CN116060672A - 带贯通孔的膜的制造方法和圆偏振板 - Google Patents

Abstract

本发明提供能够降低贯通孔周围的变色的带贯通孔的膜的制造方法和圆偏振板。本发明还提供上述圆偏振板的层叠体。一种带贯通孔的膜的制造方法，具备依次进行以下工序的A工序：A1工序，其在与膜的层叠体200的厚度方向平行地配置立铣刀(300)的轴的状态下，使立铣刀在层叠体的厚度方向上相对移动小于层叠体的厚度的距离L，由此在层叠体形成孔部(200H1)；以及A2工序，其在A1工序后，使立铣刀沿着孔部(200H1)的内周面相对移动，从而扩大孔部的内径。各膜包括液晶相位差板，将A工序重复2次以上而在层叠体形成贯通孔。

Description

带贯通孔的膜的制造方法和圆偏振板

技术领域

本发明涉及带贯通孔的膜的制造方法和圆偏振板。

背景技术

近年来，智能电话等图像显示装置的摄像孔的小径化正在发展，例如，存在对偏振板设置直径为2～3mm左右的贯通孔的情况。作为在偏振板形成小径的贯通孔的方法，有激光加工和立铣刀加工。

现有技术文献

专利文献

[专利文献1]日本特开2017-151162号公报

[专利文献2]日本特开2017-083878号公报

[专利文献3]日本特开2020-149034号公报

[专利文献4]日本特开2020-149033号公报

发明内容

发明要解决的课题

在激光加工中，容易减小贯通孔的直径，但存在因激光的热等而使偏振片改性，并在贯通孔周围必然形成不具有偏振性能的消偏振部的问题。

另一方面，在立铣刀加工中，虽然在贯通孔周围不易形成消偏振部，但明确了若贯通孔的直径变小，则存在在贯通孔周围形成变色部的情况。

本发明是鉴于上述课题而完成的，其目的在于提供能够降低贯通孔周围的变色的带贯通孔的膜的制造方法和圆偏振板。

用于解决课题的手段

本发明的一个方面的带贯通孔的膜的制造方法具备依次进行以下工序的A工序：

A1工序，其在与膜的层叠体的厚度方向平行地配置立铣刀的轴的状态下，使上述立铣刀在上述层叠体的厚度方向上相对移动小于上述层叠体的厚度的距离，由此在上述层叠体形成孔部；以及

