, Mg is contained in a range of 1.3 mass% or more and 2.8 mass% or less (3.3 atomic% or more and 6.9 atomic% or less) above the solid solution limit. In addition, in the observation with a scanning electron microscope, since the average number of intermetallic compounds mainly composed of Cu and Mg having a particle size of 0.1 μm or more is 1 piece / μm 2 or less, Cu and Mg Precipitation of an intermetallic compound containing as a main component is suppressed, and a Cu—Mg supersaturated solid solution in which Mg is supersaturated in the matrix is obtained. Therefore, as described above, a large amount of coarse intermetallic compounds mainly composed of Cu and Mg, which are the starting points of cracking, are not dispersed in the matrix phase, and the bending workability can be improved. Further, since Mg is supersaturated, the strength can be improved by work hardening.

なお、粒径0.1μm以上のCuとMgを主成分とする金属間化合物の平均個数は、電界放出型走査電子顕微鏡を用いて、倍率:5万倍、視野:約4.8μmで10視野の観察を行って算出する。
また、CuとMgを主成分とする金属間化合物の粒径は、金属間化合物の長径(途中で粒界に接しない条件で粒内に最も長く引ける直線の長さ)と短径(長径と直角に交わる方向で、途中で粒界に接しない条件で最も長く引ける直線の長さ)の平均値とする。
The average number of intermetallic compounds mainly composed of Cu and Mg having a particle size of 0.1 μm or more was 10 × at a magnification of 50,000 times and a field of view of about 4.8 μm 2 using a field emission scanning electron microscope. Calculate by observing the visual field.
In addition, the particle size of the intermetallic compound containing Cu and Mg as the main components is the major axis of the intermetallic compound (the length of the straight line that can be drawn the longest in the grain under the condition of not contacting the grain boundary in the middle) and the minor axis (major axis and It is defined as an average value of the length of a straight line that can be drawn longest in a direction that intersects at right angles and does not contact the grain boundary in the middle.

また、本発明の電子・電気機器用銅合金においては、さらに、0.02mass%以下のSn、0.1mass%以下のZn、0.2mass%以下のAl、0.1mass%以下のNi、0.05mass%以下のSi、0.1mass%以下のMn、0.2mass%以下のLi、0.04mas%以下のTi、0.05mass%以下のFe、0.05mass%以下のCo、0.03mass%以下のCr、0.02mass%以下のZr、0.05mass%以下のPのうち1種または2種以上を含んでいてもよい。
これらの元素は、Cu−Mg合金の強度等の特性を向上させる作用効果を有することから、要求特性に応じて適宜添加することが好ましい
In the copper alloy for an electrical and electronic equipment of the present invention, further, 0.02 mass% or less of Sn, 0.1mass% less Zn, 0.2 mass% or less of Al, 0.1mass% less Ni, 0 0.05 mass% or less Si, 0.1 mass% or less Mn, 0.2 mass% or less Li, 0.04 mass% or less Ti, 0.05 mass% or less Fe, 0.05 mass% or less Co, 0.03 mass % or less of Cr, 0.02 mass% or less of Zr, 1 or two or more may be free Ndei of 0.05 mass% or less of P.
Since these elements have the effect of improving the properties such as the strength of the Cu—Mg alloy, it is preferable to add them appropriately according to the required properties .

さらに、本発明の電子・電気機器用銅合金においては、0.2%耐力が400MPa以上の機械的特性を有することが好ましい。
この場合、0.2%耐力が400MPa以上であることから、容易に塑性変形せず、ばね性を確保することができるため、コネクタ等の端子、リレー、リードフレーム等の電子機器用部品に特に適している。
Furthermore, the copper alloy for electronic / electric equipment of the present invention preferably has a mechanical property of 0.2% proof stress of 400 MPa or more.
In this case, since the 0.2% proof stress is 400 MPa or more, the plasticity is not easily deformed and the spring property can be ensured. Therefore, particularly for electronic device parts such as terminals such as connectors, relays, and lead frames. Is suitable.

本発明の電子・電気機器用銅合金塑性加工材は、上述の電子・電気機器用銅合金からなることを特徴としている。なお、この明細書において塑性加工材とは、いずれかの製造工程において、塑性加工が施された銅合金をいうものとする。
この構成の銅合金塑性加工材においては、上述のように、強度、曲げ加工性、せん断加工性に優れた電子・電気機器用銅合金からなることから、電子・電気機器用部品の素材として特に適している。
また、本発明の電子・電気機器用銅合金塑性加工材においては、表面にSnめっきが施されていてもよい。
この場合、端子・コネクタ等を成型した際に接点同士の接触抵抗が安定するとともに、耐食性を向上させることができる。
Electronic and electrical equipment copper alloy plastic working material of the present invention is characterized and Turkey such from electrical and electronic equipment for copper alloy described above. In this specification, the plastic working material refers to a copper alloy that has undergone plastic working in any manufacturing process.
In the copper alloy plastic work material of this configuration, as described above, it is made of a copper alloy for electronic / electric equipment having excellent strength, bending workability, and shear workability. Is suitable.
Moreover, in the copper alloy plastic working material for electronic / electric equipment of this invention, Sn plating may be given to the surface.
In this case, when the terminal / connector is molded, the contact resistance between the contacts is stabilized, and the corrosion resistance can be improved.

発明の電子・電気機器用銅合金塑性加工材の製造方法は、前述の電子・電気機器用銅合金からなる銅素材を400℃以上900℃以下の温度にまで加熱する加熱工程と、加熱された前記銅素材を60℃/min以上の冷却速度で200℃以下にまで冷却する急冷工程と、前記銅素材を塑性加工する塑性加工工程と、を有することを特徴としている。
この場合、上述の組成の銅素材を400℃以上900℃以下の温度にまで加熱することにより、Mgの溶体化を行うことができる。また、加熱された前記銅素材を、60℃/min以上の冷却速度で200℃以下にまで冷却することにより、冷却の過程で金属間化合物が析出することを抑制でき、銅素材をCu−Mg過飽和固溶体とすることが可能となる。よって、母相中に粗大なCuとMgを主成分とする金属間化合物が多く分散されておらず、曲げ加工性が向上することになる。
The method for producing a copper alloy plastic working material for electronic / electric equipment according to the present invention includes a heating step of heating a copper material made of the above-described copper alloy for electronic / electric equipment to a temperature of 400 ° C. or higher and 900 ° C. or lower, and heating. and rapid cooling step of cooling to the copper material to 200 ° C. or less at 60 ° C. / min or more cooling speed, is characterized in Rukoto to have a, a plastic working step of plastic working the copper material.
In this case, the solution of Mg can be formed by heating the copper material having the above composition to a temperature of 400 ° C. or higher and 900 ° C. or lower. Moreover, it can suppress that an intermetallic compound precipitates in the process of cooling by cooling the said copper raw material heated to 200 degrees C or less with the cooling rate of 60 degrees C / min or more, and makes a copper raw material Cu-Mg. A supersaturated solid solution can be obtained. Therefore, a large amount of coarse intermetallic compounds mainly composed of Cu and Mg are not dispersed in the parent phase, and the bending workability is improved.

本発明の電子・電気機器用部品は、上述の電子・電気機器用銅合金塑性加工材からなることを特徴としている。なお、本発明における電子・電気機器用部品とは、コネクタ等の端子、リレー、リードフレーム等を含むものである。
また、本発明の端子は、上述の電子・電気機器用銅合金塑性加工材からなることを特徴としている。
この構成の電子・電気機器用部品及び端子は、機械的特性に優れた電子・電気機器用銅合金塑性加工材を用いて製造されているので、複雑な形状であっても割れ等がなく、強度も十分に確保されているので、信頼性に優れている。
The component for electronic / electrical equipment of the present invention is characterized by comprising the above-described copper alloy plastic working material for electronic / electrical equipment. In addition, the electronic / electric equipment parts in the present invention include terminals such as connectors, relays, lead frames, and the like.
The terminal of the present invention is characterized by comprising the above-described copper alloy plastic working material for electronic / electrical equipment.
Since the components and terminals for electronic / electrical equipment of this configuration are manufactured using a copper alloy plastic working material for electronic / electrical equipment with excellent mechanical properties, there are no cracks even in complex shapes, Since the strength is sufficiently secured, it is excellent in reliability.

