JP7199414B2 - シャワーヘッドチルト機構 - Google Patents
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Description
[適用例1]
半導体基板を処理するための半導体基板処理装置であって、
個々の半導体基板が処理される化学隔離チャンバであって、前記化学隔離チャンバの上壁を形成するトッププレートを備える化学隔離チャンバと、
少なくとも1つのプロセスガスを前記化学隔離チャンバに供給するための、前記化学隔離チャンバと流体連通するプロセスガス源と、
前記プロセスガスを前記プロセスガス源から前記個々の半導体基板が処理される前記処理装置の処理区域に供給するシャワーヘッドモジュールであって、前記シャワーヘッドモジュールは、ステムの下端部に取り付けられたベースを備え、貫通するガス通路を有するフェースプレートは前記ベースの下面を形成し、前記ステムは前記トッププレートの垂直延伸穴を通って延びる、シャワーヘッドモジュールと、
前記基板の処理の間に、前記フェースプレート下方の前記処理区域で前記半導体基板を支持するように構成された基板台座モジュールと、
前記シャワーヘッドモジュールを支持するベローズアセンブリであって、カラー、ベローズ、およびレベリングプレートを備え、前記カラーは、前記トッププレートの前記穴と一致する中央開口部を有し、前記ベローズは、前記カラーの前記中央開口部を囲み、前記カラーの上面に取り付けられた下端部と、前記レベリングプレートの下面に取り付けられた上端部とを有し、前記レベリングプレートは、前記トッププレートの前記穴と一致する中央開口部を有する、ベローズアセンブリと、
前記フェースプレートに隣接する前記基板台座モジュールの上面に対する前記シャワーヘッドモジュールの前記フェースプレートの傾きを調整するように動作可能な少なくとも1つのシャワーヘッドチルト調整機構であって、前記シャワーヘッドチルト調整機構は、ロックネジ、中空ネジ、ロックプレート、およびロックナットを備え、前記中空ネジは、その外面に第1のネジ部、および、前記外面に第2のネジ部を有し、前記第1のネジ部は、前記第2のネジ部のネジピッチとは異なるネジピッチを有し、前記第1のネジ部は、前記レベリングプレートの中通し穴と係合し、前記第2のネジ部は、前記ロックナットの雌ネジと係合し、前記ロックネジは、前記カラーのネジ穴と係合する下方雄ネジ部、および、上部ソケットの肩を前記中空ネジに係合させる上部ネジ頭を有し、前記ロックプレートは、前記ロックナットが前記中空ネジと共に回転する第1の位置から前記ロックナットが回転できない第2の位置まで移動可能であり、前記シャワーヘッドチルト調整機構は、前記ロックプレートが前記第1の位置にあるときには粗調整を提供し、前記ロックプレートが前記第2の位置にあるときには微調整を提供する、半導体基板処理装置。
[適用例2]
適用例1に記載の半導体基板処理装置であって、
前記少なくとも1つのシャワーヘッドチルト調整機構は、120°離れた位置で前記ベローズから外向きに間隔を空けた3つのシャワーヘッドチルト調整機構を含む、半導体基板処理装置。
[適用例3]
適用例1に記載の半導体基板処理装置であって、
前記ロックプレートは、前記第1の位置と前記第2の位置との間で径方向に移動可能である、半導体基板処理装置。
[適用例4]
適用例1に記載の半導体基板処理装置であって、
レベリングプレートは、その内面に前記ネジ穴を有する、上向きに延びる筒状部を備える、半導体基板処理装置。
[適用例5]
適用例1に記載の半導体基板処理装置であって、
前記ロックプレートは、前記カラーから外向きに延びるその外端部にハンドルと、前記ロックナットを係合しうるその内端部に幅広スロットと、前記幅広スロットから外向きに延びる幅狭スロットと、前記幅狭スロットを通って延び、前記カラーに挿通されたロックプレートネジであって、前記ロックプレートの動きを妨げるために前記ロックプレートに締結されうるネジ頭を有するロックプレートネジと、を備える、半導体基板処理装置。