A2工序，其在上述A1工序后，使立铣刀沿着上述孔部的内周面相对移动，从而扩大上述孔部的内径。

各上述膜包括液晶相位差板。该方法中，将上述A工序重复2次以上而在上述层叠体形成贯通孔。

各上述A1工序中的上述相对移动的距离可以为1.5mm以下。

上述方法可以还包括以下的B工序：在将上述A工序重复2次以上而在上述层叠体形成贯通孔后，进一步用立铣刀以0.01～0.10mm的厚度对贯通孔的内周面整体进行切削。

在上述A1工序和上述A2工序中，可以使上述立铣刀旋转，以使得上述层叠体的屑朝向上述立铣刀的柄部侧排出。

在上述A1工序和上述A2工序中，可以在相对于上述立铣刀的轴倾斜且从上述立铣刀的柄部朝向刃部的方向上喷射干冰雪。

各上述膜可以进一步包括偏振片。

上述膜可以是图像显示装置用膜。

本发明的一个方面的圆偏振板是依次具备在至少一个面赋予了保护膜的偏振片、以及液晶相位差板的圆偏振板，

上述圆偏振板具有2.5mm以下的直径的贯通孔，

位于上述贯通孔周围的相位差偏离区域Q的最大宽度为30μm以下。

从上述贯通孔周围起宽度30μm的环状区域可以具有偏振功能。

本发明的一个方面的层叠体是上述圆偏振板的层叠体。

发明效果

根据本发明，可提供能够降低贯通孔周围的变色的带贯通孔的膜的制造方法和圆偏振板。

附图说明

[图1]图1是表示膜100的层叠体200的一例的端面图。

[图2]图2是表示液晶相位差板10的一例的端面图。

[图3]图3是表示膜100的一例的端面图。

[图4]图4的(a)～(c)是表示偏振板30的一例的端面图。

[图5]图5是表示相位差膜70的一例的端面图。

[图6]图6的(a)～(d)是依次表示对膜100的层叠体200进行的A1工序、A2工序、A1工序、A2工序的示意立体图。

[图7]图7的(a)是表示在层叠体200形成有贯通孔200HT的状态的示意立体图，图7的(b)是表示对贯通孔200HT进行B工序的状态的示意立体图。

[图8]图8(a)和(b)是表示立铣刀的旋转方向与加工屑排出方向的关系、以及干冰雪的喷送方向的侧视图。

[图9]图9是膜的贯通孔100HT的周围的放大图。

附图标记说明

200…层叠体；10…液晶相位差板；36…偏振片；80…临时保护层；300…立铣刀；300a…柄部；300b…刃部；100…膜(圆偏振板)；200H1、200H2…孔部；200HT…贯通孔；140…防护膜；200H1、200H2…孔部；200HT…贯通孔；D1、D2…内径；L…距离；Q…区域；W…宽度。

具体实施方式

参照附图，对本发明的实施方式进行说明。

(膜的层叠体)

首先，如图1所示，准备膜100的层叠体200。各膜100可以是单层膜，也可以是层叠膜。层叠体200的厚度可以为3mm以上、4mm以上、5mm以上、6mm以上，可以为20mm以下，可以为15mm以下，也可以为10mm以下。层叠体200的两个表面可以具有PET等防护膜140。各膜100的厚度可以为30～500μm。

(膜)

各膜100包括液晶相位差板。液晶相位差板的例子示于图2。液晶相位差板10具有取向的聚合性液晶化合物的固化物层(以下，有时称为液晶相位差层)14，可以进一步具有与固化物层14接触的取向层12。

所谓聚合性液晶化合物，是具有聚合性官能团(优选光聚合性官能团)的液晶化合物。

所谓光聚合性官能团，是指可利用由光聚合引发剂产生的活性自由基、酸等参与聚合反应的基团。作为光聚合性官能团，可举出乙烯基、乙烯氧基、1-氯乙烯基、异丙烯基、4-乙烯基苯基、丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、环氧乙烷基、氧杂环丁烷基等。

聚合性液晶化合物的种类没有特别限定，可以使用棒状液晶化合物、圆盘状液晶化合物以及它们的混合物。液晶化合物的液晶性可以是热致性液晶，也可以是溶致性液晶，但基于能够进行致密的膜厚控制的方面，优选热致性液晶。另外，作为热致性液晶中的相有序结构，可以是向列型液晶，也可以是近晶型液晶。在聚合中可以使用适当的光聚合引发剂等。

液晶相位差板可以具有随着波长变大而面内相位差变小的顺波长分散性，也可以具有随着波长变大而面内相位差变大的逆波长分散性。

聚合性液晶化合物的固化物层14的厚度例如可以设为0.5～10μm、0.5～8μm、1～5μm。

取向层12可用于在聚合性液晶化合物的固化物层14的制造时使聚合性液晶化合物取向。取向层12没有特别限定，可以是PVA等树脂的摩擦(日文：ラビング)膜，也可以是用偏振光等将光聚合性树脂膜聚合而得的光取向膜。取向层12的厚度例如可以设为10～5000nm、10～1000nm、10～500nm、10～300nm。

聚合性液晶化合物的例子、在聚合性液晶化合物的固化物层中根据需要配合的聚合引发剂等副成分、取向层的材料、以及它们的制法是公知的，例如在日本特开2017-167517号公报、日本专利5463666号公报、日本特开2016-121339号公报、日本特开2018-087152号公报、日本专利6700468号公报、日本特开2020-074021号公报中公开。液晶相位差板为正C板时的垂直取向层的例子在日本特开2016-028284号公报等文献中公开。

取向层12和固化物层14的层叠顺序没有特别限定。另外，如果液晶相位差板10至少具有取向的聚合性液晶化合物的固化物层，则例如，液晶相位差板10是去除了取向层而得的结构等，其也可以不具有取向层。另外，液晶相位差板10也可以具有除了固化物层和取向层以外的其他层。

