JP7175994B2 - 反射シート - Google Patents
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Description
本発明は、加飾シート等に利用される反射シートに関する。
コレステリック液晶相を固定してなるコレステリック液晶層は、特定の波長帯域において右円偏光および左円偏光のいずれか一方を選択的に反射させる性質を有する層として知られている。そのため、種々の用途へ展開されており、例えば、加飾シートとしての利用が検討されている。
例えば、特許文献１には、反射する円偏光の旋回方向が互いに異なる２層のコレステリック液晶層を積層してなる加飾シートが記載されている。
また、特許文献１には、２層のコレステリック液晶層において、厚さ方向に連続的または段階的に螺旋ピッチを変化させることにより、より良好な金属調の光沢を得られることが記載されている。コレステリック液晶層が選択的に反射する波長帯域は、コレステリック液晶層が有する螺旋構造の螺旋ピッチの長さに相関する。従って、厚さ方向に螺旋ピッチが変化するコレステリック液晶層は、選択的な反射波長帯域が広くなり、より良好な金属調の光沢が得られる。
また、特許文献１には、２層のコレステリック液晶層において、厚さ方向に連続的または段階的に螺旋ピッチを変化させることにより、より良好な金属調の光沢を得られることが記載されている。コレステリック液晶層が選択的に反射する波長帯域は、コレステリック液晶層が有する螺旋構造の螺旋ピッチの長さに相関する。従って、厚さ方向に螺旋ピッチが変化するコレステリック液晶層は、選択的な反射波長帯域が広くなり、より良好な金属調の光沢が得られる。
また、加飾シートは、拡散反射性を有するのが好ましい。しかしながら、コレステリック液晶層による光の反射は、いわゆる鏡面反射であり、例えば、法線方向から入射した光は、法線方向に反射する。
ここで、特許文献２には、コレステリック液晶層の形成において、配向膜の配向規制力の方向をランダムな状態とし、この配向膜と接触する液晶化合物のダイレクターの方向をランダムにすることが記載されている。
コレステリック液晶層は、断面を走査型電子顕微鏡で観察した際に、コレステリック液晶相に由来して、明部と暗部との縞模様が観察される。光を鏡面反射する通常のコレステリック液晶層は、この明部と暗部の縞模様が面方向に沿った直線状になる。
これに対して、特許文献２に示されるような、配向膜と接触する液晶化合物のダイレクターの方向がランダムになったコレステリック液晶層では、液晶化合物の螺旋軸が様々な方向を向く。その結果、このようなコレステリック液晶層は、明部と暗部の縞模様が、厚さ方向に波を打ったような波打ち構造となる。このような波打ち構造を有するコレステリック液晶層は、入射した光を鏡面反射せずに、螺旋軸の方向に応じて拡散反射する。
コレステリック液晶層は、断面を走査型電子顕微鏡で観察した際に、コレステリック液晶相に由来して、明部と暗部との縞模様が観察される。光を鏡面反射する通常のコレステリック液晶層は、この明部と暗部の縞模様が面方向に沿った直線状になる。
これに対して、特許文献２に示されるような、配向膜と接触する液晶化合物のダイレクターの方向がランダムになったコレステリック液晶層では、液晶化合物の螺旋軸が様々な方向を向く。その結果、このようなコレステリック液晶層は、明部と暗部の縞模様が、厚さ方向に波を打ったような波打ち構造となる。このような波打ち構造を有するコレステリック液晶層は、入射した光を鏡面反射せずに、螺旋軸の方向に応じて拡散反射する。
加飾シート等に利用される、コレステリック液晶層を用いる反射シートでは、広い波長帯域の光を、良好な拡散性で反射できるのが好ましい。そのためには、例えば、上述した明部と暗部とが波打ち構造を有し、かつ、厚さ方向に螺旋ピッチが変化するコレステリック液晶層を、厚くするのが好ましい。
しかしながら、コレステリック液晶層を用いて、広い波長帯域の光を良好な拡散性で反射でき、かつ、ムラ等の目立たない良好な特性を有する反射シートは、未だ、実現されていない。
しかしながら、コレステリック液晶層を用いて、広い波長帯域の光を良好な拡散性で反射でき、かつ、ムラ等の目立たない良好な特性を有する反射シートは、未だ、実現されていない。
本発明の目的は、このような従来技術の問題点を解決することにあり、コレステリック液晶層を用いる反射シートにおいて、広い波長帯域の光を良好な拡散性で反射でき、しかも、ムラが目立たない、優れた特性を有する反射シートを提供することにある。
この課題を解決するために、本発明は、以下の構成を有する。
［１］ コレステリック液晶相を固定化してなる反射層を、複数、積層した構成を有し、
反射層は、走査型電子顕微鏡によって観察される断面において、コレステリック液晶相に由来する明部および暗部の少なくとも一部が、波打ち構造を有し、
反射層の少なくとも１層は、厚さ方向で螺旋ピッチが変化している構造である、ピッチグラジエント構造を有し、
積層された複数層の反射層のうち、反射層の表面以外を形成面とする反射層を下層反射層とした際に、下層反射層は、他の反射層よりも厚さが薄いことを特徴とする反射シート。
［２］ 下層反射層の厚さが３．５μｍ以下である、［１］に記載の反射シート。
［３］ 下層反射層以外の反射層の少なくとも１層が、厚さが４μｍ以上である、［１］または［２］に記載の反射シート。
［４］ 下層反射層以外の反射層の少なくとも１層が、厚さが下層反射層よりも１μｍ以上、厚い、［１］～［３］のいずれかに記載の反射シート。
［５］ 下層反射層以外の反射層の少なくとも１層が、ピッチグラジエント構造を有する、［１］～［４］のいずれかに記載の反射シート。
［６］ 全ての反射層がピッチグラジエント構造を有する、［５］に記載の反射シート。
［７］ 積分反射スペクトルの半値幅が１００ｎｍ以上である、［１］～［６］のいずれかに記載の反射シート。
［８］ 反射層の波打ち構造におけるピーク間距離の平均値が０．５～５０μｍである、［１］～［７］のいずれかに記載の反射シート。
［９］ 反射層を、２層、有する、［１］～［８］のいずれかに記載の反射シート。
［１０］ 支持体と、支持体の一方の表面に設けられる下地層と、を有し、下層反射層が下地層に隣接する、［１］～［９］のいずれかに記載の反射シート。
［１１］ 支持体を有し、下層反射層が支持体に隣接する、［１］～［９］のいずれかに記載の反射シート。
［１２］ 支持体が剥離可能である、［１０］または［１１］に記載の反射シート。
［１］ コレステリック液晶相を固定化してなる反射層を、複数、積層した構成を有し、
反射層は、走査型電子顕微鏡によって観察される断面において、コレステリック液晶相に由来する明部および暗部の少なくとも一部が、波打ち構造を有し、
反射層の少なくとも１層は、厚さ方向で螺旋ピッチが変化している構造である、ピッチグラジエント構造を有し、
積層された複数層の反射層のうち、反射層の表面以外を形成面とする反射層を下層反射層とした際に、下層反射層は、他の反射層よりも厚さが薄いことを特徴とする反射シート。
［２］ 下層反射層の厚さが３．５μｍ以下である、［１］に記載の反射シート。
［３］ 下層反射層以外の反射層の少なくとも１層が、厚さが４μｍ以上である、［１］または［２］に記載の反射シート。
［４］ 下層反射層以外の反射層の少なくとも１層が、厚さが下層反射層よりも１μｍ以上、厚い、［１］～［３］のいずれかに記載の反射シート。
［５］ 下層反射層以外の反射層の少なくとも１層が、ピッチグラジエント構造を有する、［１］～［４］のいずれかに記載の反射シート。
［６］ 全ての反射層がピッチグラジエント構造を有する、［５］に記載の反射シート。
［７］ 積分反射スペクトルの半値幅が１００ｎｍ以上である、［１］～［６］のいずれかに記載の反射シート。
［８］ 反射層の波打ち構造におけるピーク間距離の平均値が０．５～５０μｍである、［１］～［７］のいずれかに記載の反射シート。
［９］ 反射層を、２層、有する、［１］～［８］のいずれかに記載の反射シート。
［１０］ 支持体と、支持体の一方の表面に設けられる下地層と、を有し、下層反射層が下地層に隣接する、［１］～［９］のいずれかに記載の反射シート。
［１１］ 支持体を有し、下層反射層が支持体に隣接する、［１］～［９］のいずれかに記載の反射シート。
［１２］ 支持体が剥離可能である、［１０］または［１１］に記載の反射シート。
本発明によれば、コレステリック液晶層を用いる反射シートにおいて、広い波長帯域の光を良好な拡散性で反射でき、しかも、ムラが目立たない、優れた特性を有する反射シートが提供される。
以下、本発明について詳細に説明する。
なお、以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
本発明において、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、本発明において、液晶組成物および液晶化合物とは、硬化等により、もはや液晶性を示さなくなったものも概念として含まれる。
＜積分反射率＞
本発明において、反射シートの波長λにおける積分反射率Ｉ－Ｒ（λ）は、反射シートの反射層面（コレステリック液晶層面）から光が入射するように、分光光度計（日本分光社製、Ｖ－５５０）に大型積分球装置（日本分光社製、ＩＬＶ－４７１）を取り付けたものを用いて、光トラップによって測定すればよい。
本発明において、反射シートの波長λにおける積分反射率Ｉ－Ｒ（λ）は、反射シートの反射層面（コレステリック液晶層面）から光が入射するように、分光光度計（日本分光社製、Ｖ－５５０）に大型積分球装置（日本分光社製、ＩＬＶ－４７１）を取り付けたものを用いて、光トラップによって測定すればよい。
＜鏡面反射率＞
本発明において、反射シートの波長λにおける鏡面反射率Ｓ－Ｒ（λ）は、反射シートの反射層面から光が入射するように、分光光度計（日本分光社製、Ｖ－５５０）に絶対反射率測定装置（日本分光社製、ＡＲＶ－４７４）を取り付けたものを用いて、入射角５°において測定すればよい。
本発明において、反射シートの波長λにおける鏡面反射率Ｓ－Ｒ（λ）は、反射シートの反射層面から光が入射するように、分光光度計（日本分光社製、Ｖ－５５０）に絶対反射率測定装置（日本分光社製、ＡＲＶ－４７４）を取り付けたものを用いて、入射角５°において測定すればよい。
＜硬化率＞
本発明において、硬化率は、重合性の官能基の消費割合を、ＩＲ（Infrared）吸収スペクトルを用いて測定した値である。
例えば、試料を斜めに切削して、膜厚方向を面内に露出させる。生成した試料切片をＡＴＲ－ＩＲ（Attenuated Total Reflection-infrared spectroscopy）法によって、ＩＲ吸収スペクトルを測定する。得られた吸収スペクトルにおける１７２０ｃｍ-1付近のカルボニル基に基づく吸収強度と、８１０ｃｍ-1付近の炭素－炭素二重結合に基づく吸収強度との比から、重合性の官能基の消費割合を定量できる。
なお、反射層の両界面の硬化率を定量する場合は、生成した試料切片を膜厚方向に５等分して、最も外側の２領域に相当する領域について、上述したＡＴＲ－ＩＲ法によるＩＲ吸収スペクトルを測定することで、求めればよい。
本発明において、硬化率は、重合性の官能基の消費割合を、ＩＲ（Infrared）吸収スペクトルを用いて測定した値である。
例えば、試料を斜めに切削して、膜厚方向を面内に露出させる。生成した試料切片をＡＴＲ－ＩＲ（Attenuated Total Reflection-infrared spectroscopy）法によって、ＩＲ吸収スペクトルを測定する。得られた吸収スペクトルにおける１７２０ｃｍ-1付近のカルボニル基に基づく吸収強度と、８１０ｃｍ-1付近の炭素－炭素二重結合に基づく吸収強度との比から、重合性の官能基の消費割合を定量できる。
なお、反射層の両界面の硬化率を定量する場合は、生成した試料切片を膜厚方向に５等分して、最も外側の２領域に相当する領域について、上述したＡＴＲ－ＩＲ法によるＩＲ吸収スペクトルを測定することで、求めればよい。
＜選択反射中心波長および半値幅＞
本発明において、反射層（コレステリック液晶層）の選択反射中心波長、および、選択的な反射波長帯域における半値幅は、以下の方法で求めればよい。
すなわち、上述した方法によって積分反射率を測定すると、波長を横軸にした山型（上に凸型）である積分反射率のスペクトル波形が得られる。このときの積分反射率の最大値と最小値の平均反射率（算術平均）を求め、波形と平均反射率との２交点の２つの波長のうち、短波側の波長の値をλα（ｎｍ）、長波側の波長の値をλβ（ｎｍ）とし、下記式により算出する。
選択反射中心波長＝（λα＋λβ）／２
半値幅＝（λβ－λα）
ここで、拡散反射性が低く、鏡面反射性（正反射性）の強い試料の場合は、積分反射率の積分反射スペクトルの波形が鋸歯状に乱れる場合がある。このような場合は、上述した鏡面反射率のスペクトル波形にて、鏡面反射率の最大値と最小値の平均反射率（算術平均）を求め、波形と平均反射率との２交点の２つの波長のうち、短波側の波長の値をλα（ｎｍ）、長波側の波長の値をλβ（ｎｍ）として、上述の式により選択反射波長を算出すればよい。
別の方法として、Ａｘｏｍｅｔｒｉｘ社のＡｘｏｓｃａｎ等で、試料の透過スペクトルを測定することで、選択反射中心波長および半値幅を測定する方法が例示される。透過スペクトルを測定すると、波長を横軸にした谷型（下に凸型）である透過スペクトル波形が得られる。このときの透過率の最大値と最小値の平均反射率（算術平均）を求め、波形と平均透過率の２交点の２つの波長のうち、短波側の波長の値をλα（ｎｍ）、長波側の波長の値をλβ（ｎｍ）とすることで、上述した式により、選択反射中心波長および半値幅を算出する。
本発明において、反射層（コレステリック液晶層）の選択反射中心波長、および、選択的な反射波長帯域における半値幅は、以下の方法で求めればよい。
すなわち、上述した方法によって積分反射率を測定すると、波長を横軸にした山型（上に凸型）である積分反射率のスペクトル波形が得られる。このときの積分反射率の最大値と最小値の平均反射率（算術平均）を求め、波形と平均反射率との２交点の２つの波長のうち、短波側の波長の値をλα（ｎｍ）、長波側の波長の値をλβ（ｎｍ）とし、下記式により算出する。
選択反射中心波長＝（λα＋λβ）／２
半値幅＝（λβ－λα）
ここで、拡散反射性が低く、鏡面反射性（正反射性）の強い試料の場合は、積分反射率の積分反射スペクトルの波形が鋸歯状に乱れる場合がある。このような場合は、上述した鏡面反射率のスペクトル波形にて、鏡面反射率の最大値と最小値の平均反射率（算術平均）を求め、波形と平均反射率との２交点の２つの波長のうち、短波側の波長の値をλα（ｎｍ）、長波側の波長の値をλβ（ｎｍ）として、上述の式により選択反射波長を算出すればよい。
別の方法として、Ａｘｏｍｅｔｒｉｘ社のＡｘｏｓｃａｎ等で、試料の透過スペクトルを測定することで、選択反射中心波長および半値幅を測定する方法が例示される。透過スペクトルを測定すると、波長を横軸にした谷型（下に凸型）である透過スペクトル波形が得られる。このときの透過率の最大値と最小値の平均反射率（算術平均）を求め、波形と平均透過率の２交点の２つの波長のうち、短波側の波長の値をλα（ｎｍ）、長波側の波長の値をλβ（ｎｍ）とすることで、上述した式により、選択反射中心波長および半値幅を算出する。
図１に、本発明の反射シートの一例を概念的に示す。
図１に示す反射シート１０は、支持体１２と、支持体１２の一方の表面に形成される下地層１４と、下地層１４の表面に形成される第１反射層１６と、第１反射層１６の表面に形成される第２反射層１８とを有する。従って、反射層ではない、下地層１４の表面に形成される第１反射層１６は、本発明における下層反射層となる。
なお、以下の説明では、図中上方すなわち第２反射層１８側を上、図中下方すなわち支持体１２側を下、とも言う。
図１は、反射シート１０の断面を、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ：Scanning Electron Microscope）で観察した状態を概念的に示す図である（後述する図２および図３も同様）。
第１反射層１６および第２反射層１８は、いずれもコレステリック液晶相を固定してなる、コレステリック液晶層である。従って、第１反射層１６および第２反射層１８には、コレステリック液晶相に由来する明部Ｂと暗部Ｄとの縞模様が観察される。
図１に示す反射シート１０は、支持体１２と、支持体１２の一方の表面に形成される下地層１４と、下地層１４の表面に形成される第１反射層１６と、第１反射層１６の表面に形成される第２反射層１８とを有する。従って、反射層ではない、下地層１４の表面に形成される第１反射層１６は、本発明における下層反射層となる。