本発明によれば、強度、せん断加工性に優れた電子・電気機器用銅合金、電子・電気機器用銅合金塑性加工材、電子・電気機器用銅合金塑性加工材の製造方法、電子・電気機器用部品及び端子を提供することができる。 According to the present invention, a copper alloy for electronic / electric equipment having excellent strength and shear workability, a copper alloy plastic working material for electronic / electric equipment, a method for producing a copper alloy plastic working material for electronic / electric equipment, electronic / electrical Equipment parts and terminals can be provided.

Cu−Mg系状態図である。It is a Cu-Mg system phase diagram. 本実施形態である電子・電気機器用銅合金の製造方法のフロー図である。It is a flowchart of the manufacturing method of the copper alloy for electronic and electric apparatuses which is this embodiment. 実施例におけるせん断加工性を評価する破断面割合の説明図である。It is explanatory drawing of the torn surface ratio which evaluates the shear workability in an Example.

以下に、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。
本実施形態である電子・電気機器用銅合金の成分組成は、Mgを1.3mass%以上2.8mass%以下(3.3原子%以上6.9原子%以下)の範囲で含み、さらに、Ca,Sr,Y,Te及び希土類元素のうちの1種または2種以上を合計で0.001mass%以上0.020mass%以下の範囲内で含み、残部が実質的にCu及び不可避不純物とされている。また、本実施形態においては、Sの含有量が0.1massppm以上50.0massppm以下の範囲内とされている。
さらに、本実施形態である電子・電気機器用銅合金においては、0.2%耐力が400MPa以上とされている。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
The component composition of the copper alloy for electronic / electric equipment according to the present embodiment includes Mg in a range of 1.3 mass% to 2.8 mass% (3.3 atomic% to 6.9 atomic%), One or more of Ca, Sr, Y, Te and rare earth elements are included within a total range of 0.001 mass% or more and 0.020 mass% or less, with the balance being substantially Cu and inevitable impurities. Yes. In the present embodiment, the S content is in the range of 0.1 massppm to 50.0 massppm.
Furthermore, in the copper alloy for electronic / electric equipment according to the present embodiment, the 0.2% proof stress is set to 400 MPa or more.

ここで、導電率σ(%IACS)が、Mgの含有量をX原子%としたときに、
σ≦1.7241/(−0.0347×X+0.6569×X+1.7)×100の範囲内とされている。
また、走査型電子顕微鏡観察において、粒径0.1μm以上のCuとMgを主成分とする金属間化合物の平均個数が、1個/μm以下とされている。
すなわち、本実施形態である電子・電気機器用銅合金は、CuとMgを主成分とする金属間化合物がほとんど析出しておらず、Mgが母相中に固溶限度以上に固溶したCu−Mg過飽和固溶体とされているのである。
Here, when the conductivity σ (% IACS) is set to the Mg content X atom%,
It is within the range of σ ≦ 1.7241 / (− 0.0347 × X 2 + 0.6569 × X + 1.7) × 100.
In the observation with a scanning electron microscope, the average number of intermetallic compounds mainly composed of Cu and Mg having a particle diameter of 0.1 μm or more is set to 1 piece / μm 2 or less.
That is, the copper alloy for electronic and electrical equipment according to the present embodiment has almost no intermetallic compound mainly composed of Cu and Mg, and Mg is a solid solution exceeding the solid solution limit in the matrix phase. -Mg supersaturated solid solution.

ここで、上述のように成分組成、導電率、析出物の個数を規定した理由について以下に説明する。   Here, the reason why the component composition, the conductivity, and the number of precipitates are defined as described above will be described below.

(Mg:1.3mass%以上2.8mass%以下)
Mgは、導電率を大きく低下させることなく、強度を向上させるとともに再結晶温度を上昇させる作用効果を有する元素である。また、Mgを母相中に固溶させることにより、優れた曲げ加工性が得られる。
ここで、Mgの含有量が1.3mass%未満では、その作用効果を奏功せしめることはできない。一方、Mgの含有量が2.8mass%を超えると、溶体化のために熱処理を行った際に、CuとMgを主成分とする金属間化合物が残存してしまい、その後の熱間加工及び冷間加工時に割れが発生してしまうおそれがある。このような理由から、Mgの含有量を、1.3mass%以上2.8mass%以下(3.3原子%以上6.9原子%以下)に設定している。
(Mg: 1.3 mass% or more and 2.8 mass% or less)
Mg is an element that has the effect of improving the strength and raising the recrystallization temperature without greatly reducing the electrical conductivity. Further, excellent bending workability can be obtained by dissolving Mg in the matrix.
Here, when the content of Mg is less than 1.3 mass%, the effect cannot be achieved. On the other hand, when the Mg content exceeds 2.8 mass%, when heat treatment is performed for solution treatment, an intermetallic compound mainly containing Cu and Mg remains, and subsequent hot working and There is a risk of cracking during cold working. For these reasons, the Mg content is set to 1.3 mass% or more and 2.8 mass% or less (3.3 atomic% or more and 6.9 atomic% or less).

なお、Mgの含有量が少ないと、強度が十分に向上しない。また、Mgは活性元素であることから、過剰に添加されることによって、溶解鋳造時に、酸素と反応して生成されたMg酸化物を巻きこむおそれがある。したがって、Mgの含有量を、1.4mass%以上2.6mass%以下(3.7原子%以上6.3原子%以下)の範囲とすることが、さらに好ましい。   In addition, when there is little content of Mg, intensity | strength will not fully improve. Moreover, since Mg is an active element, when it is added excessively, there is a possibility that Mg oxide generated by reacting with oxygen is involved during melt casting. Therefore, it is more preferable that the Mg content is in the range of 1.4 mass% to 2.6 mass% (3.7 atomic% to 6.3 atomic%).

(Ca,Sr,Y,Te及び希土類元素:合計で0.001mass%以上0.020mass%以下)
Ca,Sr,Y,Te及び希土類元素といった元素は、その多くが銅中に晶出物として存在し、この晶出物が打ち抜き加工時に破壊の起点となることから、せん断加工性が大幅に向上する。また、Ca,Sr,Y,Te,希土類元素といった元素は、不可避不純物であるOやSと反応して酸化物や硫化物を生成することから、これらの酸化物や硫化物も打ち抜き加工時に破壊の起点となり、せん断加工性の向上に寄与することになる。また、O,Sを無害化し、特性への悪影響を抑制することができる。
ここで、Ca,Sr,Y,Te,希土類元素のうちの1種または2種以上の含有量が合計で0.001mass%未満だと、所望の効果が得られない。一方、Ca,Sr,Y,Te,希土類元素のうちの1種または2種以上の含有量が合計で0.020mass%を超える場合には、導電率の低下に加え、晶出物や析出物の存在割合が多くなり、熱間加工性及び冷間加工性が劣化するおそれがある。
したがって、Ca,Sr,Y,Te及び希土類元素のうちの1種または2種以上の含有量の合計を0.001mass%以上0.020mass%以下の範囲内とした。なお、Ca,Sr,Y,Te及び希土類元素のうちの1種または2種以上の含有量の合計は、上記の範囲内でも特に0.002mass%以上0.015mass%以下の範囲内が好ましい。
(Ca, Sr, Y, Te and rare earth elements: 0.001 mass% or more and 0.020 mass% or less in total)
Many elements such as Ca, Sr, Y, Te, and rare earth elements are present as crystallized substances in copper, and since these crystallized substances become the starting point of fracture during stamping, the shear workability is greatly improved. To do. In addition, elements such as Ca, Sr, Y, Te, and rare earth elements react with O and S, which are inevitable impurities, to generate oxides and sulfides. Therefore, these oxides and sulfides are also destroyed during stamping. This contributes to the improvement of shear workability. Moreover, O and S can be rendered harmless and adverse effects on characteristics can be suppressed.
Here, when the content of one or more of Ca, Sr, Y, Te, and rare earth elements is less than 0.001 mass% in total, a desired effect cannot be obtained. On the other hand, when the content of one or more of Ca, Sr, Y, Te, and rare earth elements exceeds 0.020 mass% in total, in addition to a decrease in conductivity, a crystallization product or a precipitate Therefore, the hot workability and the cold workability may be deteriorated.
Therefore, the total of the content of one or more of Ca, Sr, Y, Te and rare earth elements is set in the range of 0.001 mass% to 0.020 mass%. The total content of one or more of Ca, Sr, Y, Te and rare earth elements is preferably within the range of 0.002 mass% to 0.015 mass%, even within the above range.