液晶相位差板的例子为λ/4板、λ/2板、正C板等。λ/4板可以在波长550nm处具有50～200nm的面内相位差。各相位差板各自独立地可以具有顺波长分散性，也可以具有逆波长分散性。

液晶相位差板10的厚度没有限定，例如可以设为0.5～15μm、0.5～10μm、1～8μm。

(膜的结构)

包含液晶相位差板10的膜100的例子是圆偏振板。图3是一个实施例的膜100的概略截面图。该膜100依次具有偏振板30、粘合剂或粘接剂层24、以及包含液晶相位差板10的相位差膜70。

(偏振板(直线偏振板)30)

偏振板30包含偏振片。偏振片的一例是含有碘等二色性色素的拉伸聚乙烯醇系树脂。在该情况下，如图4的(a)所示，偏振板30可以具有第1保护膜32、偏振片36、第2保护膜38的构成。保护膜至少位于偏振片36的一侧即可。第1保护膜32和第2保护膜38的例子是三乙酰纤维素膜、环烯烃聚合物膜。

偏振片36为拉伸PVA时的厚度通常为5～60μm。保护膜的厚度通常为10～100μm。

偏振片36的其他例子是包含取向的聚合性液晶化合物的固化物和二色性色素、且二色性色素在液晶化合物的固化物中分散并取向的偏振片。将该情况下的偏振板30的例子示于图4的(b)和(c)。在图4的(b)中，偏振板30依次具有第1保护膜32、取向层34、偏振片36和第2保护膜38。在图4的(c)中，偏振板30依次具有第1保护膜32、偏振片36、取向层34和第2保护膜38。保护膜至少位于偏振片的一侧即可。

液晶型的情况下的偏振片36的厚度通常为10μm以下，优选为0.5μm以上且8μm以下，更优选为1μm以上且5μm以下。

对于聚合性液晶化合物，可以利用在相位差板的项中说明的化合物。作为用于偏振片的聚合性液晶化合物，相比于向列型液晶化合物，优选近晶型液晶化合物，更优选高阶近晶型液晶化合物。其中，更优选形成近晶型B相、近晶型D相、近晶型E相、近晶型F相、近晶型G相、近晶型H相、近晶型I相、近晶型J相、近晶型K相或近晶型L相的高阶近晶型液晶化合物，进一步优选形成近晶型B相、近晶型F相或近晶型I相的高阶近晶型液晶化合物。在聚合中可以适当使用光聚合引发剂等。

所谓二色性色素，是指具有分子的长轴方向上的吸光度与短轴方向上的吸光度不同的性质的色素。

作为二色性色素，优选在300～700nm的范围具有吸收极大波长(λMAX)的二色性色素。作为这样的二色性色素，可举出例如吖啶色素、噁嗪色素、花青色素、萘色素、偶氮色素和蒽醌色素等，其中优选偶氮色素。作为偶氮色素，可举出单偶氮色素、双偶氮色素、三偶氮色素、四偶氮色素和芪偶氮色素等，优选双偶氮色素和三偶氮色素。二色性色素可以单独，也可以组合，但优选组合3种以上的二色性色素，更优选组合3种以上的偶氮色素。

取向层34是用于使在制造偏振片36时形成偏振片36的聚合性液晶化合物取向的层，与偏振片36接触。取向层34的材料没有特别限定，可以是PVA等树脂的摩擦层、对具有光取向性基团的聚合体层照射偏振光等使其取向而得的光取向膜。取向层34的厚度没有限定，但取向层的厚度通常为10～10000nm的范围，优选为10～1000nm的范围，进一步优选为50～200nm的范围。

取向层、聚合性液晶化合物、二色性色素的材料没有特别限定，可以利用公知的材料。这些材料的例子和制法例如在日本特开2017-167517号公报、日本特开2013-37353号公报、日本特开2013-33249号公报、日本特开2017-83843号公报、WO2020/122117号公报、WO2020/179864号公报中公开。

第1保护膜32和第2保护膜38是保护液晶型偏振片36的层，并且可以具有抑制偏振片36中的二色性色素向外部扩散、抑制氧等从外部向偏振片36扩散等功能。第1保护膜32和第2保护膜38可以是聚乙烯醇系树脂的固化物。第1保护膜32和第2保护膜38可以是相同种类的材料，也可以是不同的材料。

