JP7220262B2 - エッチング工程時に発生する反応副産物の捕集装置 - Google Patents
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Description
上部から流入する未反応ガスの流れを外郭を介して下部に誘導しながら反応副産物を捕集して積載し、下部で再び反応副産物を多重捕集する第1捕集構造体と、
外郭側から流入する未反応ガスを中央部に誘導して下降させながら反応副産物を捕集して、第1捕集構造体の下部で捕集された反応副産物と一緒に積載する第2捕集構造体と、
中央部に流入する未反応ガスを外郭に誘導しながら反応副産物を多重捕集し積載する第3捕集構造体と、
外郭側から流入する未反応ガスを中央部に誘導して下降させながら反応副産物を捕集し積載する第4捕集構造体と、
中央部に流入する未反応ガスを外郭を介して下部に誘導しながら反応副産物を捕集して積載し、下部から再び反応副産物を多重捕集する第5捕集構造体と、から構成される内部捕集塔を含み、
ハウジングのガス流入口に流入した未反応ガスを外郭または中央部に転換させながら順次下降させて反応副産物を捕集し積載した後、残りの未反応ガスのみガス排出口へ排出するように構成されたことを特徴とする、エッチング工程時に発生する反応副産物の捕集装置を提供することにより達成される。
ハウジングの内部に流入した未反応ガスが下部のガス排出口へ直接下降して流出しないように順次流路を外郭または中央部に転換させて下降させながら反応副産物を捕集し積載した後、残りの未反応ガスのみ排出されるように多数の捕集構造体が上下に一定間隔離間して多段構成された内部捕集塔2と、を含んで構成される。
2 内部捕集塔
11 ハウジング本体
12 上板
12a ガス流入口
13 下板
13a ガス排出口
13b 支持部
21 第1捕集構造体
22 第2捕集構造体
23 第3捕集構造体
24 第4捕集構造体
25 第5捕集構造体
211 捕集ディスク
212 捕集円筒部
212a 捕集円筒
212b ホール
213 離隔部材
221 捕集ディスク
222 排出管
222a ホール
223 流路ガイド板
224 離隔部材
231 捕集ディスク
232 捕集プレート部
232a 捕集プレート
232b ホール
233 遮断壁部
223a 遮断壁
234 流路ガイド部
235 離隔部材
241 捕集ディスク
242 排出管
242a 拡管部
242b ホール
251 捕集ディスク
252 ガス収容部
252a 締結部
253 捕集プレート部
253a 捕集プレート
253b ホール
254 離隔部材
Claims (17)
- 半導体製造工程中に真空ポンプを経てスクラバーへ排出される未反応ガス中に含まれている反応副産物を捕集する捕集装置であって、
上部から流入する未反応ガスの流れを外郭を介して下部に誘導しながら反応副産物を捕集して積載し、下部で再び反応副産物を多重捕集する第1捕集構造体と、
外郭側から流入する未反応ガスを中央部に誘導して下降させながら反応副産物を捕集して、第1捕集構造体の下部で捕集された反応副産物と一緒に積載する第2捕集構造体と、
中央部に流入する未反応ガスを外郭に誘導しながら反応副産物を多重捕集し積載する第3捕集構造体と、
外郭側から流入する未反応ガスを中央部に誘導して下降させながら反応副産物を捕集し積載する第4捕集構造体と、
中央部に流入する未反応ガスを外郭を介して下部に誘導しながら反応副産物を捕集して積載し、下部で再び反応副産物を多重捕集する第5捕集構造体と、から構成された内部捕集塔を含み、
ハウジングのガス流入口に流入した未反応ガスを外郭または中央部に転換させながら順次下降させて反応副産物を捕集し積載した後、残りの未反応ガスのみガス排出口へ排出するように構成されたことを特徴とする、エッチング工程時に発生する反応副産物の捕集装置。 - 前記第1捕集構造体、前記第2捕集構造体、前記第3捕集構造体、前記第4捕集構造体及び前記第5捕集構造体は、各離隔部材を用いて上下に一定間隔離間するように締結して構成し、前記ハウジングの下板の上面に備えられた支持部は、前記第5捕集構造体を一定間隔離隔支持することにより、前記第1捕集構造体乃至前記第4捕集構造体の荷重全体を支持するように構成されたことを特徴とする、請求項1に記載のエッチング工程時に発生する反応副産物の捕集装置。
- 前記第1捕集構造体は、流入した未反応ガスの流れを外郭に誘導しながら反応副産物を捕集する捕集ディスクと、捕集ディスクの下面に設置され、流入した未反応ガスの中から反応副産物を多重捕集するように多数の捕集円筒が多段構成されてフィルターの役割を果たす捕集円筒部と、を含むことを特徴とする、請求項1に記載のエッチング工程時に発生する反応副産物の捕集装置。
- 前記捕集円筒部は、互いに異なる直径を有する多数の捕集円筒が一定間隔で多段に設置され、各捕集円筒は、周りの表面に沿って多数のホールが多重配列されて構成され、ホールは、最外殻に位置した捕集円筒に最も大きい直径のホールが設けられ、内側に位置した捕集円筒に行くほど小さい直径のホールが設けられたことを特徴とする、請求項3に記載のエッチング工程時に発生する反応副産物の捕集装置。
