JP7228597B2 - エポキシ樹脂硬化促進剤及びエポキシ樹脂組成物 - Google Patents

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Description

本発明は、エポキシ樹脂硬化促進剤及びエポキシ樹脂組成物に関する。さらに詳しくは、半導体素子などの電子部品用のエポキシ樹脂系封止剤の製造に適したエポキシ樹脂硬化促進剤及びそれを含有するエポキシ樹脂組成物に関する。
IC等の半導体素子の封止方法として、エポキシ樹脂組成物のトランスファー成形が低コスト、大量生産に優れている。しかし、電子機器の小型化、軽量化のために半導体の高集積化が進んでおり、また表面実装も進んでいる中で半導体封止剤用エポキシ樹脂組成物もそれらにつれて、信頼性の要求が非常に強くなってきた。このため、エポキシ樹脂組成物の中に無機材料の充填剤の比率を多くすることで、エポキシ樹脂の低吸湿性、高強度、低熱膨張化という特性を出すことで、信頼性を担保してきた。
無機材料の充填剤の比率を多くした場合の弊害は、エポキシ樹脂組成物の成型時の硬化性が不十分になる点と高粘度になる点の2つである。硬化性が悪いと、半導体装置の信頼性を損ねることとなり、また高粘度となり流動性が悪いと、エポキシ樹脂組成物がパッケージ内に十分に充填されず、空隙が生じてしまう恐れがある。エポキシ樹脂組成物の硬化性が良いもの(例えば、特許文献1)や流動性が良いもの(例えば、特許文献2)が提案されているが、両方を十分に満足できるものはなかった。
特開2007-119598号公報 特開2018-104559号公報
そこで、特定のエポキシ硬化促進剤を用いることで、エポキシ樹脂組成物の硬化性が良く半導体装置の信頼性を高め、また、流動性が良くエポキシ樹脂組成物がパッケージ内に十分に充填され、空隙が生じてしまう恐れのないエポキシ樹脂組成物を提供することを目的とする。
本発明者らは、上記の目的を達成するべく検討を行った結果、本発明に到達した。
すなわち、本発明は、一般式(1)で示されるイミダゾリウムカチオン(A)と、一般式(2)、(3)又は(4)で示されるアニオン(B)からなるイミダゾリウム塩(S)を含み、そのイミダゾリウム塩(S)の融点が170℃以下であることを特徴とするエポキシ樹脂硬化促進剤(Q);並びに、該エポキシ樹脂硬化促進剤(Q)、エポキシ樹脂(E)、及び1分子内にフェノール性水酸基を2個以上有する化合物(P)を含有するエポキシ樹脂組成物である。
Figure 0007228597000001
[式(1)中、R1は、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基又はブチル基を表し、R2及びR3は、同一または異なって、メチル基、エチル基、プロピル基又はブチル基を表し、R4及びR5は、同一または異なって、水素原子、メチル基又はエチル基を表す。]
Figure 0007228597000002
[式(2)中、-R6-R7-R8-及び-R10-R11-R12-で表される基は、2価以上のプロトン供与体が、プロトンを2個放出してなる基で構成されるものであり、これらの基は、互いに同一であっても異なっていてもよい。R9は置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基、又は置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基を表す。]
Figure 0007228597000003
[式(3)中、-R13-R14-R15-、-R16-R17-R18-及び-R19-R20-R21-で表される基は、2価以上のプロトン供与体が、プロトンを2個放出してなる基で構成されるものであり、これらの基は、互いに同一であっても異なっていてもよい。]
Figure 0007228597000004
[式(4)中、-R22-R23-R24-及び-R25-R26-R27-で表される基は、2価以上のプロトン供与体が、プロトンを2個放出してなる基で構成されるものであり、これらの基は、互いに同一であっても異なっていてもよい。]