[適用例6]
適用例1に記載の半導体基板処理装置であって、
前記シャワーヘッドチルト調整機構は、前記ロックプレートが前記第1の位置にあるときは、前記中空ネジの全回転ごとに約0.02インチ(約0.0508センチメートル)から約0.04インチ(約0.1016センチメートル)のギャップの粗調整を提供し、前記ロックプレートが前記第2の位置にあるときは、前記中空ネジの全回転ごとに約0.002インチ(約0.00508センチメートル)から約0.004インチ(約0.01016センチメートル)のギャップの微調整を提供しうる、半導体基板処理装置。
[適用例7]
ベローズアセンブリによって半導体基板処理装置のトッププレートに支持されたシャワーヘッドモジュールのギャップの粗調整および微調整を提供するように構成されたシャワーヘッドチルト調整機構であって、
ロックネジ、中空ネジ、ロックプレート、およびロックナットを備え、
前記中空ネジは、その外側面に第1のネジ部、および、前記外側面に第2のネジ部を有し、前記第1のネジ部は、前記第2のネジ部のネジピッチとは異なるネジピッチを有し、前記第1のネジ部は、前記ベローズアセンブリのレベリングプレートの中通し穴と係合し、前記第2のネジ部は、前記ロックナットの雌ネジと係合し、
前記ロックネジは、前記ベローズアセンブリのカラーのネジ穴と係合するように構成された下方雄ネジ部、および、上部ソケットの肩を前記中空ネジに係合させる上部ネジ頭を有し、
前記ロックプレートは、前記ロックナットが前記中空ネジと共に回転する第1の位置から前記ロックナットが回転できない第2の位置まで移動可能であり、前記シャワーヘッドチルト調整機構は、前記ロックプレートが前記第1の位置にあるときには粗調整を提供し、前記ロックプレートが前記第2の位置にあるときには微調整を提供する、シャワーヘッドチルト調整機構。
[適用例8]
適用例7に記載のシャワーヘッドチルト調整機構であって、
前記中空ネジの前記第1のネジ部および前記第2のネジ部は、同じ向きを有する、シャワーヘッドチルト調整機構。
[適用例9]
適用例7に記載のシャワーヘッドチルト調整機構であって、
前記ロックプレートは、その外端部にハンドルと、前記ロックナットを係合しうるその内端部に幅広スロットと、前記幅広スロットから外向きに延びる幅狭スロットと、を備え、前記幅狭スロットは、前記カラーに挿通するロックプレートネジを受け入れるように構成され、前記ロックプレートネジは、前記ロックプレートの動きを妨げるために前記ロックプレートに締結されうるネジ頭を有する、シャワーヘッドチルト調整機構。
[適用例10]
適用例7に記載のシャワーヘッドチルト調整機構であって、
前記シャワーヘッドチルト調整機構は、前記ロックプレートが前記第1の位置にあるときは、前記中空ネジの全回転ごとに約0.02インチ(約0.0508センチメートル)から約0.04インチ(約0.1016センチメートル)のギャップの粗調整を提供し、前記ロックプレートが前記第2の位置にあるときは、前記中空ネジの全回転ごとに約0.002インチ(約0.00508センチメートル)から約0.004インチ(約0.01016センチメートル)のギャップの微調整を提供しうる、シャワーヘッドチルト調整機構。
[適用例11]
プロセスガスをプロセスガス源から個々の半導体基板が処理される半導体基板処理装置の処理区域に供給するシャワーヘッドモジュールであって、
ステムの下端部に取り付けられたベースであって、貫通するガス通路を有するフェースプレートは、前記ベースの下面を形成し、前記ステムは、前記処理装置のトッププレートの垂直延伸穴を通って延びるように構成されている、ベースと、
前記シャワーヘッドモジュールを支持するベローズアセンブリであって、カラー、ベローズ、およびレベリングプレートを備え、前記カラーは、前記トッププレートの前記穴と一致する中央開口部を有し、前記ベローズは、前記カラーの前記中央開口部を囲み、前記カラーの上面に取り付けられた下端部と、前記レベリングプレートの下面に取り付けられた上端部とを有し、前記レベリングプレートは、前記トッププレートの前記穴と一致する中央開口部を有する、ベローズアセンブリと、