聚乙烯醇系树脂的固化物的例子是聚乙烯醇系树脂与交联剂的固化物、以及具有聚合性官能团的聚乙烯醇系树脂的固化物。

聚乙烯醇系树脂的例子是部分皂化聚乙烯醇、完全皂化聚乙烯醇、以及羧基改性聚乙烯醇、乙酰乙酰基改性聚乙烯醇、羟甲基改性聚乙烯醇、以及氨基改性聚乙烯醇等改性聚乙烯醇系树脂。

聚乙烯醇系树脂的皂化度通常为85摩尔％以上且100摩尔％以下左右，优选为90摩尔％以上，可以为95摩尔％以上，也可以为98摩尔％以上。

聚乙烯醇系树脂的平均聚合度通常为1000以上且5000以下，优选为1500以上且3000以下，可以为2000以下，也可以为1500以下。

相对于未固化物的固体成分的质量，聚乙烯醇系树脂在聚乙烯醇系树脂的未固化物中所占的含量优选为85质量％以上，更优选为90质量％以上，进一步优选为95质量％以上，可以为100质量％。

交联剂的例子为胺化合物、醛化合物、羟甲基化合物、水溶性环氧树脂、异氰酸酯化合物、多价金属盐。特别是，以乙二醛为首的醛化合物、以羟甲基三聚氰胺为首的羟甲基化合物、水溶性环氧树脂是优选的。水溶性环氧树脂例如可以是使表氯醇与聚酰胺多胺反应而得到的聚酰胺环氧树脂，该聚酰胺多胺是二亚乙基三胺、三亚乙基四胺等聚亚烷基多胺与己二酸等二羧酸的反应产物。

在聚乙烯醇系树脂具有聚合性官能团的情况下，即使不具有交联剂，也可以通过加热等得到固化物。聚合性官能团的例子为乙烯基、乙烯氧基、1-氯乙烯基、异丙烯基、4-乙烯基苯基、丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、环氧乙烷基、氧杂环丁烷基。

聚乙烯醇系树脂的固化物可以通过将聚乙烯醇系树脂和根据需要的添加剂等溶解于溶剂、涂布在基材上并进行干燥而得到。

第1保护膜32和第2保护膜38的厚度可以设为1～100μm。

(粘合剂或粘接剂层24)

在图3中，粘合剂或粘接剂层24将偏振板30与相位差膜70固定。粘合剂或粘接剂层24没有特别限定。

粘合剂的例子可举出橡胶系粘合剂、丙烯酸系粘合剂、硅酮系粘合剂、氨基甲酸酯系粘合剂、乙烯基烷基醚系粘合剂、聚乙烯醇系粘合剂、聚乙烯吡咯烷酮系粘合剂、聚丙烯酰胺系粘合剂、纤维素系粘合剂等。

这些之中，从透明性、耐候性、耐热性等观点出发，优选为丙烯酸系粘合剂。

粘接剂的例子是UV等活性能量射线固化型粘接剂，具体而言，可以是环氧树脂系UV固化型粘接剂。

粘合剂或粘接剂层24的厚度可以设为0.5～50μm。

在本说明书中，所谓粘合剂，也称为压敏式粘接剂。另一方面，所谓粘接剂，是指粘合剂(压敏式粘接剂)以外的粘接剂，与粘合剂明确地区分。

(相位差膜70)

相位差膜70可以是一个相位差板，也可以是多个相位差板的层叠体。

相位差膜70中的至少一个相位差板为上述液晶相位差板10。在相位差膜70中，相位差膜70中的所有相位差板可以是液晶相位差板10。不是液晶相位差板的相位差板的例子是COP等热塑性树脂的拉伸膜。

在用于偏振板的情况下，相位差膜70优选至少包含λ/4板。

图5表示相位差膜70具有多个相位差板的情况的例子。该相位差膜70从偏振板30侧依次具有λ/2板50、粘合剂或粘接剂层26、λ/4板60。另外，相位差膜也可以是具有λ/4板、粘合剂或粘接剂层、正C板的结构。