(S:0.1massppm以上50.0massppm以下)
Sは、単体、金属間化合物及び複合硫化物などの形態で銅中に存在する。銅中に存在するSは、Mg,Ca,Sr,Y,Te及び希土類元素と反応し、金属間化合物又は硫化物として晶出物や析出物を形成する。これらの金属間化合物又は硫化物は、せん断加工時に破壊の起点となることから、せん断加工性が大幅に向上する。ここで、Sの含有量が0.1massppm未満では、生成する金属間化合物又は硫化物が少なくなり、せん断加工性のさらなる改善が認められないおそれがある。一方、Sの含有量が50.0massppmを超えると、冷間加工性が劣化するおそれがある。
したがって、本実施形態では、Sの含有量を、0.1massppm以上50.0massppm以下とした。なお、Sの含有量は、上記の範囲内でも特に1.0massppm以上40.0massppm以下が好ましく、2.0massppm以上40.0massppm以下がさらに好ましい。
(S: 0.1 massppm or more and 50.0 massppm or less)
S exists in copper in the form of a simple substance, an intermetallic compound, a composite sulfide or the like. S present in copper reacts with Mg, Ca, Sr, Y, Te and rare earth elements to form crystallized substances and precipitates as intermetallic compounds or sulfides. Since these intermetallic compounds or sulfides serve as starting points for fracture during shearing, the shear workability is greatly improved. Here, when the content of S is less than 0.1 mass ppm, the amount of intermetallic compounds or sulfides to be generated is decreased, and there is a possibility that further improvement in shear workability is not recognized. On the other hand, when the content of S exceeds 50.0 massppm, the cold workability may be deteriorated.
Therefore, in the present embodiment, the content of S is set to 0.1 massppm or more and 50.0 massppm or less. In addition, the content of S is preferably 1.0 mass ppm or more and 40.0 mass ppm or less, and more preferably 2.0 mass ppm or more and 40.0 mass ppm or less even within the above range.

以上の各元素の残部は、基本的にはCuおよび不可避的不純物とすればよい。ここで、不可避的不純物としては、Ag,B,Ba,Sc,Hf,V,Nb,Ta,Mo,W,Re,Ru,Os,Se,Rh,Ir,Pd,Pt,Au,Cd,Ga,In,Ge,As,Sb,Tl,Pb,Bi,Be,N,Hg,H,C,O,S,Sn、Zn、Al、Ni、Si、Mn、Li、Ti、Fe、Co、Cr、Zr、P等が挙げられる。これらの不可避不純物は、総量で0.3mass%以下であることが望ましい。   The balance of the above elements may be basically Cu and inevitable impurities. Here, as inevitable impurities, Ag, B, Ba, Sc, Hf, V, Nb, Ta, Mo, W, Re, Ru, Os, Se, Rh, Ir, Pd, Pt, Au, Cd, Ga , In, Ge, As, Sb, Tl, Pb, Bi, Be, N, Hg, H, C, O, S, Sn, Zn, Al, Ni, Si, Mn, Li, Ti, Fe, Co, Cr , Zr, P and the like. These inevitable impurities are desirably 0.3 mass% or less in total.

(導電率σ)
上述の成分組成とされた本実施形態である電子・電気機器用銅合金において、導電率σが、Mgの含有量をX原子%としたときに、σ≦1.7241/(−0.0347×X+0.6569×X+1.7)×100の範囲内である場合には、金属間化合物がほとんど存在しないことになる。
すなわち、導電率σが上記式を超える場合には、金属間化合物が多量に存在し、サイズも比較的大きいことから、曲げ加工性が大幅に劣化することになる。よって、導電率σが、上記式の範囲内となるように、製造条件を調整する。
なお、上述の作用効果を確実に奏功せしめるためには、導電率σ(%IACS)を、
σ≦1.7241/(−0.0292×X+0.6797×X+1.7)×100の範囲内とすることが好ましい。この場合、CuとMgを主成分とする金属間化合物がより少量であるために、曲げ加工性がさらに向上することになる。
(Conductivity σ)
In the copper alloy for electronic and electrical equipment according to the present embodiment having the above-described component composition, when the conductivity σ is Mg content X atom%, σ ≦ 1.7241 / (− 0.0347 In the case of × X 2 + 0.6569 × X + 1.7) × 100, there is almost no intermetallic compound.
That is, when the electrical conductivity σ exceeds the above formula, a large amount of intermetallic compounds are present and the size is relatively large, so that the bending workability is greatly deteriorated. Therefore, the manufacturing conditions are adjusted so that the electrical conductivity σ is within the range of the above formula.
In order to ensure that the above-described effects are achieved, the conductivity σ (% IACS) is
It is preferable that σ ≦ 1.7241 / (− 0.0292 × X 2 + 0.6797 × X + 1.7) × 100. In this case, since the amount of the intermetallic compound mainly composed of Cu and Mg is smaller, the bending workability is further improved.

(析出物)
本実施形態である電子・電気機器用銅合金においては、走査型電子顕微鏡で観察した結果、粒径0.1μm以上のCuとMgを主成分とする金属間化合物の平均個数が、1個/μm以下とされている。すなわち、CuとMgを主成分とする金属間化合物がほとんど析出しておらず、Mgが母相中に固溶しているのである。
ここで、溶体化が不完全であったり、溶体化後にCuとMgを主成分とする金属間化合物が析出することにより、サイズの大きい金属間化合物が多量に存在すると、これらの金属間化合物が割れの起点となり、曲げ加工性が大幅に劣化することになる。
(Precipitate)
In the copper alloy for electronic and electrical equipment according to this embodiment, as a result of observation with a scanning electron microscope, the average number of intermetallic compounds mainly composed of Cu and Mg having a particle size of 0.1 μm or more is 1 / It is set to μm 2 or less. That is, almost no intermetallic compound mainly composed of Cu and Mg is precipitated, and Mg is dissolved in the matrix.
Here, when the solution formation is incomplete, or when an intermetallic compound mainly composed of Cu and Mg is precipitated after solution formation, a large amount of intermetallic compounds exist in a large size. It becomes a starting point of cracking, and bending workability is greatly deteriorated.

組織を調査した結果、粒径0.1μm以上のCuとMgを主成分とする金属間化合物が合金中に1個/μm以下の場合、すなわち、CuとMgを主成分とする金属間化合物が存在しないあるいは少量である場合、良好な曲げ加工性が得られることになる。
さらに、上述の作用効果を確実に奏功せしめるためには、粒径0.05μm以上のCuとMgを主成分とする金属間化合物の個数が合金中に1個/μm以下であることが、より好ましい。
As a result of investigating the structure, when the intermetallic compound containing Cu and Mg as main components having a particle size of 0.1 μm or more is 1 / μm 2 or less in the alloy, that is, the intermetallic compound containing Cu and Mg as main components. When there is no or a small amount, good bending workability can be obtained.
Furthermore, in order to ensure that the above-described effects are achieved, the number of intermetallic compounds mainly composed of Cu and Mg having a particle diameter of 0.05 μm or more is 1 / μm 2 or less in the alloy. More preferred.

なお、CuとMgを主成分とする金属間化合物の平均個数は、電界放出型走査電子顕微鏡を用いて、倍率:5万倍、視野:約4.8μmで10視野の観察を行い、その平均値を算出する。
また、CuとMgを主成分とする金属間化合物の粒径は、金属間化合物の長径(途中で粒界に接しない条件で粒内に最も長く引ける直線の長さ)と短径(長径と直角に交わる方向で、途中で粒界に接しない条件で最も長く引ける直線の長さ)の平均値とする。
ここで、CuとMgを主成分とする金属間化合物は、化学式MgCu、プロトタイプMgCu、ピアソン記号cF24、空間群番号Fd−3mで表される結晶構造を有するものである。
The average number of intermetallic compounds mainly composed of Cu and Mg was observed using a field emission scanning electron microscope with 10 fields of view at a magnification of 50,000 times and a field of view of about 4.8 μm 2. The average value is calculated.
In addition, the particle size of the intermetallic compound containing Cu and Mg as the main components is the major axis of the intermetallic compound (the length of the straight line that can be drawn the longest in the grain under the condition of not contacting the grain boundary in the middle) and the minor axis (major axis and It is defined as an average value of the length of a straight line that can be drawn longest in a direction that intersects at right angles and does not contact the grain boundary in the middle.
Here, the intermetallic compound containing Cu and Mg as main components has a crystal structure represented by the chemical formula MgCu 2 , prototype MgCu 2 , Pearson symbol cF24, and space group number Fd-3m.