なお、以下の説明では、図中上方すなわち第２反射層１８側を上、図中下方すなわち支持体１２側を下、とも言う。
図１は、反射シート１０の断面を、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ：Scanning Electron Microscope）で観察した状態を概念的に示す図である（後述する図２および図３も同様）。
第１反射層１６および第２反射層１８は、いずれもコレステリック液晶相を固定してなる、コレステリック液晶層である。従って、第１反射層１６および第２反射層１８には、コレステリック液晶相に由来する明部Ｂと暗部Ｄとの縞模様が観察される。
＜支持体＞
反射シート１０において、支持体１２は、下地層１４、第１反射層１６および第２反射層１８を支持するものである。
支持体１２には、制限はなく、公知のシート状物（フィルム、板状物）が利用可能である。一例として、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）などのポリエステル、ポリカーボネート（ＰＣ）、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、シクロオレフィン樹脂、ポリアミド、ポリオレフィン、セルロース誘導体、および、シリコーン等からなる樹脂フィルムが例示される。
反射シート１０において、支持体１２は、下地層１４、第１反射層１６および第２反射層１８を支持するものである。
支持体１２には、制限はなく、公知のシート状物（フィルム、板状物）が利用可能である。一例として、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）などのポリエステル、ポリカーボネート（ＰＣ）、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、シクロオレフィン樹脂、ポリアミド、ポリオレフィン、セルロース誘導体、および、シリコーン等からなる樹脂フィルムが例示される。
支持体１２は、下地層１４から剥離可能な、剥離性の支持体１２であってもよい。または、反射シート１０が下地層１４を有さない場合には、支持体１２は、第１反射層１６から剥離可能な、剥離性の支持体１２であってもよい。
剥離性の支持体１２としては、セルロース誘導体、シクロオレフィン樹脂、および、ポリエチレンテレフタレートを含む樹脂等からなる樹脂フィルムが例示される。中でも、ポリエチレンテレフタレートを含む樹脂からなる樹脂フィルムは、好ましく例示される。
また、非剥離性の支持体１２と下地層１４との間に、公知の剥離層を設けることで、剥離性の支持体１２としてもよい。さらに、非剥離性の支持体１２の表面に公知の表面処理を施すことで、剥離性の支持体１２としてもよい。
剥離性の支持体１２は、例えば、加飾シートなどの他の反射シートおよび各種の光学デバイス等に貼着された後、画像表示装置を製造するために画像表示装置の構成部材に貼着された後、ならびに、自動車車内用の内装部材に貼着された後などに、反射シート（下地層１４）から剥離される。
剥離性の支持体１２としては、セルロース誘導体、シクロオレフィン樹脂、および、ポリエチレンテレフタレートを含む樹脂等からなる樹脂フィルムが例示される。中でも、ポリエチレンテレフタレートを含む樹脂からなる樹脂フィルムは、好ましく例示される。
また、非剥離性の支持体１２と下地層１４との間に、公知の剥離層を設けることで、剥離性の支持体１２としてもよい。さらに、非剥離性の支持体１２の表面に公知の表面処理を施すことで、剥離性の支持体１２としてもよい。
剥離性の支持体１２は、例えば、加飾シートなどの他の反射シートおよび各種の光学デバイス等に貼着された後、画像表示装置を製造するために画像表示装置の構成部材に貼着された後、ならびに、自動車車内用の内装部材に貼着された後などに、反射シート（下地層１４）から剥離される。
支持体１２の厚さには制限はなく、支持体１２の形成材料等に応じて、支持体としての作用を発現できる厚さを、適宜、設定すればよい。
支持体１２の厚さは、２０μｍ以上が好ましく、４０μｍ以上がより好ましい。また、剥離性の支持体１２の厚さは、３５μｍ以上が好ましく、５０μｍ以上がより好ましく、８０μｍ以上がさらに好ましい。下地層１４および第１反射層１６等の反射層を形成する際の基材となる支持体１２の厚さを２０μｍ以上、特に剥離性の支持体１２の厚さを５０μｍ以上とすることにより、ムラのない層を得ることができる。
支持体１２の厚さの上限には制限はないが、反射シート１０が無駄に厚くなることを防止できる等の点で、１０００μｍ以下が好ましく、５００μｍ以下より好ましく、３００μｍ以下がさらに好ましい。
支持体１２の厚さは、２０μｍ以上が好ましく、４０μｍ以上がより好ましい。また、剥離性の支持体１２の厚さは、３５μｍ以上が好ましく、５０μｍ以上がより好ましく、８０μｍ以上がさらに好ましい。下地層１４および第１反射層１６等の反射層を形成する際の基材となる支持体１２の厚さを２０μｍ以上、特に剥離性の支持体１２の厚さを５０μｍ以上とすることにより、ムラのない層を得ることができる。
支持体１２の厚さの上限には制限はないが、反射シート１０が無駄に厚くなることを防止できる等の点で、１０００μｍ以下が好ましく、５００μｍ以下より好ましく、３００μｍ以下がさらに好ましい。
＜下地層＞
図示例の反射シート１０において、支持体１２の上には下地層１４が形成される。
下地層１４としては、一例として、後述する第１反射層１６を形成する際に、溶剤による支持体１２の損傷を防止する保護層として作用する層、および、第１反射層１６の形成面と第１反射層１６の形成材料（後述する液晶組成物）との表面エネルギーの差を小さくする層、等が例示される。また、下地層１４は、支持体１２が剥離性である場合に、反射シート１０を他の部材に貼着して、支持体１２を剥離した後に、第１反射層１６を保護するための保護層として作用してもよい。
下地層１４の形成材料には、制限は無く、下地層１４に要求される作用に応じて、公知の各種の材料が、各種、利用可能である。下地層１４の形成材料としては、例えば、ポリアクリレート樹脂、ポリメタクリレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂、エポキシ樹脂、ポリアミド樹脂、および、ポリイミド樹脂が挙げられる。中でも、ポリアクリレート樹脂、および、ポリメタクリレート樹脂は、好ましく例示される。下地層１４としては、一例として、（メタ）アクリレートモノマーを含む非液晶性組成物を塗布して、硬化することで形成する下地層が例示される。
下地層１４の厚さには制限はなく、下地層１４の形成材料に応じて、要求される特性を満たすことができる厚さを、適宜、設定すればよい。下地層１４の厚さは、０．０１～８μｍが好ましく、０．０５～３μｍがより好ましい。なお、支持体１２にポリカーボネートを使用した場合には、支持体１２からの成分抽出が反射層に影響する場合がある。従って、支持体１２にポリカーボネートを使用した場合には、支持体１２からの成分抽出による反射層への影響を防ぐため、下地層１４の厚さは、０．０１～８μｍが好ましく、２．５～６μｍがより好ましい。
図示例の反射シート１０において、支持体１２の上には下地層１４が形成される。
下地層１４としては、一例として、後述する第１反射層１６を形成する際に、溶剤による支持体１２の損傷を防止する保護層として作用する層、および、第１反射層１６の形成面と第１反射層１６の形成材料（後述する液晶組成物）との表面エネルギーの差を小さくする層、等が例示される。また、下地層１４は、支持体１２が剥離性である場合に、反射シート１０を他の部材に貼着して、支持体１２を剥離した後に、第１反射層１６を保護するための保護層として作用してもよい。
下地層１４の形成材料には、制限は無く、下地層１４に要求される作用に応じて、公知の各種の材料が、各種、利用可能である。下地層１４の形成材料としては、例えば、ポリアクリレート樹脂、ポリメタクリレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂、エポキシ樹脂、ポリアミド樹脂、および、ポリイミド樹脂が挙げられる。中でも、ポリアクリレート樹脂、および、ポリメタクリレート樹脂は、好ましく例示される。下地層１４としては、一例として、（メタ）アクリレートモノマーを含む非液晶性組成物を塗布して、硬化することで形成する下地層が例示される。
下地層１４の厚さには制限はなく、下地層１４の形成材料に応じて、要求される特性を満たすことができる厚さを、適宜、設定すればよい。下地層１４の厚さは、０．０１～８μｍが好ましく、０．０５～３μｍがより好ましい。なお、支持体１２にポリカーボネートを使用した場合には、支持体１２からの成分抽出が反射層に影響する場合がある。従って、支持体１２にポリカーボネートを使用した場合には、支持体１２からの成分抽出による反射層への影響を防ぐため、下地層１４の厚さは、０．０１～８μｍが好ましく、２．５～６μｍがより好ましい。
なお、本発明の反射シートにおいて、支持体１２および下地層１４は、好ましい態様として設けられるものである。
従って、本発明の反射シートは、支持体１２および下地層１４の一方、または、両方を、有さなくてもよい。
従って、本発明の反射シートは、支持体１２および下地層１４の一方、または、両方を、有さなくてもよい。
＜第１反射層および第２反射層＞
反射シート１０において、下地層１４の表面には第１反射層１６（下層反射層）が形成され、第１反射層１６の表面には第２反射層１８が形成される。
第１反射層１６および第２反射層１８は、共に、コレスティック液晶相を固定してなる、コレスティック液晶層である。ここで、第１反射層１６は、反射層である第２反射層１８以外の下地層１４を形成面とする。従って、第１反射層１６は、本発明における下層反射層である。
反射シート１０において、下地層１４の表面には第１反射層１６（下層反射層）が形成され、第１反射層１６の表面には第２反射層１８が形成される。
第１反射層１６および第２反射層１８は、共に、コレスティック液晶相を固定してなる、コレスティック液晶層である。ここで、第１反射層１６は、反射層である第２反射層１８以外の下地層１４を形成面とする。従って、第１反射層１６は、本発明における下層反射層である。
コレステリック液晶相は、特定の波長において選択反射性を示すことが知られている。
一般的なコレステリック液晶相において、選択反射の中心波長（選択反射中心波長）λは、コレステリック液晶相における螺旋ピッチＰに依存し、コレステリック液晶相の平均屈折率ｎとλ＝ｎ×Ｐの関係に従う。そのため、この螺旋ピッチを調節することによって、選択反射中心波長を調節することができる。
コレステリック液晶相の選択反射中心波長は、螺旋ピッチが長いほど、長波長になる。
なお、螺旋ピッチとは、すなわち、コレステリック液晶相の螺旋構造１ピッチ分（螺旋の周期）であり、言い換えれば、螺旋の巻き数１回分であり、すなわち、コレステリック液晶相を構成する液晶化合物のダイレクターが３６０°回転する螺旋軸方向の長さである。ダイレクターは、例えば棒状液晶であれば、長軸方向である。
一般的なコレステリック液晶相において、選択反射の中心波長（選択反射中心波長）λは、コレステリック液晶相における螺旋ピッチＰに依存し、コレステリック液晶相の平均屈折率ｎとλ＝ｎ×Ｐの関係に従う。そのため、この螺旋ピッチを調節することによって、選択反射中心波長を調節することができる。
コレステリック液晶相の選択反射中心波長は、螺旋ピッチが長いほど、長波長になる。
なお、螺旋ピッチとは、すなわち、コレステリック液晶相の螺旋構造１ピッチ分（螺旋の周期）であり、言い換えれば、螺旋の巻き数１回分であり、すなわち、コレステリック液晶相を構成する液晶化合物のダイレクターが３６０°回転する螺旋軸方向の長さである。ダイレクターは、例えば棒状液晶であれば、長軸方向である。
コレステリック液晶相の螺旋ピッチは、コレステリック液晶層を形成する際に、液晶化合物と共に用いるカイラル剤の種類、および、カイラル剤の添加濃度に依存する。従って、これらを調節することによって、所望の螺旋ピッチを得ることができる。
なお、ピッチの調節については富士フイルム研究報告Ｎｏ．５０（２００５年）ｐ．６０－６３に詳細な記載がある。螺旋のセンスおよびピッチの測定法については「液晶化学実験入門」日本液晶学会編 シグマ出版２００７年出版、４６頁、および、「液晶便覧」液晶便覧編集委員会 丸善 １９６頁に記載される方法を用いることができる。
なお、ピッチの調節については富士フイルム研究報告Ｎｏ．５０（２００５年）ｐ．６０－６３に詳細な記載がある。螺旋のセンスおよびピッチの測定法については「液晶化学実験入門」日本液晶学会編 シグマ出版２００７年出版、４６頁、および、「液晶便覧」液晶便覧編集委員会 丸善 １９６頁に記載される方法を用いることができる。
また、コレステリック液晶相は、特定の波長において左右いずれかの円偏光に対して選択反射性を示す。反射光が右円偏光であるか左円偏光であるかは、コレステリック液晶相の螺旋の捩れ方向（センス）による。コレステリック液晶相による円偏光の選択反射は、コレステリック液晶層の螺旋の捩れ方向が右の場合は右円偏光を反射し、螺旋の捩れ方向が左の場合は左円偏光を反射する。
なお、コレステリック液晶相の旋回の方向は、コレステリック液晶層を形成する液晶化合物の種類および／または添加されるカイラル剤の種類によって調節できる。
なお、コレステリック液晶相の旋回の方向は、コレステリック液晶層を形成する液晶化合物の種類および／または添加されるカイラル剤の種類によって調節できる。
ここで、本発明の反射シート１０において、コレステリック液晶層である第１反射層１６および第２反射層１８は、共に、厚さ方向で螺旋ピッチが変化している、ピッチグラジエント構造を有する。厚さ方向とは、図１の上下方向である。
図示例において、第１反射層１６および第２反射層１８は、上方に向かって、螺旋ピッチが、漸次、大きくなっている。すなわち、第１反射層１６および第２反射層１８は、上方に向かって、選択反射中心波長すなわち選択的に反射する光の波長帯域が、漸次、長波長になる。
以下の説明では、コレステリック液晶層において、厚さ方向で螺旋ピッチが変化するピッチグラジエント構造を、ＰＧ構造（Pitch Gradient構造）とも言う。
図示例において、第１反射層１６および第２反射層１８は、上方に向かって、螺旋ピッチが、漸次、大きくなっている。すなわち、第１反射層１６および第２反射層１８は、上方に向かって、選択反射中心波長すなわち選択的に反射する光の波長帯域が、漸次、長波長になる。
以下の説明では、コレステリック液晶層において、厚さ方向で螺旋ピッチが変化するピッチグラジエント構造を、ＰＧ構造（Pitch Gradient構造）とも言う。
ＰＧ構造を有するコレステリック液晶層は、光の照射によって、戻り異性化、二量化、ならびに、異性化および二量化等を生じて、螺旋誘起力（ＨＴＰ：Helical Twisting Power）が変化するカイラル剤を用い、コレステリック液晶層を形成する液晶組成物の硬化前、または、液晶組成物の硬化時、カイラル剤のＨＴＰを変化させる波長の光を照射することで、形成できる。
例えば、光の照射によってＨＴＰが小さくなるカイラル剤を用いることにより、光の照射によってカイラル剤のＨＴＰが低下する。
ここで、照射される光は、コレステリック液晶層の形成材料によって吸収される。従って、例えば、上方から光を照射した場合には、光の照射量は、上方から下方に向かって、漸次、少なくなる。すなわち、カイラル剤のＨＴＰの低下量は、上方から下方に向かって、漸次、小さくなる。そのため、ＨＴＰが大きく低下した上方では、螺旋の誘起が小さいので螺旋ピッチが長くなり、ＨＴＰの低下が小さい下方では、カイラル剤が、本来、有するＨＴＰで螺旋が誘起されるので、螺旋ピッチが短くなる。
すなわち、この場合には、コレステリック液晶層は、上方では長波長の光を選択的に反射し、下方では、上方に比して短波長の光を選択的に反射する。従って、厚さ方向で螺旋ピッチが変化するＰＧ構造のコレステリック液晶層を用いることにより、広い波長帯域の光を選択的に反射できる。
例えば、光の照射によってＨＴＰが小さくなるカイラル剤を用いることにより、光の照射によってカイラル剤のＨＴＰが低下する。
ここで、照射される光は、コレステリック液晶層の形成材料によって吸収される。従って、例えば、上方から光を照射した場合には、光の照射量は、上方から下方に向かって、漸次、少なくなる。すなわち、カイラル剤のＨＴＰの低下量は、上方から下方に向かって、漸次、小さくなる。そのため、ＨＴＰが大きく低下した上方では、螺旋の誘起が小さいので螺旋ピッチが長くなり、ＨＴＰの低下が小さい下方では、カイラル剤が、本来、有するＨＴＰで螺旋が誘起されるので、螺旋ピッチが短くなる。
