JP7323958B1 - 捕集可用領域が拡張された反応副産物捕集装置 - Google Patents
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Abstract
Description
前記内部捕集塔は、ガスの主な流れを中央部へ誘導して下降させながら捕集反応する上段捕集部、流入したガスを収容して反応副産物を捕集するように内側領域が逆台形の空間部で形成された中段捕集部、側面を介して流入するガスから反応副産物を多段捕集しながら、既に捕集された反応副産物がハウジングのガス排出口へ流出するのを防止する下段捕集部、及び前記中段捕集部の内側及び外側領域で捕集された多孔性粉末状の反応副産物を閉じ込めて外部流出を防止する捕集カバーから分離構成して、反応副産物を高さに応じて多段捕集するように構成するが、
前記中段捕集部は、使用周期の経過による捕集量の変化に応じて、ガスの主な流れが、使用周期の初期には、周りを構成する面状の十字形垂直プレートの内側領域に下降して外側領域へ流れるように誘導され、捕集量が内側領域に積もった使用周期の後半には、面状の十字形垂直プレートの内側領域上部から外側領域へ流れた後に下降するように誘導されて追加の捕集反応が行われるように構成されたことを特徴とする、捕集可用領域が拡張された反応副産物捕集装置を提供することにより達成される。
前記面状の十字形垂直プレートを構成する個別垂直プレートは、内側方向に向かう垂直プレートが上部側から下部側に行くほど面積が広くなる台形に形成して、中段捕集部の内側領域の上部空間が下部空間よりも広い捕集空間を提供するように構成したことを特徴とする。
Powder)状の反応副産物がガス流れに乗って移動することを遮断しながらもガスを通過させる一種のフィルターの役割を果たすことにより、ガス排出口を介して排出されることを一次に遮断する。
2 ヒータ
2a ディフユーザ
3 内部捕集塔
10a 壁面プレート
11 ハウジング本体
12 上板
12a ガス流入口
13 下板
13a ガス排出口
21 電源供給部
31 上段捕集部
32 中段捕集部
33 下段捕集部
34 捕集カバー
311 主ガスホール
312 補助ガスホール
313 二重十字形プレート
314 四角プレート
315 離隔材
316 支持部
321 十字形垂直プレート
321a 個別垂直プレート
321b 下段プレート
324 渦流プレート
322a ガススリット
322b ガス開口
331 外郭捕集プレート部
331a ガスホール
331b 閉塞部
332 内側捕集プレート
332a 離隔材
332b ガスホール
333 支持部材
341 ガスホール
Claims (10)
- 半導体製造工程における蒸着工程後に排出されるガスをハウジングの内部に収容してヒータで加熱しながら、内部捕集塔を用いて、ガス中に含まれている反応副産物を捕集してガスのみ排出するように構成された反応副産物捕集装置であって、
前記内部捕集塔は、ガスの主な流れを中央部へ誘導して下降させながら捕集反応する上段捕集部、流入したガスを収容して反応副産物を捕集するように内側領域が逆台形の空間部で形成された中段捕集部、側面を介して流入するガスから反応副産物を多段捕集しながら、既に捕集された反応副産物がハウジングのガス排出口へ流出するのを防止する下段捕集部、及び前記中段捕集部の内側及び外側領域で捕集された多孔性粉末状の反応副産物を閉じ込めて外部流出を防止する捕集カバーから分離構成して、反応副産物を高さに応じて多段捕集するように構成し、
前記中段捕集部は、使用周期の経過による捕集量の変化に応じて、ガスの主な流れが、使用周期の初期には、周りを構成する面状の十字形垂直プレートの内側領域に下降して外側領域へ流れるように誘導され、捕集量が内側領域に積もった使用周期の後半には、面状の十字形垂直プレートの内側領域上部から外側領域へ流れた後に下降するように誘導されて追加の捕集反応が行われるように構成されたことを特徴とする、捕集可用領域が拡張された反応副産物捕集装置。 - 前記上段捕集部は、ヒータからハウジングの内部外郭方向に分配されて下降するガスを、中心部の主ガスホールと、その周辺に円形配列された相対的に小さい補助ガスホールとを介して、下方に一定間隔離隔している中段捕集部へ誘導しながら、二重十字形プレートが設置された上面と、四角プレートが設置された下面でガス中の反応副産物を捕集するように構成されたことを特徴とする、請求項1に記載の捕集可用領域が拡張された反応副産物捕集装置。
- 前記中段捕集部は、上段捕集部と一定間隔離隔している下部に結合される面状の十字形垂直プレートが複数個一定間隔で離間して配列されて周りをなすように構成し、
前記面状の十字形垂直プレートを構成する個別垂直プレートは、内側方向に向かう垂直プレートが上部側から下部側に行くほど面積が広くなる台形に形成して中段捕集部の内側領域の上部空間が下部空間よりも広い捕集空間を提供するように構成したことを特徴とする、請求項1に記載の捕集可用領域が拡張された反応副産物捕集装置。 - 前記中段捕集部の周りに沿って設置され、外側には長さ方向のガススリットが一つ以上形成され、内側にはガス開口が形成された渦流プレートをさらに含むことを特徴とする、請求項1に記載の捕集可用領域が拡張された反応副産物捕集装置。
- 前記渦流プレートは、外側が高く傾斜した形態で設置されたことを特徴とする、請求項4に記載の捕集可用領域が拡張された反応副産物捕集装置。
- 前記捕集カバーは、面上に多数のガスホールが配列された筒体構造で構成され、前記中段捕集部の下部から一定間隔離隔して周りに沿って下段捕集部の上部に垂直方向に設置されたことを特徴とする、請求項1に記載の捕集可用領域が拡張された反応副産物捕集装置。
- 前記捕集カバーは、傾斜した形態を持つ渦流プレートが上部を覆うように設置されたことを特徴とする、請求項6に記載の捕集可用領域が拡張された反応副産物捕集装置。
- 前記下段捕集部は、前記中段捕集部の下部に結合され、表面に複数のガスホールが設けられた外郭捕集プレート部、内側捕集プレート部から多重構成され、中段捕集部の内側領域と外側領域で捕集反応を経たガスが直接下降して、ハウジングの下板に形成されたガス排出口に流入するのを遮断し、外郭から内側へガスを誘導しながら捕集反応が最終的に行われるようにした後、ハウジングの下板の中央部から上方に突出したガス排出口の上部を介して流入して下降するように構成されたことを特徴とする、請求項1に記載の捕集可用領域が拡張された反応副産物捕集装置。
- 前記外郭捕集プレート部は、下部が開放された構造で構成され、上面捕集プレートと各側面捕集プレートは、多数のガスホールが形成され、各側面捕集プレートは、上部の一定区域が、ガスホールを有しない閉塞部から構成されてガスの流れを遮断することにより、中段捕集部から上面捕集プレートを介して落下した反応副産物が側方向に流出するのを防止するように構成したことを特徴とする、請求項8に記載の捕集可用領域が拡張された反応副産物捕集装置。
- 前記内側捕集プレート部は、下部が開放された構造で構成され、上面捕集プレートは閉塞構造で構成され、前記外郭捕集プレートの上面捕集プレートとは離隔材によって一定間隔で離隔するように設置され、各側面捕集プレートは、多数のガスホールが形成されたことを特徴とする、請求項8に記載の捕集可用領域が拡張された反応副産物捕集装置。
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