次に、このような構成とされた本実施形態である電子・電気機器用銅合金の製造方法及び電子・電気機器用銅合金塑性加工材の製造方法について、図2に示すフロー図を参照して説明する。   Next, referring to the flowchart shown in FIG. 2 for the manufacturing method of the copper alloy for electronic and electrical equipment and the manufacturing method of the copper alloy plastic working material for electronic and electrical equipment according to the present embodiment configured as described above. I will explain.

(溶解・鋳造工程S01)
まず、銅原料を溶解して得られた銅溶湯に、前述の元素を添加して成分調整を行い、銅合金溶湯を製出する。なお、Mgの添加には、Mg単体やCu−Mg母合金等を用いることができる。また、Mgを含む原料を銅原料とともに溶解してもよい。さらに、本合金のリサイクル材およびスクラップ材を用いてもよい。また、Ca,Sr,Y,Te及び希土類元素の中から選択される少なくとも1種または2種以上の元素の添加にも、元素単体や母合金等を用いることができる。
ここで、銅溶湯は、純度が99.99mass%以上とされたいわゆる4NCuとすることが好ましい。また、溶解工程では、Mgの酸化を抑制するために、真空炉、あるいは、不活性ガス雰囲気または還元性雰囲気とされた雰囲気炉を用いることが好ましい。
(Melting / Casting Process S01)
First, the above-described elements are added to a molten copper obtained by melting a copper raw material to adjust the components, thereby producing a molten copper alloy. In addition, Mg simple substance, Cu-Mg master alloy, etc. can be used for addition of Mg. Moreover, you may melt | dissolve the raw material containing Mg with a copper raw material. Further, recycled materials and scrap materials of this alloy may be used. Moreover, an element simple substance, a mother alloy, etc. can also be used for addition of at least one element selected from Ca, Sr, Y, Te and rare earth elements.
Here, the molten copper is preferably so-called 4NCu having a purity of 99.99 mass% or more. Further, in the melting step, it is preferable to use a vacuum furnace or an atmosphere furnace having an inert gas atmosphere or a reducing atmosphere in order to suppress oxidation of Mg.

そして、成分調整された銅合金溶湯を鋳型に注入して鋳塊を製出する。なお、量産を考慮した場合には、連続鋳造法または半連続鋳造法を用いることが好ましい。
ここで、鋳造における凝固時の冷却速度は、上述のCa,Sr,Y,Te及び希土類元素によって形成される粒子を十分に晶出させるために、30℃/sec.未満とすることが好ましく、さらには、0.1℃/sec.以上25℃/sec.未満とすることが好ましい。
Then, the copper alloy molten metal whose components are adjusted is poured into a mold to produce an ingot. In consideration of mass production, it is preferable to use a continuous casting method or a semi-continuous casting method.
Here, the cooling rate during solidification in casting is 30 ° C./sec. In order to sufficiently crystallize the particles formed of the above-mentioned Ca, Sr, Y, Te and rare earth elements. It is preferable to be less than 0.1 ° C./sec. 25 ° C./sec. It is preferable to make it less than.

(加熱工程S02)
次に、得られた鋳塊の均質化および溶体化のために加熱処理を行う。鋳塊の内部には、凝固の過程においてMgが偏析で濃縮することにより発生したCuとMgを主成分とする金属間化合物等が存在することになる。そこで、これらの偏析および金属間化合物等を消失または低減させるために、鋳塊を400℃以上900℃以下にまで加熱する加熱処理を行うことで、鋳塊内において、Mgを均質に拡散させたり、Mgを母相中に固溶させたりするのである。なお、この加熱工程S02は、非酸化性または還元性雰囲気中で実施することが好ましい。
ここで、加熱温度が400℃未満では、溶体化が不完全となり、母相中にCuとMgを主成分とする金属間化合物が多く残存するおそれがある。一方、加熱温度が900℃を超えると、銅素材の一部が液相となり、組織や表面状態が不均一となるおそれがある。よって、加熱温度を400℃以上900℃以下の範囲に設定している。より好ましくは400℃以上850℃以下、更に好ましくは420℃以上800℃以下とする。
(Heating step S02)
Next, heat treatment is performed for homogenization and solution of the obtained ingot. Inside the ingot, there are intermetallic compounds and the like mainly composed of Cu and Mg generated by the concentration of Mg by segregation during the solidification process. Therefore, in order to eliminate or reduce these segregation and intermetallic compounds, etc., heat treatment is performed to heat the ingot to 400 ° C. or more and 900 ° C. or less, so that Mg can be uniformly diffused in the ingot. Mg is dissolved in the matrix. The heating step S02 is preferably performed in a non-oxidizing or reducing atmosphere.
Here, when the heating temperature is less than 400 ° C., solutionization is incomplete, and a large amount of intermetallic compounds mainly containing Cu and Mg may remain in the matrix phase. On the other hand, when the heating temperature exceeds 900 ° C., a part of the copper material becomes a liquid phase, and the structure and the surface state may become non-uniform. Therefore, the heating temperature is set in the range of 400 ° C. or higher and 900 ° C. or lower. More preferably, it is 400 degreeC or more and 850 degrees C or less, More preferably, you may be 420 degreeC or more and 800 degrees C or less.

(急冷工程S03)
そして、加熱工程S02において400℃以上900℃以下にまで加熱された銅素材を、200℃以下の温度にまで、60℃/min以上の冷却速度で冷却する。この急冷工程S03により、母相中に固溶したMgが、CuとMgを主成分とする金属間化合物として析出することを抑制し、走査型電子顕微鏡観察において、粒径0.1μm以上のCuとMgを主成分とする金属間化合物の平均個数を1個/μm以下とすることができる。すなわち、銅素材をCu−Mg過飽和固溶体とすることができるのである。
なお、粗加工の効率化と組織の均一化のために、前述の加熱工程S02の後に熱間加工を実施し、この熱間加工の後に上述の急冷工程S03を実施する構成としてもよい。この場合、加工方法に特に限定はなく、例えば圧延、線引き、押出、溝圧延、鍛造、プレス等を採用することができる。また、熱間加工温度は、400℃以上900℃以下の範囲内とすることが好ましい。
(Rapid cooling step S03)
And the copper raw material heated to 400 degreeC or more and 900 degrees C or less in heating process S02 is cooled by the cooling rate of 60 degrees C / min or more to the temperature of 200 degrees C or less. This rapid cooling step S03 suppresses the precipitation of Mg dissolved in the matrix as an intermetallic compound containing Cu and Mg as main components. In observation with a scanning electron microscope, Cu having a particle diameter of 0.1 μm or more is suppressed. The average number of intermetallic compounds containing Mg and Mg as main components can be 1 / μm 2 or less. That is, the copper material can be a Cu—Mg supersaturated solid solution.
In addition, in order to increase the efficiency of roughing and make the structure uniform, it is possible to perform a hot working after the heating step S02 and perform the rapid cooling step S03 after the hot working. In this case, the processing method is not particularly limited, and for example, rolling, wire drawing, extrusion, groove rolling, forging, pressing, and the like can be employed. The hot working temperature is preferably in the range of 400 ° C. or higher and 900 ° C. or lower.

(中間加工工程S04)
加熱工程S02および急冷工程S03を経た銅素材を必要に応じて切断するとともに、加熱工程S02および急冷工程S03等で生成された酸化膜等を除去するために必要に応じて表面研削を行う。そして、所定の形状へと塑性加工を行う。
なお、この中間加工工程S04における温度条件は特に限定はないが、冷間または温間加工となる−200℃から200℃の範囲内とすることが好ましい。また、加工率は、最終形状に近似するように適宜選択されることになるが、50%以上とすることが好ましく、60%以上とすることがさらに好ましい。塑性加工方法は特に限定されないが、例えば圧延、線引き、押出、溝圧延、鍛造、プレス等を採用することができる。さらに、溶体化の徹底のために、S02〜S04を繰り返しても良い。
(Intermediate processing step S04)
The copper material that has undergone the heating step S02 and the rapid cooling step S03 is cut as necessary, and surface grinding is performed as necessary to remove the oxide film and the like generated in the heating step S02, the rapid cooling step S03, and the like. Then, plastic working is performed into a predetermined shape.
In addition, the temperature condition in the intermediate processing step S04 is not particularly limited, but it is preferable to be within a range of −200 ° C. to 200 ° C. which is cold or warm processing. The processing rate is appropriately selected so as to approximate the final shape, but is preferably 50% or more, and more preferably 60% or more. The plastic working method is not particularly limited, and for example, rolling, wire drawing, extrusion, groove rolling, forging, pressing, and the like can be employed. Further, S02 to S04 may be repeated for thorough solution.