前記シャワーヘッドモジュールの前記フェースプレートの傾きを調整するように動作可能な少なくとも1つのシャワーヘッドチルト調整機構であって、前記シャワーヘッドチルト調整機構は、ロックネジ、中空ネジ、ロックプレート、およびロックナットを備え、前記中空ネジは、その外面に第1のネジ部、および、前記外面に第2のネジ部を有し、前記第1のネジ部は、前記第2のネジ部のネジピッチとは異なるネジピッチを有し、前記第1のネジ部は、前記レベリングプレートの中通し穴と係合し、前記第2のネジ部は、前記ロックナットの雌ネジと係合し、前記ロックネジは、前記カラーのネジ穴と係合する下方雄ネジ部、および、上部ソケットの肩を前記中空ネジに係合させる上部ネジ頭を有し、前記ロックプレートは、前記ロックナットが前記中空ネジと共に回転する第1の位置から前記ロックナットが回転できない第2の位置まで移動可能であり、前記シャワーヘッドチルト調整機構は、前記ロックプレートが前記第1の位置にあるときには粗調整を提供し、前記ロックプレートが前記第2の位置にあるときには微調整を提供する、シャワーヘッドモジュール。
[適用例12]
適用例11に記載のシャワーヘッドモジュールであって、
前記少なくとも1つのシャワーヘッドチルト調整機構は、120°離れた位置で前記ベローズから外向きに間隔を空けた3つのシャワーヘッドチルト調整機構を含む、シャワーヘッドモジュール。
[適用例13]
適用例11に記載のシャワーヘッドモジュールであって、
前記ロックプレートは、前記第1の位置と前記第2の位置との間で径方向に移動可能である、シャワーヘッドモジュール。
[適用例14]
適用例11に記載のシャワーヘッドモジュールであって、
前記レベリングプレートは、その内面に前記ネジ穴を有する、上向きに延びる筒状部を備える、シャワーヘッドモジュール。
[適用例15]
適用例11に記載のシャワーヘッドモジュールであって、
前記ロックプレートは、前記カラーから外向きに延びるその外端部にハンドルと、前記ロックナットを係合しうるその内端部に幅広スロットと、前記幅広スロットから外向きに延びる幅狭スロットと、前記幅狭スロットを通って延び、前記カラーに挿通されたロックプレートネジであって、前記ロックプレートの動きを妨げるために前記ロックプレートに締結されうるネジ頭を有するロックプレートネジと、を備える、シャワーヘッドモジュール。
[適用例16]
適用例15に記載のシャワーヘッドモジュールであって、
前記シャワーヘッドチルト調整機構は、前記ロックプレートが前記第1の位置にあるときは、前記中空ネジの全回転ごとに約0.02インチ(約0.0508センチメートル)から約0.04インチ(約0.1016センチメートル)のギャップの粗調整を提供し、前記ロックプレートが前記第2の位置にあるときは、前記中空ネジの全回転ごとに約0.002インチ(約0.00508センチメートル)から約0.004インチ(約0.01016センチメートル)のギャップの微調整を提供しうる、シャワーヘッドモジュール。
[適用例17]
半導体基板処理装置におけるシャワーヘッドの傾きによる面内歪み(IPD)を制御する方法であって、
前記半導体基板処理装置の処理チャンバで処理されたウエハ全体のIPD変化を測定することと、
IPDの粗調整および微調整を提供するように構成された3つのシャワーヘッドチルト調整機構を用いて、前記半導体基板処理装置のシャワーヘッドの傾きを調整することであって、前記シャワーヘッドチルト調整機構の各々は、前記シャワーヘッドに取り付けられた可動部品と前記処理チャンバの固定部品との間のギャップを変更するように配置された、ロックネジ、中空ネジ、ロックプレート、およびロックナットを備えることと、を含み、
前記中空ネジは、その外側面に第1のネジ部および前記外側面に第2のネジ部を有し、前記第1のネジ部は、前記第2のネジ部のネジピッチとは異なるネジピッチを有し、前記第1のネジ部は、前記可動部品の中通し穴と係合し、前記第2のネジ部は、前記ロックナットの雌ネジと係合し、