本発明のエポキシ樹脂硬化促進剤(Q)は、イミダゾリウムカチオン(A)の耐熱性が極めて高く安定である。そのため、加熱溶融する配合温度でも一般式(2)、(3)又は(4)で示されるアニオン(B)と塩を組むことができ、硬化反応の促進を抑制させることが可能となる。さらに、アニオン部はキレート構造を形成するため、熱安定性がよく、エポキシ樹脂、硬化剤及び硬化促進剤の混合物を加熱溶融する配合温度でも、硬化反応を促進しない。一方、さらに温度があがった硬化温度では、すばやく分解し、エポキシ樹脂と硬化剤の反応を促進させることができるため、エポキシ樹脂組成物の硬化性が良く半導体装置の信頼性を高めることができる。
さらに、エポキシ樹脂硬化促進剤(Q)は、イミダゾリウムカチオン(A)を有するため、比較的融点が低い。つまり、加熱溶融する配合温度と融点が近い、又はそれ以下である。このことから、流動性が良いエポキシ樹脂組成物を設計できる。つまりエポキシ樹脂硬化促進剤(Q)を用いることで、エポキシ樹脂組成物の硬化性が良く半導体装置の信頼性を高め、流動性が良くエポキシ樹脂組成物がパッケージ内に十分に充填され、空隙が生じてしまう恐れのないエポキシ樹脂組成物となり、半導体などの電子部品用のエポキシ樹脂系封止材の製造に好適である。
以下、本発明のエポキシ樹脂硬化促進剤(Q)及びエポキシ樹脂組成物について説明する。本発明のエポキシ樹脂硬化促進剤(Q)は、一般式(1)で示されるイミダゾリウムカチオン(A)と、一般式(2)、(3)又は(4)で示されるアニオン(B)からなるイミダゾリウム塩(S)を含むことを特徴とする。
イミダゾリウムカチオン(A)は、一般式(1)で示され、式(1)中、R1は、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基又はブチル基を表し、R2及びR3は、同一又は異なって、メチル基、エチル基、プロピル基又はブチル基を表し、R4及びR5は、同一又は異なって、水素原子、メチル基又はエチル基を表す。
Figure 0007228597000005
イミダゾリウムカチオン(A)は、エポキシ樹脂組成物の硬化性の観点から、R1は、好ましくは水素原子である。
これは、エポキシ樹脂組成物の硬化の過程でイミダゾリウムがカルベン化合物になる事に由来する。さらに流動性の観点から、R4及びR5は、好ましくは水素原子である。
イミダゾリウムカチオン(A)の具体例としては、1-エチル-3-メチルイミダゾリウムカチオン、1-プロピル-3-メチルイミダゾリウムカチオン、1-ブチル-3-メチルイミダゾリウムカチオン、1-ブチル-2,3-ジメチルイミダゾリウムカチオン、1,3-ジメチルイミダゾリウムカチオン、1,3-ジエチルイミダゾリウムカチオン、1,2,3-トリメチルイミダゾリウムカチオン、1,2,3,4-テトラメチルイミダゾリウムカチオン、1,3,4-トリメチル-2-エチルイミダゾリウムカチオン、1,3-ジメチル-2,4-ジエチルイミダゾリウムカチオン、1,2-ジメチル-3,4-ジエチルイミダゾリウムカチオン、1-メチル-2,3,4-トリエチルイミダゾリウムカチオン、1,2,3,4-テトラエチルイミダゾリウムカチオン、1,3-ジメチル-2-エチルイミダゾリウムカチオン、1-エチル-2,3-ジメチルイミダゾリウムカチオン、及び1,2,3-トリエチルイミダゾリウムカチオン等が挙げられる。
イミダゾリウムカチオン(A)の製造は、例えば、四級化アミンカチオンのアルキル炭酸塩を使用する反応、及び四級化アミンカチオンの水酸化物を使用する反応等により得られる。
アニオン(B)は、一般式(2)、(3)又は(4)で示される。
Figure 0007228597000006
[式(2)中、-R6-R7-R8-及び-R10-R11-R12-で表される基は、2価以上のプロトン供与体が、プロトンを2個放出してなる基で構成されるものであり、これらの基は、互いに同一であっても異なっていてもよい。R9は置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基、又は置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基を表す。]