各相位差板的厚度例如可以设为0.5～15μm、0.5～10μm、1～8μm。

粘合剂层或粘接剂层26将两个相位差板固定。粘合剂层或粘接剂层26的例子如上述粘合剂或粘接剂层24所说明的那样。粘合剂或粘接剂层26的厚度可以设为0.5～50μm。

(临时保护层80)

如图3所示，膜100还可以在偏振板30之上(视觉辨认侧)具备临时保护层80。临时保护层80可以具有PET等基材和粘合层，并且在将膜100粘贴至EL面板等之后，在图像显示装置的使用之前等，临时保护层80可以用手等容易地从膜100剥离。

膜100可以在相位差膜70的图像显示面板侧具有粘贴用的粘合剂层21。作为粘合剂层，可以利用上述的那些。此外，在该情况下，也可以在粘合剂层21之上具有能够剥离的间隔件22。

(光学层叠体的其他层叠方式)

本发明的实施方式的膜的层叠体不限于上述的层叠结构。例如，也可以在偏振板30与临时保护层80之间设置相位差板等其他层。

上述膜的用途的例子是防反射膜，例如，可粘贴于有机EL面板等图像显示装置。上述膜可以是图像显示装置用膜。

(带贯通孔的膜的制造方法)

接下来，对带贯通孔的膜的制造方法进行说明。

(A工序)

A工序具有A1工序以及在该A1工序之后进行的A2工序。

(A1工序)

在A1工序中，如图6的(a)所示，在与膜的层叠体200的厚度方向平行地配置了立铣刀300的轴的状态下，使立铣刀300相对于膜的层叠体200在层叠体200的厚度方向上相对移动小于层叠体200的厚度TH的距离L，由此在层叠体200形成孔部200H1。

在各A1工序中形成的孔部200H1的轴向长度(相对移动距离)L可以设为1.5mm以下，优选为1.3mm以下，也可以设为1.1mm以下。轴向长度L的下限可以为0.05mm以上，优选为0.1mm以上。

在A1工序中形成的孔部200H1的内径D1，换言之，立铣刀300的刃部的直径可以为1.4mm以下，也可以为1.3mm以下，可以为1.0mm以上，也可以为1.1mm以上。孔部200H1的形状不限于正圆，也可以是长孔、椭圆等。不是正圆时的内径D1可以用最大直径定义。

A1工序中的立铣刀300相对于层叠体的相对进给速度可以设为300～1500mm/分钟。

(A2工序)

接下来，如图6的(b)所示，在A1工序后，使立铣刀300沿着在A1工序中形成的孔部200H1的内周面相对移动，从而扩大孔部200H1的内径。扩大后的内径D2可以设为1.1mm以上。在A2工序中的内径的扩大量例如可以设为0.10～0.78mm。孔部200H1的形状不限于正圆，也可以是长孔、椭圆等。不是正圆时的内径D2可以用最大直径定义。

如图6的(b)和(d)所示，层叠体200与立铣刀300的相对移动的方式可以设为涡旋状，也可以重复以下操作：在同心圆状、即圆形地移动后，向径向外侧移动，再次圆形地移动。

(A1工序和A2工序的组合的重复)

接下来，将该A1工序和A2工序的组合重复2次以上。由此，首先，如图6的(c)所示，通过A1工序形成具有内径D1的孔部200H2，进而，如图6的(d)所示，通过A2工序扩大孔部200H2的内径而形成具有内径D2的孔部200H2。这样，孔部200Hn的轴向长度一点一点地变大，最后，如图7的(a)所示，形成内径D2的贯通孔200HT。重复次数根据轴方向的相对移动距离L和层叠体200的厚度TH来确定，以形成贯通孔200HT。重复次数可以为3次以上，也可以为100次以下，也可以为10次以下。

这样，对于具有厚度的层叠体200，将A1工序和A2工序的组合即A工序重复而形成贯通孔200HT时，所得到的各膜中的贯通孔周围的变色得以抑制。虽然其理由不明确，但据认为一个原因是：与不重复A工序而形成贯通孔200HT的情况相比，能够减小每1次A1工序用立铣刀的切削深度，因而切削加工时的切削屑从孔内的排出性提升，由发热等引起的对液晶相位差层的损伤得以抑制。

(B工序)