すなわち、この場合には、コレステリック液晶層は、上方では長波長の光を選択的に反射し、下方では、上方に比して短波長の光を選択的に反射する。従って、厚さ方向で螺旋ピッチが変化するＰＧ構造のコレステリック液晶層を用いることにより、広い波長帯域の光を選択的に反射できる。
また、コレステリック液晶層である第１反射層１６および第２反射層１８は、ＳＥＭで観察した断面において、コレステリック液晶相に由来して、厚さ方向（図１中上下方向）に、明部Ｂ（明線）および暗部Ｄ（暗線）を交互に積層した縞模様が観察される。
ここで、本発明の構造体１０において、ＳＥＭで観察した第１反射層１６および第２反射層１８の断面における明部Ｂおよび暗部Ｄは、少なくとも一部が、面方向に周期的な波状の凹凸を成す、波打ち構造を有する。
すなわち、本発明において、第１反射層１６および第２反射層１８は、コレステリック液晶構造を有し、螺旋軸と反射層の表面とのなす角が周期的に変化する構造を有する層である。言い換えれば、両反射層は、コレステリック液晶構造を有し、コレステリック液晶構造はＳＥＭにて観測される反射層の断面図において明部Ｂと暗部Ｄとの縞模様を与え、暗部がなす線の法線と反射層の表面となす角が周期的に変化する、反射層である。
好ましくは、波打ち構造とは、縞模様を成す明部Ｂまたは暗部Ｄの連続線において、コレステリック液晶層（反射層）の平面に対する傾斜角度の絶対値が５°以上である領域Ｍが少なくとも１つ存在し、かつ、領域Ｍを面方向に挟んで最も近い位置にある、傾斜角度が０°の山または谷が特定される構造である。
傾斜角度０°の山または谷とは、凸状、凹状を含むが、傾斜角度０°であれば、階段状および棚状の点も含む。波打ち構造は、縞模様の明部Ｂまたは暗部Ｄの連続線において、傾斜角度の絶対値が５°以上である領域Ｍと、それを挟む山または谷とが、複数、繰り返すのが好ましい。
すなわち、本発明において、第１反射層１６および第２反射層１８は、コレステリック液晶構造を有し、螺旋軸と反射層の表面とのなす角が周期的に変化する構造を有する層である。言い換えれば、両反射層は、コレステリック液晶構造を有し、コレステリック液晶構造はＳＥＭにて観測される反射層の断面図において明部Ｂと暗部Ｄとの縞模様を与え、暗部がなす線の法線と反射層の表面となす角が周期的に変化する、反射層である。
好ましくは、波打ち構造とは、縞模様を成す明部Ｂまたは暗部Ｄの連続線において、コレステリック液晶層（反射層）の平面に対する傾斜角度の絶対値が５°以上である領域Ｍが少なくとも１つ存在し、かつ、領域Ｍを面方向に挟んで最も近い位置にある、傾斜角度が０°の山または谷が特定される構造である。
傾斜角度０°の山または谷とは、凸状、凹状を含むが、傾斜角度０°であれば、階段状および棚状の点も含む。波打ち構造は、縞模様の明部Ｂまたは暗部Ｄの連続線において、傾斜角度の絶対値が５°以上である領域Ｍと、それを挟む山または谷とが、複数、繰り返すのが好ましい。
図２に、一般的なコレステリック液晶相を固定してなる層の断面を概念的に示す。
先にも述べたが、図２に示すように、基板３０上に形成されたコレステリック液晶層３２の断面をＳＥＭで観察すると、明部Ｂと暗部Ｄとの縞模様が観察される。すなわち、コレステリック液晶層の断面では、厚さ方向に明部Ｂと暗部Ｄとを交互に積層した層状構造が観察される。
コレステリック液晶層では、明部Ｂと暗部Ｄの繰り返し２回分が、螺旋ピッチに相当する。このことから、コレステリック液晶層すなわち反射層の螺旋ピッチは、ＳＥＭ断面図から測定することができる。明部Ｂと暗部Ｄの繰り返し２回分とは、すなわち、明部３つ、および、暗部２つ分である。
先にも述べたが、図２に示すように、基板３０上に形成されたコレステリック液晶層３２の断面をＳＥＭで観察すると、明部Ｂと暗部Ｄとの縞模様が観察される。すなわち、コレステリック液晶層の断面では、厚さ方向に明部Ｂと暗部Ｄとを交互に積層した層状構造が観察される。
コレステリック液晶層では、明部Ｂと暗部Ｄの繰り返し２回分が、螺旋ピッチに相当する。このことから、コレステリック液晶層すなわち反射層の螺旋ピッチは、ＳＥＭ断面図から測定することができる。明部Ｂと暗部Ｄの繰り返し２回分とは、すなわち、明部３つ、および、暗部２つ分である。
コレステリック液晶層３２においては、一般的に、明部Ｂおよび暗部Ｄの縞模様（層状構造）は、図２に示すように、基板３０の表面と平行となるように形成される。このようなコレステリック液晶層３２は、鏡面反射性を示す。すなわち、コレステリック液晶層３２の法線方向から光が入射される場合、法線方向に光は反射されるが、斜め方向には光は反射されにくく、拡散反射性に劣る（図２中の矢印参照）。
これに対して、図３に断面を概念的に示すコレステリック液晶層３４のように、明部Ｂおよび暗部Ｄが波打ち構造（アンジュレーション構造）を有する場合には、コレステリック液晶層３４の法線方向から光が入射されると、図３に概念的に示すように、液晶化合物の螺旋軸が傾いている領域があるため、入射光の一部が斜め方向に反射される（図３中の矢印参照）。
つまり、コレステリック液晶相を固定してなるコレステリック液晶層において、明部Ｂと暗部Ｄとが波打ち構造を有することにより、拡散反射性の高い反射層が実現できる。
つまり、コレステリック液晶相を固定してなるコレステリック液晶層において、明部Ｂと暗部Ｄとが波打ち構造を有することにより、拡散反射性の高い反射層が実現できる。
本発明の反射シート１０は、第１反射層１６および第２反射層１８が、共に、ＳＥＭで観察する断面において、コレステリック液晶相に由来する明部Ｂと暗部Ｄとが、波打ち構造を有する。
以下の説明では、コレステリック液晶層（反射層）が、ＳＥＭで観察する断面において、コレステリック液晶相に由来する明部Ｂと暗部Ｄとが、波打ち構造を有する構成を、単に『コレステリック液晶層（反射層）が波打ち構造を有する』とも言う。
波打ち構造を有するコレステリック液晶層は、ラビング等の配向処理を施さない形成面にコレステリック液晶層を形成することで、形成できる。従って、図示例であれば、下地層１４にラビング処理等の配向処理を施さずに、第１反射層１６を形成することで、波打ち構造を有する第１反射層を形成できる。
すなわち、配向処理を施さない下地層１４にコレステリック液晶層である第１反射層１６を形成すると、液晶化合物に対する水平配向規制力がないために、下地層１４の物性に応じて、下地層１４の表面において、液晶化合物の配向方向が様々な方向になる。このような状態で第１反射層１６を形成すると、コレステリック液晶相を構成する液晶化合物の螺旋軸が様々な方向を向き、その結果、第１反射層１６において、明部Ｂと暗部Ｄの縞模様が、波打ち構造となる。
以下の説明では、コレステリック液晶層（反射層）が、ＳＥＭで観察する断面において、コレステリック液晶相に由来する明部Ｂと暗部Ｄとが、波打ち構造を有する構成を、単に『コレステリック液晶層（反射層）が波打ち構造を有する』とも言う。
波打ち構造を有するコレステリック液晶層は、ラビング等の配向処理を施さない形成面にコレステリック液晶層を形成することで、形成できる。従って、図示例であれば、下地層１４にラビング処理等の配向処理を施さずに、第１反射層１６を形成することで、波打ち構造を有する第１反射層を形成できる。
すなわち、配向処理を施さない下地層１４にコレステリック液晶層である第１反射層１６を形成すると、液晶化合物に対する水平配向規制力がないために、下地層１４の物性に応じて、下地層１４の表面において、液晶化合物の配向方向が様々な方向になる。このような状態で第１反射層１６を形成すると、コレステリック液晶相を構成する液晶化合物の螺旋軸が様々な方向を向き、その結果、第１反射層１６において、明部Ｂと暗部Ｄの縞模様が、波打ち構造となる。
また、コレステリック液晶層の上にコレステリック液晶層を形成すると、上層のコレステリック液晶層は、下層のコレステリック液晶層の表面の配向状態を踏襲する。言い換えれば、コレステリック液晶層の上にコレステリック液晶層を形成すると、上層のコレステリック液晶層の配向状態は、下層のコレステリック液晶層の表面の配向状態に追従する。
従って、波打ち構造を有する第１反射層１６の上に、コレステリック液晶層である第２反射層１８を形成すると、第２反射層１８は、第１反射層１６の表面の配向状態を踏襲して、第２反射層１８も第１反射層１６と同様の波打ち構造を有するコレステリック液晶層となる。そのため、反射シート１０において、第１反射層１６と第２反射層１８とは、波の周期すなわち波打ち構造の凹凸が、ほぼ一致した、同様の波打ち構造となる。
従って、波打ち構造を有する第１反射層１６の上に、コレステリック液晶層である第２反射層１８を形成すると、第２反射層１８は、第１反射層１６の表面の配向状態を踏襲して、第２反射層１８も第１反射層１６と同様の波打ち構造を有するコレステリック液晶層となる。そのため、反射シート１０において、第１反射層１６と第２反射層１８とは、波の周期すなわち波打ち構造の凹凸が、ほぼ一致した、同様の波打ち構造となる。
波の振幅（波（凹凸）の高さ）は、第１反射層１６と第２反射層１８とで、同じでも異なってもよい。
ここで、一般的なカイラル剤は、光を照射されることでＨＴＰが低下する。また、カイラル剤のＨＴＰを変化させるための光は、通常、支持体１２とは逆側から照射される。特に、第２反射層１８、さらに第２反射層１８の後に形成される反射層は、先に形成した反射層（コレステリック液晶層）による影響を無くすため、カイラル剤のＨＴＰを変化させるための光は、支持体１２とは逆側から照射するのが好ましい。
また、第１反射層１６および第２反射層１８の内部では、波の振幅は同じでも異なってもよく、波の振幅が同じ領域と異なる領域とが混在してもよい。
ここで、一般的なカイラル剤は、光を照射されることでＨＴＰが低下する。また、カイラル剤のＨＴＰを変化させるための光は、通常、支持体１２とは逆側から照射される。特に、第２反射層１８、さらに第２反射層１８の後に形成される反射層は、先に形成した反射層（コレステリック液晶層）による影響を無くすため、カイラル剤のＨＴＰを変化させるための光は、支持体１２とは逆側から照射するのが好ましい。
また、第１反射層１６および第２反射層１８の内部では、波の振幅は同じでも異なってもよく、波の振幅が同じ領域と異なる領域とが混在してもよい。
なお、本発明の反射シート１０において、第１反射層１６および第２反射層１８の明部Ｂおよび暗部Ｄは、全域が波打ち構造になっているのに制限はされず、少なくとも一部が波打ち構造になっていればよい。
すなわち、本発明の反射シート１０において、第１反射層１６および第２反射層１８における明部Ｂおよび暗部Ｄは、ここで生じる欠陥部等に起因して波打ち構造になっていない領域を含んでもよい。
すなわち、本発明の反射シート１０において、第１反射層１６および第２反射層１８における明部Ｂおよび暗部Ｄは、ここで生じる欠陥部等に起因して波打ち構造になっていない領域を含んでもよい。
本発明の反射シートは、波打ち構造を有する反射層（コレステリック液晶層）を、複数層、有し、かつ、反射層の少なくとも１層が、厚さ方向で螺旋ピッチが変化するＰＧ構造を有し、さらに、反射層以外を形成面とする下層反射層が、反射層を形成面とする他の反射層よりも厚さが薄い。図示例の反射シート１０は、第１反射層１６および第２反射層１８の２層の反射層を有し、好ましい態様として両反射層ともＰＧ構造を有し、下層反射層である第１反射層１６は第２反射層１８よりも薄い。この図示例において第２反射層１８が最表層である。
本発明の反射シート１０は、このような構成を有することにより、広い波長帯域の光を良好な拡散性で反射でき、しかも、反射層（コレステリック液晶層）の欠陥に起因する色ムラおよび光量ムラ等が目立たない、良好な特性を有する反射シートを実現している。
本発明の反射シート１０は、このような構成を有することにより、広い波長帯域の光を良好な拡散性で反射でき、しかも、反射層（コレステリック液晶層）の欠陥に起因する色ムラおよび光量ムラ等が目立たない、良好な特性を有する反射シートを実現している。
上述したように、コレステリック液晶層を反射層として用いる反射シートにおいて、良好な拡散反射性を得るためには、コレステリック液晶層が、ＳＥＭで観察する断面において、コレステリック液晶相に由来する明部Ｂおよび暗部Ｄが波打ち構造を有するのが好ましい。また、コレステリック液晶層を反射層として用いる反射シートにおいて、選択的な反射波長帯域を広くするためには、コレステリック液晶層の厚さ方向で螺旋ピッチが変化するＰＧ構造を有するのが好ましい。
ここで、上述したように、ＰＧ構造は、光の照射によってＨＴＰが変化するカイラル剤を用い、コレステリック液晶層の形成時に、カイラル剤が吸収する波長の光を照射することで、厚さ方向の光の照射量すなわちＨＴＰの変化量を変えることで得られる。従って、コレステリック液晶層を形成する際の光の照射量の差が、厚さ方向で大きいほど、選択的な反射波長帯域を広くできる。
ここで、上述したように、ＰＧ構造は、光の照射によってＨＴＰが変化するカイラル剤を用い、コレステリック液晶層の形成時に、カイラル剤が吸収する波長の光を照射することで、厚さ方向の光の照射量すなわちＨＴＰの変化量を変えることで得られる。従って、コレステリック液晶層を形成する際の光の照射量の差が、厚さ方向で大きいほど、選択的な反射波長帯域を広くできる。
ところが、本発明者らの検討によれば、波打ち構造およびＰＧ構造を有するコレステリック液晶層を反射層として用いる反射シートにおいて、コレステリック液晶層の膜厚を厚くすると、コレステリック液晶層の波打ち構造の欠陥が目立ち、色ムラおよび反射光量ムラ等を生じてしまう。
上述したように、波打ち構造のコレステリック液晶層は、配向処理を行わない面にコレステリック液晶層を形成することで得られる。すなわち、波打ち構造のコレステリック液晶層は、液晶化合物に対する水平配向規制力が無い状態で形成される。そのため、コレステリック液晶層の明部Ｂおよび暗部Ｄの少なくとも一方に、破断部、分岐部、極端な屈曲部、および、折り返し部などの、欠陥部が形成されることがある。
一方、ＰＧ構造は、コレステリック液晶相の螺旋ピッチが変化する構造である。そのため、ＰＧ構造のコレステリック液晶層は、螺旋ピッチの変化に応じて、コレステリック液晶層の欠陥がある場合に、これを増幅するような働きをしてしまい、欠陥が目立つ。この欠陥の増幅作用は、コレステリック液晶層が厚いほど、大きくなる。
そのため、波打ち構造およびＰＧ構造を有し、かつ、ある程度の厚さを有するコレステリック液晶層を反射層として用いる反射シートは、反射層の欠陥があると、通常のコレステリック液晶層に比べて欠陥が目立ち、年輪のような色ムラおよび反射光量ムラ等を生じてしまう。
一方、ＰＧ構造は、コレステリック液晶相の螺旋ピッチが変化する構造である。そのため、ＰＧ構造のコレステリック液晶層は、螺旋ピッチの変化に応じて、コレステリック液晶層の欠陥がある場合に、これを増幅するような働きをしてしまい、欠陥が目立つ。この欠陥の増幅作用は、コレステリック液晶層が厚いほど、大きくなる。
そのため、波打ち構造およびＰＧ構造を有し、かつ、ある程度の厚さを有するコレステリック液晶層を反射層として用いる反射シートは、反射層の欠陥があると、通常のコレステリック液晶層に比べて欠陥が目立ち、年輪のような色ムラおよび反射光量ムラ等を生じてしまう。
これに対して、本発明の反射シート１０は、波打ち構造およびＰＧ構造を有する第１反射層１６および第２反射層１８を有し、第１反射層１６の厚さが、第２反射層１８の厚さよりも薄い。
上述したように、第１反射層１６は、配向規制力の無い下地層１４に形成されるので、欠陥が生じやすい。しかしながら、第１反射層１６は波打ち構造に配向されたものであり、表面には、ある程度の配向規制力を有する。
また、上述したように、第２反射層１８は、第１反射層１６の表面の配向状態を踏襲する。ここで、第１反射層１６は波打ち構造に配向された、表面に配向規制力を有するものであるので、結果的に、この上に形成される第２反射層１８は、配向処理を施された形成面に形成された場合と同様になる。そのため、第２反射層１８は、波打ち構造を有するにも関わらす、欠陥の発生を大幅に抑制でき、したがって、厚くしても欠陥が目立たない。
加えて、欠陥が多い第１反射層１６は、第２反射層１８よりも薄いので、ＰＧ構造を有していても、欠陥の増幅作用は小さく、欠陥を目立たなくできる。