Figure 0007228597000007
[式(3)中、-R13-R14-R15-、-R16-R17-R18-及び-R19-R20-R21-で表される基は、2価以上のプロトン供与体が、プロトンを2個放出してなる基で構成されるものであり、これらの基は、互いに同一であっても異なっていてもよい。]
Figure 0007228597000008
[式(4)中、-R22-R23-R24-及び-R25-R26-R27-で表される基は、2価以上のプロトン供与体が、プロトンを2個放出してなる基で構成されるものであり、これらの基は、互いに同一であっても異なっていてもよい。]
式(2)~(4)中のプロトン供与性置換基のプロトン供与体としては、カテコール、1,2-ジヒドロキシナフタレン、2,3-ジヒドロキシナフタレン、2,2’-ビフェノール、2,2’-ビナフトール、ピロガロール、トリヒドロキシ安息香酸、没食子酸エステル、2,3,4-トリヒドロキシベンゾフェノン、サリチル酸、1-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸、3-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸、クロラニル酸、タンニン酸の群から選ばれるフェノール系化合物;
2-ヒドロキシベンジルアルコール、1,2-シクロヘキサンジオール、1,2-プロパンジオール、グリセリンの群から選ばれるアルコール系化合物;
及び、尿素、1-メチル尿素、1,3-ジメチル尿素、1,3-ジアミノ尿素、1,3-ジメチロール尿素、アロファンアミドチオ尿素、1-メチルチオ尿素、1,3-ジメチルチオ尿素、チオセミカルバジド、チオカルボヒドラジド、4-メチルチオセミカルバジド、グアニルチオ尿素の群から選ばれる尿素系化合物が挙げられる。好ましくは、上記フェノール系化合物である。
一般式(2)中、R9は置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基、又は置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基を表す。
芳香族炭化水素基としてはフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等が挙げられる。その置換基としては炭素数1~18のアルキル基、ハロゲン原子が挙げられる。
脂肪族炭化水素基としては炭素数1~18のアルキル基が挙げられる。その置換基としてはハロゲン原子が挙げられる。
イミダゾリウム塩(S)の合成方法としては、例えば、前記のイミダゾリウムカチオン(A)と、アルコキシシラン類(又はホウ酸、ホウ酸エステル類)、及び珪素原子(又はホウ素原子)とキレート結合を形成可能な前記プロトン供与体とを一定な比率で反応させる方法が挙げられる。
アルコキシシラン類としては、例えば、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、及びテトラエトキシシラン等が挙げられる。
本発明のイミダゾリウム塩(S)の融点は、170℃以下であり、好ましくは、120℃以下である。下限は扱いやすさの観点で、-50℃以上が好ましい。より好ましい融点としては、-30℃~120℃、さらに好ましくは、-20℃~100℃、もっとも好ましくは、0℃~70℃である。170℃を超えると、粘度があがり流動性が悪くなる。
本発明のエポキシ樹脂組成物は、エポキシ樹脂(E)と、1分子内にフェノール性水酸基を2個以上有する化合物(P)と、上記エポキシ樹脂硬化促進剤(Q)を含有する。