前記ロックネジは、前記固定部品の穴に挿通する下方端部、および、上部ソケットの肩を前記中空ネジに係合させる上部ネジ頭を有し、
前記ロックプレートは、前記ロックナットが前記中空ネジと共に回転する第1の位置から前記ロックナットが回転できない第2の位置まで移動可能であり、前記シャワーヘッドチルト調整機構は、前記ロックプレートが前記第1の位置にあるときには粗調整を提供し、前記ロックプレートが前記第2の位置にあるときには微調整を提供する、方法。
[適用例18]
適用例17に記載の方法であって、
1つの前記シャワーヘッドチルト調整機構の前記ロックプレートを前記第1の位置に設置し、前記中空ネジを第1の径方向位置に回転することによって粗調整を行うことと、前記ロックプレートを前記第2の位置に移動し、前記中空ネジを前記IPDが低減される第2の径方向位置に回転することによって微調整を行うことと、を含む、方法。
[適用例19]
適用例18に記載の方法であって、
スロットは、前記ソケットの壁を通って延び、前記方法は、さらに、上部アライメントマークを有するインジケータキャップを前記中空ネジに設置して、前記インジケータキャップの突部が前記スロットに嵌合するようにすることと、アライメントマークの事前調整角度を記録することと、前記インジケータキャップを取り外して前記IPD調整を行うことと、前記インジケータキャップを前記中空ネジに設置して前記アライメントマークの調整後角度を記録することと、を含む、方法。
[適用例20]
適用例17に記載の方法であって、
前記第1のネジ部および前記第2のネジ部は、同じ向きを有し、前記シャワーヘッドチルト調整機構の各々は、前記ロックプレートが前記第1の位置にあるときは、前記中空ネジの全回転ごとに約0.02インチ(約0.0508センチメートル)から約0.04インチ(約0.1016センチメートル)のギャップの粗調整を提供し、前記ロックプレートが前記第2の位置にあるときは、前記中空ネジの全回転ごとに約0.002インチ(約0.00508センチメートル)から約0.004インチ(約0.01016センチメートル)のギャップの微調整を提供しうる、方法。
Claims (20)
- 半導体基板を処理するための半導体基板処理装置であって、
個々の半導体基板が処理される化学隔離チャンバであって、前記化学隔離チャンバの上壁を形成するトッププレートを備える化学隔離チャンバと、
少なくとも1つのプロセスガスを前記化学隔離チャンバに供給するための、前記化学隔離チャンバと流体連通するプロセスガス源と、
前記プロセスガスを前記プロセスガス源から前記個々の半導体基板が処理される前記処理装置の処理区域に供給するシャワーヘッドモジュールであって、前記シャワーヘッドモジュールは、ステムの下端部に取り付けられたベースを備え、貫通するガス通路を有するフェースプレートは前記ベースの下面を形成し、前記ステムは前記トッププレートの垂直延伸穴を通って延びる、シャワーヘッドモジュールと、
前記基板の処理の間に、前記フェースプレート下方の前記処理区域で前記半導体基板を支持するように構成された基板台座モジュールと、
前記シャワーヘッドモジュールを支持するベローズアセンブリであって、カラー、ベローズ、およびレベリングプレートを備え、前記カラーは、前記トッププレートの前記穴と一致する中央開口部を有し、前記ベローズは、前記カラーの前記中央開口部を囲み、前記カラーの上面に取り付けられた下端部と、前記レベリングプレートの下面に取り付けられた上端部とを有し、前記レベリングプレートは、前記トッププレートの前記穴と一致する中央開口部を有する、ベローズアセンブリと、
