JP7223496B2 - 混合器及び気化装置 - Google Patents
混合器及び気化装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7223496B2 JP7223496B2 JP2017239255A JP2017239255A JP7223496B2 JP 7223496 B2 JP7223496 B2 JP 7223496B2 JP 2017239255 A JP2017239255 A JP 2017239255A JP 2017239255 A JP2017239255 A JP 2017239255A JP 7223496 B2 JP7223496 B2 JP 7223496B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- groove
- flow path
- insertion member
- fluid
- grooves
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
- C23C16/45512—Premixing before introduction in the reaction chamber
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F25/00—Flow mixers; Mixers for falling materials, e.g. solid particles
- B01F25/40—Static mixers
- B01F25/42—Static mixers in which the mixing is affected by moving the components jointly in changing directions, e.g. in tubes provided with baffles or obstructions
- B01F25/43—Mixing tubes, e.g. wherein the material is moved in a radial or partly reversed direction
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F23/00—Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
- B01F23/40—Mixing liquids with liquids; Emulsifying
- B01F23/45—Mixing liquids with liquids; Emulsifying using flow mixing
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F25/00—Flow mixers; Mixers for falling materials, e.g. solid particles
- B01F25/30—Injector mixers
- B01F25/31—Injector mixers in conduits or tubes through which the main component flows
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F25/00—Flow mixers; Mixers for falling materials, e.g. solid particles
- B01F25/40—Static mixers
- B01F25/44—Mixers in which the components are pressed through slits
- B01F25/441—Mixers in which the components are pressed through slits characterised by the configuration of the surfaces forming the slits
- B01F25/4416—Mixers in which the components are pressed through slits characterised by the configuration of the surfaces forming the slits the opposed surfaces being provided with grooves
- B01F25/44164—Crossing sets of grooves forming a labyrinth formed on opposed surfaces, e.g. on planar surfaces or on cylinders or cones
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F35/00—Accessories for mixers; Auxiliary operations or auxiliary devices; Parts or details of general application
- B01F35/90—Heating or cooling systems
- B01F35/92—Heating or cooling systems for heating the outside of the receptacle, e.g. heated jackets or burners
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67098—Apparatus for thermal treatment
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F25/00—Flow mixers; Mixers for falling materials, e.g. solid particles
- B01F2025/91—Direction of flow or arrangement of feed and discharge openings
- B01F2025/911—Axial flow
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F25/00—Flow mixers; Mixers for falling materials, e.g. solid particles
- B01F2025/91—Direction of flow or arrangement of feed and discharge openings
- B01F2025/919—Direction of flow or arrangement of feed and discharge openings characterised by the disposition of the feed and discharge openings
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F25/00—Flow mixers; Mixers for falling materials, e.g. solid particles
- B01F2025/93—Arrangements, nature or configuration of flow guiding elements
- B01F2025/931—Flow guiding elements surrounding feed openings, e.g. jet nozzles