エポキシ樹脂(E)は、1分子内にエポキシ基を2個以上有するオリゴマー、ポリマー全般であり、その分子量、分子構造は特に限定するものではないが、例えば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ハイドロキノン型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、スチルベン型エポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、アルキル変性トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、トリアジン核含有エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン変性フェノール型エポキシ樹脂、フェニレン及び/又はビフェニレン骨格を有するフェノールアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトール型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、フェニレン及び/又はビフェニレン骨格を有するナフトールアラルキル型エポキシ樹脂等が挙げられ、これらは単独でも混合して用いても差し支えない。
エポキシ樹脂(E)の例としては、DIC株式会社製の:HP-4032、HP-4700、HP-7200、HP-820、HP-4770、HP-5000、EXA-850、EXA-830、EXA-1514、EXA-4850シリーズ;日本化薬株式会社製の:EPPN-201L、BREN-105、EPPN-502H、EOCN-1020、NC-2000-L、XD-1000、NC-7000L、NC-7300L、EPPN-501H、NC-3000;三菱ケミカル株式会社製の:XY-4000などが挙げられる。
1分子内にフェノール性水酸基を2個以上有する化合物(P)は、1分子内にフェノール性水酸基を2個以上有するモノマー、オリゴマー、ポリマー全般であり、その分子量、分子構造を特に限定するものではないが、例えば、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、トリフェノールメタン型フェノール樹脂、テルペン変性フェノール樹脂、ジシクロペンタジエン変性フェノール樹脂、フェニレン及び/又はビフェニレン骨格を有するフェノールアラルキル樹脂、フェニレン及び/又はビフェニレン骨格を有するナフトールアラルキル樹脂、ビスフェノール化合物等が挙げられ、これらは単独でも混合して用いても差し支えない。
フェノール性水酸基を2個以上有する化合物(P)の例としては、明和化成株式会社製の:HFシリーズ、MEH-7500シリーズ、MEH-7800シリーズ、MEH-7851シリーズ、MEH-7600シリーズ、MEH-8000シリーズ;本州化学工業株式会社製の:TriP-PA、BisP-TMC、BisP-AP、OC-BP、TekP-4HBPA、CyRS-PRD4などが挙げられる。
本発明のエポキシ樹脂組成物は、これを硬化することにより、最終的に硬化エポキシ樹脂が得られる。エポキシ樹脂硬化促進剤(Q)の配合量はエポキシ樹脂や硬化剤の反応性に応じて調整されるが、エポキシ樹脂100重量部に対して通常1~25重量部、好ましくは2~20重量部である。
エポキシ樹脂(E)と、1分子内にフェノール性水酸基を2個以上有する化合物(P)との配合比率も、特に限定されないが、エポキシ樹脂(E)のエポキシ基1当量に対し、前記化合物(P)のフェノール性水酸基が0.5~2当量となるように用いるのが好ましく、0.7~1.5当量となるように用いるのが、より好ましい。
本発明のエポキシ樹脂組成物は、さらに無機充填材(H)を含むことが好ましい。
本発明のエポキシ樹脂組成物を半導体素子などの電子部品の封止などに用いる場合、得られる半導体装置の耐半田性向上などを目的として、エポキシ樹脂組成物中に配合されるものであり、その種類については、特に制限はなく、一般に封止材料に用いられているものを使用することができる。
また、無機充填材(H)の含有量は、特に限定されないが、エポキシ樹脂(E)と、1分子内にフェノール性水酸基を2個以上有する化合物(P)との合計量100重量部あたり、200~2400重量部が好ましく、400~1400重量部が、より好ましい。
本発明のエポキシ樹脂組成物は、さらに他の機能性ある化合物(機能性添加剤)を含むことが好ましい。