前記フェースプレートに隣接する前記基板台座モジュールの上面に対する前記シャワーヘッドモジュールの前記フェースプレートの傾きを調整するように動作可能な少なくとも1つのシャワーヘッドチルト調整機構であって、前記シャワーヘッドチルト調整機構は、ロックネジ、中空ネジ、ロックプレート、およびロックナットを備え、前記中空ネジは、その外面に第1のネジ部、および、前記外面に第2のネジ部を有し、前記第1のネジ部は、前記第2のネジ部のネジピッチとは異なるネジピッチを有し、前記第1のネジ部は、前記レベリングプレートの中通し穴と係合し、前記第2のネジ部は、前記ロックナットの雌ネジと係合し、前記ロックネジは、前記カラーのネジ穴と係合する下方雄ネジ部、および、上部ソケットの肩を前記中空ネジに係合させる上部ネジ頭を有し、前記ロックプレートは、前記ロックナットが前記中空ネジと共に回転する第1の位置から前記ロックナットが回転できない第2の位置まで移動可能であり、前記シャワーヘッドチルト調整機構は、前記ロックプレートが前記第1の位置にあるときには粗調整を提供し、前記ロックプレートが前記第2の位置にあるときには微調整を提供する、半導体基板処理装置。 - 請求項1に記載の半導体基板処理装置であって、
前記少なくとも1つのシャワーヘッドチルト調整機構は、120°離れた位置で前記ベローズから外向きに間隔を空けた3つのシャワーヘッドチルト調整機構を含む、半導体基板処理装置。 - 請求項1に記載の半導体基板処理装置であって、
前記ロックプレートは、前記第1の位置と前記第2の位置との間で径方向に移動可能である、半導体基板処理装置。 - 請求項1に記載の半導体基板処理装置であって、
レベリングプレートは、その内面に前記ネジ穴を有する、上向きに延びる筒状部を備える、半導体基板処理装置。 - 請求項1に記載の半導体基板処理装置であって、
前記ロックプレートは、前記カラーから外向きに延びるその外端部にハンドルと、前記ロックナットを係合しうるその内端部に幅広スロットと、前記幅広スロットから外向きに延びる幅狭スロットと、前記幅狭スロットを通って延び、前記カラーに挿通されたロックプレートネジであって、前記ロックプレートの動きを妨げるために前記ロックプレートに締結されうるネジ頭を有するロックプレートネジと、を備える、半導体基板処理装置。 - 請求項1に記載の半導体基板処理装置であって、
前記シャワーヘッドチルト調整機構は、前記ロックプレートが前記第1の位置にあるときは、前記中空ネジの全回転ごとに0.02インチ(0.0508センチメートル)から0.04インチ(0.1016センチメートル)のギャップの粗調整を提供し、前記ロックプレートが前記第2の位置にあるときは、前記中空ネジの全回転ごとに0.002インチ(0.00508センチメートル)から0.004インチ(0.01016センチメートル)のギャップの微調整を提供しうる、半導体基板処理装置。 - ベローズアセンブリによって半導体基板処理装置のトッププレートに支持されたシャワーヘッドモジュールのギャップの粗調整および微調整を提供するように構成されたシャワーヘッドチルト調整機構であって、
ロックネジ、中空ネジ、ロックプレート、およびロックナットを備え、
前記中空ネジは、その外側面に第1のネジ部、および、前記外側面に第2のネジ部を有し、前記第1のネジ部は、前記第2のネジ部のネジピッチとは異なるネジピッチを有し、前記第1のネジ部は、前記ベローズアセンブリのレベリングプレートの中通し穴と係合し、前記第2のネジ部は、前記ロックナットの雌ネジと係合し、
前記ロックネジは、前記ベローズアセンブリのカラーのネジ穴と係合するように構成された下方雄ネジ部、および、上部ソケットの肩を前記中空ネジに係合させる上部ネジ頭を有し、
前記ロックプレートは、前記ロックナットが前記中空ネジと共に回転する第1の位置から前記ロックナットが回転できない第2の位置まで移動可能であり、前記シャワーヘッドチルト調整機構は、前記ロックプレートが前記第1の位置にあるときには粗調整を提供し、前記ロックプレートが前記第2の位置にあるときには微調整を提供する、シャワーヘッドチルト調整機構。 - 請求項7に記載のシャワーヘッドチルト調整機構であって、
前記中空ネジの前記第1のネジ部および前記第2のネジ部は、同じ向きを有する、シャワーヘッドチルト調整機構。 - 請求項7に記載のシャワーヘッドチルト調整機構であって、