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F35/00—Accessories for mixers; Auxiliary operations or auxiliary devices; Parts or details of general application
- B01F35/90—Heating or cooling systems
- B01F2035/99—Heating
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Accessories For Mixers (AREA)
- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
- Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
Description
このような構成であれば、第1溝と第2溝との分岐箇所や合流箇所が複数設けられているので、これらの分岐箇所や合流箇所で流体の分岐と合流とを繰り返し生じさせることができ、複数種類の流体を能く混ぜ合わせることができる。
このような構成であれば、第1溝を流れる流体と第2溝を流れる流体とが、合流箇所でぶつかり合うので、合流箇所において複数種類の流体をより能く混ぜ合わせることができる。
このような構成であれば、第1ヒータ収容空間に収容させた第1ヒータによって混合流路を流れる流体を外側から加熱することができ、例えば流体の気化効率を向上させることができる。
このような構成であれば、第2ヒータ収容空間に収容させた第2ヒータによって混合流路を流れる流体を内側から加熱することができ、例えば流体の気化効率を向上させることができる。
このような構成であれば、旋回流を発生させることができ、流体を効率良く流入出させることができる。
これにより、各第1溝X1及び各第2溝X2の上流側開口X1a、X2aから流入した流体は、第1溝X1と第2溝X2とが合流する複数の合流箇所Zにおいて分岐と合流とを繰り返しながら流れ、各第1溝X1及び各第2溝X2の下流側開口X1b、X2bから流出する。
これに対して、本実施形態の混合器30を用いれば、各溝X1、X2を流れる流体は、流路形成部材31の内周面311と挿入部材32の外周面321との間に沿って流れるので、外部からの熱を効率良く流体に伝えることができ、十分な気化性能を得るために必要な熱量を少なくすることができる。
このような構成であれば、内部流路30Lを流れて挿入部材32に到達した流体を各溝X1、X2に導きやすくすることができるとともに、到達した流体への抵抗を小さくすることができる。
このガイド溝X3は、第1溝X1や第2溝X2に連通するものであり、例えばボールエンドミルなどで切削加工して形成されており、断面が半円等の部分円形状をなす。
より具体的に説明すると、ここでは挿入部材32の上流側端部32aに第1円錐部41を設けるとともに、この第1円錐部41の先端部に第1円錐部よりも傾斜角度が小さい第2円錐部42を設けてあり、第1円錐部41と第2円錐部42との境界部分から第1溝X1や第2溝X2の上流側開口X1a、X2aに亘ってガイド溝X3を直線状に形成してある。なお、ガイド溝X3の形状は、直線状に限らず螺旋状や曲線状であっても良い。
このようなガイド溝X3を形成することで、流体を第1溝X1や第2溝X2へより導きやすくなる。
このような構成であれば、第1ヒータ収容空間31Sに収容する第1ヒータによって、混合流路XLを流れる流体を外側から加熱することができる。また、混合器30と第1ヒータとをユニット化することができ、コンパクト化を図れる。
より詳細に説明すると、まず挿入部材32は、上流側端面322又は下流側端面323のうちの一方の端面から他方の端面に向かって当該他方の端面に到る前まで形成された貫通孔を有しており、この貫通孔が第2ヒータ収容空間32Sである。
ここでは、第2ポート5bを介して挿入部材32が挿入されており、この第2ポート5bは、流体が流れ出ることを防ぐべく閉塞部材6によって閉塞されている。なお、閉塞部材6の形状等は適宜変更して構わないが、ここでは流路形成部材31の第2壁面52と平面視略同一形状をなす閉塞面を有したブロック体形状をなし、挿入部材32と一体的に形成されている。また、この閉塞部材6には、第2ヒータ収容空間32Sに連通する貫通孔6Hが形成されている。
なお、図示していないが、例えば第3壁面53や第3壁面53の反対側の第4壁面など、第1壁面51や第2壁面52とは別の壁面に第4ポートを形成するとともに、この第4ポート5dと第1貫通孔H1とを連通する第3貫通孔を形成して、第4ポートを流入口又は流出口としても良い。
このような構成であれば、第1貫通孔H1に沿った旋回流を発生させることができ、流体を効率良く流入出させることができる。
また、第1溝や第2溝は、前記実施形態では螺旋状であったが、例えば第1溝を内部流路と平行な直線状に形成するとともに、第2溝を互いに隣り合う第1溝を接続するとともに第1溝に対して傾斜させて形成しても良い。すなわち、第1溝及び第2溝は、流体の分岐と混合とを繰り返すことができれば、種々の形状に変更して構わない。
なお、本発明に係る混合器を用いて液体材料とキャリアガスとを混合させる場合、気化装置としては減圧流路を備えていないものであっても良い。
すなわち、本発明に係る構造体は、内部流路を有する第1部材(前記実施形態の流路形成部材に対応)と、前記内部流路に設けられた第2部材(前記実施形態の挿入部材に対応)とを具備し、前記第1部材の内周面と前記第2部材の外周面とが互いに接触しており、前記内周面又は前記外周面が、第1溝及びこの第1溝に合流し且つこの第1溝から分岐する第2溝を有し、前記第1溝及び前記第2溝が、前記第1部材と前記第2部材との間で、前記内部流路の一方側から流れてきた流体を分岐及び合流させて前記内部流路の他方側に導く流路として形成されていることを特徴とするものである。
30 ・・・混合器
30L・・・内部流路
31 ・・・流路形成部材
32 ・・・挿入部材
X1 ・・・第1溝
X2 ・・・第2溝
XL ・・・混合流路
Z ・・・合流箇所
Claims (8)
- 気液混合体がノズル状の減圧流路に導かれるとともに、その減圧流路で前記気液混合体に含まれる液体材料を減圧して気化するように構成された気化装置において、
前記減圧流路の下流側に配置されるとともに、内部流路が形成された流路形成部材と、
前記内部流路に挿入された挿入部材とを具備し、
前記流路形成部材における前記内部流路を形成する内周面又は前記挿入部材の外周面に第1溝及びこの第1溝に合流し且つこの第1溝から分岐する第2溝が形成されるとともに、前記内周面と前記外周面とが嵌め合わされており、
前記第1溝及び前記第2溝が、前記流路形成部材と前記挿入部材との間で、前記内部流路の一方側から流れてきた流体を分岐及び合流させて前記内部流路の他方側に導く混合流路として形成されており、
前記挿入部材が、上流側に向かって細くなる先細り形状をなすガイド面を有し、その上流側端部に切頭円錐状の第1円錐部が設けられ、前記第1円錐部の先端部に前記第1円錐部よりも頂角の大きい円錐状の第2円錐部が設けられている気化装置。 - 複数の前記第1溝が、前記挿入部材の一端部の外縁から前記挿入部材の他端部の外縁に亘って前記挿入部材の外周面に形成されており、
複数の前記第2溝が、前記挿入部材の一端部の外縁から前記挿入部材の他端部の外縁に亘って前記挿入部材の外周面に形成されおり、
前記第1溝と前記第2溝との分岐箇所又は合流箇所が複数設けられている請求項1記載の気化装置。 - 前記第1溝と第2溝とが螺旋状であり、前記第1溝の巻き方向と前記第2溝の巻き方向とが、互いに反対向きである請求項2記載の気化装置。