従って、本発明によれば、波打ち構造およびＰＧ構造を有するコレステリック液晶層を反射層としても用いる反射シートにおいて、第２反射層１８を厚くすることができ、選択的な反射波長帯域が広く、良好な拡散反射性を有し、しかも、欠陥が目立たない、優れた特性を有する反射シートを実現できる。
上述したように、第１反射層１６は、配向規制力の無い下地層１４に形成されるので、欠陥が生じやすい。しかしながら、第１反射層１６は波打ち構造に配向されたものであり、表面には、ある程度の配向規制力を有する。
また、上述したように、第２反射層１８は、第１反射層１６の表面の配向状態を踏襲する。ここで、第１反射層１６は波打ち構造に配向された、表面に配向規制力を有するものであるので、結果的に、この上に形成される第２反射層１８は、配向処理を施された形成面に形成された場合と同様になる。そのため、第２反射層１８は、波打ち構造を有するにも関わらす、欠陥の発生を大幅に抑制でき、したがって、厚くしても欠陥が目立たない。
加えて、欠陥が多い第１反射層１６は、第２反射層１８よりも薄いので、ＰＧ構造を有していても、欠陥の増幅作用は小さく、欠陥を目立たなくできる。
従って、本発明によれば、波打ち構造およびＰＧ構造を有するコレステリック液晶層を反射層としても用いる反射シートにおいて、第２反射層１８を厚くすることができ、選択的な反射波長帯域が広く、良好な拡散反射性を有し、しかも、欠陥が目立たない、優れた特性を有する反射シートを実現できる。
図示例の反射シート１０は、第１反射層１６および第２反射層１８が、共に、ＰＧ構造を有するが、本発明は、これに制限はされない。
すなわち、本発明の反射シートは、第１反射層１６がＰＧ構造を有し、第２反射層１８は螺旋ピッチの均一な構造を有していてもよく、第１反射層１６は螺旋ピッチが均一な構造を有し、第２反射層１８がＰＧ構造を有していてもよい。
しかしながら、本発明の反射シートにおいては、少なくとも第２反射層１８はＰＧ構造を有するのが好ましく、図示例のように、第１反射層１６および第２反射層１８が、共に、ＰＧ構造を有するのがより好ましい。
この点に関しては、反射層を３層以上有する場合も、同様である。すなわち、本発明の反射シートは、複数層の反射層の少なくとも１層がＰＧ構造を有していればよい。しかしながら、本発明の反射シートにおいては、第１反射層１６（下層反射層）以外の反射層の少なくとも１層はＰＧ構造を有するのが好ましく、第１反射層１６以外の反射層の複数層がＰＧ構造を有するのがより好ましく、第１反射層１６以外の全ての反射層がＰＧ構造を有するのがさらに好ましい。この際には、第１反射層１６は、ＰＧ構造を有していてもいなくてもよいが、ＰＧ構造を有するのが好ましい。
すなわち、本発明の反射シートは、第１反射層１６がＰＧ構造を有し、第２反射層１８は螺旋ピッチの均一な構造を有していてもよく、第１反射層１６は螺旋ピッチが均一な構造を有し、第２反射層１８がＰＧ構造を有していてもよい。
しかしながら、本発明の反射シートにおいては、少なくとも第２反射層１８はＰＧ構造を有するのが好ましく、図示例のように、第１反射層１６および第２反射層１８が、共に、ＰＧ構造を有するのがより好ましい。
この点に関しては、反射層を３層以上有する場合も、同様である。すなわち、本発明の反射シートは、複数層の反射層の少なくとも１層がＰＧ構造を有していればよい。しかしながら、本発明の反射シートにおいては、第１反射層１６（下層反射層）以外の反射層の少なくとも１層はＰＧ構造を有するのが好ましく、第１反射層１６以外の反射層の複数層がＰＧ構造を有するのがより好ましく、第１反射層１６以外の全ての反射層がＰＧ構造を有するのがさらに好ましい。この際には、第１反射層１６は、ＰＧ構造を有していてもいなくてもよいが、ＰＧ構造を有するのが好ましい。
第１反射層１６の厚さには、制限はなく、第２反射層１８（その他の反射層）よりも薄ければよい。
第１反射層１６の厚さは、３．５μｍ以下が好ましく、３．２μｍ以下がより好ましく、２．７μｍ以下がさらに好ましい。
第１反射層１６の厚さを３．５μｍ以下とすることにより、コレステリック液晶相の自己組織化による配向規制力を膜厚方向に伝播させることができるため、コレステリック液晶層の欠陥をより目立たなくできる点で好ましい。
なお、第２反射層１８に対して十分な配向規制力を発現できる等の点で、第１反射層１６の厚さは、０．３μｍ以上が好ましい。
第１反射層１６の厚さは、３．５μｍ以下が好ましく、３．２μｍ以下がより好ましく、２．７μｍ以下がさらに好ましい。
第１反射層１６の厚さを３．５μｍ以下とすることにより、コレステリック液晶相の自己組織化による配向規制力を膜厚方向に伝播させることができるため、コレステリック液晶層の欠陥をより目立たなくできる点で好ましい。
なお、第２反射層１８に対して十分な配向規制力を発現できる等の点で、第１反射層１６の厚さは、０．３μｍ以上が好ましい。
第２反射層１８（第１反射層１６以外の反射層）の厚さにも、制限はなく、第１反射層１６よりも厚ければよい。
第２反射層１８の厚さは、４μｍ以上が好ましく、５μｍ以上がより好ましく、６μｍ以上がさらに好ましい。
第２反射層１８の厚さを４μｍ以上とすることにより、より広い波長帯域の光を選択的に反射でき、さらに高い反射率を得られる点で好ましい。
なお、反射シート１０が無駄に厚くなることを防止できる点で、第２反射層１８の厚さは７μｍ以下が好ましい。
第２反射層１８の厚さは、４μｍ以上が好ましく、５μｍ以上がより好ましく、６μｍ以上がさらに好ましい。
第２反射層１８の厚さを４μｍ以上とすることにより、より広い波長帯域の光を選択的に反射でき、さらに高い反射率を得られる点で好ましい。
なお、反射シート１０が無駄に厚くなることを防止できる点で、第２反射層１８の厚さは７μｍ以下が好ましい。
第１反射層１６と第２反射層１８との厚さの差にも、制限はないが、１μｍ以上が好ましく、２μｍ以上がより好ましく、２．５μｍ以上がさらに好ましい。
第２反射層１８の厚さを第１反射層１６よりも１μｍ以上、厚くすることにより、より広い波長帯域の光を選択的に反射できる、コレステリック液晶層の欠陥をより目立たなくできる等の点で好ましい。
第２反射層１８の厚さを第１反射層１６よりも１μｍ以上、厚くすることにより、より広い波長帯域の光を選択的に反射できる、コレステリック液晶層の欠陥をより目立たなくできる等の点で好ましい。
第１反射層１６および第２反射層１８において、波打ち構造のピーク間距離、および、振幅（波の高さ）も、制限はない。
ここで、波打ち構造を有するコレステリック液晶層においては、ピーク間距離が短いほど高い拡散反射性を発現し、また、振幅が大きいほど高い拡散反射性を発現する。
欠陥の少ない波打ち構造を形成し、より優れた拡散反射性を得られる点で、第１反射層１６の波打ち構造は、ピーク間距離の平均値が０．５～５０μｍであるのが好ましく、１．５～２０μｍであるのがより好ましく、２．５～１０μｍであるのがさらに好ましい。
なお、上述のとおり、第２反射層１８は第１反射層１６の波打ち構造を踏襲するので、第２反射層１８のピーク間距離の平均値も、第１反射層１６と、ほぼ同様になる。
ここで、波打ち構造を有するコレステリック液晶層においては、ピーク間距離が短いほど高い拡散反射性を発現し、また、振幅が大きいほど高い拡散反射性を発現する。
欠陥の少ない波打ち構造を形成し、より優れた拡散反射性を得られる点で、第１反射層１６の波打ち構造は、ピーク間距離の平均値が０．５～５０μｍであるのが好ましく、１．５～２０μｍであるのがより好ましく、２．５～１０μｍであるのがさらに好ましい。
なお、上述のとおり、第２反射層１８は第１反射層１６の波打ち構造を踏襲するので、第２反射層１８のピーク間距離の平均値も、第１反射層１６と、ほぼ同様になる。
なお、波打ち構造のピーク間距離とは、図４に概念的に示すように、波打ち構造において、最も近接する凸の頂点間の距離ｐである。
ピーク間距離の平均値は、具体的には、以下のように測定する。まず、上述した、コレステリック液晶層の平面に対する傾斜角度の絶対値が５°以上である領域Ｍを挟み、最も近い位置にある、２点の傾斜角度０°の山（または谷）について、コレステリック液晶層の面方向の距離を計測する。このような計測を、コレステリック液晶層の断面長軸方向の長さ１００μｍについて行い、全膜厚において算術平均した値を、ピーク間距離の平均値とする。
ピーク間距離の平均値は、具体的には、以下のように測定する。まず、上述した、コレステリック液晶層の平面に対する傾斜角度の絶対値が５°以上である領域Ｍを挟み、最も近い位置にある、２点の傾斜角度０°の山（または谷）について、コレステリック液晶層の面方向の距離を計測する。このような計測を、コレステリック液晶層の断面長軸方向の長さ１００μｍについて行い、全膜厚において算術平均した値を、ピーク間距離の平均値とする。
本発明の反射シート１０において、第１反射層１６が選択的に反射する波長帯域、および、第２反射層１８が選択的に反射する波長帯域には、制限はなく、反射シートの用途等に応じて、適宜、設定すればよい。
従って、第１反射層１６が選択的に反射する波長帯域と、第２反射層１８が選択的に反射する波長帯域は、同じでも、異なってもよい。また、第１反射層１６と第２反射層１８とで、反射波長帯域が異なる場合には、重複する波長帯域を有してもよく、重複する波長帯域を有さなくてもよい。
また、第１反射層１６が反射する円偏光と、第２反射層１８が反射する円偏光とは、旋回方向が同じでも異なってもよい。
以上の点に関しては、３層以上の反射層を有する場合における、各反射層に関しても、同様である。
なお、上述しているが、本発明の反射シートは、３層以上の反射層を有してもよい。各反射層が反射する円偏光の旋回方向は、同じでも、異なっていてもよい。ここで、反射層の少なくとも１層がＰＧ構造を有する本発明は、1つの反射層で広い波長帯域に対応して選択的な反射が可能であるので、反射層数を多くする必要は無く、反射層は２層が好ましい。好適な一例として、互いに反射する円偏光の旋回方向が異なる２層の反射層を有する反射シートが例示される。
従って、第１反射層１６が選択的に反射する波長帯域と、第２反射層１８が選択的に反射する波長帯域は、同じでも、異なってもよい。また、第１反射層１６と第２反射層１８とで、反射波長帯域が異なる場合には、重複する波長帯域を有してもよく、重複する波長帯域を有さなくてもよい。
また、第１反射層１６が反射する円偏光と、第２反射層１８が反射する円偏光とは、旋回方向が同じでも異なってもよい。
以上の点に関しては、３層以上の反射層を有する場合における、各反射層に関しても、同様である。
なお、上述しているが、本発明の反射シートは、３層以上の反射層を有してもよい。各反射層が反射する円偏光の旋回方向は、同じでも、異なっていてもよい。ここで、反射層の少なくとも１層がＰＧ構造を有する本発明は、1つの反射層で広い波長帯域に対応して選択的な反射が可能であるので、反射層数を多くする必要は無く、反射層は２層が好ましい。好適な一例として、互いに反射する円偏光の旋回方向が異なる２層の反射層を有する反射シートが例示される。
第１反射層１６および第２反射層１８の吸光度にも、制限はない。
ここで、第１反射層１６および第２反射層１８の少なくとも一方は、含有するカイラル剤が吸収する最大吸収波長±１０ｎｍの波長の光の吸光度が少なくとも３．２であるのが好ましい。一例として、第１反射層１６および第２反射層１８の少なくとも一方は、波長３１３ｎｍの光の吸光度が３．２以上であるのが好ましい。
第１反射層１６および第２反射層１８の少なくとも一方において、含有するカイラル剤が吸収する最大吸収波長±１０ｎｍの波長の光の吸光度を３．２以上とすることにより、反射層に異性化光が染み込むほど光量が減衰し、膜厚方向に異性化光の到達光量分布を形成できるため、良好なＰＧ構造を形成できる点で好ましい。
ここで、第１反射層１６および第２反射層１８の少なくとも一方は、含有するカイラル剤が吸収する最大吸収波長±１０ｎｍの波長の光の吸光度が少なくとも３．２であるのが好ましい。一例として、第１反射層１６および第２反射層１８の少なくとも一方は、波長３１３ｎｍの光の吸光度が３．２以上であるのが好ましい。
第１反射層１６および第２反射層１８の少なくとも一方において、含有するカイラル剤が吸収する最大吸収波長±１０ｎｍの波長の光の吸光度を３．２以上とすることにより、反射層に異性化光が染み込むほど光量が減衰し、膜厚方向に異性化光の到達光量分布を形成できるため、良好なＰＧ構造を形成できる点で好ましい。
また、図１に示す反射シート１０は、第１反射層１６および第２反射層１８のＰＧ構造は、共に、上方に向かって螺旋ピッチが、漸次、長くなっているが、本発明は、これに制限はされない。
すなわち、本発明の反射シートにおいては、第１反射層１６および第２反射層１８のＰＧ構造が、共に、下方に向かって螺旋ピッチが、漸次、長くなっていてもよい。すなわち、本発明の反射シートにおいては、第１反射層１６（下層反射層）の形成面に向かって、ＰＧ構造の螺旋ピッチが、漸次、長くなってもよい。
あるいは、第１反射層１６のＰＧ構造は、上方に向かって螺旋ピッチが、漸次、長くなり、第２反射層１８のＰＧ構造は、下方に向かって螺旋ピッチが、漸次、長くなる構成のように、第１反射層１６と第２反射層１８とで、螺旋ピッチが、漸次、長くなる方向が異なってもよい。
以上の点に関しては、３層以上の反射層を有する場合における、各反射層に関しても、同様である。
すなわち、本発明の反射シートにおいては、第１反射層１６および第２反射層１８のＰＧ構造が、共に、下方に向かって螺旋ピッチが、漸次、長くなっていてもよい。すなわち、本発明の反射シートにおいては、第１反射層１６（下層反射層）の形成面に向かって、ＰＧ構造の螺旋ピッチが、漸次、長くなってもよい。
あるいは、第１反射層１６のＰＧ構造は、上方に向かって螺旋ピッチが、漸次、長くなり、第２反射層１８のＰＧ構造は、下方に向かって螺旋ピッチが、漸次、長くなる構成のように、第１反射層１６と第２反射層１８とで、螺旋ピッチが、漸次、長くなる方向が異なってもよい。
以上の点に関しては、３層以上の反射層を有する場合における、各反射層に関しても、同様である。
本発明の反射シート１０においては、反射層（コレステリック液晶層）を形成する際には、カイラル剤のＨＴＰを変化させるための光照射を行った後に、反射層を硬化するための光照射を行ってもよく、または、カイラル剤のＨＴＰを変化させるための光照射と、反射層を硬化するための光照射とを、同時に行ってもよい。
なお、カイラル剤は、光の照射によってＨＴＰが小さくなる場合が多いので、本発明の反射シートにおける各反射層の厚さ方向における螺旋ピッチは、硬化率の高い方が長く、硬化率が低い方が短い態様が好ましい。
なお、カイラル剤は、光の照射によってＨＴＰが小さくなる場合が多いので、本発明の反射シートにおける各反射層の厚さ方向における螺旋ピッチは、硬化率の高い方が長く、硬化率が低い方が短い態様が好ましい。
本発明の反射シート１０において、波長λにおける積分反射率Ｉ－Ｒ（λ）、および、波長λにおける鏡面反射率Ｓ－Ｒ（λ）には、制限はない。
本発明の反射シート１０においては、波長λにおける積分反射率Ｉ－Ｒ（λ）が、波長λにおける鏡面反射率Ｓ－Ｒ（λ）の２倍以上であるのが好ましく、２．５倍以上であるのがより好ましく、３倍以上であるのがさらに好ましい。
波長λにおける積分反射率Ｉ－Ｒ（λ）を、波長λにおける鏡面反射率Ｓ－Ｒ（λ）の２倍以上とすることにより、より優れた拡散反射性を得られる等の点で好ましい。
本発明の反射シート１０においては、波長λにおける積分反射率Ｉ－Ｒ（λ）が、波長λにおける鏡面反射率Ｓ－Ｒ（λ）の２倍以上であるのが好ましく、２．５倍以上であるのがより好ましく、３倍以上であるのがさらに好ましい。
波長λにおける積分反射率Ｉ－Ｒ（λ）を、波長λにおける鏡面反射率Ｓ－Ｒ（λ）の２倍以上とすることにより、より優れた拡散反射性を得られる等の点で好ましい。
また、本発明の反射シート１０において、選択的に反射する波長帯域における反射スペクトルの半値幅には、制限はない。
より広い波長帯域の光を反射できる等の点で、積分反射スペクトルにおける半値幅は、１００ｎｍ以上が好ましく、１２５ｎｍ以上がより好ましく、１５０ｎｍ以上がさらに好ましい。
より広い波長帯域の光を反射できる等の点で、積分反射スペクトルにおける半値幅は、１００ｎｍ以上が好ましく、１２５ｎｍ以上がより好ましく、１５０ｎｍ以上がさらに好ましい。
［液晶組成物］
第１反射層１６および第２反射層１８すなわちコレステリック液晶層は、液晶化合物およびカイラル剤を含有する液晶組成物を用いて形成できる。
第１反射層１６および第２反射層１８すなわちコレステリック液晶層は、液晶化合物およびカイラル剤を含有する液晶組成物を用いて形成できる。
（液晶化合物）