前記ロックプレートは、その外端部にハンドルと、前記ロックナットを係合しうるその内端部に幅広スロットと、前記幅広スロットから外向きに延びる幅狭スロットと、を備え、前記幅狭スロットは、前記カラーに挿通するロックプレートネジを受け入れるように構成され、前記ロックプレートネジは、前記ロックプレートの動きを妨げるために前記ロックプレートに締結されうるネジ頭を有する、シャワーヘッドチルト調整機構。 - 請求項7に記載のシャワーヘッドチルト調整機構であって、
前記シャワーヘッドチルト調整機構は、前記ロックプレートが前記第1の位置にあるときは、前記中空ネジの全回転ごとに0.02インチ(0.0508センチメートル)から0.04インチ(0.1016センチメートル)のギャップの粗調整を提供し、前記ロックプレートが前記第2の位置にあるときは、前記中空ネジの全回転ごとに0.002インチ(0.00508センチメートル)から0.004インチ(0.01016センチメートル)のギャップの微調整を提供しうる、シャワーヘッドチルト調整機構。 - プロセスガスをプロセスガス源から個々の半導体基板が処理される半導体基板処理装置の処理区域に供給するシャワーヘッドモジュールであって、
ステムの下端部に取り付けられたベースであって、貫通するガス通路を有するフェースプレートは、前記ベースの下面を形成し、前記ステムは、前記処理装置のトッププレートの垂直延伸穴を通って延びるように構成されている、ベースと、
前記シャワーヘッドモジュールを支持するベローズアセンブリであって、カラー、ベローズ、およびレベリングプレートを備え、前記カラーは、前記トッププレートの前記穴と一致する中央開口部を有し、前記ベローズは、前記カラーの前記中央開口部を囲み、前記カラーの上面に取り付けられた下端部と、前記レベリングプレートの下面に取り付けられた上端部とを有し、前記レベリングプレートは、前記トッププレートの前記穴と一致する中央開口部を有する、ベローズアセンブリと、
前記シャワーヘッドモジュールの前記フェースプレートの傾きを調整するように動作可能な少なくとも1つのシャワーヘッドチルト調整機構であって、前記シャワーヘッドチルト調整機構は、ロックネジ、中空ネジ、ロックプレート、およびロックナットを備え、前記中空ネジは、その外面に第1のネジ部、および、前記外面に第2のネジ部を有し、前記第1のネジ部は、前記第2のネジ部のネジピッチとは異なるネジピッチを有し、前記第1のネジ部は、前記レベリングプレートの中通し穴と係合し、前記第2のネジ部は、前記ロックナットの雌ネジと係合し、前記ロックネジは、前記カラーのネジ穴と係合する下方雄ネジ部、および、上部ソケットの肩を前記中空ネジに係合させる上部ネジ頭を有し、前記ロックプレートは、前記ロックナットが前記中空ネジと共に回転する第1の位置から前記ロックナットが回転できない第2の位置まで移動可能であり、前記シャワーヘッドチルト調整機構は、前記ロックプレートが前記第1の位置にあるときには粗調整を提供し、前記ロックプレートが前記第2の位置にあるときには微調整を提供する、シャワーヘッドモジュール。 - 請求項11に記載のシャワーヘッドモジュールであって、
前記少なくとも1つのシャワーヘッドチルト調整機構は、120°離れた位置で前記ベローズから外向きに間隔を空けた3つのシャワーヘッドチルト調整機構を含む、シャワーヘッドモジュール。 - 請求項11に記載のシャワーヘッドモジュールであって、
前記ロックプレートは、前記第1の位置と前記第2の位置との間で径方向に移動可能である、シャワーヘッドモジュール。 - 請求項11に記載のシャワーヘッドモジュールであって、
前記レベリングプレートは、その内面に前記ネジ穴を有する、上向きに延びる筒状部を備える、シャワーヘッドモジュール。 - 請求項11に記載のシャワーヘッドモジュールであって、