- 前記第2捕集構造体は、外郭側から流入する未反応ガスを中央部に誘導しながら反応副産物を捕集及び積載する捕集ディスクと、前記捕集ディスクの中央部を上下に貫通するように設置され、捕集された反応副産物の流出を防止しながら未反応ガスを下部へ排出する排出管と、排出管の下端の周りに沿って設置され、排出された未反応ガスの上昇流れを一定空間領域まで防いで捕集効率を高める流路ガイド板と、を含むことを特徴とする、請求項1に記載のエッチング工程時に発生する反応副産物の捕集装置。
- 前記捕集ディスクは、ハウジングを構成するハウジング本体の内径と同程度の直径を持つ円板ディスクであって、未反応ガスが下部の第3捕集構造体側へ直接下降することを遮断するように構成されたことを特徴とする、請求項5に記載のエッチング工程時に発生する反応副産物の捕集装置。
- 前記排出管は、上部が第1捕集構造体の捕集円筒部の内側に位置するように突出し、下部は第3捕集構造体の捕集プレート部の上端に位置するように構成され、突出した部位の上部側の一区間の周りに沿って、未反応ガス流入用の多数のホールが多重配列されて設けられたことを特徴とする、請求項5に記載のエッチング工程時に発生する反応副産物の捕集装置。
- 前記第3捕集構造体は、流入した未反応ガスの流れを外郭に誘導して下降させながら捕集し積載する捕集ディスクと、多数のホールが設けられた多数の捕集プレートが前記捕集ディスクの上面に円形配列された形で設置され、上部から流入した未反応ガスを留まるようにして反応副産物を捕集及び積載しながら外郭へ流れるようにする捕集プレート部と、前記捕集プレート部の外郭と一定間隔離隔するように円形に取り囲むことにより、捕集された反応副産物の流出を防止しながら未反応ガスを排出させる遮断壁部と、を含むことを特徴とする、請求項1に記載のエッチング工程時に発生する反応副産物の捕集装置。
- 前記捕集ディスクは、周りに沿って下部方向に垂直に突出して未反応ガスの下降流れをガイドする帯状の流路ガイド部をさらに含むことを特徴とする、請求項8に記載のエッチング工程時に発生する反応副産物の捕集装置。
- 前記捕集プレート部は、前記遮断壁部よりも高く形成したことを特徴とする、請求項8に記載のエッチング工程時に発生する反応副産物の捕集装置。
- 前記遮断壁部は、ホールが設けられていない少なくとも2つの遮断壁が一定間隔離隔して円形に配置されたことを特徴とする、請求項8に記載のエッチング工程時に発生する反応副産物の捕集装置。
- 前記第4捕集構造体は、外郭から流入する未反応ガスを中央部に誘導しながら反応副産物を捕集及び積載する捕集ディスクと、前記捕集ディスクの中央部を上部に貫通するように設置され、捕集された反応副産物の流出を防止しながら未反応ガスを下部に排出するように、上部に拡管部が設けられた排出管と、を含むことを特徴とする、請求項1に記載のエッチング工程時に発生する反応副産物の捕集装置。
- 前記捕集ディスクは、ハウジング本体の内径と同程度の直径を持つ円板ディスクであって、未反応ガスが第5捕集構造体側に直接下降することを遮断するように構成されたことを特徴とする、請求項12に記載のエッチング工程時に発生する反応副産物の捕集装置。
- 前記拡管部は、上部に行くほど次第に外方向に傾いた斜線形状を有し、周りに沿って未反応ガスの排出及び流れを誘導する多数のホールが多重配列されて設けられたことを特徴とする、請求項12に記載のエッチング工程時に発生する反応副産物の捕集装置。
- 前記第5捕集構造体は、上部から中央部に流入した未反応ガスの下部移動を遮断しながら、外郭を介して下部へ流れを誘導して排出させながら捕集し積載する捕集ディスクと、
捕集ディスクの下面に周方向に沿って設置され、未反応ガスの流れを下部へ誘導した後、内部に流入させて収容するガス収容部と、
ガス収容部の内側で捕集ディスクの下面に設置され、流入した未反応ガスの流出を防止しながら反応副産物を多重捕集した後、未反応ガスのみガス排出口へ排出するように多数のホールが設けられた多数の捕集プレートが多段に四角形配列された捕集プレート部と、を含むことを特徴とする、請求項1に記載のエッチング工程時に発生する反応副産物の捕集装置。 - 前記ガス収容部は、下部側に突出した長さが捕集プレート部よりも短く、周りに沿って外側に多数の締結部が形成されることにより、ハウジングの下板から上部方向に突出した支持部と締結されるように構成されたことを特徴とする、請求項15に記載のエッチング工程時に発生する反応副産物の捕集装置。
- 前記捕集プレート部は、捕集プレートを四角配列の際に角部分同士が当接しないように離隔させて未反応ガスが流入するようにし、ホールは、最外殻に四角配列された捕集プレートに最も大きい直径のホールが設けられ、内側に四角配列された捕集プレートに行くほど小さい直径のホールが設けられたことを特徴とする、請求項15に記載のエッチング工程時に発生する反応副産物の捕集装置。
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