コレステリック液晶層の形成に用いられる液晶化合物は、重合性基を２つ以上有することが好ましい。つまり、重合性液晶化合物が好ましい。また、３００～４００ｎｍにおける平均モル吸光係数が５０００未満であるのが好ましい。
液晶化合物は、棒状液晶化合物であっても、円盤状液晶化合物であってもよいが、棒状液晶化合物が好ましい。
コレステリック液晶構造を形成する棒状の液晶化合物としては、棒状ネマチック液晶化合物が例示される。棒状ネマチック液晶化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類、および、アルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類等が好ましく用いられる。低分子液晶化合物だけではなく、高分子液晶化合物も用いることができる。
コレステリック液晶層の形成に用いられる液晶化合物は、重合性基を２つ以上有することが好ましい。つまり、重合性液晶化合物が好ましい。また、３００～４００ｎｍにおける平均モル吸光係数が５０００未満であるのが好ましい。
液晶化合物は、棒状液晶化合物であっても、円盤状液晶化合物であってもよいが、棒状液晶化合物が好ましい。
コレステリック液晶構造を形成する棒状の液晶化合物としては、棒状ネマチック液晶化合物が例示される。棒状ネマチック液晶化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類、および、アルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類等が好ましく用いられる。低分子液晶化合物だけではなく、高分子液晶化合物も用いることができる。
重合性基の例には、不飽和重合性基、エポキシ基、および、アジリジニル基が含まれ、不飽和重合性基が好ましく、エチレン性不飽和重合性基がより好ましい。重合性基は種々の方法で、液晶化合物の分子中に導入できる。液晶化合物が有する重合性基の個数は、１分子中に１～６個が好ましく、１～３個がより好ましい。
液晶化合物としては、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，１９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許第４６８３３２７号、米国特許第５６２２６４８号および米国特許第５７７０１０７号の各明細書、国際公開第１９９５／２２５８６号、国際公開第１９９５／２４４５５号、国際公開第１９９７／００６００号、国際公開第１９９８／２３５８０号、国際公開第１９９８／５２９０５号、国際公開第２０１６／１９４３２７号および国際公開第２０１６／０５２３６７号公報、特開平１－２７２５５１号公報、特開平６－１６６１６号公報、特開平７－１１０４６９号公報および特開平１１－８００８１号公報、ならびに、特開２００１－３２８９７３号公報等に記載されている各化合物が例示される。
液晶組成物すなわちコレステリック液晶層には、２種類以上の液晶化合物を併用してもよい。２種類以上の液晶化合物を併用すると、配向温度を低下させることができる場合がある。
液晶化合物としては、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，１９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許第４６８３３２７号、米国特許第５６２２６４８号および米国特許第５７７０１０７号の各明細書、国際公開第１９９５／２２５８６号、国際公開第１９９５／２４４５５号、国際公開第１９９７／００６００号、国際公開第１９９８／２３５８０号、国際公開第１９９８／５２９０５号、国際公開第２０１６／１９４３２７号および国際公開第２０１６／０５２３６７号公報、特開平１－２７２５５１号公報、特開平６－１６６１６号公報、特開平７－１１０４６９号公報および特開平１１－８００８１号公報、ならびに、特開２００１－３２８９７３号公報等に記載されている各化合物が例示される。
液晶組成物すなわちコレステリック液晶層には、２種類以上の液晶化合物を併用してもよい。２種類以上の液晶化合物を併用すると、配向温度を低下させることができる場合がある。
また、液晶組成物中の液晶化合物の添加量には制限はないが、液晶組成物の固形分質量（溶媒を除いた質量）に対して、８０～９９．９質量％が好ましく、８５～９９．５質量％がより好ましく、９０～９９質量％がさらに好ましい。
（カイラル剤（キラル剤）：光学活性化合物）
コレステリック液晶層の形成に用いられるカイラル剤は、光の照射によってＨＴＰが変化するカイラル剤であれば、公知の各種のカイラル剤が利用可能であるが、波長３１３ｎｍにおけるモル吸光係数が３００００以上のカイラル剤が好ましく利用される。
カイラル剤はコレステリック液晶相の螺旋構造を誘起する機能を有する。カイラル化合物は、化合物によって、誘起する螺旋のセンスまたは螺旋ピッチが異なるため、目的に応じて選択すればよい。
カイラル剤としては、公知の化合物を用いることができるが、シンナモイル基を有することが好ましい。カイラル剤の例としては、液晶デバイスハンドブック（第３章４－３項、ＴＮ、ＳＴＮ用カイラル剤、１９９頁、日本学術振興会第１４２委員会編、１９８９）、ならびに、特開２００３－２８７６２３号公報、特開２００２－３０２４８７号公報、特開２００２－８０４７８号公報、特開２００２－８０８５１号公報、特開２０１０－１８１８５２号公報および特開２０１４－０３４５８１号公報等に記載される化合物が例示される。
コレステリック液晶層の形成に用いられるカイラル剤は、光の照射によってＨＴＰが変化するカイラル剤であれば、公知の各種のカイラル剤が利用可能であるが、波長３１３ｎｍにおけるモル吸光係数が３００００以上のカイラル剤が好ましく利用される。
カイラル剤はコレステリック液晶相の螺旋構造を誘起する機能を有する。カイラル化合物は、化合物によって、誘起する螺旋のセンスまたは螺旋ピッチが異なるため、目的に応じて選択すればよい。
カイラル剤としては、公知の化合物を用いることができるが、シンナモイル基を有することが好ましい。カイラル剤の例としては、液晶デバイスハンドブック（第３章４－３項、ＴＮ、ＳＴＮ用カイラル剤、１９９頁、日本学術振興会第１４２委員会編、１９８９）、ならびに、特開２００３－２８７６２３号公報、特開２００２－３０２４８７号公報、特開２００２－８０４７８号公報、特開２００２－８０８５１号公報、特開２０１０－１８１８５２号公報および特開２０１４－０３４５８１号公報等に記載される化合物が例示される。
カイラル剤は、一般に不斉炭素原子を含むが、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物または面性不斉化合物もカイラル剤として用いることができる。軸性不斉化合物または面性不斉化合物の例には、ビナフチル、ヘリセン、パラシクロファン、および、これらの誘導体が含まれる。カイラル剤は、重合性基を有していてもよい。
カイラル剤と液晶化合物とが、いずれも重合性基を有する場合は、重合性カイラル剤と重合性液晶化合物との重合反応により、重合性液晶化合物から誘導される繰り返し単位と、カイラル剤から誘導される繰り返し単位とを有するポリマーを形成することができる。この態様では、重合性カイラル剤が有する重合性基は、重合性液晶化合物が有する重合性基と、同種の基であることが好ましい。従って、カイラル剤の重合性基も、不飽和重合性基、エポキシ基またはアジリジニル基が好ましく、不飽和重合性基がより好ましく、エチレン性不飽和重合性基がさらに好ましい。
また、カイラル剤は、液晶化合物であってもよい。
カイラル剤と液晶化合物とが、いずれも重合性基を有する場合は、重合性カイラル剤と重合性液晶化合物との重合反応により、重合性液晶化合物から誘導される繰り返し単位と、カイラル剤から誘導される繰り返し単位とを有するポリマーを形成することができる。この態様では、重合性カイラル剤が有する重合性基は、重合性液晶化合物が有する重合性基と、同種の基であることが好ましい。従って、カイラル剤の重合性基も、不飽和重合性基、エポキシ基またはアジリジニル基が好ましく、不飽和重合性基がより好ましく、エチレン性不飽和重合性基がさらに好ましい。
また、カイラル剤は、液晶化合物であってもよい。
カイラル剤としては、イソソルビド誘導体、イソマンニド誘導体、および、ビナフチル誘導体等を好ましく用いることができる。イソソルビド誘導体は、ＢＡＳＦ社製のＬＣ－７５６等の市販品を用いてもよい。
液晶組成物における、カイラル剤の含有量は、液晶化合物量の０．０１～２００モル％が好ましく、１～３０モル％がより好ましい。
液晶組成物における、カイラル剤の含有量は、液晶化合物量の０．０１～２００モル％が好ましく、１～３０モル％がより好ましい。
（重合開始剤）
液晶組成物は、重合開始剤を含有するのが好ましい。紫外線照射により重合反応を進行させる態様では、使用する重合開始剤は、紫外線照射によって重合反応を開始可能な光重合開始剤であるのが好ましい。
光重合開始剤の例には、α－カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α－炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ－アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０－１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書記載）、アシルフォスフィンオキシド化合物（特公昭６３－４０７９９号公報、特公平５－２９２３４号公報、特開平１０－９５７８８号公報、特開平１０－２９９９７号公報、特開２００１－２３３８４２号公報、特開２０００－８００６８号公報、特開２００６－３４２１６６号公報、特開２０１３－１１４２４９号公報、特開２０１４－１３７４６６号公報、特許４２２３０７１号公報、特開２０１０－２６２０２８号公報、特表２０１４－５００８５２号公報記載）、オキシム化合物（特開２０００－６６３８５号公報、日本特許第４４５４０６７号公報記載）、ならびに、オキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）等が挙げられる。重合開始剤は、例えば、特開２０１２－２０８４９４号公報の段落０５００～０５４７の記載も参酌できる。
液晶組成物は、重合開始剤を含有するのが好ましい。紫外線照射により重合反応を進行させる態様では、使用する重合開始剤は、紫外線照射によって重合反応を開始可能な光重合開始剤であるのが好ましい。
光重合開始剤の例には、α－カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α－炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ－アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０－１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書記載）、アシルフォスフィンオキシド化合物（特公昭６３－４０７９９号公報、特公平５－２９２３４号公報、特開平１０－９５７８８号公報、特開平１０－２９９９７号公報、特開２００１－２３３８４２号公報、特開２０００－８００６８号公報、特開２００６－３４２１６６号公報、特開２０１３－１１４２４９号公報、特開２０１４－１３７４６６号公報、特許４２２３０７１号公報、特開２０１０－２６２０２８号公報、特表２０１４－５００８５２号公報記載）、オキシム化合物（特開２０００－６６３８５号公報、日本特許第４４５４０６７号公報記載）、ならびに、オキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）等が挙げられる。重合開始剤は、例えば、特開２０１２－２０８４９４号公報の段落０５００～０５４７の記載も参酌できる。
利用可能な重合開始剤としては、アシルフォスフィンオキシド化合物、および、オキシム化合物も例示される。
アシルフォスフィンオキシド化合物としては、例えば、市販品のＩＲＧＡＣＵＲＥ８１０（ＢＡＳＦ社製、化合物名：ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニルフォスフィンオキサイド）を用いることができる。オキシム化合物としては、例えば、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ０１（ＢＡＳＦ社製）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ０２（ＢＡＳＦ社製）、ＴＲ－ＰＢＧ－３０４（常州強力電子新材料有限公司製）、アデカアークルズＮＣＩ－８３１、アデカアークルズＮＣＩ－９３０（ＡＤＥＫＡ社製）、および、アデカアークルズＮＣＩ－８３１（ＡＤＥＫＡ社製）等の市販品を用いることができる。
重合開始剤は、１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
反射層（コレステリック液晶層）を形成する際に、カイラル剤のＨＴＰを変化させるための光照射を行った後に、反射層を硬化するための光照射を行う場合には、カイラル剤のＨＴＰを変化させるための光照射で重合が進行しにくい光重合開始剤を用いるのが好ましい。この場合には、液晶組成物中の光重合開始剤の含有量は、液晶化合物の含有量に対して０．０５～３質量％が好ましく、０．３～１．５質量％がより好ましい。また、カイラル剤のＨＴＰを変化させるための光照射と、反射層を硬化するための光照射とを、同時に行う場合には、液晶組成物中の光重合開始剤の含有量は、液晶化合物の含有量に対して０．０１～０．３質量％が好ましく、０．０１～０．２質量％がより好ましい。
アシルフォスフィンオキシド化合物としては、例えば、市販品のＩＲＧＡＣＵＲＥ８１０（ＢＡＳＦ社製、化合物名：ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニルフォスフィンオキサイド）を用いることができる。オキシム化合物としては、例えば、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ０１（ＢＡＳＦ社製）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ０２（ＢＡＳＦ社製）、ＴＲ－ＰＢＧ－３０４（常州強力電子新材料有限公司製）、アデカアークルズＮＣＩ－８３１、アデカアークルズＮＣＩ－９３０（ＡＤＥＫＡ社製）、および、アデカアークルズＮＣＩ－８３１（ＡＤＥＫＡ社製）等の市販品を用いることができる。
重合開始剤は、１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
反射層（コレステリック液晶層）を形成する際に、カイラル剤のＨＴＰを変化させるための光照射を行った後に、反射層を硬化するための光照射を行う場合には、カイラル剤のＨＴＰを変化させるための光照射で重合が進行しにくい光重合開始剤を用いるのが好ましい。この場合には、液晶組成物中の光重合開始剤の含有量は、液晶化合物の含有量に対して０．０５～３質量％が好ましく、０．３～１．５質量％がより好ましい。また、カイラル剤のＨＴＰを変化させるための光照射と、反射層を硬化するための光照射とを、同時に行う場合には、液晶組成物中の光重合開始剤の含有量は、液晶化合物の含有量に対して０．０１～０．３質量％が好ましく、０．０１～０．２質量％がより好ましい。
（架橋剤）
液晶組成物は、硬化後の膜強度向上、耐久性向上のため、任意に架橋剤を含有してもよい。架橋剤としては、紫外線、熱、湿気等で硬化するものが好適に使用できる。
架橋剤には、制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレートおよびペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート等の多官能アクリレート化合物；グリシジル（メタ）アクリレートおよびエチレングリコールジグリシジルエーテル等のエポキシ化合物；２，２－ビスヒドロキシメチルブタノール－トリス［３－（１－アジリジニル）プロピオネート］および４，４－ビス（エチレンイミノカルボニルアミノ）ジフェニルメタン等のアジリジン化合物；ヘキサメチレンジイソシアネートおよびビウレット型イソシアネート等のイソシアネート化合物；オキサゾリン基を側鎖に有するポリオキサゾリン化合物；ならびに、ビニルトリメトキシシランおよびＮ－（２－アミノエチル）３－アミノプロピルトリメトキシシラン等のアルコキシシラン化合物などが例示される。