機能性添加剤には、例えば、3-グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、N-フェニル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-ウレイドプロピルトリエトキシシラン及びフェニルトリメトキシシラン、等のアルコキシシラン類やチタネートエステル類及びアルミナートエステル類に代表されるカップリング剤;カーボンブラック等の着色剤;臭素化エポキシ樹脂、酸化アンチモン、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、酸化亜鉛及びリン系化合物等の難燃剤;シリコーンオイル及びシリコーンゴム等の低応力成分;カルナバワックス等の天然ワックス、ポリエチレンワックス等の合成ワックス;ステアリン酸やステアリン酸亜鉛等の高級脂肪酸、該高級脂肪酸の金属塩類及びパラフィン等の離型剤;マグネシウム、アルミニウム、チタン及びビスマス系等のイオンキャッチャー、ビスマス酸化防止剤等の各種添加剤;ベンゾオキサジン、シアネートエステル、ビスマレイミドのような耐熱性UPさせる変性化合物が挙げられる。
本発明のエポキシ樹脂組成物は、エポキシ樹脂(E)と、1分子内にフェノール性水酸基を2個以上有する化合物(P)以外の樹脂を含むこともできる。
その以外の樹脂としては、酸無水物を用いるエポキシ樹脂、ポリイミド系樹脂、ナノコンポジット系樹脂、シアネートエステル系樹脂などが挙げられる。
他の機能性ある化合物は、「総説エポキシ樹脂第一巻」、「総説エポキシ樹脂第一巻」、エポキシ樹脂技術協会、2003;エクトロニクス実装学会誌、14、204、2011;journal of Applied Polymer Science,109,2023-2028,2008;Polymer Preprints,Japan,60,1K19,2011;ネックワークポリマー,33,130,2012;Polym.Int.54,1103-1109,2005;Journal of Applied Polymer Science,92,2375-2386,2004;ネックワークポリマー,29,175,2008;高分子論文集,65,562,2008;高分子論文集,66(6),217,2009などに記載されている。
本発明のエポキシ樹脂組成物は、上記成分、必要に応じて、その他の添加剤等を、ミキサーを用いて均一混合して得られ、さらには、常温で混合したものを、ロール、ニーダー、コニーダー及び二軸押出機等の混練機を用いて、加熱混練した後、冷却、粉砕することにより得ることができる。また、上記で得たエポキシ樹脂組成物は、紛体である場合、使用にあたっての作業性を向上させるために、プレス等により加圧タブレット化して使用することもできる。
本発明のエポキシ樹脂組成物の用い方としては、例えば、半導体素子等の各種の電子部品を封止し、半導体装置を製造する場合には、トランスファーモールド、コンプレッションモールド及びインジェクションモールド等の従来からの成形方法により、硬化成形することができる。
以下、実施例及び比較例により本発明をさらに説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。以下、特に定めない限り、%は重量%、部は重量部を示す。
なお、実施例、比較例で用いたエポキシ樹脂硬化促進剤(以下、硬化促進剤と記す。)の内容について以下に示す。なお、実施例2、3、4、5は参考例である。
<イミダゾリウム塩(S-1)の製造方法>
攪拌式のオートクレーブに、炭酸ジエチル(東京化成工業株式会社社製)141部及び溶媒のエタノール500部を仕込み、この中に1-メチルイミダゾール(東京化成工業株式会社社製)82部を仕込み、反応温度135℃にて80時間反応させることで、1-エチル-3-メチルイミダゾリウム・エチル炭酸塩(S-1-1)のエタノール溶液を得た。滴下ロート、及び還流管を備え付けたガラス製丸底3つ口フラスコに、トリエトキシフェニルシラン(東京化成工業株式会社社製)240部、2,3-ジヒドロキシナフタレン(東京化成工業株式会社社製)320部、及びナトリウムメトキシド28%メタノール溶液(東京化成工業株式会社社製)30部をメタノール900部中に投入後、1-エチル-3-メチルイミダゾリウム・エチル炭酸塩(S-1-1)のエタノール溶液を滴下し、下記式(s1)で表わされるイミダゾリウム塩が得られた。ろ過しメタノールで数回洗浄し乾燥することで精製を行い、イミダゾリウム塩(S-1)[化学式では(s1)と表示、その他のイミダゾリウム塩についても同様である。]とした。
