JP7227480B2 - ラフィングエンドミル - Google Patents
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また本発明は、軸線回りに回転されるエンドミル本体の先端部外周に、後端側に向けて延びる切屑排出溝が周方向に間隔をあけて複数条形成され、これらの切屑排出溝のエンドミル回転方向を向く壁面の外周側辺稜部に、上記エンドミル本体の先端から後端側に向けて内周側と外周側とに凹凸する波形外周刃が、複数条の切屑排出溝ごとに上記波形外周刃の位相をずらして形成されたラフィングエンドミルであって、個々の上記波形外周刃においては、上記エンドミル本体の先端から後端側に向けて複数の波形ごとに、上記軸線方向に隣接する波形の上記エンドミル本体の内周側の谷底間のピッチが異なる大きさとされているとともに、位相がずらされた上記波形外周刃同士では、上記軸線回りの回転軌跡の該軸線に沿った断面が互いに等しい形状で、上記ピッチの等しい上記谷底の位相が上記軸線方向に等間隔にずらされており、上記波形外周刃の上記エンドミル本体の内周側の谷底間のピッチは、上記エンドミル本体の先端から後端側に向けて上記軸線方向に等しい波形の数ごとに異なる大きさとされていることを特徴とする。
2 シャンク部
3 切刃部
4 切屑排出溝
5 ギャッシュ
6 底刃
7(7A~7E) 波形外周刃
7a 直線部
8 外周逃げ面
O エンドミル本体1の軸線
T エンドミル回転方向
A 軸線O回りの回転軌跡の軸線Oに沿った断面における波形外周刃7の谷底
B 軸線O回りの回転軌跡の軸線Oに沿った断面における波形外周刃7の山頂部
C1~C4 複数の波形
P1~P4 複数の波形C1~C4の軸線O方向に隣接する波形の谷底A間のピッチ
Claims (6)
- 軸線回りに回転されるエンドミル本体の先端部外周に、後端側に向けて延びる切屑排出溝が周方向に間隔をあけて複数条形成され、これらの切屑排出溝のエンドミル回転方向を向く壁面の外周側辺稜部に、上記エンドミル本体の先端から後端側に向けて内周側と外周側とに凹凸する波形外周刃が、複数条の切屑排出溝ごとに上記波形外周刃の位相をずらして形成されたラフィングエンドミルであって、
個々の上記波形外周刃においては、上記エンドミル本体の先端から後端側に向けて複数の波形ごとに、上記軸線方向に隣接する波形の上記エンドミル本体の内周側の谷底間のピッチが異なる大きさとされているとともに、
位相がずらされた上記波形外周刃同士では、上記軸線回りの回転軌跡の該軸線に沿った断面が互いに等しい形状で、上記ピッチの等しい上記谷底の位相が上記軸線方向に等間隔にずらされており、
上記波形外周刃の上記エンドミル本体の内周側の谷底間のピッチは、上記エンドミル本体の先端から後端側に向けて複数の波形ごとに漸次大きくなることを特徴とするラフィングエンドミル。 - 上記波形外周刃の上記エンドミル本体の内周側の谷底間のピッチは、上記エンドミル本体の先端から後端側に向けて複数の波形ごとに等しい大きさで漸次大きくなることを特徴とする請求項1に記載のラフィングエンドミル。
- 上記波形外周刃の上記エンドミル本体の内周側の谷底間のピッチは、上記エンドミル本体の先端から後端側に向けて複数の波形ごとに0.2mm未満の範囲内の大きさで漸次大きくなることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のラフィングエンドミル。
- 軸線回りに回転されるエンドミル本体の先端部外周に、後端側に向けて延びる切屑排出溝が周方向に間隔をあけて複数条形成され、これらの切屑排出溝のエンドミル回転方向を向く壁面の外周側辺稜部に、上記エンドミル本体の先端から後端側に向けて内周側と外周側とに凹凸する波形外周刃が、複数条の切屑排出溝ごとに上記波形外周刃の位相をずらして形成されたラフィングエンドミルであって、
個々の上記波形外周刃においては、上記エンドミル本体の先端から後端側に向けて複数の波形ごとに、上記軸線方向に隣接する波形の上記エンドミル本体の内周側の谷底間のピッチが異なる大きさとされているとともに、
位相がずらされた上記波形外周刃同士では、上記軸線回りの回転軌跡の該軸線に沿った断面が互いに等しい形状で、上記ピッチの等しい上記谷底の位相が上記軸線方向に等間隔にずらされており、
上記波形外周刃の上記エンドミル本体の内周側の谷底間のピッチは、上記エンドミル本体の先端から後端側に向けて上記軸線方向に等しい波形の数ごとに異なる大きさとされていることを特徴とするラフィングエンドミル。 - 上記波形外周刃の少なくとも一群の上記複数の波形は、上記エンドミル本体の外周側の山頂部に、上記軸線回りの回転軌跡の該軸線に沿った断面が上記軸線に平行な直線状に延びる直線部を備えていることを特徴とする請求項1から請求項4のうちいずれか一項に記載のラフィングエンドミル。
- 上記波形外周刃の少なくとも一群の上記複数の波形は、上記軸線回りの回転軌跡の該軸線に沿った断面において、上記エンドミル本体の内周の谷底から後端側に向かうに従い、外周側に漸次突出した後に上記エンドミル本体の外周側の山頂部を経て上記エンドミル本体の内周側に漸次凹んでいることを特徴とする請求項1から請求項5のうちいずれか一項に記載のラフィングエンドミル。
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