- 前記流路形成部材が、前記流体を加熱する第1ヒータが収容される第1ヒータ収容空間を有している請求項1乃至3のうち何れか一項に記載の気化装置。
- 前記挿入部材が、前記流体を加熱する第2ヒータが収容される第2ヒータ収容空間を有している請求項1乃至4のうち何れか一項に記載の気化装置。
- 前記流路形成部材が、ブロック体形状をなし、第1壁面に形成された第1ポート及び前記第1壁面の反対側の第2壁面に形成された第2ポートを連通するとともに前記挿入部材が挿入された第1貫通孔と、前記第2壁面とは別の壁面に形成された第3ポート及び前記第1貫通孔を連通する第2貫通孔とを有し、
前記第2ヒータが前記第2ポートを介して前記第2ヒータ収容空間に挿入された状態で、当該第2ポートが閉塞されており、
前記第1ポート又は前記第3ポートの一方が前記流体の流入口として形成されるとともに、他方が前記流体の流出口として形成されている請求項5記載の気化装置。 - 前記第1貫通孔と前記第2貫通孔との接続箇所において、前記流体が前記第1貫通孔を形成する内周面の接線方向に沿って流れる請求項6記載の気化装置。
- 前記各溝に連通する複数のガイド溝が前記ガイド面に形成されている請求項1乃至7のうち何れか一項に記載の気化装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017239255A JP7223496B2 (ja) | 2017-12-14 | 2017-12-14 | 混合器及び気化装置 |
KR1020180158983A KR20190071598A (ko) | 2017-12-14 | 2018-12-11 | 혼합기 및 기화 장치 |
US16/217,423 US11291966B2 (en) | 2017-12-14 | 2018-12-12 | Mixer and vaporization apparatus |
TW107145046A TWI817966B (zh) | 2017-12-14 | 2018-12-13 | 混合器以及氣化裝置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017239255A JP7223496B2 (ja) | 2017-12-14 | 2017-12-14 | 混合器及び気化装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019103986A JP2019103986A (ja) | 2019-06-27 |
JP7223496B2 true JP7223496B2 (ja) | 2023-02-16 |
Family
ID=66814120
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017239255A Active JP7223496B2 (ja) | 2017-12-14 | 2017-12-14 | 混合器及び気化装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11291966B2 (ja) |
JP (1) | JP7223496B2 (ja) |
KR (1) | KR20190071598A (ja) |
TW (1) | TWI817966B (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11484850B2 (en) * | 2019-09-26 | 2022-11-01 | Tasz, Inc. | Aerator |
JP2022017638A (ja) * | 2020-07-14 | 2022-01-26 | 株式会社塩 | 気体液体混合システム及び気体液体の混合流体の生産方法 |
TWI779891B (zh) * | 2021-10-20 | 2022-10-01 | 許晨芳 | 渦流產生裝置 |
CA3206746A1 (en) * | 2021-11-08 | 2023-05-11 | Desmond Alexander SOMERVILLE | Fluid treatment system and related methods |
CN114618362B (zh) * | 2022-03-10 | 2023-02-17 | 中氢新能(北京)新能源技术研究院有限公司 | 一种甲醇催化重整制氢器的混合装置 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007114474A1 (ja) | 2006-04-05 | 2007-10-11 | Horiba Stec, Co., Ltd. | 液体材料気化装置 |
WO2014204399A1 (en) | 2013-06-19 | 2014-12-24 | Goi Lai Huat | An apparatus for generating nanobubbles |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US1373829A (en) * | 1918-08-26 | 1921-04-05 | William B Perdue | Welding and cutting torch |
JPS5813696B2 (ja) | 1977-11-30 | 1983-03-15 | ナショナル住宅産業株式会社 | 建築用板取付装置 |
JPS5644032A (en) * | 1979-09-14 | 1981-04-23 | Toyobo Co Ltd | Static type dispersion mixing device |
US5037584A (en) * | 1989-09-20 | 1991-08-06 | Toll Duncan M | Helical insert for a carbonator and method of conducting carbonated liquid |
JP3171561B2 (ja) * | 1996-08-05 | 2001-05-28 | 塚田 徳郎 | 流体混合装置 |
JP3345803B2 (ja) * | 1997-05-16 | 2002-11-18 | 東京エレクトロン株式会社 | 蒸気発生方法及びその装置 |
JP3835543B2 (ja) * | 2002-07-05 | 2006-10-18 | ビック工業株式会社 | 流体吐出管構造体 |
US6910797B2 (en) * | 2002-08-14 | 2005-06-28 | Hewlett-Packard Development, L.P. | Mixing device having sequentially activatable circulators |
US20060028908A1 (en) * | 2004-08-03 | 2006-02-09 | Suriadi Arief B | Micro-mixer |
JP2011050936A (ja) * | 2009-09-04 | 2011-03-17 | Nisso Engineering Co Ltd | 流通式管型反応装置 |
US20140264132A1 (en) * | 2013-03-15 | 2014-09-18 | Flowserve Management Company | Fluid flow control devices and systems, and methods of flowing fluids therethrough |