Figure 0007228597000009
<イミダゾリウム塩(S-2)の製造方法>
イミダゾリウム塩(S-1)の製造方法の1-メチルイミダゾールの代わりに、1,2ジメチルイミダゾール(東京化成工業株式会社社製)96部を用いることで、下記式(s2)で表わされるイミダゾリウム塩(S―2)が得られた。
Figure 0007228597000010
<イミダゾリウム塩(S-3)の製造方法>
イミダゾリウム塩(S-1)の製造方法のトリエトキシフェニルシラン、2,3-ジヒドロキシナフタレンの代わりに、テトラエトキシシラン104部、カテコール(東京化成工業株式会社社製)165部を用いることで、下記式(s3)で表わされるイミダゾリウム塩(S―3)が得られた。
Figure 0007228597000011
<イミダゾリウム塩(S-4)の製造方法>
イミダゾリウム塩(S-1)の製造方法のトリエトキシフェニルシランの代わりに、トリエチルボレート(東京化成工業株式会社社製)146部を用いることで、下記式(s4)で表わされるイミダゾリウム塩(S―4)が得られた。
Figure 0007228597000012
<イミダゾリウム塩(S-5)の製造方法>
イミダゾリウム塩(S-1)の製造方法の2,3-ジヒドロキシナフタレンの代わりに、カテコール(東京化成工業株式会社社製)220部を用いることで、下記式(s5)で表わされるイミダゾリウム塩(S―5)が得られた。
Figure 0007228597000013
<イミダゾリウム塩(S-6)の製造方法>
イミダゾリウム塩(S-1)の製造方法の2,3-ジヒドロキシナフタレンの代わりに、ピロガロール(東京化成工業株式会社社製)252部を用い、ろ過の代わりに、エバポレータで溶剤を除去することで、下記式(s6)で表わされるイミダゾリウム塩(S―6)が得られた。なお、ナトリウムメトキシド28%メタノール溶液は用いなかった。
Figure 0007228597000014
<イミダゾリウム塩(S-7)の製造方法>
イミダゾリウム塩(S-1)の製造方法の2,3-ジヒドロキシナフタレンの代わりに、ピロガロール(東京化成工業株式会社社製)252部を用い、トリエトキシフェニルシランの代わりに、トリメトキシヘキシルシラン(東京化成工業株式会社社製)206部を用い、ろ過の代わりに、エバポレータで溶剤を除去することで、下記式(s7)で表わされるイミダゾリウム塩(S―7)が得られた。なお、ナトリウムメトキシド28%メタノール溶液は用いなかった。
Figure 0007228597000015
<比較例に用いる塩(S’-1)の製造例>
<塩(S’-1)の製造方法>
攪拌式のオートクレーブに、炭酸ジメチル(東京化成工業株式会社社製)108部及び溶媒のメタノール500部を仕込み、この中にDBU(サンアプロ株式会社社製)152部を仕込み、反応温度125℃にて80時間反応させたることで、中間体のDBU誘導体のメチル炭酸塩(S’-1-1)を得た。以降は、イミダゾリウム塩(S-1)の製造方法と同様にすることで、下記式(s’1)で表わされる塩(S’-1)が得られた。
Figure 0007228597000016
<塩(S’-2)の製造方法>
攪拌式のオートクレーブに、炭酸ジメチル(東京化成工業株式会社社製)216部及び溶媒のメタノール500部を仕込み、この中に2-メチル-2-イミダゾリン(東京化成工業株式会社社製)84部を仕込み、反応温度125℃にて80時間反応させることで、中間体のイミダゾリニウムのメチル炭酸塩(S’-2-1)を得た。以降は、イミダゾリウム塩(S-1)の製造方法と同様にすることで、下記式(s’2)で表わされる塩(S’-2)が得られた。