(中間熱処理工程S05)
中間加工工程S04後に、溶体化の徹底、再結晶組織化または加工性向上のための軟化を目的として熱処理を実施する。
熱処理の方法は特に限定はないが、好ましくは400℃以上900℃以下の条件で、非酸化雰囲気または還元性雰囲気中で熱処理を行う。より好ましくは400℃以上850℃以下、さらに好ましくは420℃以上800℃以下とする。
ここで、中間熱処理工程S05においては、400℃以上900℃以下にまで加熱された銅素材を、200℃以下の温度にまで、60℃/min以上の冷却速度で冷却することが好ましい。
(Intermediate heat treatment step S05)
After the intermediate processing step S04, heat treatment is performed for the purpose of thorough solution, recrystallization structure, or softening for improving workability.
The heat treatment method is not particularly limited, but the heat treatment is preferably performed in a non-oxidizing atmosphere or a reducing atmosphere under conditions of 400 ° C. to 900 ° C. More preferably, it is 400 degreeC or more and 850 degrees C or less, More preferably, you may be 420 degreeC or more and 800 degrees C or less.
Here, in the intermediate heat treatment step S05, it is preferable to cool the copper material heated to 400 ° C. or higher and 900 ° C. or lower to a temperature of 200 ° C. or lower at a cooling rate of 60 ° C./min or higher.

(仕上加工工程S06)
中間熱処理工程S05後の銅素材を所定の形状に仕上加工を行う。なお、この仕上加工工程S06における温度条件は特に限定はないが、溶体化されたMgが析出しないように、冷間または温間となる−200〜200℃とすることが好ましい。また、加工率は、最終形状に近似するように適宜選択されることになるが、20%以上が好ましく、30%以上がさらに好ましい。
(Finishing process S06)
The copper material after the intermediate heat treatment step S05 is finished into a predetermined shape. The temperature condition in the finishing step S06 is not particularly limited, but is preferably set to −200 to 200 ° C. which is cold or warm so that the solutionized Mg does not precipitate. The processing rate is appropriately selected so as to approximate the final shape, but is preferably 20% or more, and more preferably 30% or more.

(仕上熱処理工程S07)
次に、仕上加工工程S06後の銅素材に対して、ひずみ取りのための仕上熱処理を実施する。熱処理温度は、200℃以上800℃以下の範囲内とすることが好ましい。なお、この仕上熱処理工程S07においては、溶体化されたMgが析出しないように、熱処理条件(温度、時間、冷却速度)を設定する必要がある。例えば200℃では1分〜24時間程度、400℃では1秒〜10秒程度とすることが好ましい。この熱処理は、非酸化雰囲気または還元性雰囲気中で行うことが好ましい。
(Finish heat treatment step S07)
Next, a finish heat treatment for removing strain is performed on the copper material after the finish processing step S06. The heat treatment temperature is preferably in the range of 200 ° C to 800 ° C. In the finish heat treatment step S07, it is necessary to set heat treatment conditions (temperature, time, cooling rate) so that solutionized Mg does not precipitate. For example, it is preferably about 1 minute to 24 hours at 200 ° C. and about 1 second to 10 seconds at 400 ° C. This heat treatment is preferably performed in a non-oxidizing atmosphere or a reducing atmosphere.

また、冷却方法は、水焼入など、加熱された前記銅素材を、60℃/min以上の冷却速度で、100℃以下にまで冷却することが好ましい。このように急冷することにより、母相中に固溶したMgがCuとMgを主成分とする金属間化合物として析出することが抑制されることになり、銅素材をCu−Mg過飽和固溶体とすることができる。
さらに、上述の仕上加工工程S06と仕上熱処理工程S07とを、繰り返し実施してもよい。
Moreover, it is preferable that a cooling method cools the said copper raw material heated, such as water quenching, to 100 degrees C or less with the cooling rate of 60 degrees C / min or more. By quenching in this way, Mg dissolved in the matrix phase is prevented from precipitating as an intermetallic compound mainly composed of Cu and Mg, and the copper material is made a Cu-Mg supersaturated solid solution. be able to.
Furthermore, the above-described finishing processing step S06 and finishing heat treatment step S07 may be repeated.

このようにして、本実施形態である電子・電気機器用銅合金及び電子・電気機器用銅合金塑性加工材が製出されることになる。なお、この電子・電気機器用銅合金塑性加工材においては、表面に、膜厚0.1μm以上10μm以下程度のSnめっきを施してもよい。
この場合のSnめっきの方法は特に限定されないが、常法に従って電解めっきを適用したり、また場合によっては電解めっき後にリフロー処理を施したりしてもよい。
また、本実施形態である電子・電気機器用部品及び端子は、上述の電子・電気機器用銅合金塑性加工材に対して、打ち抜き加工、曲げ加工等を施すことによって製造される。
Thus, the copper alloy for electronic / electric equipment and the copper alloy plastic working material for electronic / electric equipment according to the present embodiment are produced. In addition, in this copper alloy plastic working material for electronic / electric equipment, Sn plating with a film thickness of about 0.1 μm or more and 10 μm or less may be applied to the surface.
The method of Sn plating in this case is not particularly limited, but electrolytic plating may be applied according to a conventional method, or depending on the case, reflow treatment may be performed after electrolytic plating.
In addition, the electronic / electric device parts and terminals according to the present embodiment are manufactured by punching, bending, or the like to the above-described copper alloy plastic working material for electronic / electric devices.

以上のような構成とされた本実施形態である電子・電気機器用銅合金によれば、Ca,Sr,Y,Te及び希土類元素の中から選択される少なくとも1種または2種以上を合計で0.001mass%以上0.020mass%以下の範囲内で含んでいるので、これらの元素からなる晶出物、酸化物や硫化物からなる粒子が多く存在し、これらの粒子が打ち抜き加工時に破壊の起点となり、せん断加工性が大幅に向上することになる。よって、プレス成型(打ち抜き加工)時の高精度化に対応でき、かつ、プレス金型の摩耗や打ち抜き屑の発生を抑制することが可能となる。   According to the copper alloy for electronic / electric equipment according to the present embodiment configured as described above, at least one selected from Ca, Sr, Y, Te, and rare earth elements, or two or more selected in total. Since it is contained within the range of 0.001 mass% or more and 0.020 mass% or less, there are many crystallized substances, oxides and sulfides composed of these elements, and these particles are destroyed during the punching process. As a starting point, the shear processability is greatly improved. Therefore, it is possible to cope with high accuracy at the time of press molding (punching), and it is possible to suppress wear of the press die and generation of punching waste.

さらに本実施形態では、Sを0.1massppm以上含有しているので、銅中に存在するSが、Mg,Ca,Sr,Y,Te及び希土類元素と反応し、金属間化合物または硫化物として晶出物や析出物を形成することになり、せん断加工性をさらに向上させることが可能となる。また、Sの含有量が50.0massppm以下とされているので、冷間加工性が確保され、電子・電気機器用銅合金塑性加工材を良好に製造することができる。   Further, in the present embodiment, since S is contained in an amount of 0.1 mass ppm or more, S present in copper reacts with Mg, Ca, Sr, Y, Te and rare earth elements to form crystals as intermetallic compounds or sulfides. A deposit and a precipitate are formed, and the shear workability can be further improved. Moreover, since content of S shall be 50.0 massppm or less, cold workability is ensured and the copper alloy plastic working material for electronic / electric equipment can be manufactured favorably.

また、本実施形態の電子・電気機器用銅合金においては、走査型電子顕微鏡観察において、粒径0.1μm以上のCuとMgを主成分とする金属間化合物の平均個数が、1個/μm以下とされるとともに、導電率σ(%IACS)が、Mgの含有量をX原子%としたときに、
σ≦1.7241/(−0.0347×X+0.6569×X+1.7)×100の範囲内とされており、Mgが母相中に過飽和に固溶したCu−Mg過飽和固溶体とされている。
Further, in the copper alloy for electronic / electric equipment of the present embodiment, the average number of intermetallic compounds mainly composed of Cu and Mg having a particle diameter of 0.1 μm or more is 1 / μm in the observation with a scanning electron microscope. 2 or less, and the electrical conductivity σ (% IACS) is set when the Mg content is X atom%,
σ ≦ 1.7241 / (− 0.0347 × X 2 + 0.6569 × X + 1.7) × 100, and a Cu—Mg supersaturated solid solution in which Mg is supersaturated in the matrix phase. ing.