また、架橋剤の反応性に応じて公知の触媒を用いることができ、膜強度および耐久性向上に加えて生産性を向上させることができる。触媒は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
液晶組成物中の架橋剤の含有量は、液晶組成物の固形分に対して、３～２０質量％が好ましく、５～１５質量％がより好ましい。
液晶組成物は、硬化後の膜強度向上、耐久性向上のため、任意に架橋剤を含有してもよい。架橋剤としては、紫外線、熱、湿気等で硬化するものが好適に使用できる。
架橋剤には、制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレートおよびペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート等の多官能アクリレート化合物；グリシジル（メタ）アクリレートおよびエチレングリコールジグリシジルエーテル等のエポキシ化合物；２，２－ビスヒドロキシメチルブタノール－トリス［３－（１－アジリジニル）プロピオネート］および４，４－ビス（エチレンイミノカルボニルアミノ）ジフェニルメタン等のアジリジン化合物；ヘキサメチレンジイソシアネートおよびビウレット型イソシアネート等のイソシアネート化合物；オキサゾリン基を側鎖に有するポリオキサゾリン化合物；ならびに、ビニルトリメトキシシランおよびＮ－（２－アミノエチル）３－アミノプロピルトリメトキシシラン等のアルコキシシラン化合物などが例示される。
また、架橋剤の反応性に応じて公知の触媒を用いることができ、膜強度および耐久性向上に加えて生産性を向上させることができる。触媒は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
液晶組成物中の架橋剤の含有量は、液晶組成物の固形分に対して、３～２０質量％が好ましく、５～１５質量％がより好ましい。
（配向制御剤）
液晶組成物には、安定的にまたは迅速にプレーナー配向のコレステリック液晶構造とするために寄与する配向制御剤を添加してもよい。
配向制御剤としては、例えば、特開２００７－２７２１８５号公報の段落［００１８］～［００４３］等に記載されるフッ素（メタ）アクリレート系ポリマー、および、特開２０１２－２０３２３７号公報の段落［００３１］～［００３４］等に記載される式（Ｉ）～（ＩＶ）で表される化合物等が例示される。
配向制御剤は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
液晶組成物には、安定的にまたは迅速にプレーナー配向のコレステリック液晶構造とするために寄与する配向制御剤を添加してもよい。
配向制御剤としては、例えば、特開２００７－２７２１８５号公報の段落［００１８］～［００４３］等に記載されるフッ素（メタ）アクリレート系ポリマー、および、特開２０１２－２０３２３７号公報の段落［００３１］～［００３４］等に記載される式（Ｉ）～（ＩＶ）で表される化合物等が例示される。
配向制御剤は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
液晶組成物における、配向制御剤の添加量は、液晶化合物の全質量に対して０．０１～１０質量％が好ましく、０．０１～５質量％がより好ましく、０．０２質量％～１質量％がさらに好ましい。
（界面活性剤）
液晶組成物は界面活性剤を含んでいてもよい。
界面活性剤は、安定的にまたは迅速にプレーナー配向のコレステリック構造とするために寄与する配向制御剤として機能できる化合物が好ましい。界面活性剤としては、例えば、シリコ－ン系界面活性剤およびフッ素系界面活性剤が挙げられ、フッ素系界面活性剤が好ましい。
液晶組成物は界面活性剤を含んでいてもよい。
界面活性剤は、安定的にまたは迅速にプレーナー配向のコレステリック構造とするために寄与する配向制御剤として機能できる化合物が好ましい。界面活性剤としては、例えば、シリコ－ン系界面活性剤およびフッ素系界面活性剤が挙げられ、フッ素系界面活性剤が好ましい。
界面活性剤の具体例としては、特開２０１４－１１９６０５号公報の段落［００８２］～［００９０］に記載される化合物、特開２０１２－２０３２３７号公報の段落［００３１］～［００３４］に記載される化合物、特開２００５－９９２４８号公報の段落［００９２］および［００９３］中に例示されている化合物、特開２００２－１２９１６２号公報の段落［００７６］～［００７８］および段落［００８２］～［００８５］中に例示されている化合物、ならびに、特開２００７－２７２１８５号公報の段落［００１８］～［００４３］等に記載されるフッ素（メタ）アクリレート系ポリマー等が例示される。
なお、水平配向剤は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
フッ素系界面活性剤として、特開２０１４－１１９６０５号公報の段落［００８２］～［００９０］に記載される下記一般式（Ｉ）で表される化合物が特に好ましい。
一般式（Ｉ）において、Ｌ11、Ｌ12、Ｌ13、Ｌ14、Ｌ15、およびＬ16はそれぞれ独立して単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＳ－、－ＳＣＯ－、－ＮＲＣＯ－、－ＣＯＮＲ－（一般式（Ｉ）中におけるＲは水素原子または炭素数が１～６のアルキル基を表す）を表す。－ＮＲＣＯ－、－ＣＯＮＲ－は溶解性を減ずる効果があり、ドット作製時にヘイズが上昇する傾向がある。このため、好ましくは－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＳ－、および－ＳＣＯ－であり、化合物の安定性の観点からさらに好ましくは－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、および－ＯＣＯ－である。上記のＲがとり得るアルキル基は、直鎖状であっても分枝状であってもよい。炭素数は１～３がより好ましく、メチル基、エチル基、およびｎ－プロピル基を例示することができる。
Ｓｐ11、Ｓｐ12、Ｓｐ13、およびＳｐ14はそれぞれ独立して単結合または炭素数１～１０のアルキレン基を表し、より好ましくは単結合または炭素数１～７のアルキレン基であり、さらに好ましくは単結合または炭素数１～４のアルキレン基である。但し、アルキレン基の水素原子はフッ素原子で置換されていてもよい。アルキレン基には、分枝があっても無くてもよいが、好ましいのは分枝がない直鎖のアルキレン基である。合成上の観点からは、Ｓｐ11とＳｐ14が同一であり、かつ、Ｓｐ12とＳｐ13が同一であることが好ましい。
Ａ11、およびＡ12は１～４価の芳香族炭化水素基である。芳香族炭化水素基の炭素数は６～２２が好ましく、６～１４がより好ましく、６～１０がさらに好ましく、６が特に好ましい。Ａ11、およびＡ12で表される芳香族炭化水素基は置換基を有していてもよい。そのような置換基の例として、炭素数１～８のアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基またはエステル基を挙げることができる。これらの基の説明と好ましい範囲については、下記のＴ11の対応する記載を参照することができる。Ａ11、Ａ12で表される芳香族炭化水素基に対する置換基としては、例えばメチル基、エチル基、メトキシ基、エトキシ基、臭素原子、塩素原子、シアノ基などを挙げることができる。パーフルオロアルキル部分を分子内に多く有する分子は、少ない添加量で液晶を配向させることができ、ヘイズ低下につながることから、分子内にパーフルオロアルキル基を多く有するようにＡ11、Ａ12は４価であることが好ましい。合成上の観点からは、Ａ11とＡ12は同一であることが好ましい。
Ｔ11は、下記の、二価の基または二価の芳香族複素環基を表す（上記Ｔ11中に含まれるＸは、炭素数１～８のアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基またはエステル基を表し、Ｙａ、Ｙｂ、Ｙｃ、およびＹｄはそれぞれ独立して水素原子または炭素数１～４のアルキル基を表す。）ことが好ましい。
中でも、より好ましい基を以下に示す。
さらに好ましくは、以下の基である。
最も好ましくは、以下の基である。
上記Ｔ11中に含まれるＸがとり得るアルキル基の炭素数は１～８であり、１～５が好ましく、１～３がより好ましい。アルキル基は、直鎖状、分枝状、および環状のいずれであってもよく、直鎖状または分枝状であることが好ましい。好ましいアルキル基として、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基などを例示することができる。中でもメチル基が好ましい。
上記Ｔ11中に含まれるＸがとり得るアルコキシ基のアルキル部分については、上記Ｔ11中に含まれるＸがとり得るアルキル基の説明と好ましい範囲を参照することができる。上記Ｔ11中に含まれるＸがとり得るハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、およびヨウ素原子を挙げることができ、塩素原子、または臭素原子が好ましい。上記Ｔ11中に含まれるＸがとりうるエステル基としては、ＲaＣＯＯ－で表される基を例示することができる。Ｒaとしては炭素数１～８のアルキル基を挙げることができる。Ｒaがとりうるアルキル基の説明と好ましい範囲については、上記Ｔ11中に含まれるＸがとりうるアルキル基の説明と好ましい範囲を参照することができる。エステルの具体例として、ＣＨ3ＣＯＯ－、およびＣ2Ｈ5ＣＯＯ－を挙げることができる。Ｙａ、Ｙｂ、Ｙｃ、およびＹｄがとりうる炭素数１～４のアルキル基は、直鎖状であっても分枝状であってもよい。例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、およびイソプロピル基などを例示することができる。
二価の芳香族複素環基は、５員、６員または７員の複素環を有することが好ましい。５員環または６員環がさらに好ましく、６員環が最も好ましい。複素環を構成する複素原子としては、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。複素環は、芳香族性複素環であることが好ましい。芳香族性複素環は、一般に不飽和複素環である。最多二重結合を有する不飽和複素環がさらに好ましい。複素環の例には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、ピロリン環、ピロリジン環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、イミダゾリン環、イミダゾリジン環、ピラゾール環、ピラゾリン環、ピラゾリジン環、トリアゾール環、フラザン環、テトラゾール環、ピラン環、チイン環、ピリジン環、ピペリジン環、オキサジン環、モルホリン環、チアジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、ピペラジン環、および、トリアジン環が含まれる。二価の複素環基は置換基を有していてもよい。そのような置換基の例の説明と好ましい範囲については、上記のＡ11とＡ12の１～４価の芳香族炭化水素がとり得る置換基に関する説明と記載を参照することができる。
Ｈｂ11は炭素数２～３０のパーフルオロアルキル基を表し、より好ましくは炭素数３～２０のパーフルオロアルキル基であり、さらに好ましくは３～１０のパーフルオロアルキル基である。パーフルオロアルキル基は、直鎖状、分枝状、環状のいずれであってもよいが、直鎖状または分枝状が好ましく、直鎖状がより好ましい。
ｍ１１、ｎ１１はそれぞれ独立に０から３であり、かつｍ１１＋ｎ１１≧１である。このとき複数存在する括弧内の構造は互いに同一であっても異なっていてもよいが、互いに同一であることが好ましい。一般式（Ｉ）のｍ１１、およびｎ１１は、Ａ11、およびＡ12の価数によって定まり、好ましい範囲もＡ11、およびＡ12の価数の好ましい範囲によって定まる。
Ｔ11中に含まれるｏおよびｐは、それぞれ独立に０以上の整数であり、ｏおよびｐが２以上であるとき複数のＸは互いに同一であっても異なっていてもよい。Ｔ11中に含まれるｏは１または２が好ましい。Ｔ11中に含まれるｐは１～４のいずれかの整数が好ましく、１または２がより好ましい。
一般式（Ｉ）で表される化合物は、分子構造が対称性を有するものであってもよいし、対称性を有しないものであってもよい。なお、ここでいう対称性とは、点対称、線対称、および回転対称のいずれかひとつに少なくとも該当するものを意味し、非対称とは点対称、線対称、および回転対称のいずれにも該当しないものを意味する。
一般式（Ｉ）で表される化合物は、以上述べたパーフルオロアルキル基（Ｈｂ11）、連結基－（－Ｓｐ11－Ｌ11－Ｓｐ12－Ｌ12）ｍ１１－Ａ11－Ｌ13－および－Ｌ14－Ａ12－（Ｌ15－Ｓｐ13－Ｌ16－Ｓｐ14－）ｎ１１－、ならびに、好ましくは排除体積効果を持つ２価の基であるＴ11を組み合わせた化合物である。分子内に２つ存在するパーフルオロアルキル基（Ｈｂ11）は互いに同一であることが好ましく、分子内に存在する連結基－（－Ｓｐ11－Ｌ11－Ｓｐ12－Ｌ12）ｍ１１－Ａ11－Ｌ13－および－Ｌ14－Ａ12－（Ｌ15－Ｓｐ13－Ｌ16－Ｓｐ14－）ｎ１１－も互いに同一であることが好ましい。末端のＨｂ11－Ｓｐ11－Ｌ11－Ｓｐ12－および－Ｓｐ13－Ｌ16－Ｓｐ14－Ｈｂ11は、以下のいずれかの一般式で表される基が好ましい。
（ＣaＦ2a+1）－（ＣbＨ2b）－、（ＣaＦ2a+1）－（ＣbＨ2b）－Ｏ－（ＣrＨ2r）－、（ＣaＦ2a+1）－（ＣbＨ2b）－ＣＯＯ－（ＣrＨ2r）－、（ＣaＦ2a+1）－（ＣbＨ2b）－ＯＣＯ－（ＣrＨ2r）－
（ＣaＦ2a+1）－（ＣbＨ2b）－、（ＣaＦ2a+1）－（ＣbＨ2b）－Ｏ－（ＣrＨ2r）－、（ＣaＦ2a+1）－（ＣbＨ2b）－ＣＯＯ－（ＣrＨ2r）－、（ＣaＦ2a+1）－（ＣbＨ2b）－ＯＣＯ－（ＣrＨ2r）－
上式において、ａは２～３０が好ましく、３～２０がより好ましく、３～１０がさらに好ましい。ｂは０～２０が好ましく、０～１０がより好ましく、０～５がさらに好ましい。ａ＋ｂは３～３０である。ｒは１～１０が好ましく、１～４がより好ましい。
また、一般式（Ｉ）の末端のＨｂ11－Ｓｐ11－Ｌ11－Ｓｐ12－Ｌ12－および－Ｌ15－Ｓｐ13－Ｌ16－Ｓｐ14－Ｈｂ11は、以下のいずれかの一般式で表される基が好ましい。
（ＣaＦ2a+1）－（ＣbＨ2b）－Ｏ－、（ＣaＦ2a+1）－（ＣbＨ2b）－ＣＯＯ－、（ＣaＦ2a+1）－（ＣbＨ2b）－Ｏ－（ＣrＨ2r）－Ｏ－、（ＣaＦ2a+1）－（ＣbＨ2b）－ＣＯＯ－（ＣrＨ2r）－ＣＯＯ－、（ＣaＦ2a+1）－（ＣbＨ2b）－ＯＣＯ－（ＣrＨ2r）－ＣＯＯ－
上式におけるａ、ｂおよびｒの定義は直上の定義と同じである。
（ＣaＦ2a+1）－（ＣbＨ2b）－Ｏ－、（ＣaＦ2a+1）－（ＣbＨ2b）－ＣＯＯ－、（ＣaＦ2a+1）－（ＣbＨ2b）－Ｏ－（ＣrＨ2r）－Ｏ－、（ＣaＦ2a+1）－（ＣbＨ2b）－ＣＯＯ－（ＣrＨ2r）－ＣＯＯ－、（ＣaＦ2a+1）－（ＣbＨ2b）－ＯＣＯ－（ＣrＨ2r）－ＣＯＯ－
上式におけるａ、ｂおよびｒの定義は直上の定義と同じである。
液晶組成物中における、界面活性剤の添加量は、液晶化合物の全質量に対して０．０１～１０質量％が好ましく、０．０１～５質量％がより好ましく、０．０２～１質量％がさらに好ましい。
（その他の添加剤）
その他、液晶組成物は、重合性モノマー等の種々の添加剤から選ばれる少なくとも１種を含有していてもよい。また、液晶組成物中には、必要に応じて、さらに重合禁止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、色材、および、金属酸化物微粒子等を、光学性能を低下させない範囲で添加することができる。
その他、液晶組成物は、重合性モノマー等の種々の添加剤から選ばれる少なくとも１種を含有していてもよい。また、液晶組成物中には、必要に応じて、さらに重合禁止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、色材、および、金属酸化物微粒子等を、光学性能を低下させない範囲で添加することができる。
（溶媒）
液晶組成物の調製に使用する溶媒には、制限はなく、組成物に添加する液晶化合物等に応じて、適宜、選択すればよい。
溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒には、制限はなく、組成物に添加する液晶化合物等に応じて、適宜、選択することができ、例えば、ケトン類、アルキルハライド類、アミド類、スルホキシド類、ヘテロ環化合物、炭化水素類、エステル類、および、エーテル類等が例示される。これらの中でも、環境への負荷を考慮した場合にはケトン類が特に好ましい。
溶媒は、１種を単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
液晶組成物の調製に使用する溶媒には、制限はなく、組成物に添加する液晶化合物等に応じて、適宜、選択すればよい。
溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒には、制限はなく、組成物に添加する液晶化合物等に応じて、適宜、選択することができ、例えば、ケトン類、アルキルハライド類、アミド類、スルホキシド類、ヘテロ環化合物、炭化水素類、エステル類、および、エーテル類等が例示される。これらの中でも、環境への負荷を考慮した場合にはケトン類が特に好ましい。
溶媒は、１種を単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
［反射層の形成］
第１反射層１６（コレステリック液晶層）は、液晶化合物、カイラル剤および重合開始剤、さらに必要に応じて添加される界面活性剤等を溶媒に溶解させた液晶組成物を、下地層１４に塗布し、乾燥させて塗膜を得、この塗膜に活性光線を照射して液晶組成物を硬化することで、形成できる。これにより、コレステリック規則性が固定化されたコレステリック液晶構造を有する第１反射層１６を形成できる。
なお、下地層１４に配向処理をラビング等の配向処理を施さないで、液晶組成物を塗布して第１反射層１６を形成することで、波打ち構造を有する第１反射層を形成できることは、上述したとおりである。また、液晶組成物の硬化に先立ち、または、液晶組成物の硬化と同時に、カイラル剤のＨＴＰを変化させる光を照射することにより、ＰＧ構造を有する第１反射層１６を形成できることも、上述したとおりである。
第２反射層１８は、第１反射層１６を形成した後、第１反射層１６の上に、同様にして形成すればよい。なお、第２反射層１８は、第１反射層１６の表面の配向を踏襲するので、第２反射層１８も波打ち構造になるのは、上述したとおりである。また、３層以上の反射層を形成する場合も、反射層の上に、同様に形成すればよい。
第１反射層１６（コレステリック液晶層）は、液晶化合物、カイラル剤および重合開始剤、さらに必要に応じて添加される界面活性剤等を溶媒に溶解させた液晶組成物を、下地層１４に塗布し、乾燥させて塗膜を得、この塗膜に活性光線を照射して液晶組成物を硬化することで、形成できる。これにより、コレステリック規則性が固定化されたコレステリック液晶構造を有する第１反射層１６を形成できる。
なお、下地層１４に配向処理をラビング等の配向処理を施さないで、液晶組成物を塗布して第１反射層１６を形成することで、波打ち構造を有する第１反射層を形成できることは、上述したとおりである。また、液晶組成物の硬化に先立ち、または、液晶組成物の硬化と同時に、カイラル剤のＨＴＰを変化させる光を照射することにより、ＰＧ構造を有する第１反射層１６を形成できることも、上述したとおりである。
第２反射層１８は、第１反射層１６を形成した後、第１反射層１６の上に、同様にして形成すればよい。なお、第２反射層１８は、第１反射層１６の表面の配向を踏襲するので、第２反射層１８も波打ち構造になるのは、上述したとおりである。また、３層以上の反射層を形成する場合も、反射層の上に、同様に形成すればよい。
（塗布および配向）
液晶組成物の塗布方法には、制限はなく、塗布組成物の性状、ならびに、下地層１４および支持体１２の形成材料等に応じて、適宜、選択すればよい。
液晶組成物の塗布方法としては、例えば、ワイヤーバーコーティング法、カーテンコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スピンコーティング法、ディップコーティング法、スプレーコーティング法、および、スライドコーティング法等が例示される。
また、別途、支持体上に塗設した液晶組成物を転写することによって、下地層１４（第１反射層１６）に、液晶組成物を塗布してもよい。また、液晶組成物を打滴することも可能である。打滴方法としては、インクジェット法が例示される。
塗布した液晶組成物を加熱することにより、液晶分子を配向させる。加熱温度は、２００℃以下が好ましく、１３０℃以下がより好ましい。この配向処理により、液晶化合物が、螺旋軸を有するようにねじれ配向する構造が得られる。
液晶組成物の塗布方法には、制限はなく、塗布組成物の性状、ならびに、下地層１４および支持体１２の形成材料等に応じて、適宜、選択すればよい。
液晶組成物の塗布方法としては、例えば、ワイヤーバーコーティング法、カーテンコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スピンコーティング法、ディップコーティング法、スプレーコーティング法、および、スライドコーティング法等が例示される。
また、別途、支持体上に塗設した液晶組成物を転写することによって、下地層１４（第１反射層１６）に、液晶組成物を塗布してもよい。また、液晶組成物を打滴することも可能である。打滴方法としては、インクジェット法が例示される。
塗布した液晶組成物を加熱することにより、液晶分子を配向させる。加熱温度は、２００℃以下が好ましく、１３０℃以下がより好ましい。この配向処理により、液晶化合物が、螺旋軸を有するようにねじれ配向する構造が得られる。
（液晶組成物の硬化）
次いで、配向させた液晶化合物を重合させることにより、液晶組成物を硬化して、反射層を形成する。多官能性液晶化合物の重合は、熱重合および光重合のいずれでもよいが、光重合が好ましい。
液晶組成物の硬化のための光照射は、紫外線照射によって行うのが好ましい。紫外線の照度は、１５～１５００ｍＷ／ｃｍ2が好ましく、１００～６００ｍＷ／ｃｍ2がより好ましい。また、紫外線の照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2～５０Ｊ／ｃｍ2が好ましく、１００～１５００ｍＪ／ｃｍ2がより好ましい。
照射する紫外線の波長は、液晶組成物が含有する液晶化合物等に応じて、適宜、選択すればよい。液晶組成物の硬化には、２００～４３０ｎｍに発光を有する光源を用いるのが好ましく、３００～４３０ｎｍに発光を有する光源を用いるのがより好ましい。また、紫外線を照射する際には、使用する素材の分解および副反応等を防止する観点で、波長３００ｎｍ以下の光の透過率を２０％以下に抑えるために、短波長カットフィルター等を使用してもよい。
ＰＧ構造を有するコレステリック液晶層を形成する際には、液晶組成物の硬化に先立ち、カイラル剤のＨＴＰを変化させる光を照射する。または、ＰＧ構造を有するコレステリック液晶層の形成において、カイラル剤のＨＴＰを変化させるための光照射と、液晶組成物を硬化させるための光照射とを、同時に行ってもよい。
次いで、配向させた液晶化合物を重合させることにより、液晶組成物を硬化して、反射層を形成する。多官能性液晶化合物の重合は、熱重合および光重合のいずれでもよいが、光重合が好ましい。
液晶組成物の硬化のための光照射は、紫外線照射によって行うのが好ましい。紫外線の照度は、１５～１５００ｍＷ／ｃｍ2が好ましく、１００～６００ｍＷ／ｃｍ2がより好ましい。また、紫外線の照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2～５０Ｊ／ｃｍ2が好ましく、１００～１５００ｍＪ／ｃｍ2がより好ましい。
照射する紫外線の波長は、液晶組成物が含有する液晶化合物等に応じて、適宜、選択すればよい。液晶組成物の硬化には、２００～４３０ｎｍに発光を有する光源を用いるのが好ましく、３００～４３０ｎｍに発光を有する光源を用いるのがより好ましい。また、紫外線を照射する際には、使用する素材の分解および副反応等を防止する観点で、波長３００ｎｍ以下の光の透過率を２０％以下に抑えるために、短波長カットフィルター等を使用してもよい。
ＰＧ構造を有するコレステリック液晶層を形成する際には、液晶組成物の硬化に先立ち、カイラル剤のＨＴＰを変化させる光を照射する。または、ＰＧ構造を有するコレステリック液晶層の形成において、カイラル剤のＨＴＰを変化させるための光照射と、液晶組成物を硬化させるための光照射とを、同時に行ってもよい。
反射層の形成においては、カイラル剤のＨＴＰの変化を促進するために、紫外線の照射を加熱して行うのが好ましい。カイラル剤のＨＴＰの変化を促進するための紫外線照射時における酸素濃度には、制限はない。従って、この紫外線照射は、酸素雰囲気下で行ってもよく、低酸素雰囲気下で行ってもよい。さらに、液晶化合物の光重合反応を促進するための紫外線の照射は、加熱下および／または低酸素雰囲気下で行うのが好ましい。
紫外線照射時の温度は、コレステリック液晶層が乱れないように、コレステリック液晶相を呈する温度範囲に維持するのが好ましい。具体的には、紫外線照射時の温度は、２５～１４０℃が好ましく、３０～１００℃がより好ましい。
また、紫外線照射時の低酸素雰囲気は、窒素置換等の公知の方法により、雰囲気中の酸素濃度を低下させることで形成すればよい。酸素濃度は、５０００ｐｐｍ以下が好ましく、１００ｐｐｍ以下がより好ましく、５０ｐｐｍ以下がさらに好ましい。
紫外線照射時の温度は、コレステリック液晶層が乱れないように、コレステリック液晶相を呈する温度範囲に維持するのが好ましい。具体的には、紫外線照射時の温度は、２５～１４０℃が好ましく、３０～１００℃がより好ましい。
また、紫外線照射時の低酸素雰囲気は、窒素置換等の公知の方法により、雰囲気中の酸素濃度を低下させることで形成すればよい。酸素濃度は、５０００ｐｐｍ以下が好ましく、１００ｐｐｍ以下がより好ましく、５０ｐｐｍ以下がさらに好ましい。
液晶組成物を硬化した後の重合反応率は、安定性の観点から、高い方が好ましく、５０％以上が好ましく、６０％以上がより好ましい。重合反応率は、重合性の官能基の消費割合をＩＲ吸収スペクトルを用いて測定することにより、知見できる。
＜反射シートの用途＞
本発明の反射シートは、加飾シート、光反射部材、光拡散板、ハーフミラー、透明スクリーン、撮像素子、センサー、光学デバイス、および、その他の光学素子等の各種の用途に利用可能である。例えば、本発明の反射シートを、反射シートと、反射シートを透過する光を利用する素子とを有する光学デバイスに利用する態様では、本発明の反射シートを用いることで、反射シートを透過する光を利用する素子の表面等で反射する光が、光学デバイスの外まで達しないようにするができ、反射シートを透過する光を利用する素子を認識しにくくできる。
本発明の反射シートは、加飾シート、光反射部材、光拡散板、ハーフミラー、透明スクリーン、撮像素子、センサー、光学デバイス、および、その他の光学素子等の各種の用途に利用可能である。例えば、本発明の反射シートを、反射シートと、反射シートを透過する光を利用する素子とを有する光学デバイスに利用する態様では、本発明の反射シートを用いることで、反射シートを透過する光を利用する素子の表面等で反射する光が、光学デバイスの外まで達しないようにするができ、反射シートを透過する光を利用する素子を認識しにくくできる。
本発明の反射シートを透過する光を利用する素子は特に限定はなく、撮像素子およびセンサー等、様々な素子を用いることができる。この際には、本発明の反射シートを、例えばＳＣフィルター（富士フイルム社製）およびＩＲフィルター（富士フイルム社製）等の光学フィルターに貼合して、加飾シートとして利用してもよい。これにより、撮像素子およびセンサー等の素子の受光波長に合わせた加飾が可能となる。
また、本発明の反射シートと、画像表示素子とを用いて、画像表示装置としてもよい。
画像表示素子は、公知の画像表示素子が、各種、利用可能である。一例として、液晶表示素子および有機エレクトロルミネッセンス表示素子等が例示される。
画像表示素子は、公知の画像表示素子が、各種、利用可能である。一例として、液晶表示素子および有機エレクトロルミネッセンス表示素子等が例示される。
さらに、本発明の反射シートは、光学素子用途としても利用可能である。例えば、一般的なハーフミラーとしての用途や、特開２０１７－９２０２１号公報の段落［００１７］に記載される用途等にも使用できる。
以下、実施例に基づいて本発明を具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、および、操作等は、本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明は、以下の実施例に限定され制限されるものではない。
＜下地層１の形成＞
支持体として、厚さ５０μｍのＰＥＴフィルム（東洋紡社製、コスモシャインＡ４１００）を用意した。このＰＥＴフィルムは、一面に易接着層を有する。
ＰＥＴフィルムの易接着層の無い面に、下記の組成の下地層塗布液１を、＃３．６のワイヤーバーコーターで塗布した。その後、４５℃で６０秒乾燥し、２５℃にて、紫外線照射装置によって、５００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して、膜厚１．４μｍの下地層１を有する支持体を作製した。
［下地層塗布液１］
ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ３０（日本化薬社製） １００質量部
ＩＲＧＡＣＵＲＥ ９０７ （チバガイギー社製） ３．０質量部
カヤキュアーＤＥＴＸ（日本化薬社製） １．０質量部
下記の界面活性剤 Ｆ１ ０．０１質量部
メチルイソブチルケトン ２４３質量部
支持体として、厚さ５０μｍのＰＥＴフィルム（東洋紡社製、コスモシャインＡ４１００）を用意した。このＰＥＴフィルムは、一面に易接着層を有する。
ＰＥＴフィルムの易接着層の無い面に、下記の組成の下地層塗布液１を、＃３．６のワイヤーバーコーターで塗布した。その後、４５℃で６０秒乾燥し、２５℃にて、紫外線照射装置によって、５００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して、膜厚１．４μｍの下地層１を有する支持体を作製した。
［下地層塗布液１］
ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ３０（日本化薬社製） １００質量部
ＩＲＧＡＣＵＲＥ ９０７ （チバガイギー社製） ３．０質量部
カヤキュアーＤＥＴＸ（日本化薬社製） １．０質量部
下記の界面活性剤 Ｆ１ ０．０１質量部
メチルイソブチルケトン ２４３質量部
界面活性剤Ｆ１
＜カイラル剤＞
下記の３種のカイラル剤Ａ～Ｃを用意した。このカイラル剤のいずれかを用いて、後述する第１反射層および第２反射層を形成した。
下記の３種のカイラル剤Ａ～Ｃを用意した。このカイラル剤のいずれかを用いて、後述する第１反射層および第２反射層を形成した。
カイラル剤Ａ
カイラル剤Ｂ
カイラル剤Ｃ
カイラル剤Ａおよびカイラル剤Ｂは、右巻きの螺旋を形成するカイラル剤である。また、カイラル剤Ｃは、左巻きの螺旋を形成するカイラル剤である。カイラル剤Ｂおよびカイラル剤Ｃはシンナモイル基を有するカイラル剤であり、カイラル剤Ａは、シンナモイル基を有さないカイラル剤である。
カイラル剤Ａ～Ｃの最大モル吸光係数、最大モル吸光係数となる波長を表す最大波長、および、波長３１３ｎｍにおけるモル吸光係数を下記の表１に示す。
表１において、εＭＡＸは、最大モル吸光係数を、ε＠３１３は、３１３ｎｍにおけるモル吸光係数を、それぞれ、示す。
カイラル剤Ａ～Ｃの最大モル吸光係数、最大モル吸光係数となる波長を表す最大波長、および、波長３１３ｎｍにおけるモル吸光係数を下記の表１に示す。
＜比較例１＞
［第１反射層の形成］
下記に示す組成物を、２５℃に保温された容器中にて、攪拌、溶解させ、反射層用塗布液Ｃｈ－Ｂを調製した。
［第１反射層の形成］
下記に示す組成物を、２５℃に保温された容器中にて、攪拌、溶解させ、反射層用塗布液Ｃｈ－Ｂを調製した。
（反射層用塗布液Ｃｈ-Ｂ）
メチルエチルケトン １４４．９質量部
下記の棒状液晶化合物の混合物 １００．０質量部
光重合開始剤Ａ ０．０２質量部
光重合開始剤Ｂ １．００質量部
カイラル剤Ｂ ６．１０質量部
上記の界面活性剤 Ｆ１ ０．０２７質量部
下記の界面活性剤 Ｆ２ ０．０６７質量部
メチルエチルケトン １４４．９質量部
下記の棒状液晶化合物の混合物 １００．０質量部
光重合開始剤Ａ ０．０２質量部
光重合開始剤Ｂ １．００質量部
カイラル剤Ｂ ６．１０質量部
上記の界面活性剤 Ｆ１ ０．０２７質量部
下記の界面活性剤 Ｆ２ ０．０６７質量部