Figure 0007228597000017
<塩(S’-3)の製造方法>
イミダゾリウム塩(S-1)の製造方法の1-エチル-3-メチルイミダゾリウムのエチル炭酸塩(S-1-1)の代わりに、テトラフェニルホスホニウムブロミド(東京化成工業株式会社社製)419部を用いることで、下記式(s’3)で表わされる塩(S’-3)が得られた。
Figure 0007228597000018
イミダゾリウム塩(S-1)~(S-7)、塩(S’-1)~(S’-3)の融点を以下の方法で測定した。結果を表1に示す。
<融点>
SUS製の試験台にサンプルを置き、徐々に昇温させ目視で溶解した温度を読み取った。
Figure 0007228597000019
実施例1
エポキシ樹脂1:日本化薬(株)製、商品名NC3000(軟化点58℃、エポキシ当量273)100部;フェノール樹脂系硬化剤1:明和化成(株)製、商品名MEH-7500(軟化点110℃、水酸基当量97)33部;エポキシ樹脂硬化促進剤[イミダゾリウム塩(S-1)]7部;1重量%のシランカップリング剤で処理した溶融シリカ粉末1000部、カルナバワックス1.5部、三酸化アンチモン4部及びカーボンブラック1部を均一に粉砕混合後、 130℃の熱ロールを用いて10分間溶融混練し、冷却後粉砕して封止材を得た。得られたエポキシ樹脂組成物を、以下の方法で評価した。結果を表2に示す。
<性能評価>
<流動性(フロー値)>
前記の得られたエポキシ樹脂組成物について、EMMI 1-66 の方法に準じて175℃(70kg/cm2)でのスパイラルフローのフロー値(単位はcm)を測定し、流動性の指標とした。フロー値が大きいほど流動性が良いことを表す。
<ゲルタイム>
キュラストメーター7型(株式会社エー・アンド・デイ製、商品名)を使用して、温度175℃、樹脂用ダイスP-200及び振幅角度±1/4°の条件で、それぞれの上記エポキシ樹脂組成物について硬化トルクを測定し、硬化トルクの立ち上がる点をゲルタイム(単位は秒)とした。
<硬化性(硬化トルク)>
上記のキュラストメーターでの測定で、測定開始から300秒後の硬化トルクの値(単位はkgf・cm)を硬化性(脱型時の強度及び硬度)の指標とした。
実施例2~8、比較例1~3
表2の配合に従い、実施例1と同様にしてエポキシ樹脂組成物を得て、実施例1と同様にして評価した。結果を表2に示す。
実施例1以外で用いた原材料を以下に示す。
エポキシ樹脂2:三菱ケミカル(株)製、商品名XY-4000H(軟化点80℃、エポキシ当量192)
フェノール樹脂系硬化剤2:明和化成(株)製、商品名MEH-7851SS(軟化点67℃、水酸基当量203)
表2から明らかなように、本発明の実施例1~8のエポキシ樹脂組成物は、比較例と比べて、溶融混練後の封止剤のフロー値が大きく流動性に優れており、また硬化トルクも高く硬化性に優れていることが分かる。
一方、比較例1,2は融点が低い硬化促進剤を用いているので流動性を示すフロー値が比較的大きいものの、硬化性を示す硬化トルクが低い。比較例3はその逆であり、比較例は実施例のように、流動性と硬化性の両立ができていない
Figure 0007228597000020
本発明のエポキシ樹脂硬化促進剤(Q)は、エポキシ樹脂組成物の硬化性が良く半導体装置の信頼性を高め、流動性が良くエポキシ樹脂組成物がパッケージ内に十分に充填され、空隙が生じてしまう恐れのないエポキシ樹脂組成物となり、半導体などの電子部品用のエポキシ樹脂系封止材の製造に好適である。

Claims (3)

  1. 下記(s1)、(s5)、(s6)、(s7)のいずれかのイミダゾリウム塩(S)を含むことを特徴とするエポキシ樹脂硬化促進剤(Q)。
    Figure 0007228597000021
  2. 請求項に記載のエポキシ樹脂硬化促進剤(Q)、エポキシ樹脂(E)、及び1分子内にフェノール性水酸基を2個以上有する化合物(P)を含有するエポキシ樹脂組成物。
  3. 請求項に記載のエポキシ樹脂組成物が硬化してなる硬化物。
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