このため、母相中には、割れの起点となる粗大なCuとMgを主成分とする金属間化合物が多く分散されておらず、曲げ加工性が向上することになる。よって、複雑な形状のコネクタ等の端子、リレー、リードフレーム等の電子・電気機器用部品等を成形することが可能となる。さらに、Mgを過飽和に固溶させていることから、加工硬化によって強度を向上させることが可能となる。   For this reason, a large amount of coarse intermetallic compounds mainly composed of Cu and Mg, which are the starting points of cracks, are not dispersed in the matrix, and the bending workability is improved. Accordingly, it is possible to mold terminals such as connectors having complicated shapes, and parts for electronic and electric devices such as relays and lead frames. Further, since Mg is supersaturated, the strength can be improved by work hardening.

ここで、本実施形態では、上述の組成とされた銅素材を400℃以上900℃以下の温度にまで加熱する加熱工程S02と、加熱された銅素材を60℃/min以上の冷却速度で、200℃以下にまで冷却する急冷工程S04と、銅素材を塑性加工する中間加工工程S04及び仕上加工工程S06と、を有する製造方法によって製造されているので、電子・電気機器用銅合金を、上述のように、Mgが母相中に過飽和に固溶したCu−Mg過飽和固溶体とすることができる。   Here, in this embodiment, the heating step S02 for heating the copper material having the above composition to a temperature of 400 ° C. or more and 900 ° C. or less, and the heated copper material at a cooling rate of 60 ° C./min or more, Since it is manufactured by a manufacturing method having a rapid cooling step S04 for cooling to 200 ° C. or less, an intermediate processing step S04 for plastic processing of a copper material, and a finishing processing step S06, the copper alloy for electronic / electric equipment is described above. Thus, a Cu—Mg supersaturated solid solution in which Mg is supersaturated in the matrix phase can be obtained.

さらに、本実施形態では、鋳造における凝固時の冷却速度が30℃/sec.未満とされ、好ましくは0.1℃/sec.以上25℃/sec.未満の範囲内とされているので、上述のCa,Sr,Y,Te及び希土類元素によって形成される晶出物等の粒子を十分に存在させることができ、せん断加工性を確実に向上させることができる。   Furthermore, in this embodiment, the cooling rate during solidification in casting is 30 ° C./sec. And preferably 0.1 ° C./sec. 25 ° C./sec. Since it is within the range of less than the above, particles such as crystallized substances formed by the above-mentioned Ca, Sr, Y, Te and rare earth elements can be sufficiently present, and the shear workability is surely improved. Can do.

また、本実施形態である電子・電気機器用銅合金においては、0.2%耐力が400MPa以上の機械的特性を有しているので、容易に塑性変形しなくなり、コネクタ等の端子、リレー、リードフレーム等の電子機器用部品の素材として好適に用いることが可能となる。
さらに、本実施形態である電子・電気機器用部品及び端子は、上述の電子・電気機器用銅合金塑性加工材を用いて製造されているので、耐力が高く、かつ、曲げ加工性、せん断加工性に優れており、複雑な形状であっても精度よく成形できるとともに割れ等がなく、信頼性が向上することになる。
In addition, in the copper alloy for electronic and electrical equipment according to the present embodiment, since 0.2% proof stress has mechanical characteristics of 400 MPa or more, it is not easily plastically deformed, and terminals such as connectors, relays, It can be suitably used as a material for electronic device parts such as lead frames.
Furthermore, since the components and terminals for electronic / electrical equipment according to the present embodiment are manufactured using the above-described copper alloy plastic working material for electronic / electrical equipment, the proof stress is high, and the bending workability and shearing are high. Even if it is a complicated shape, it can be molded with high accuracy and there is no crack or the like, and the reliability is improved.

以上、本発明の実施形態である電子・電気機器用銅合金、電子・電気機器用銅合金塑性加工材、電子・電気機器用部品及び端子について説明したが、本発明はこれに限定されることはなく、その発明の技術的思想を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。
例えば、上述の実施形態では、電子・電気機器用銅合金の製造方法及び電子・電気機器用銅合金塑性加工材の製造方法の一例について説明したが、製造方法は本実施形態に限定されることはなく、既存の製造方法を適宜選択して製造してもよい。
As described above, the copper alloy for electronic / electric equipment, the copper alloy plastic working material for electronic / electric equipment, the parts for electronic / electric equipment and the terminal according to the embodiment of the present invention have been described, but the present invention is limited to this. However, it can be appropriately changed without departing from the technical idea of the invention.
For example, in the above-described embodiment, an example of a method for manufacturing a copper alloy for electronic / electric equipment and a method for manufacturing a copper alloy plastic working material for electronic / electric equipment has been described. However, the manufacturing method is limited to this embodiment. Instead, existing manufacturing methods may be selected as appropriate.

また、本実施形態では、Cu−Mg合金にCa,Sr,Y,Te及び希土類元素を添加したものとして説明したが、これに限定されることはなく、Sn、Zn、Al、Ni、Si、Mn、Li、Ti、Fe、Co、Cr、Zr、Pのうち1種または2種以上を合計で0.01mass%以上2.00mass%以下の範囲内で含んでいてもよい。
Sn、Zn、Al、Ni、Si、Mn、Li、Ti、Fe、Co、Cr、Zr、Pといった元素は、Cu−Mg合金の強度等の特性を向上させる元素であることから、要求特性に応じて適宜添加することが好ましい。ここで、添加量の合計を0.01mass%以上としているので、Cu−Mg合金の強度を確実に向上させることができる。一方、添加量の合計を2.00mass%以下としているので、導電率を確保することができる。
なお、上述の元素を含有する場合には、実施形態で説明した導電率の規定は適用されないが、析出物の分布状態からCu−Mgの過飽和固溶体であることを確認することができる。
In the present embodiment, the description has been made assuming that Ca, Sr, Y, Te and rare earth elements are added to the Cu—Mg alloy, but the present invention is not limited to this, and Sn, Zn, Al, Ni, Si, One or more of Mn, Li, Ti, Fe, Co, Cr, Zr, and P may be included within a total range of 0.01 mass% or more and 2.00 mass% or less.
Elements such as Sn, Zn, Al, Ni, Si, Mn, Li, Ti, Fe, Co, Cr, Zr, and P are elements that improve characteristics such as strength of the Cu-Mg alloy. Accordingly, it is preferable to add appropriately. Here, since the total amount of addition is set to 0.01 mass% or more, the strength of the Cu-Mg alloy can be reliably improved. On the other hand, since the total amount of addition is 2.00 mass% or less, electrical conductivity can be ensured.
In addition, when containing the above-mentioned element, although regulation of the electrical conductivity demonstrated by embodiment is not applied, it can confirm that it is a supersaturated solid solution of Cu-Mg from the distribution state of a precipitate.

以下に、本発明の効果を確認すべく行った確認実験の結果について説明する。
純度99.99mass%以上の無酸素銅(ASTM B152 C10100)からなる銅原料を準備し、これを高純度グラファイト坩堝内に装入して、Arガス雰囲気とされた雰囲気炉内において高周波溶解した。得られた銅溶湯内に、各種添加元素を添加して表1に示す成分組成に調製し、カーボン鋳型に注湯して鋳塊を製出した。ここで、鋳塊の大きさは、厚さ約120mm×幅約220mm×長さ約300mmとした。なお、鋳造時における冷却速度は0.1℃/sec.以上20℃/sec.未満の範囲内とした。
また、表1に示す組成のat%(原子%)は、Cu、Mgおよびその他の添加元素のみからなると仮定し、測定されたmass%の値から原子%を算出した。
Below, the result of the confirmation experiment performed in order to confirm the effect of this invention is demonstrated.
A copper raw material made of oxygen-free copper (ASTM B152 C10100) having a purity of 99.99 mass% or more was prepared, charged in a high-purity graphite crucible, and high-frequency melted in an atmosphere furnace having an Ar gas atmosphere. Various additive elements were added to the obtained molten copper to prepare the component compositions shown in Table 1, and poured into a carbon mold to produce an ingot. Here, the size of the ingot was about 120 mm thick × about 220 mm wide × about 300 mm long. The cooling rate during casting was 0.1 ° C./sec. 20 ° C./sec. Within the range of less than.
Further, it was assumed that at% (atomic%) of the composition shown in Table 1 was composed only of Cu, Mg and other additive elements, and atomic% was calculated from the measured mass% value.