棒状液晶化合物の混合物
上記混合物において、数値は質量％である。また、Ｒは酸素原子で結合する基である。また、上記の棒状液晶化合物の波長３００～４００ｎｍにおける平均モル吸光係数は、１４０／ｍｏｌ・ｃｍであった。
光重合開始剤Ａ; ＩＲＧＡＣＵＲＥ ９０７ （チバガイギー社製）
光重合開始剤Ｂ; カヤキュアーＤＥＴＸ（日本化薬社製）
光重合開始剤Ｂ; カヤキュアーＤＥＴＸ（日本化薬社製）
界面活性剤Ｆ２
先に作製した下地層１を有する支持体の表面に、調製した第１反射層用塗布液Ｃｈ－Ｂを＃１０．５のワイヤーバーコーターで塗布し、１０５℃で６０秒乾燥した。
その後、低酸素雰囲気下(１００ｐｐｍ以下)にて、４０℃で、照射量６０ｍＪのメタルハライドランプの光を、光学フィルタＳＨ０３５０（朝日分光社製）越しに照射し、さらに、１００℃で照射量５００ｍＪのメタルハライドランプの光を照射することで、コレステリック液晶層である第１反射層を作製した。
その後、低酸素雰囲気下(１００ｐｐｍ以下)にて、４０℃で、照射量６０ｍＪのメタルハライドランプの光を、光学フィルタＳＨ０３５０（朝日分光社製）越しに照射し、さらに、１００℃で照射量５００ｍＪのメタルハライドランプの光を照射することで、コレステリック液晶層である第１反射層を作製した。
［第２反射層の形成］
下記に示す組成物を、２５℃に保温された容器中にて、攪拌、溶解させ、反射層用塗布液Ｃｈ－Ｃを調製した。
下記に示す組成物を、２５℃に保温された容器中にて、攪拌、溶解させ、反射層用塗布液Ｃｈ－Ｃを調製した。
（反射層用塗布液Ｃｈ－Ｃ）
メチルエチルケトン １５０．６質量部
上記の棒状液晶化合物の混合物 １００．０質量部
光重合開始剤Ｂ ０．５０質量部
カイラル剤Ｃ １１．００質量部
上記の界面活性剤 Ｆ１ ０．０２７質量部
上記の界面活性剤 Ｆ２ ０．０６７質量部
メチルエチルケトン １５０．６質量部
上記の棒状液晶化合物の混合物 １００．０質量部
光重合開始剤Ｂ ０．５０質量部
カイラル剤Ｃ １１．００質量部
上記の界面活性剤 Ｆ１ ０．０２７質量部
上記の界面活性剤 Ｆ２ ０．０６７質量部
上記作製した第１反射層の表面に、調製した反射層用塗布液Ｃｈ－Ｃを、＃６のワイヤーバーコーターで塗布し、１０５℃で６０秒乾燥した。
その後、低酸素雰囲気下(１００ｐｐｍ以下)にて、７５℃で、照射量６０ｍＪのメタルハライドランプの光を、光学フィルタＳＨ０３５０（朝日分光社製）を通して照射し、さらに、１００℃で、照射量５００ｍＪのメタルハライドランプの光を照射することで、コレステリック液晶層である第２反射層を形成して、反射シートを作製した。
その後、低酸素雰囲気下(１００ｐｐｍ以下)にて、７５℃で、照射量６０ｍＪのメタルハライドランプの光を、光学フィルタＳＨ０３５０（朝日分光社製）を通して照射し、さらに、１００℃で、照射量５００ｍＪのメタルハライドランプの光を照射することで、コレステリック液晶層である第２反射層を形成して、反射シートを作製した。
＜比較例２＞
先に作製した下地層１を有する支持体に、反射層用塗布液Ｃｈ－Ｃを＃１０．５のワイヤーバーコーターで塗布し、１０５℃で６０秒乾燥した。
その後、低酸素雰囲気下(１００ｐｐｍ以下)にて、７５℃で照射量６０ｍＪのメタルハライドランプの光を、光学フィルタＳＨ０３５０（朝日分光社製）を通して照射し、さらに、１００℃で、照射量５００ｍＪのメタルハライドランプの光を照射することで、コレステリック液晶層である第１反射層を形成した。
先に作製した下地層１を有する支持体に、反射層用塗布液Ｃｈ－Ｃを＃１０．５のワイヤーバーコーターで塗布し、１０５℃で６０秒乾燥した。
その後、低酸素雰囲気下(１００ｐｐｍ以下)にて、７５℃で照射量６０ｍＪのメタルハライドランプの光を、光学フィルタＳＨ０３５０（朝日分光社製）を通して照射し、さらに、１００℃で、照射量５００ｍＪのメタルハライドランプの光を照射することで、コレステリック液晶層である第１反射層を形成した。
次いで、形成した第１反射層の表面に、反射層用塗布液Ｃｈ－Ｂを＃１０．５のワイヤーバーコーターで塗布し、１０５℃で６０秒乾燥した。
その後、低酸素雰囲気下(１００ｐｐｍ以下)にて、４０℃で、照射量６０ｍＪのメタルハライドランプの光を、光学フィルタＳＨ０３５０（朝日分光社製）を通して照射し、さらに、１００℃で、照射量５００ｍＪのメタルハライドランプの光を照射することで、コレステリック液晶層である第２反射層を形成して、反射シートを作製した。
その後、低酸素雰囲気下(１００ｐｐｍ以下)にて、４０℃で、照射量６０ｍＪのメタルハライドランプの光を、光学フィルタＳＨ０３５０（朝日分光社製）を通して照射し、さらに、１００℃で、照射量５００ｍＪのメタルハライドランプの光を照射することで、コレステリック液晶層である第２反射層を形成して、反射シートを作製した。
＜実施例１～９、１１および１２＞
比較例２において、ワイヤーバーコーターのバー番手を変更した以外は同様にして、コレステリック液晶層である第１反射層および第２反射層を形成して、反射シートを作製した。
なお、実施例８では、支持体として、ＰＥＴフィルムに変えて、膜厚５０μｍのＰＣフィルム（住友化学社製、テクノロイ）を用い、さらに、下地層の作製において、ワイヤーバーコーターの番手を＃１３に変更した以外は、下地層１と同様の方法で、下地層３を作製した。
また、実施例９は、下地層を形成せず、支持体（ＰＥＴフィルム）の表面に、直接、第反射層を形成した。
さらに、実施例６および実施例７は、下地層１に変えて、下記の下地層塗布液２を用いて下地層２を形成した。
詳細は、下記の表２に示す。
比較例２において、ワイヤーバーコーターのバー番手を変更した以外は同様にして、コレステリック液晶層である第１反射層および第２反射層を形成して、反射シートを作製した。
なお、実施例８では、支持体として、ＰＥＴフィルムに変えて、膜厚５０μｍのＰＣフィルム（住友化学社製、テクノロイ）を用い、さらに、下地層の作製において、ワイヤーバーコーターの番手を＃１３に変更した以外は、下地層１と同様の方法で、下地層３を作製した。
また、実施例９は、下地層を形成せず、支持体（ＰＥＴフィルム）の表面に、直接、第反射層を形成した。
さらに、実施例６および実施例７は、下地層１に変えて、下記の下地層塗布液２を用いて下地層２を形成した。
詳細は、下記の表２に示す。
（下地層塗布液２）
ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ３０（日本化薬社製） ５０質量部
ＤＣＰ（新中村化学工業社製） ５０質量部
ＩＲＧＡＣＵＲＥ ９０７ （チバガイギー社製） ３．０質量部
カヤキュアーＤＥＴＸ（日本化薬社製） １．０質量部
上記の界面活性剤 Ｆ１ ０．０１質量部
メチルイソブチルケトン ２４３質量部
ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ３０（日本化薬社製） ５０質量部
ＤＣＰ（新中村化学工業社製） ５０質量部
ＩＲＧＡＣＵＲＥ ９０７ （チバガイギー社製） ３．０質量部
カヤキュアーＤＥＴＸ（日本化薬社製） １．０質量部
上記の界面活性剤 Ｆ１ ０．０１質量部
メチルイソブチルケトン ２４３質量部
＜比較例３および実施例１０＞
比較例１において、第１反射層の形成に下記の反射層用塗布液Ｃｈ－Ａを用い、かつ、第１反射層および第２反射層を形成した際のワイヤーバーコーターのバー番手を変更した以外は同様にして第１反射層および第２反射層を形成して、反射シートを作製した。
（反射層用塗布液Ｃｈ-Ａ）
メチルエチルケトン １４４．９質量部
上記の棒状液晶化合物の混合物 １００．０質量部
光重合開始剤Ａ ０．０２質量部
光重合開始剤Ｂ １．００質量部
カイラル剤Ａ ６．１０質量部
上記の界面活性剤 Ｆ１ ０．０２７質量部
上記の界面活性剤 Ｆ２ ０．０６７質量部
比較例１において、第１反射層の形成に下記の反射層用塗布液Ｃｈ－Ａを用い、かつ、第１反射層および第２反射層を形成した際のワイヤーバーコーターのバー番手を変更した以外は同様にして第１反射層および第２反射層を形成して、反射シートを作製した。
（反射層用塗布液Ｃｈ-Ａ）
メチルエチルケトン １４４．９質量部
上記の棒状液晶化合物の混合物 １００．０質量部
光重合開始剤Ａ ０．０２質量部
光重合開始剤Ｂ １．００質量部
カイラル剤Ａ ６．１０質量部
上記の界面活性剤 Ｆ１ ０．０２７質量部
上記の界面活性剤 Ｆ２ ０．０６７質量部
＜反射層の膜厚、波打ち構造およびＰＧ構造の確認＞
作製した反射シートの断面をＳＥＭで観察して、ＳＥＭ画像から、第１反射層および第２反射層の膜厚を確認した。されに、それぞれの反射層が、波打ち構造およびＰＧ構造を有しているか否かを確認した。
波打ち構造を有している場合をＡ、波打ち構造を有していない場合をＢ、
ＰＧ構造を有している場合をＡ、ＰＧ構造を有していない場合をＢ、と評価した。
作製した反射シートの断面をＳＥＭで観察して、ＳＥＭ画像から、第１反射層および第２反射層の膜厚を確認した。されに、それぞれの反射層が、波打ち構造およびＰＧ構造を有しているか否かを確認した。
波打ち構造を有している場合をＡ、波打ち構造を有していない場合をＢ、
ＰＧ構造を有している場合をＡ、ＰＧ構造を有していない場合をＢ、と評価した。
＜評価＞
作製した反射シートについて、以下の評価を行った。
作製した反射シートについて、以下の評価を行った。
［積分反射率の測定］
第２反射層側から光が入射するように、分光光度計（日本分光社製、Ｖ－５５０）に大型積分球装置（日本分光社製、ＩＬＶ－４７１）を取り付けたものを用いて、光トラップを用いず、正反射光を含むようにして、反射シートの積分反射スペクトルを測定した。得られた積分反射スペクトルにおいて、波長３５０～７５０ｎｍにおける最大反射率を最大積分反射率［％］とした。
第２反射層側から光が入射するように、分光光度計（日本分光社製、Ｖ－５５０）に大型積分球装置（日本分光社製、ＩＬＶ－４７１）を取り付けたものを用いて、光トラップを用いず、正反射光を含むようにして、反射シートの積分反射スペクトルを測定した。得られた積分反射スペクトルにおいて、波長３５０～７５０ｎｍにおける最大反射率を最大積分反射率［％］とした。
［鏡面反射率の測定］
第２反射層側から光が入射するように、分光光度計（日本分光社製、Ｖ－５５０）に大型積分球装置（日本分光社、ＩＬＶ－４７１）を取り付けたものを用いて、入射角５°における反射シートの鏡面反射スペクトルを測定した。得られた鏡面反射スペクトルにおいて、波長３５０～７５０ｎｍにおける最大反射率を最大鏡面反射率［％］とした。
第２反射層側から光が入射するように、分光光度計（日本分光社製、Ｖ－５５０）に大型積分球装置（日本分光社、ＩＬＶ－４７１）を取り付けたものを用いて、入射角５°における反射シートの鏡面反射スペクトルを測定した。得られた鏡面反射スペクトルにおいて、波長３５０～７５０ｎｍにおける最大反射率を最大鏡面反射率［％］とした。
［半値幅］
測定した積分反射スペクトルから、上述のようにして積分反射スペクトルの半値幅［ｎｍ］を測定した。
測定した積分反射スペクトルから、上述のようにして積分反射スペクトルの半値幅［ｎｍ］を測定した。
［波打ち構造のピーク間距離の平均値］
反射シートの断面ＳＥＭ画像から、上述のようにして、波打構造のピーク間距離の平均値［ｎｍ］を測定した。なお、ピーク間距離は、第１反射層および第２反射層の２層の平均とした。
反射シートの断面ＳＥＭ画像から、上述のようにして、波打構造のピーク間距離の平均値［ｎｍ］を測定した。なお、ピーク間距離は、第１反射層および第２反射層の２層の平均とした。
［ムラの視認性］
作製した反射フィルムの面状を蛍光灯の下で観察し、塗布部の両端５０ｍｍを除く領域のムラを下記の観点で評価した。
Ａ： 年輪状のムラが視認されない。
Ｂ： 年輪状のムラがわずかに視認されるが、許容できる。
Ｃ： 年輪状のムラがハッキリ視認され、許容できない。
結果を下記の表２に示す。
作製した反射フィルムの面状を蛍光灯の下で観察し、塗布部の両端５０ｍｍを除く領域のムラを下記の観点で評価した。
Ａ： 年輪状のムラが視認されない。
Ｂ： 年輪状のムラがわずかに視認されるが、許容できる。
Ｃ： 年輪状のムラがハッキリ視認され、許容できない。
結果を下記の表２に示す。
また、半値幅は、積分反射スペクトルの半値幅である。
さらに、ピーク間距離は、波打ち構造のピーク間距離の平均値である。
上記の表２に示されるように、コレステリック液晶層からなる２層の反射層を有し、反射層がいずれも波打ち構造を有し、少なくとも１層がＰＧ構造を有し、かつ、下層反射層である第１反射層の膜厚が第２反射層よりも薄い本発明の反射シートは、いずれも、選択的な反射帯域が広く、また、拡散反射性に優れ、しかも、波打ち構造の欠陥に起因するムラが視認されない、優れた特性を有する。
また、実施例２および実施例３に示されるように、第２反射層を第１反射層よりも１μｍ以上、厚くすることで、より好適に波打ち構造の欠陥に起因するムラの視認を防止できる。さらに、実施例５および実施例１０に示されるように、第１反射層および第２反射層を、共にＰＧ構造とすることにより、半値幅を広くでき、すなわち、選択的な反射波長帯域をより広くできる。
これに対して、同様に２層の反射層を有しても、下層反射層である第１反射層が第２反射層よりも厚い比較例１および比較例３、第１反射層と第２反射層の膜厚が等しい比較例２は、ムラが視認されてしまい、品質的に問題がある。
なお、下地層を下地層２とした実施例６および実施例７は、第２反射層に粘着剤を塗布して、他のシート状物に貼着した後、支持体を容易に剥離できた。
以上の結果より、本発明の効果は明らかである。
また、実施例２および実施例３に示されるように、第２反射層を第１反射層よりも１μｍ以上、厚くすることで、より好適に波打ち構造の欠陥に起因するムラの視認を防止できる。さらに、実施例５および実施例１０に示されるように、第１反射層および第２反射層を、共にＰＧ構造とすることにより、半値幅を広くでき、すなわち、選択的な反射波長帯域をより広くできる。
これに対して、同様に２層の反射層を有しても、下層反射層である第１反射層が第２反射層よりも厚い比較例１および比較例３、第１反射層と第２反射層の膜厚が等しい比較例２は、ムラが視認されてしまい、品質的に問題がある。
なお、下地層を下地層２とした実施例６および実施例７は、第２反射層に粘着剤を塗布して、他のシート状物に貼着した後、支持体を容易に剥離できた。
以上の結果より、本発明の効果は明らかである。
１０ 反射シート
１２ 支持体
１４ 下地層
１６ 第１反射層
１８ 第２反射層
３０ 基板
３２，３４ コレステリック液晶層
Ｂ 明部
Ｄ 暗部
ｐ 距離
１２ 支持体
１４ 下地層
１６ 第１反射層
１８ 第２反射層
３０ 基板
３２，３４ コレステリック液晶層
Ｂ 明部
Ｄ 暗部
ｐ 距離
Claims (10)
- コレステリック液晶相を固定化してなる反射層を、複数、積層した構成を有し、
前記反射層は、走査型電子顕微鏡によって観察される断面において、前記コレステリック液晶相に由来する明部および暗部の少なくとも一部が、波打ち構造を有し、
全ての前記反射層は、共に、厚さ方向で螺旋ピッチが、漸次、大きくなっている構造である、ピッチグラジエント構造を有し、
前記積層された複数層の反射層のうち、前記反射層の表面以外を形成面とする前記反射層を下層反射層とした際に、前記下層反射層は、他の反射層よりも厚さが薄いことを特徴とする反射シート。 - 前記下層反射層の厚さが３．５μｍ以下である、請求項１に記載の反射シート。
- 前記下層反射層以外の前記反射層の少なくとも１層が、厚さが４μｍ以上である、請求項１または２に記載の反射シート。
- 前記下層反射層以外の前記反射層の少なくとも１層が、厚さが前記下層反射層よりも１μｍ以上、厚い、請求項１～３のいずれか１項に記載の反射シート。
- 積分反射スペクトルの半値幅が１００ｎｍ以上である、請求項１～４のいずれか１項に記載の反射シート。
- 前記反射層の前記波打ち構造におけるピーク間距離の平均値が０．５～５０μｍである、請求項１～５のいずれか１項に記載の反射シート。
- 前記反射層を、２層、有する、請求項１～６のいずれか１項に記載の反射シート。
- 支持体と、前記支持体の一方の表面に設けられる下地層と、を有し、
前記下層反射層が前記下地層に隣接する、請求項１～７のいずれか１項に記載の反射シート。 - 支持体を有し、
前記下層反射層が前記支持体に隣接する、請求項１～７のいずれか１項に記載の反射シート。 - 前記支持体が剥離可能である、請求項８または９に記載の反射シート。
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