在B工序中，通过A工序的重复形成贯通孔200HT后，如图7的(b)所示，根据需要，用立铣刀300进一步对贯通孔200HT的内周面整体进行切削。B工序中的切削厚度可以设为0.01mm以上，可以设为0.10mm以内。

在B工序中的、立铣刀300相对于贯通孔200HT的内周面的相对移动方向与A1工序同样地可以为涡旋状，也可以为同心圆状。

立铣刀300的形态没有特别限定，如图8的(a)、(b)所示，立铣刀300具备柱状部300z，该柱状部300z具有刃部300b和柄(刀柄)部300a并在旋转的轴方向上延伸。立铣刀300优选在刃部300b的外周面和底面设置有刃300c。立铣刀300的刃部300b的长度(Z轴方向)可以比层叠体200的厚度更长。立铣刀300的刃部300b的长度(Z轴方向)例如优选为8mm以上。

用于A1和A2工序的立铣刀300的刃的外径可以设为1.3mm以下，可以为1.0mm以上，也可以为1.1mm以上。在A1工序和A2工序中，优选使用相同的立铣刀，但也可以使用相互不同的立铣刀。

在A1工序、A2工序和B工序中，立铣刀300的旋转方向优选设为切削屑向立铣刀的柄部300a侧排出的方向。由此，具有以下效果：更加顺利地进行切削屑从孔部200Hn的排出，从而能够更加抑制贯通孔周围的变色。

例如，如图8的(a)所示，在立铣刀为右刃右扭转、即、从柄部300a侧观察时刃300c顺时针地以从柄部300a朝向刃部300b的前端(底面)的方式形成为螺旋状、并且后刀面300d设置于比刃300c更靠刃部300b的前端侧的情况下，若使立铣刀300从柄部300a观察时顺时针旋转，则加工屑排出方向为从刃部300b的前端朝向柄部300a的方向。

如图8的(b)所示，在立铣刀300为左刃左扭转、即、从柄部300a侧观察时刃300c逆时针地以从柄部300a朝向刃部300b的前端的方式形成为螺旋状、并且后刀面300d设置于比刃300c更靠刃部300b的前端侧的情况下，若使立铣刀300从柄部300a观察时逆时针旋转，则加工屑排出方向为从刃部300b的前端朝向柄部300a的方向。

在A1工序、A2工序和B工序中，如图8所示，可以对立铣刀300的刃部300b喷射干冰雪(粒子)。在此，优选在相对于立铣刀300的轴倾斜且从立铣刀的柄部300a朝向刃部300b的方向上喷射干冰雪。

由此，能够连续去除附着于切削时的刃部300b的屑，由此，具有抑制切削时的发热从而能够更进一步抑制变色的效果。

例如，如图8所示，若经由与干冰雪供给机构连接的喷嘴420向立铣刀300的刃部300b喷吹干冰雪，则易于控制喷射方向EJ(喷嘴420的轴方向)，是优选的。立铣刀300的轴与喷射方向EJ所成的角(锐角)α可以设为5～85°，优选设为10～65°。喷嘴420优选即使在立铣刀300移动时也追随立铣刀300移动。喷嘴420的开口可以为圆形，喷嘴420的开口的直径可以设为1～10mm。

进行碰撞的干冰雪的平均粒径没有特别限定，但从高效地去除加工屑的观点出发，优选为100μm以上。另外，从抑制层叠体损伤的观点出发，优选为1000μm以下。干冰粒子的平均粒径可以通过激光多普勒流速计来测定。进行碰撞的干冰粒子的速度可以设为5m/秒～100m/秒。

干冰的输送气体没有特别限定，例如可以设为氮、空气、二氧化碳气体。

(所得到的偏振板膜)

在通过上述方法得到的带贯通孔的层叠体200中，如图9所示，各膜100分别具有贯通孔100HT。

贯通孔100HT的直径可以是2.5mm以下、2.0mm以下、1.8mm以下、1.7mm以下、或者1.5mm以上。贯通孔100HT的形状不限于正圆，也可以是长孔、椭圆等。不是正圆时的直径可以用最大直径定义。