得られた鋳塊から鋳肌近傍を10mm以上面削し、100mm×200mm×100mmのブロックを切り出した。
このブロックを、Arガス雰囲気中において、表2に記載の温度条件で4時間保持し、その後、水焼入れを実施した。
From the obtained ingot, the vicinity of the casting surface was chamfered by 10 mm or more, and a block of 100 mm × 200 mm × 100 mm was cut out.
This block was held for 4 hours under the temperature conditions shown in Table 2 in an Ar gas atmosphere, and then water quenching was performed.

次に、熱処理を行った銅素材を、適宜、最終形状に適した形にするために、それぞれ切断するとともに、酸化被膜を除去するために表面研削を実施した。その後、中間加工工程として、常温で、表2に記載された圧延率で冷間圧延を実施した。
次いで、中間熱処理として、ソルトバスを用いて表2に記載された温度条件で熱処理を行い、水焼入れを実施した。
Next, the heat-treated copper material was appropriately cut into a shape suitable for the final shape, and surface grinding was performed to remove the oxide film. Thereafter, as an intermediate processing step, cold rolling was performed at room temperature at a rolling rate described in Table 2.
Next, as an intermediate heat treatment, heat treatment was performed using a salt bath under the temperature conditions described in Table 2, and water quenching was performed.

次に、表2に示す圧延率で仕上圧延を実施し、厚さ0.5mm、幅約200mmの薄板を製出した。
そして、仕上圧延後に、表2に示す条件で、Ar雰囲気中で仕上熱処理を実施し、その後、水焼入れを行い、特性評価用薄板を作成した。
Next, finish rolling was performed at the rolling rates shown in Table 2 to produce a thin plate having a thickness of 0.5 mm and a width of about 200 mm.
Then, after finish rolling, finish heat treatment was performed in an Ar atmosphere under the conditions shown in Table 2, and then water quenching was performed to create a thin plate for property evaluation.

(加工性評価)
加工性の評価として、前述の中間圧延及び仕上圧延時における耳割れの有無を観察した。目視で耳割れが全くあるいはほとんど認められなかったものを◎、長さ1mm未満の小さな耳割れが発生したものを○、長さ1mm以上3mm未満の耳割れが発生したものを△、長さ3mm以上の大きな耳割れが発生したものを×、耳割れに起因して圧延途中で破断したものを××とした。
なお、耳割れの長さとは、圧延材の幅方向端部から幅方向中央部に向かう耳割れの長さのことである。
(Processability evaluation)
As an evaluation of workability, the presence or absence of ear cracks during the above-described intermediate rolling and finish rolling was observed. The case where no or almost no ear cracks were visually observed was ◎, the case where a small ear crack of less than 1 mm in length occurred was ○, the case where an ear crack of 1 mm or more and less than 3 mm occurred was Δ, and a length of 3 mm The case where the above-mentioned big ear crack generate | occur | produced was made into x, and what was fractured | ruptured in the middle of rolling due to the ear crack was made into xx.
In addition, the length of an ear crack is the length of the ear crack which goes to the width direction center part from the width direction edge part of a rolling material.

(析出物観察)
各試料の圧延面に対して、鏡面研磨、イオンエッチングを行った。CuとMgを主成分とする金属間化合物の析出状態を確認するため、FE−SEM(電界放出型走査電子顕微鏡)を用い、1万倍の視野(約120μm/視野)で観察を行った。
次に、CuとMgを主成分とする金属間化合物の密度(個/μm)を調査するために、金属間化合物の析出状態が特異ではない1万倍の視野(約120μm/視野)を選び、その領域で、5万倍で連続した10視野(約4.8μm/視野)の撮影を行った。金属間化合物の粒径については、金属間化合物の長径(途中で粒界に接しない条件で粒内に最も長く引ける直線の長さ)と短径(長径と直角に交わる方向で、途中で粒界に接しない条件で最も長く引ける直線の長さ)の平均値とした。そして、粒径0.1μm以上のCuとMgを主成分とする金属間化合物の密度(個/μm)を求めた。
(Precipitate observation)
Mirror polishing and ion etching were performed on the rolled surface of each sample. In order to confirm the precipitation state of the intermetallic compound containing Cu and Mg as main components, the observation was performed using a FE-SEM (Field Emission Scanning Electron Microscope) with a 10,000 × field of view (about 120 μm 2 / field of view). .
Next, in order to investigate the density of intermetallic compounds mainly composed of Cu and Mg (pieces / μm 2 ), a 10,000 times field of view (about 120 μm 2 / field of view) where the precipitation state of intermetallic compounds is not unique. In this region, 10 fields of view (about 4.8 μm 2 / field of view) were taken at a magnification of 50,000 times. As for the particle size of the intermetallic compound, the major axis of the intermetallic compound (the length of the straight line that can be drawn the longest in the grain without contact with the grain boundary in the middle) and the minor axis (in the direction perpendicular to the major axis, the grain in the middle The average value of the length of the straight line that can be drawn the longest under conditions that do not contact the boundary). And the density (piece / micrometer < 2 >) of the intermetallic compound which has a particle size of 0.1 micrometer or more and which has Cu and Mg as a main component was calculated | required.

(せん断加工性)
特性評価用薄板から金型で角孔(8mm×8mm)を多数打抜いて、図3に示される破断面割合(打ち抜きされた部分の板厚に対する破断面の割合)及びかえり高さの測定により評価を行った。打ち抜きの切口面においては、破断面とせん断面とが存在しており、せん断面の割合が少なく破断面の割合が多いほど、せん断加工性に優れることになる。
金型のクリアランスは0.02mmとし、50spm(stroke per minute)の打ち抜き速度により打ち抜きを行った。破断面割合、かえり高さの測定は穴抜き側の切口面を観察し、各測定箇所10点の平均を評価した。
なお、かえり高さが6μm以下のものを「○」と評価し、6μmを超えるものを「×」と評価した。
(Shear workability)
A number of square holes (8 mm x 8 mm) are punched from a thin plate for characteristic evaluation with a mold, and the fracture surface ratio (ratio of the fracture surface to the thickness of the punched portion) and burr height are measured as shown in FIG. Evaluation was performed. The punched cut surface has a fracture surface and a shear surface. The smaller the ratio of the shear surface and the greater the proportion of the fracture surface, the better the shear workability.
The die clearance was 0.02 mm, and punching was performed at a punching speed of 50 spm (stroke per minute). The measurement of the fracture surface ratio and the burr height was performed by observing the cut surface on the punching side and evaluating the average of 10 measurement points.
In addition, the thing whose burr height is 6 micrometers or less was evaluated as "(circle)", and the thing exceeding 6 micrometers was evaluated as "x".

(機械的特性)
特性評価用条材からJIS Z 2241に規定される13B号試験片を採取し、JIS Z 2241のオフセット法により、0.2%耐力を測定した。なお、試験片は、圧延方向に垂直な方向で採取した。
(Mechanical properties)
A No. 13B test piece defined in JIS Z 2241 was collected from the strip for characteristic evaluation, and 0.2% proof stress was measured by the offset method of JIS Z 2241. The test piece was collected in a direction perpendicular to the rolling direction.

(導電率)
特性評価用薄板から幅10mm×長さ150mmの試験片を採取し、4端子法によって電気抵抗を求めた。また、マイクロメータを用いて試験片の寸法測定を行い、試験片の体積を算出した。そして、測定した電気抵抗値と体積とから、導電率を算出した。なお、試験片は、その長手方向が特性評価用薄板の圧延方向に対して垂直になるように採取した。
(conductivity)
A test piece having a width of 10 mm and a length of 150 mm was collected from the thin plate for characteristic evaluation, and the electric resistance was determined by a four-terminal method. Moreover, the dimension of the test piece was measured using the micrometer, and the volume of the test piece was calculated. And electrical conductivity was computed from the measured electrical resistance value and volume. In addition, the test piece was extract | collected so that the longitudinal direction might become perpendicular | vertical with respect to the rolling direction of the thin plate for characteristic evaluation.