前記ロックプレートは、前記カラーから外向きに延びるその外端部にハンドルと、前記ロックナットを係合しうるその内端部に幅広スロットと、前記幅広スロットから外向きに延びる幅狭スロットと、前記幅狭スロットを通って延び、前記カラーに挿通されたロックプレートネジであって、前記ロックプレートの動きを妨げるために前記ロックプレートに締結されうるネジ頭を有するロックプレートネジと、を備える、シャワーヘッドモジュール。 - 請求項15に記載のシャワーヘッドモジュールであって、
前記シャワーヘッドチルト調整機構は、前記ロックプレートが前記第1の位置にあるときは、前記中空ネジの全回転ごとに0.02インチ(0.0508センチメートル)から0.04インチ(0.1016センチメートル)のギャップの粗調整を提供し、前記ロックプレートが前記第2の位置にあるときは、前記中空ネジの全回転ごとに0.002インチ(0.00508センチメートル)から0.004インチ(0.01016センチメートル)のギャップの微調整を提供しうる、シャワーヘッドモジュール。 - 半導体基板処理装置におけるシャワーヘッドの傾きによる面内歪み(IPD)を制御する方法であって、
前記半導体基板処理装置の処理チャンバで処理されたウエハ全体のIPD変化を測定することと、
IPDの粗調整および微調整を提供するように構成された3つのシャワーヘッドチルト調整機構を用いて、前記半導体基板処理装置のシャワーヘッドの傾きを調整することであって、前記シャワーヘッドチルト調整機構の各々は、前記シャワーヘッドに取り付けられた可動部品と前記処理チャンバの固定部品との間のギャップを変更するように配置された、ロックネジ、中空ネジ、ロックプレート、およびロックナットを備えることと、を含み、
前記中空ネジは、その外側面に第1のネジ部および前記外側面に第2のネジ部を有し、前記第1のネジ部は、前記第2のネジ部のネジピッチとは異なるネジピッチを有し、前記第1のネジ部は、前記可動部品の中通し穴と係合し、前記第2のネジ部は、前記ロックナットの雌ネジと係合し、
前記ロックネジは、前記固定部品の穴に挿通する下方端部、および、上部ソケットの肩を前記中空ネジに係合させる上部ネジ頭を有し、
前記ロックプレートは、前記ロックナットが前記中空ネジと共に回転する第1の位置から前記ロックナットが回転できない第2の位置まで移動可能であり、前記シャワーヘッドチルト調整機構は、前記ロックプレートが前記第1の位置にあるときには粗調整を提供し、前記ロックプレートが前記第2の位置にあるときには微調整を提供する、方法。 - 請求項17に記載の方法であって、
1つの前記シャワーヘッドチルト調整機構の前記ロックプレートを前記第1の位置に設置し、前記中空ネジを第1の径方向位置に回転することによって粗調整を行うことと、前記ロックプレートを前記第2の位置に移動し、前記中空ネジを前記IPDが低減される第2の径方向位置に回転することによって微調整を行うことと、を含む、方法。 - 請求項18に記載の方法であって、
スロットは、前記ソケットの壁を通って延び、前記方法は、さらに、上部アライメントマークを有するインジケータキャップを前記中空ネジに設置して、前記インジケータキャップの突部が前記スロットに嵌合するようにすることと、アライメントマークの事前調整角度を記録することと、前記インジケータキャップを取り外して前記IPD調整を行うことと、前記インジケータキャップを前記中空ネジに設置して前記アライメントマークの調整後角度を記録することと、を含む、方法。 - 請求項17に記載の方法であって、
前記第1のネジ部および前記第2のネジ部は、同じ向きを有し、前記シャワーヘッドチルト調整機構の各々は、前記ロックプレートが前記第1の位置にあるときは、前記中空ネジの全回転ごとに0.02インチ(0.0508センチメートル)から0.04インチ(0.1016センチメートル)のギャップの粗調整を提供し、前記ロックプレートが前記第2の位置にあるときは、前記中空ネジの全回転ごとに0.002インチ(0.00508センチメートル)から0.004インチ(0.01016センチメートル)のギャップの微調整を提供しうる、方法。
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