在膜100是具有偏振片和液晶相位差板(λ/4板等)的圆偏振板的情况下，形成于贯通孔100HT的周围的相位差偏离区域Q的最大宽度W为30μm以下。如图9所示，宽度W是环状区域Q的径向宽度。

所谓相位差偏离区域Q，是如下区域：与上述变色部对应，将圆偏振板以偏振片位于相位差板的上方的方式放置在铝膜之上，使用偏光显微镜，以反射模式从与圆偏振板的厚度垂直的方向观察圆偏振板的贯通孔周围而得的图像中，明亮度比其周围的正交偏振(日文：ク口ス二コル)的光遮光部P更亮的、看起来发白的区域(相位差偏离区域Q)。该颜色(明亮度)的变化意指由于相位差层的相位差偏移而无法遮挡铝膜处的反射光。

具体而言，能够基于贯通孔周围的可见光的图像数据鉴定相位差偏离区域Q。首先，将从贯通孔周围开始远离500～1000μm的光遮光部(正交偏振部)P的像素的平均亮度(明亮度)Mx设为基准值。如果在贯通孔周围(距离贯通孔周围小于500μm的区域)存在具有1.2倍以上的Mx的亮度(明亮度)的像素的区域，则比该像素更靠内侧的区域被认定为相位差偏离区域Q。具有1.2倍以上的Mx的亮度(明亮度)的像素的区域可以以如下方式存在：以贯通孔的中心作为基准在贯通孔周围遍及180度以上的角度地围绕贯通孔，且围绕该贯通孔的区域中的像素的亮度(明亮度)的最大可以为Mx的1.5倍以上。

图像数据例如可以在以下设备、条件下取得。作为偏光显微镜，可以使用奥林巴斯株式会社制的BX51。反射光源可以是作为12V100W卤素灯罩的U-LH100-3。物镜的倍率可以是5倍。图像的亮度(明亮度)取决于曝光量和曝光时间。

为了易于识别变色部，曝光量和曝光时间可以根据所用的设备等适当地选择。例如，在使用奥林巴斯株式会社制的BX51的情况下，曝光量可以通过调节显微镜的旋钮来变更。在将最大曝光量设为100％、将最小曝光量设为0％的情况下，曝光量可以为50～100％。曝光时间可以为25～125ms。

在图像数据中，光遮光部P的平均亮度(明亮度)优选在0～255的灰度中的48～58(平均52)的范围内。图像数据的像素的亮度可以从RGB数据取得，例如可以使用WINDOWS(注册商标)绘制软件取得亮度。

贯通孔周围的半径方向宽度30μm的环状区域可以具有偏振功能，即遮挡可见光。具体而言，对于该圆偏振板，如果将其他的直线偏振板重叠在圆偏振板的偏振片侧，且使得圆偏振板的偏振片的吸收轴与直线偏振板的吸收轴成为正交偏振，则贯通孔周围的宽度30μm的环状区域可以与其周围的区域(光遮光部P)相同程度地遮挡可见光。需要说明的是，在用激光形成贯通孔的情况下，贯通孔周围的宽度30μm的环状区域不具有偏振功能，不遮挡可见光。另外，在该测定时，圆偏振板中的临时保护层、间隔件优选预先剥离。

具体而言，可以基于贯通孔周围的、透射像的可见光的图像数据，而对贯通孔周围的宽度30μm的环状区域的偏振功能进行评价。首先，对于圆偏振板，将其他的直线偏振板重叠在圆偏振板的偏振片侧，且使得圆偏振板的偏振片的吸收轴与直线偏振板的吸收轴成为正交偏振。将从贯通孔周围开始远离500～1000μm的光遮光部(正交偏振部)P的像素的平均亮度(明亮度)Mx2设为基准值。如果贯通孔周围的宽度30μm的环状区域中进行平均而得的亮度小于Mx2的1.2倍，则可以说贯通孔周围的宽度30μm的环状区域具有偏振功能。贯通孔周围的宽度30μm的环状区域中进行平均而得的亮度可以是Mx2的1.1倍以下。下限没有特别限定。贯通孔周围的宽度30μm的环状区域中进行平均而得的亮度可以是Mx2的0.8倍以上。