成分組成を表1、製造条件を表2、評価結果を表3に示す。   The component composition is shown in Table 1, the production conditions are shown in Table 2, and the evaluation results are shown in Table 3.

Mgの含有量が本発明の範囲よりも少ない比較例1においては、耐力が377MPaと低かった。また、破断面割合が28%、かえり高さ評価が×であり、せん断加工性が著しく劣っていた。
Mgの含有量が本発明の範囲よりも多い比較例2においては、中間加工の冷間圧延時に大きな耳割れが発生し、その後の特性評価を実施することが不可能であった。
Mgの含有量が本発明の範囲内であるものの、Ca,Sr,Y,Te及び希土類元素といった元素を含有していない比較例3においては、破断面割合が35%であり、せん断加工性が不十分であった。
Mgの含有量が本発明の範囲内であるものの、Ca,Sr,Y,Te及び希土類元素といった元素の含有量が本発明の範囲よりも多い比較例4においては、中間加工の冷間圧延時に大きな耳割れが発生し、その後の特性評価を実施することが不可能であった。
In Comparative Example 1 in which the Mg content was less than the range of the present invention, the yield strength was as low as 377 MPa. Further, the fracture surface ratio was 28%, the burr height evaluation was x, and the shear workability was extremely inferior.
In Comparative Example 2 in which the content of Mg is larger than the range of the present invention, large ear cracks occurred during cold rolling in the intermediate process, and it was impossible to perform subsequent characteristic evaluation.
Although the content of Mg is within the scope of the present invention, in Comparative Example 3 that does not contain elements such as Ca, Sr, Y, Te and rare earth elements, the fracture surface ratio is 35%, and the shear workability is high. It was insufficient.
Although the content of Mg is within the range of the present invention, the content of elements such as Ca, Sr, Y, Te, and rare earth elements is larger than the range of the present invention. Large ear cracks occurred and it was impossible to conduct subsequent characteristic evaluation.

これに対して、Mgの含有量が本発明の範囲内とされるとともに、Ca,Sr,Y,Te及び希土類元素のうちの1種または2種以上を合計で0.001mass%以上0.020mass%以下の範囲内で含有する本発明例1−8においては、耐力が高く、かつ、せん断加工性にも優れていた。また、耳割れの発生もなかった。
また、さらに、Sn、Zn、Al、Ni、Si、Mn、Li、Ti、Fe、Co、Cr、Zr、Pのうち1種または2種以上を合計で0.01mass%以上2.00mass%以下の範囲内で含む本発明例9−15においても、本発明例1−8と同様に、耐力が高く、かつ、せん断加工性にも優れていた。また、耳割れの発生もなかった。
In contrast, the Mg content is within the scope of the present invention, and one or more of Ca, Sr, Y, Te, and rare earth elements are added in a total amount of 0.001 mass% or more and 0.020 mass. In Invention Example 1-8 contained in the range of not more than%, the proof stress was high and the shear workability was excellent. Moreover, there was no occurrence of ear cracks.
Furthermore, Sn, Zn, Al, Ni, Si, Mn, Li, Ti, Fe, Co, Cr, Zr, and P may be one or more in total of 0.01 mass% or more and 2.00 mass% or less. Also in Invention Example 9-15 included in the above range, as in Invention Example 1-8, the proof stress was high and the shear workability was excellent. Moreover, there was no occurrence of ear cracks.

以上のことから、本発明によれば、強度、せん断加工性に優れた電子・電気機器用銅合金、電子・電気機器用銅合金塑性加工材を提供することができることが確認された。   From the above, according to the present invention, it was confirmed that a copper alloy for electronic / electric equipment and a copper alloy plastic working material for electronic / electric equipment excellent in strength and shear workability can be provided.

Claims (9)

Mgを1.3mass%以上2.8mass%以下の範囲で含み、さらに、Ca,Sr,Y,Te及び希土類元素のうちの1種または2種以上を合計で0.001mass%以上0.020mass%以下の範囲内で含み、Sの含有量が0.1massppm以上50.0massppm以下の範囲内とされ、残部がCu及び不可避不純物とされており、
導電率σ(%IACS)が、Mgの含有量をX原子%としたときに、
σ≦1.7241/(−0.0347×X +0.6569×X+1.7)×100の範囲内とされており、
Ca,Sr,Y,Te,希土類元素のうちの1種または2種以上の晶出物が存在することを特徴する電子・電気機器用銅合金。
Mg is included in the range of 1.3 mass% or more and 2.8 mass% or less, and one or more of Ca, Sr, Y, Te and rare earth elements are added in a total of 0.001 mass% to 0.020 mass%. In the following range, S content is in the range of 0.1 massppm or more and 50.0 massppm or less, the balance is Cu and inevitable impurities ,
When the electrical conductivity σ (% IACS) is Mg content X atom%,
σ ≦ 1.7241 / (− 0.0347 × X 2 + 0.6569 × X + 1.7) × 100,
A copper alloy for electronic and electrical equipment, characterized by the presence of one or more crystallized substances of Ca, Sr, Y, Te, and rare earth elements .
走査型電子顕微鏡観察において、粒径0.1μm以上のCuとMgを主成分とする金属間化合物の平均個数が、1個/μm以下とされていることを特徴とする請求項1記載の電子・電気機器用銅合金。 In scanning electron microscopy, the average number of intermetallic compounds mainly containing more particle size 0.1μm of Cu and Mg, according to claim 1, characterized in that it is a one / [mu] m 2 or less Copper alloy for electronic and electrical equipment. さらに、0.02mass%以下のSn、0.1mass%以下のZn、0.2mass%以下のAl、0.1mass%以下のNi、0.05mass%以下のSi、0.1mass%以下のMn、0.2mass%以下のLi、0.04mas%以下のTi、0.05mass%以下のFe、0.05mass%以下のCo、0.03mass%以下のCr、0.02mass%以下のZr、0.05mass%以下のPのうち1種または2種以上を含んでいることを特徴とする請求項2に記載の電子・電気機器用銅合金。 Furthermore, 0.02 mass% or less of Sn, 0.1mass% less Zn, 0.2 mass% or less of Al, 0.1mass% less Ni, 0.05 mass% or less of Si, 0.1mass% Mn, up 0.2 mass% or less of Li, 0.04mas% less Ti, 0.05 mass% or less of Fe, 0.05 mass% or less of Co, 0.03 mass% or less of Cr, 0.02 mass% or less of Zr, 0. 05Mass% or less of one or more electric and electronic components for a copper alloy according to claim 2, characterized in that has Nde free of P. 0.2%耐力が400MPa以上とされていることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の電子・電気機器用銅合金。 The copper alloy for electronic / electric equipment according to any one of claims 1 to 3, wherein a 0.2% proof stress is 400 MPa or more. 請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の電子・電気機器用銅合金からなることを特徴とする電子・電気機器用銅合金塑性加工材。 Electronic and electrical equipment copper alloy plastic working material, wherein the benzalkonium such from electrical and electronic equipment for copper alloy according to any one of claims 1 to 4. 表面にSnめっきが施されていることを特徴とする請求項5に記載の電子・電気機器用銅合金塑性加工材。 6. The copper alloy plastic working material for electronic / electric equipment according to claim 5 , wherein Sn plating is applied to the surface. 請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の電子・電気機器用銅合金からなる銅素材を400℃以上900℃以下の温度にまで加熱する加熱工程と、加熱された前記銅素材を60℃/min以上の冷却速度で200℃以下にまで冷却する急冷工程と、前記銅素材を塑性加工する塑性加工工程と、を有することを特徴とする電子・電気機器用銅合金塑性加工材の製造方法A heating step of heating the copper material made of the copper alloy for electronic / electric equipment according to any one of claims 1 to 4 to a temperature of 400 ° C or higher and 900 ° C or lower, and the heated copper material and rapid cooling step of cooling down to 200 ° C. or less at 60 ° C. / min or more cooling rate, plastic working step and the copper for electronic and electrical equipment, characterized and Turkey which have a alloy plasticity plastic working the copper material Manufacturing method of processed material. 請求項5又は請求項6に記載された電子・電気機器用銅合金塑性加工材からなることを特徴とする電子・電気機器用部品。 An electronic / electric equipment part comprising the copper alloy plastic working material for electronic / electric equipment according to claim 5 . 請求項5又は請求項6に記載された電子・電気機器用銅合金塑性加工材からなることを特徴とする端子。 A terminal comprising the copper alloy plastic working material for an electronic / electrical device according to claim 5 or 6 .
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