JP6186179B2 (ja) | 2013-05-31 | 2017-08-23 | 株式会社堀場エステック | 攪拌器及び攪拌器の製造方法 |
KR101838429B1 (ko) * | 2017-01-09 | 2018-03-13 | 시오 컴퍼니 리미티드 | 유체 공급관 |
-
2017
- 2017-12-14 JP JP2017239255A patent/JP7223496B2/ja active Active
-
2018
- 2018-12-11 KR KR1020180158983A patent/KR20190071598A/ko not_active Application Discontinuation
- 2018-12-12 US US16/217,423 patent/US11291966B2/en active Active
- 2018-12-13 TW TW107145046A patent/TWI817966B/zh active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007114474A1 (ja) | 2006-04-05 | 2007-10-11 | Horiba Stec, Co., Ltd. | 液体材料気化装置 |
WO2014204399A1 (en) | 2013-06-19 | 2014-12-24 | Goi Lai Huat | An apparatus for generating nanobubbles |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US11291966B2 (en) | 2022-04-05 |
KR20190071598A (ko) | 2019-06-24 |
TW201927393A (zh) | 2019-07-16 |
US20190184350A1 (en) | 2019-06-20 |
JP2019103986A (ja) | 2019-06-27 |
TWI817966B (zh) | 2023-10-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7223496B2 (ja) | 混合器及び気化装置 | |
JP5212301B2 (ja) | ベンチュリ管を用いた流体の混合方法、ベンチュリ型混合装置 | |
JP5106918B2 (ja) | インラインミキサー構造 | |
US8740449B2 (en) | Compact static mixer and related mixing method | |
JP6762461B2 (ja) | 液体処理ノズル及び液体処理ノズル用コアエレメント | |
JP2012125711A (ja) | 気液混合ユニット及び気液噴霧ノズル | |
JP5370027B2 (ja) | 流体混合方法及び流体混合装置 | |
WO2013111789A1 (ja) | スタティックミキサーおよびスタティックミキサーを用いた装置 | |
CN109386355A (zh) | 混合器装置和废气系统 | |
US11014054B2 (en) | Fluid-gas mixer | |
US8544828B2 (en) | Liquid material vaporization apparatus | |
JP2015508152A (ja) | 給湯器用デュアルベンチュリ | |
JP7019168B2 (ja) | 貯蔵タンク及び温度制御装置 | |
CA2460549A1 (en) | Device for mixing two flows of fluid, which are initially guided separate from one another, in a two-circuit reaction engine | |
JP7457193B1 (ja) | 渦流式流体混合器 | |
JP7457194B1 (ja) | 渦流式流体混合器 | |
JP2002361056A (ja) | 流体混合器 | |
US20230314010A1 (en) | Water heating device | |
JP2019141828A (ja) | 微細気泡発生ノズル | |
US11975298B2 (en) | Fluid controller and fluid mixer | |
JP6263731B2 (ja) | 液体混合装置およびそれを備えた貯湯式給湯機 | |
CN108686530B (zh) | 一种非对称流体管路总成 | |
KR101357753B1 (ko) | 삽입형 인젝터가 구비된 기체혼합기 | |
GB2597495A (en) | A spray head | |
CN115228313A (zh) | 一种气体混合装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20201116 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20210526 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210601 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210726 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20211223 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220210 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220621 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220817 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20220830 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20221125 |
|
C60 | Trial request (containing other claim documents, opposition documents) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C60 Effective date: 20221125 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20221206 |
|
C21 | Notice of transfer of a case for reconsideration by examiners before appeal proceedings |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C21 Effective date: 20221208 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230202 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230206 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7223496 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |