JP7220764B1

JP7220764B1 - 貫通孔付きフィルムの製造方法、及び、円偏光板

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Publication number: JP7220764B1
Application number: JP2021179566A
Authority: JP
Inventors: 幹士藤井; 到鈴木
Original assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Current assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date: 2021-11-02
Filing date: 2021-11-02
Publication date: 2023-02-10
Anticipated expiration: 2041-11-02
Also published as: JP2023068672A; JP2023068440A; TW202323950A; CN116060672A; KR20230063870A; JP7350199B2

Abstract

【課題】貫通孔の周囲の変色を低減できる、貫通孔付きフィルムの製造方法及び円偏光板を提供する。【解決手段】貫通孔付きフィルムの製造方法は、フィルムの積層体２００の厚み方向と平行にエンドミル３００の軸を配置した状態で、エンドミルを積層体の厚み方向に、積層体の厚み未満の距離Ｌだけ相対移動させることにより、積層体に孔部２００Ｈ１を形成するＡ１工程と、Ａ１工程後に、エンドミルを、孔部２００Ｈ１の内周面にそって相対移動させて孔部の内径を拡大するＡ２工程と、を順に行うＡ工程を備える。各フィルムは液晶位相差板を含み、Ａ工程を２回以上繰り返して積層体に貫通孔を形成する。【選択図】図６

Description

本発明は、貫通孔付きフィルムの製造方法、及び、円偏光板に関する。

近年では、スマートホンなどの画像表示装置のカメラホールの小径化が進展しており、例えば、偏光板に対して径が２～３ｍｍ程度の貫通孔が設けられる場合がある。偏光板に小径の貫通孔を形成する方法として、レーザー加工、及び、エンドミル加工がある。

特開２０１７－１５１１６２号公報特開２０１７－０８３８７８号公報特開２０２０－１４９０３４号公報特開２０２０－１４９０３３号公報

レーザー加工では、貫通孔の径を小さくすることが容易であるが、レーザーの熱等により偏光子が改質され、貫通孔の周囲に偏光性能を有さない偏光解消部が必ず形成されるという問題がある。

一方、エンドミル加工では、貫通孔の周囲に偏光解消部は形成されにくいものの、貫通孔の径が小さくなると、貫通孔の周囲に変色部が形成される場合があることが判明した。

本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、貫通孔の周囲の変色を低減できる、貫通孔付きフィルムの製造方法及び円偏光板を提供することを目的とする。

本発明の一側面に係る貫通孔付きフィルムの製造方法は、フィルムの積層体の厚み方向と平行にエンドミルの軸を配置した状態で、前記エンドミルを前記積層体の厚み方向に、前記積層体の厚み未満の距離だけ相対移動させることにより、前記積層体に孔部を形成するＡ１工程と、
前記Ａ１工程後に、エンドミルを、前記孔部の内周面にそって相対移動させて前記孔部の内径を拡大するＡ２工程と、を順に行うＡ工程を備える。各前記フィルムは液晶位相差板を含む。この方法は、前記Ａ工程を２回以上繰り返して前記積層体に貫通孔を形成する。

各前記Ａ１工程における前記相対移動の距離が１．５ｍｍ以下であることができる。

上記方法は、前記Ａ工程を２回以上繰り返して前記積層体に貫通孔を形成した後に、貫通孔の内周面全体をエンドミルで更に０．０１～０．１０ｍｍの厚みで切削するＢ工程を更に含むことができる。

前記Ａ１工程及び前記Ａ２工程において、前記積層体の屑が前記エンドミルの柄部側に向かって排出されるように前記エンドミルを回転させることができる。

前記Ａ１工程及び前記Ａ２工程において、前記エンドミルの軸に対して斜め、かつ、前記エンドミルの柄部から刃部に向かう方向にドライアイススノーを噴射することができる。

各前記フィルムはさらに偏光子を含むことができる。

前記フィルムは、画像表示装置用フィルムであることができる。

本発明の一側面に係る円偏光板は、少なくとも一方面に保護膜が付与された偏光子、及び、液晶位相差板をこの順に備える円偏光板であって、
２．５ｍｍ以下の径の貫通孔を有し、
前記貫通孔の周囲にある位相差ずれ領域Ｑの最大幅が３０μｍ以下である。

前記貫通孔の周囲から幅３０μｍの環状領域は偏光機能を有することができる。

本発明の一側面に係る積層体は、上記円偏光板の積層体である。

本発明によれば、貫通孔の周囲の変色を低減できる貫通孔付きフィルムの製造方法及び円偏光板が提供される。

図１は、フィルム１００の積層体２００の一例を示す端面図である。図２は、液晶位相差板１０の一例を示す単面図である。図３は、フィルム１００の一例を示す端面図である。図４の（ａ）～（ｃ）は、偏光板３０の一例を示す端面図である。図５は、位相差フィルム７０の一例を示す端面図である。図６の（ａ）～（ｄ）は、フィルム１００の積層体２００に対して行う、Ａ１工程、Ａ２工程、Ａ１工程、Ａ２工程を順に示す模式斜視図である。図７の（ａ）は、積層体２００に貫通孔２００ＨＴが形成された状態を示す模式斜視図であり、図７の（ｂ）は、貫通孔２００ＨＴに対してＢ工程を行う状態を示す模式斜視図である。図８（ａ）及び（ｂ）は、エンドミルの回転方向と加工屑排出方向との関係、及び、ドライアイススノーの吹きつけ方向を示す側面図である。図９は、フィルムの貫通孔１００ＨＴの周囲の拡大図である。

図面を参照して、本発明の実施形態について説明する。

（フィルムの積層体）
最初に、図１に示すように、フィルム１００の積層体２００を用意する。各フィルム１００は、単層フィルムであっても、積層フィルムであっても良い。積層体２００の厚みは、３ｍｍ以上、４ｍｍ以上、５ｍｍ以上、６ｍｍ以上であることができ、２０ｍｍ以下であることができ、１５ｍｍ以下であることができ、１０ｍｍ以下であってもよい。積層体２００の両表面は、ＰＥＴ等のプロテクトフィルム１４０を有していてもよい。各フィルム１００の厚みは、３０～５００μｍであることができる。

（フィルム）
各フィルム１００は液晶位相差板を含む。液晶位相差板の例を図２に示す。液晶位相差板１０は、配向した重合性液晶化合物の硬化物層（以下、液晶位相差層と呼ぶことがある）１４を有し、さらに、硬化物層１４に接する配向層１２を有することができる。

重合性液晶化合物とは、重合性官能基（好ましくは光重合性官能基）を有する液晶化合物である。

光重合性官能基とは、光重合開始剤から発生した活性ラジカルや酸などによって重合反応に関与し得る基のことをいう。光重合性官能基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、１－クロロビニル基、イソプロペニル基、４－ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。

重合性液晶化合物の種類は特に限定されず、棒状液晶化合物、円盤状液晶化合物、及びこれらの混合物を用いることができる。液晶化合物の液晶性はサーモトロピック性液晶でもリオトロピック性液晶でもよいが、緻密な膜厚制御が可能な点でサーモトロピック性液晶が好ましい。また、サーモトロピック性液晶における相秩序構造としてはネマチック液晶でもスメクチック液晶でもよい。重合には適宜光重合開始剤などを使用することができる。

液晶位相差板は、波長が大きくなるにつれて面内位相差が小さくなる順波長分散性を有してもよく、波長が大きくなるにつれて面内位相差が大きくなる逆波長分散性を有してもよい。

重合性液晶化合物の硬化物層１４の厚みは、例えば、０．５～１０μｍ、０．５～８μｍ、１～５μｍとすることができる。

配向層１２は、重合性液晶化合物の硬化物層１４の製造時に重合性液晶化合物を配向させるために用いられる。配向層１２に特に限定はなく、ＰＶＡなどの樹脂のラビング膜でもよく、光重合性樹脂膜を偏光などで重合した光配向膜でもよい。配向層１２の厚みは、例えば、１０～５０００ｎｍ、１０～１０００ｎｍ、１０～５００ｎｍ、１０～３００ｎｍとすることができる。

重合性液晶化合物の例、及び、重合性液晶化合物の硬化物層に必要に応じて配合される重合開始剤等の副成分、配向層の材料、及び、これらの製法は公知であり、例えば、特開２０１７－１６７５１７号公報、特許５４６３６６６号公報、特開２０１６－１２１３３９号公報、特開２０１８－０８７１５２号公報、特許６７００４６８号公報、特開２０２０－０７４０２１号公報に開示されている。液晶位相差板が、ポジティブＣプレートの場合の垂直配向層の例は、特開２０１６－０２８２８４号公報等の文献に開示されている。

配向層１２と、硬化物層１４との積層順に特に限定はない。また、液晶位相差板１０が、配向した重合性液晶化合物の硬化物層を少なくとも有していれば、例えば、液晶位相差板１０が配向層を除去したものであるなど、配向層を有ないこともできる。また、液晶位相差板１０が、硬化物層及び配向層以外の他の層を有していてもよい。

液晶位相差板の例は、λ／４板、λ／２板、ポジティブＣ板等である。λ／４板は、波長５５０ｎｍにおいて５０～２００ｎｍの面内位相差を有することができる。各位相差板は、それぞれ独立に、順波長分散性を有してもよく、逆波長分散性を有してもよい。

液晶位相差板１０の厚みに限定はないが、例えば、０．５～１５μｍ、０．５～１０μｍ、１～８μｍとすることができる。

（フィルムの構造）
液晶位相差板１０を含むフィルム１００の例は、円偏光板である。図３は、一実施例に係るフィルム１００の概略断面図である。このフィルム１００は、順に、偏光板３０、粘着剤又は接着剤層２４、及び、液晶位相差板１０を含む位相差フィルム７０を有する。

（偏光板（直線偏光板）３０）
偏光板３０は偏光子を含む。偏光子の一例は、ヨウ素などの二色性色素を含有する延伸ポリビニルアルコール系樹脂である。この場合、偏光板３０は、図４の（ａ）に示すように、第１保護膜３２、偏光子３６、第２保護膜３８の構成を有することができる。保護膜は少なくとも偏光子３６の一方にあればよい。第１保護膜３２及び第２保護膜３８の例は、トリアセチルセルロースフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルムである。

延伸ＰＶＡである場合の偏光子３６の厚みは、通常５～６０μｍである。保護膜の厚みは通常１０～１００μｍである。

偏光子３６の他の例は、配向した重合性液晶化合物の硬化物及び二色性色素を含み、液晶化合物の硬化物中において二色性色素が分散及び配向しているものである。この場合の偏光板３０の例を、図４の（ｂ）及び（ｃ）に示す。図４の（ｂ）では、偏光板３０は、順に、第１保護膜３２、配向層３４、偏光子３６、及び、第２保護膜３８を有する。図４の（ｃ）では、偏光板３０は、順に、第１保護膜３２、偏光子３６、配向層３４、及び、第２保護膜３８を有している。保護膜は少なくとも偏光子の一方にあればよい。

液晶型の場合の偏光子３６の厚みは、通常１０μｍ以下であり、好ましくは０．５μｍ以上８μｍ以下であり、より好ましくは１μｍ以上５μｍ以下である。

重合性液晶化合物については、位相差板の項で説明したものを利用することができる。偏光子に用いる重合性液晶化合物としては、ネマチック液晶化合物よりもスメクチック液晶化合物が好ましく、高次スメクチック液晶化合物がより好ましい。中でも、スメクチックＢ相、スメクチックＤ相、スメクチックＥ相、スメクチックＦ相、スメクチックＧ相、スメクチックＨ相、スメクチックＩ相、スメクチックＪ相、スメクチックＫ相またはスメクチックＬ相を形成する高次スメクチック液晶化合物がより好ましく、スメクチックＢ相、スメクチックＦ相またはスメクチックＩ相を形成する高次スメクチック液晶化合物がさらに好ましい。重合には適宜、光重合開示剤などを使用できる。

二色性色素とは、分子の長軸方向における吸光度と、短軸方向における吸光度とが異なる性質を有する色素をいう。

二色性色素としては、３００～７００ｎｍの範囲に吸収極大波長（λＭＡＸ）を有するものが好ましい。このような二色性色素としては、例えば、アクリジン色素、オキサジン色素、シアニン色素、ナフタレン色素、アゾ色素およびアントラキノン色素などが挙げられるが、中でもアゾ色素が好ましい。アゾ色素としては、モノアゾ色素、ビスアゾ色素、トリスアゾ色素、テトラキスアゾ色素およびスチルベンアゾ色素などが挙げられ、好ましはビスアゾ色素およびトリスアゾ色素である。二色性色素は単独でも、組み合わせてもよいが、３種類以上の二色性色素を組み合わせるのが好ましく、３種類以上のアゾ色素を組み合わせるのがより好ましい。

配向層３４は、偏光子３６を製造する際に偏光子３６の液晶性化合物を配向させるための層であり、偏光子３６と接している。配向層３４の材料に特に限定はなく、ＰＶＡ等の樹脂のラビング層、光配向性基を有する重合体層に偏光などを照射して配向させた光配向膜でもよい。配向層３４の厚みに限定はないが、配向層の厚さは、通常１０～１００００ｎｍの範囲であり、好ましくは１０～１０００ｎｍの範囲であり、さらに好ましくは５０～２００ｎｍの範囲である。

配向層、重合性液晶化合物、二色性色素の材料に特に限定はなく、公知のものを利用できる。これらの材料の例及び製法は、例えば、特開２０１７－１６７５１７号公報、特開２０１３－３７３５３号公報、特開２０１３－３３２４９号公報、特開２０１７－８３８４３号公報、ＷＯ２０２０／１２２１１７号公報、ＷＯ２０２０／１７９８６４号公報に開示されている。

第１保護膜３２、及び、第２保護膜３８は、液晶型の偏光子３６を保護する層であり、偏光子３６中の二色性色素の外部への拡散の抑制、外部から偏光子３６への酸素等の拡散の抑制などの機能を有することができる。第１保護膜３２及び第２保護膜３８は、ポリビニルアルコール系樹脂の硬化物であることができる。第１保護膜３２及び第２保護膜３８は同一種類の材料でもよく、異なる材料でもよい。

ポリビニルアルコール系樹脂の硬化物の例は、ポリビニルアルコール系樹脂と架橋剤との硬化物、及び、重合性官能基を有するポリビニルアルコール系樹脂の硬化物である。

ポリビニルアルコール系樹脂の例は、部分ケン化ポリビニルアルコール、完全ケン化ポリビニルアルコール、並びに、カルボキシル基変性ポリビニルアルコール、アセトアセチル基変性ポリビニルアルコール、メチロール基変性ポリビニルアルコール、及び、アミノ基変性ポリビニルアルコール等の変性ポリビニルアルコール系樹脂である。

ポリビニルアルコール系樹脂のケン化度は、通常８５モル％以上１００モル％以下程度であり、好ましくは９０モル％以上であり、９５モル％以上であってもよく、９８モル％以上であってもよい。

ポリビニルアルコール系樹脂の平均重合度は、通常１０００以上５０００以下であり、好ましくは１５００以上３０００以下であり、２０００以下であってもよく、１５００以下であってもよい。

ポリビニルアルコール系樹脂の未硬化物に占めるポリビニルアルコール系樹脂の含有量は、未硬化物の固形分の質量に対して、好ましくは８５質量％以上、より好ましくは９０質量％以上、さらに好ましくは９５質量％以上であり、１００質量％でもよい。

架橋剤の例は、アミン化合物、アルデヒド化合物、メチロール化合物、水溶性エポキシ樹脂、イソシアネート化合物、多価金属塩である。特に、グリオキザールをはじめとするアルデヒド化合物、メチロールメラミンをはじめとするメチロール化合物、水溶性エポキシ樹脂が好適である。水溶性エポキシ樹脂は、例えばジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン等のポリアルキレンポリアミンとアジピン酸等のジカルボン酸との反応物であるポリアミドポリアミンに、エピクロロヒドリンを反応させて得られるポリアミドエポキシ樹脂であることができる。

ポリビニルアルコール系樹脂が重合性官能基を有している場合、架橋剤を有さなくても加熱等により硬化物を得ることができる。重合性官能基の例は、ビニル基、ビニルオキシ基、１－クロロビニル基、イソプロペニル基、４－ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基である。

ポリビニルアルコール系樹脂の硬化物は、ポリビニルアルコール系樹脂、及び必要に応じて添加剤等を溶媒に溶解し、基材上に塗布し、乾燥することにより得ることができる。

第１保護膜３２及び第２保護膜３８の厚みは、１～１００μｍとすることができる。

（粘着剤又は接着剤層２４）
図３において、粘着剤又は接着剤層２４は、偏光板３０と、位相差フィルム７０とを固定する。粘着剤又は接着剤層２４に特に限定はない。

粘着剤の例は、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、ポリビニルアルコール系粘着剤、ポリビニルピロリドン系粘着剤、ポリアクリルアミド系粘着剤、セルロース系粘着剤等が挙げられる。これらのうち、透明性、耐候性、耐熱性などの観点から、アクリル系粘着剤であるのが好ましい。

接着剤の例は、ＵＶ等の活性エネルギー線硬化型接着剤であり、具体的には、エポキシ樹脂系ＵＶ硬化型接着剤であることができる。

粘着剤又は接着剤層２４の厚みは０．５～５０μｍとすることができる。

本明細書において、粘着剤とは、感圧式接着剤とも呼ばれるものである。一方、接着剤とは、粘着剤（感圧式接着剤）以外の接着剤をいい、粘着剤とは明確に区別される。

（位相差フィルム７０）
位相差フィルム７０は、一つの位相差板でもよく、複数の位相差板の積層体でもよい。位相差フィルム７０における少なくとも１つの位相差板が、上記の液晶位相差板１０である。位相差フィルム７０において、位相差フィルム７０における全ての位相差板が液晶位相差板１０であってもよい。液晶位相差板でない位相差板の例は、ＣＯＰ等の熱可塑性樹脂の延伸フィルムである。

偏光板に用いられる場合、位相差フィルム７０は少なくともλ／４板を含むことが好適である。

図５に、位相差フィルム７０が複数の位相差板を有する場合の例を示す。この位相差フィルム７０は、偏光板３０側から順に、λ／２板５０、粘着剤又は接着剤層２６、λ／４板６０を有する。また、位相差フィルムは、λ／４板、粘着剤又は接着剤層、ポジティブＣ板を有する構造でもよい。

各位相差板の厚みは、例えば、０．５～１５μｍ、０．５～１０μｍ、１～８μｍとすることができる。

粘着剤層又は接着剤層２６は、２つの位相差板を固定する。粘着剤層又は接着剤層２６の例は、上述の粘着剤又は接着剤層２４で説明したとおりである。粘着剤又は接着剤層２６の厚みは、０．５～５０μｍとすることができる。

（仮保護層８０）
フィルム１００は、さらに、図３に示すように、偏光板３０の上（視認側）に、仮保護層８０を備えることができる。仮保護層８０は、ＰＥＴ等の基材と、粘着層とを有することができ、ＥＬパネルなどへのフィルム１００の貼り付け後に、画像表示装置の使用の前などにフィルム１００から手などで容易に剥離することができる。

フィルム１００は、位相差フィルム７０の画像表示パネル側に、貼り付け用の粘着剤層２１を有していてもよい。粘着剤層としても上述のものを利用できる。さらに、この場合、粘着剤層２１の上に剥離可能なセパレータ２２を有していてもよい。

（光学積層体の他の積層形態）
本発明の実施形態に係るフィルムの積層体は上述の積層構造に限定されない。例えば、偏光板３０と仮保護層８０との間に、位相差板など他の層が設けられていてもよい。

上記のフィルムの用途の例は、反射防止フィルムであり、例えば、有機ＥＬパネルなどの画像表示装置に貼り付けられる。上記のフィルムは、画像表示装置用フィルムであることができる。

（貫通孔付きフィルムの製造方法）
続いて、貫通孔付きフィルムの製造方法について説明する。
（Ａ工程）
Ａ工程は、Ａ１工程と、当該Ａ１工程の後に行うＡ２工程と、を有する。

（Ａ１工程）
Ａ１工程では、図６の（ａ）に示すように、フィルムの積層体２００の厚み方向と平行にエンドミル３００の軸を配置した状態で、フィルムの積層体２００に対して、エンドミル３００を積層体２００の厚み方向に、積層体２００の厚みＴＨ未満の距離Ｌだけ相対移動させることにより、積層体２００に孔部２００Ｈ１を形成する。

各Ａ１工程で形成する孔部２００Ｈ１の軸方向長さ（相対移動距離）Ｌは１．５ｍｍ以下とすることができ、好ましくは、１．３ｍｍ以下であり、１．１ｍｍ以下としてもよい。軸方向長さＬの下限は、０．０５ｍｍ以上であることができ、０．１ｍｍ以上であることが好ましい。

Ａ１工程で形成する孔部２００Ｈ１の内径Ｄ１、言い換えると、エンドミル３００の刃部の径は、１．４ｍｍ以下であってよく、１．３ｍｍ以下であってもよく、１．０ｍｍ以上であってよく、１．１ｍｍ以上であってもよい。

Ａ１工程での積層体に対するエンドミル３００の相対送り速度は、３００～１５００ｍｍ／ｍｉｎとすることができる。

（Ａ２工程）
続いて、図６の（ｂ）に示すように、Ａ１工程後に、エンドミル３００を、Ａ１工程で形成した孔部２００Ｈ１の内周面にそって相対移動させて孔部２００Ｈ１の内径を拡大する。拡大後の内径Ｄ２は、１．１ｍｍ以上とすることができる。Ａ２行程での内径の拡大量は例えば０．１０～０．７８ｍｍとすることができる。

積層体２００と、エンドミル３００との相対移動のさせ方は、図６の（ｂ）及び（ｄ）に示すように渦巻き状としてもよいが、同心円状、すなわち、円形に動かした後、径方向外側に動かし、再び、円形に動かすことを繰り返してもよい。

（Ａ１工程及びＡ２工程の組み合わせの繰り返し）
続いて、このＡ１工程及びＡ２工程の組み合わせを２回以上繰り返す。これにより、先ず、図６の（ｃ）に示すように、Ａ１工程により内径Ｄ１を有する孔部２００Ｈ２が形成され、さらに、図６の（ｄ）に示すように、Ａ２工程により孔部２００Ｈ２の内径が拡大されて内径Ｄ２を有する孔部２００Ｈ２が形成される。このようにして、孔部２００Ｈｎの軸方向長さが少しずつ大きくなり、最後には、図７の（ａ）に示すように、内径Ｄ２の貫通孔２００ＨＴが形成される。繰返し回数は、軸方向の相対移動距離Ｌと、積層体２００の厚みＴＨとにより、貫通孔２００ＨＴが形成されるように定められる。

このようにして、厚みのある積層体２００に対して、Ａ１工程及びＡ２工程の組み合わせであるＡ工程を繰り返して貫通孔２００ＨＴを形成すると、得られる各フィルムにおける貫通孔の周りの変色が抑制される。この理由は明らかでは無いが、エンドミルでの切削深さを小さくできるため、切削加工時の孔内からの切削屑の排出性が向上し、発熱等による液晶位相差層のダメージが抑制されることが一因と考えられる。

（Ｂ工程）
Ｂ工程では、Ａ工程の繰り返しにより貫通孔２００ＨＴを形成した後に、図７の（ｂ）に示すように、必要に応じて、貫通孔２００ＨＴの内周面全体をエンドミル３００で更に切削する。Ｂ工程での切削厚みは０．０１ｍｍ以上とすることができ、０．１０ｍｍ以内とすることができる。

Ｂ工程での、貫通孔２００ＨＴの内周面に対するエンドミル３００の相対的な移動方向は、Ａ１工程と同様に、渦巻き状でも同心円状でもよい。

エンドミル３００の形態に特に限定はないが、図８の（ａ）、（ｂ）に示すように、エンドミル３００は、刃部３００ｂ及び柄（シャンク）部３００ａを有し回転の軸方向に伸びる柱状部３００ｚを備える。エンドミル３００は、刃部３００ｂの外周面及び底面に刃３００ｃが設けられていることが好適である。エンドミル３００の刃部３００ｂの長さ（Ｚ軸方向）は、積層体２００の厚みよりも長い、例えば、８ｍｍ以上であることが好適である。

Ａ１及びＡ２工程に用いるエンドミル３００の刃の外径は１．３ｍｍ以下とすることができ、１．０ｍｍ以上であってよく、１．１ｍｍ以上であってもよい。Ａ１工程とＡ２工程とで、同一のエンドミルを使用することが好ましいが、互いに異なるエンドミルを使用してもよい。

Ａ１工程、Ａ２工程、及びＢ工程において、エンドミル３００の回転方向は、切削屑がエンドミルの柄部３００ａ側に排出される方向とすることが好適である。これにより、孔部２００Ｈｎからの切削屑の排出がよりスムーズに行われて、貫通孔の周りの変色をより抑制できるという効果がある。

例えば、図８の（ａ）に示すように、エンドミルが右刃右ねじれ、すなわち、柄部３００ａ側から見て刃３００ｃが時計回りで柄部３００ａから刃部３００ｂの先端（底面）に向かうようにらせん状に形成され、かつ、逃げ面３００ｄが刃３００ｃより刃部３００ｂの先端側に設けられている場合には、エンドミル３００を柄部３００ａから見て時計回りに回転させると、加工屑排出方向が刃部３００ｂの先端から柄部３００ａに向かう方向となる。

図８の（ｂ）に示すように、エンドミル３００が左刃左ねじれ、すなわち、柄部３００ａ側から見て刃３００ｃが反時計回りで柄部３００ａから刃部３００ｂの先端に向かうようにらせん状に形成され、かつ、逃げ面３００ｄが刃３００ｃより刃部３００ｂの先端側に設けられている場合には、エンドミル３００を柄部３００ａから見て反時計回りに回転させると、加工屑排出方向は、刃部３００ｂの先端から柄部３００ａに向かう方向となる。

Ａ１工程、Ａ２工程、及びＢ工程において、図８に示すように、エンドミル３００の刃部３００ｂに対して、ドライアイススノー（粒子）を噴射することができる。ここで、エンドミル３００の軸に対して斜め、かつ、エンドミルの柄部３００ａから刃部３００ｂに向かう方向にドライアイススノーを噴射することが好適である。

これにより、切削時における刃部３００ｂに付着した屑の連続除去が可能となっており、これにより、切削時の発熱を抑制してより一層変色の抑制が可能となるという効果がある。

例えば、図８に示すように、ドライアイススノー供給手段に接続されたノズル４２０を介してエンドミル３００の刃部３００ｂにドライアイススノーを吹き付けると噴射方向ＥＪ（ノズル４２０の軸方向）を制御しやすくて好適である。エンドミル３００の軸と噴射方向ＥＪとがなす角（鋭角）αは５～８５°とすることができ、１０～６５°とすることが好適である。ノズル４２０は、エンドミル３００の移動時においても、エンドミル３００に追従して動くことが好適である。ノズル４２０の開口は円形であってよく、ノズル４２０の開口の径は１～１０ｍｍとすることができる。

衝突させるドライアイススノーの平均粒径は特に限定されないが、加工屑を効率よく除去する観点から１００μｍ以上であることが好ましい。また、積層体の傷の抑制の観点から、１０００μｍ以下であることが好ましい。ドライアイス粒子の平均粒径は、レーザドップラ流速計により測定できる。衝突させるドライアイス粒子の速度は、５ｍ／ｓｅｃ～１００ｍ／ｓｅｃとすることができる。

ドライアイスの搬送ガスは特に限定されず、例えば、窒素、空気、炭酸ガスとすることができる。

（得られる偏光板フィルム）
上記の方法により得られる貫通孔付きの積層体２００において、各フィルム１００は、図９に示すようにそれぞれ貫通孔１００ＨＴを有している。

貫通孔１００ＨＴの径は２．５ｍｍ以下、２．０ｍｍ以下、１．８ｍｍ以下、１．７ｍｍ以下、又は、１．５ｍｍ以上であってよい。貫通孔１００ＨＴの形状は真円に限定されず、長孔、楕円等でもよい。真円でない場合の径は、最大径で定義できる。

フィルム１００が、偏光子、及び、液晶位相差板（λ／４板等）を有する円偏光板である場合、貫通孔１００ＨＴの周りに形成される位相差ずれ領域Ｑの最大幅Ｗが３０μｍ以下である。幅Ｗは、図９に示すように、リング状の領域Ｑの径方向の幅である。

位相差ずれ領域Ｑとは、前述の変色部に対応し、円偏光板を偏光子が位相差板よりも上になるようにアルミニウムフィルムの上に置き、偏光顕微鏡を用いて、反射モードにて、円偏光板の厚みに垂直な方向から円偏光板の貫通孔のまわりを観察した画像において、明るさがその周りのクロスニコルの光遮光部Ｐに比べて明るく、白っぽく見える領域（位相差ずれ領域Ｑ）である。この色（明るさ）の変化は、位相差層の位相差がずれたことにより、アルミニウムフィルムでの反射光を遮光できなかったことを意味する。

具体的には、貫通孔の周りの可視光の画像データに基づいて、位相差ずれ領域Ｑを同定することができる。まず、貫通孔周囲から５００～１０００μｍ離れた光遮光部（クロスニコル部）Ｐの画素の平均の明度（明るさ）Ｍｘを基準値とする。貫通孔の周り（貫通孔周囲から５００μｍ未満の領域）に、Ｍｘに対して１．２倍以上の明度（明るさ）を有する画素の領域が存在すれば、その画素よりも内側の領域は、位相差ずれ領域Ｑと認定される。Ｍｘに対して１．２倍以上の明度（明るさ）を有する画素の領域は、貫通孔の中心を基準に貫通孔の周囲に１８０度以上の角度にわたって貫通孔を取り囲むように存在していてもよく、当該貫通孔を取り囲む領域中の画素の明度（明るさ）の最大がＭｘの１．５倍以上であってもよい。

画像データは、例えば次の機器、条件で取得することができる。偏光顕微鏡として、オリンパス株式会社製のＢＸ５１を使用することができる。反射光源は、１２Ｖ１００ＷハロゲンランプハウスであるＵ－ＬＨ１００－３であることができる。対物レンズの倍率は、５倍であることができる。画像の明度（明るさ）は、露光量と露光時間とに依存する。変色部が識別されやすいように、露光量と露光時間とは、用いる機器等に応じて適切に選択されることができる。例えば、オリンパス株式会社製のＢＸ５１を使用する場合、露光量は、顕微鏡のつまみを調節することで変更できる。露光量は、最大の露光量を１００％とし、最小の露光量を０％とした場合、５０～１００％であることができる。露光時間は、２５～１２５ｍｓであることができる。

画像データにおいて、光遮光部Ｐの平均の明度（明るさ）は、０～２５５の階調の中の４８～５８（平均５２）の範囲内にあることが好ましい。画像データの画素の明度はＲＧＢデータから取得でき、例えば、ＷＩＮＤＯＷＳ（登録商標）ペイントソフトを使用して明度を取得できる。

貫通孔の周囲の半径方向幅３０μｍの環状領域は偏光機能を有する、すなわち、可視光を遮光することができる。具体的には、この円偏光板に対して、別の直線偏光板を、円偏光板の偏光子の吸収軸と、直線偏光板の吸収軸とがクロスニコルとなるように、かつ、円偏光板の偏光子側に重ねると、貫通孔の周囲の幅３０μｍの環状領域はその周りの領域（光遮光部Ｐ）と同程度に可視光を遮光できる。なお、レーザーで貫通孔を形成した場合、貫通孔の周囲の幅３０μｍの環状領域は偏光機能を有さず可視光を遮光しない。また、この測定の際には、円偏光板における仮保護層やセパレータは予め剥離しておくことが好適である。

具体的には、貫通孔の周りにおける、透過像の可視光の画像データに基づいて、貫通孔の周囲の幅３０μｍの環状領域の偏光機能を評価することができる。まず、円偏光板に対して、別の直線偏光板を、円偏光板の偏光子の吸収軸と、直線偏光板の吸収軸とがクロスニコルとなるように、かつ、円偏光板の偏光子側に重ねる。貫通孔周囲から５００～１０００μｍ離れた光遮光部（クロスニコル部）Ｐの画素の平均の明度（明るさ）Ｍｘ２を基準値とする。貫通孔の周囲の幅３０μｍの環状領域で平均した明度がＭｘ２に対して１．２倍未満であれば、貫通孔の周囲の幅３０μｍの環状領域は偏光機能を有するということができる。貫通孔の周囲の幅３０μｍの環状領域で平均した明度はＭｘ２に対して１．１倍以下であってもよい。下限は特に限定されない。貫通孔の周囲の幅３０μｍの環状領域で平均した明度はＭｘ２に対して０．８倍以上であることができる。