在上述图像数据中，光遮光部P的平均亮度(明亮度)优选在0～255的灰度中的48～58(平均52)的范围内。同样地，贯通孔周围的宽度30μm的环状区域的平均亮度(明亮度)优选在0～255的灰度中的48～58(平均52)的范围内。

[实施例]

(实施例1)

(膜的准备)

准备具有下述构成的膜100。膜100的厚度为200μm。

PET临时保护层/三乙酰纤维素层/碘染色聚乙烯醇层(偏振片)/三乙酰纤维素层/丙烯酸系粘合剂层/液晶相位差板(λ/2板)/丙烯酸系粘合剂层/液晶相位差板(λ/4板)/粘合剂层/间隔件层

将35张上述膜重叠从而得到厚度7mm的层叠体。

(贯通孔的形成)

通过刃部的外径1.1mm且刃部的长度10mm的立铣刀，将距离L设为1.5mm而进行A1工序，将内径D2设为2.0mm而进行A2工序，重复5次包含A1和A2工序的A工序，在层叠体形成内径2.0mm的贯通孔。

(实施例2～5)

除了将A2工序中的内径设为1.8mm、1.7mm、1.6mm、1.5mm以外，与实施例1相同。

(比较例1～5)

除了将A1工序中的距离L设为10mm而使其贯通、且仅进行1次A工序以外，设为与实施例1～5相同。

(评价)

(变色区域宽度的测定)

将圆偏振板以偏振片位于相位差板上方的方式放置在铝膜之上，使用偏光显微镜，以反射模式，取得从与圆偏振板的厚度垂直的方向观察圆偏振板的贯通孔周围而得的图像数据，依据上述基准判断相位差偏离区域Q的有无，测定相位差偏离区域Q的最大宽度W等。图像拍摄时，调整旋钮，使曝光量成为70～100％。另外，曝光时间设为40～60ms。

(消偏振部的有无)

对于剥离了PET临时保护层的圆偏振板，将其他的直线偏振板配置在圆偏振板的偏振片侧，且使得圆偏振板的偏振片的吸收轴与直线偏振板的吸收轴成为正交偏振，通过显微镜取得图像数据，以上述基准进行判断，结果，在任意的实施例和比较例中，从贯通孔周围起宽度30μm的环状区域内被判断为具有偏振功能。

结果示于表1。

[表1]

在实施例中，确认了能够抑制贯通孔周围的变色。

Claims (10)

1.一种带贯通孔的膜的制造方法，具备依次进行以下工序的A工序：

A1工序，其在与膜的层叠体的厚度方向平行地配置立铣刀的轴的状态下，使所述立铣刀在所述层叠体的厚度方向上相对移动小于所述层叠体的厚度的距离，由此在所述层叠体形成孔部；以及

A2工序，其在所述A1工序后，使立铣刀沿着所述孔部的内周面相对移动，从而扩大所述孔部的内径，

各所述膜包括液晶相位差板，

将所述A工序重复2次以上而在所述层叠体形成贯通孔。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，各所述A1工序中的所述相对移动的距离为1.5mm以下。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其还包括以下的B工序：在将所述A工序重复2次以上而在所述层叠体形成贯通孔后，进一步用立铣刀以0.01mm～0.10mm的厚度对贯通孔的内周面整体进行切削。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的方法，其中，在所述A1工序和所述A2工序中，使所述立铣刀旋转，以使得所述层叠体的屑朝向所述立铣刀的柄部侧排出。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的方法，其中，在所述A1工序和所述A2工序中，在相对于所述立铣刀的轴倾斜且从所述立铣刀的柄部朝向刃部的方向上喷射干冰雪。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的方法，其中，各所述膜还包括偏振片。

7.根据权利要求1～6中任一项所述的方法，其中，所述膜是图像显示装置用膜。

8.一种圆偏振板，其是依次具备在至少一个面赋予了保护膜的偏振片、以及液晶相位差板的圆偏振板，

所述圆偏振板具有2.5mm以下的直径的贯通孔，

位于所述贯通孔周围的相位差偏离区域Q的最大宽度为30μm以下。

9.根据权利要求8所述的圆偏振板，其中，从所述贯通孔周围起宽度30μm的环状区域具有偏振功能。

10.一种层叠体，其是权利要求8或9所述的圆偏振板的层叠体。

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