上記の画像データにおいて、光遮光部Ｐの平均の明度（明るさ）は、０～２５５の階調の中の４８～５８（平均５２）の範囲内にあることが好ましい。同様に、貫通孔の周囲の幅３０μｍの環状領域の平均の明度（明るさ）は、０～２５５の階調の中の４８～５８（平均５２）の範囲内にあることが好ましい。

（実施例１）
（フィルムの用意）
下記の構成を有するフィルム１００を用意した。フィルム１００の厚みは２００μｍであった。

ＰＥＴ仮保護層／トリアセチルセルロース層／ヨウ素染色ポリビニルアルコール層（偏光子）／トリアセチルセルロース層／アクリル系粘着剤層／液晶位相差板（λ／２板）／アクリル系粘着剤層／液晶位相差板（λ／４板）／粘着剤層／セパレータ層
上記フィルムを３５枚重ねて厚み７ｍｍの積層体を得た。

（貫通孔の形成）
刃部の外径１．１ｍｍかつ刃部の長さ１０ｍｍのエンドミルで、距離Ｌを１．５ｍｍとしてＡ１工程を行い、内径Ｄ２を２．０ｍｍとしてＡ２工程を行い、Ａ１及びＡ２工程を含むＡ工程を５回繰り返して内径２．０ｍｍの貫通孔を積層体に形成した。

（実施例２～５）
Ａ２工程での内径を、１．８ｍｍ、１．７ｍｍ、１．６ｍｍ、１．５ｍｍとする以外は、実施例１と同様とした。

（比較例１～５）
Ａ１工程での距離Ｌを１０ｍｍとして貫通させ、Ａ工程を一回のみ行う以外は、実施例１～５と同じとした。

（評価）
（変色領域の幅の測定）
円偏光板を、位相差板よりも偏光子が上となるようにアルミニウムフィルムの上に置き、偏光顕微鏡を用いて、反射モードにて、円偏光板の厚みに垂直な方向から円偏光板の貫通孔のまわりを観察した画像データを取得し、前述の基準に従って位相差ずれ領域Ｑの有無を判断し、位相差ずれ領域Ｑの最大幅Ｗ等を測定した。画像撮影時は、つまみを調節し、露光量が７０～１００％となるようにした。また、露光時間は４０～６０ｍｓとした。

（偏光解消部の有無）
ＰＥＴ仮保護層を剥離した円偏光板に対して、別の直線偏光板を、円偏光板の偏光子の吸収軸と、直線偏光板の吸収軸とがクロスニコルとなるように、かつ、円偏光板の偏光子側に配置して、顕微鏡により画像データを取得し、前述の基準で判断したところ、いずれの実施例及び比較例においても、貫通孔の周囲から幅３０μｍの環状領域内は偏光機能を有すると判断された。

結果を表１に示す。

実施例では、貫通孔の周りの変色を抑制できることが確認された。

２００…積層体、１０…液晶位相差板、３６…偏光子、８０…仮保護層、３００…エンドミル、３００ａ…柄部、３００ｂ…刃部、１００…フィルム（円偏光板）、２００Ｈ１，２００Ｈ２…孔部、２００ＨＴ…貫通孔、１４０…プロテクトフィルム、２００Ｈ１，２００Ｈ２…孔部、２００ＨＴ…貫通孔、Ｄ１，Ｄ２…内径、Ｌ…距離、Ｑ…領域、Ｗ…幅。

Claims

フィルムの積層体の厚み方向と平行にエンドミルの軸を配置した状態で、前記エンドミルを前記積層体の厚み方向に、前記積層体の厚み未満の距離だけ相対移動させることにより、前記積層体に孔部を形成するＡ１工程と、
前記Ａ１工程後に、エンドミルを、前記孔部の内周面にそって相対移動させて前記孔部の内径を拡大するＡ２工程と、を順に行うＡ工程を備え、
各前記フィルムは液晶位相差板を含み、
前記Ａ工程を２回以上繰り返して前記積層体に貫通孔を形成し、
各前記Ａ１工程における前記相対移動の距離が１．５ｍｍ以下である、貫通孔付きフィルムの製造方法。
前記Ａ工程を２回以上繰り返して前記積層体に貫通孔を形成した後に、貫通孔の内周面全体をエンドミルで更に０．０１～０．１０ｍｍの厚みで切削するＢ工程を更に含む、請求項１に記載の方法。
前記Ａ１工程及び前記Ａ２工程において、前記積層体の屑が前記エンドミルの柄部側に向かって排出されるように前記エンドミルを回転させる、請求項１又は２に記載の方法。
前記Ａ１工程及び前記Ａ２工程において、前記エンドミルの軸に対して斜め、かつ、前記エンドミルの柄部から刃部に向かう方向にドライアイススノーを噴射する、請求項１～３のいずれか一項に記載の方法。
各前記フィルムはさらに偏光子を含む、請求項１～４のいずれか一項に記載の方法。
前記フィルムは、画像表示装置用フィルムである、請求項１～５のいずれか一項に記載の方法。