JP7168792B2 - プラズマ発生装置 - Google Patents
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Description
処理ガスを導入する処理ガス導入口と、処理ガス導入口から導入された処理ガスをプラズマ化して、プラズマガスを発生させるプラズマ発生部と、プラズマ発生部により発生されたプラズマガスをプラズマ発生部内から導出するプラズマガス導出口と、不活性ガス発生装置が発生した圧縮不活性ガスを導入する不活性ガス導入口と、プラズマガス導出口から導出されたプラズマガスと不活性ガス導入口から導入された圧縮不活性ガスを混合したプラズマ混合ガスを外部に排出するノズルと、プラズマガス導出口とノズルとの間を接続し、プラズマガスが流れるプラズマ流路と、不活性ガス導入口から導入された圧縮不活性ガスをプラズマ流路内に供給する不活性ガス供給路と、を備え、不活性ガス供給路は、圧縮不活性ガスの下流側への供給量を絞る絞り部を有する。
図1は、本願の第1実施形態に係るプラズマ発生装置1の概略構成を示している。
図3は、本願の第2実施形態に係るプラズマ発生装置に含まれるプラズマ発生器を示している。
Claims (4)
- 処理ガス発生装置が発生した処理ガスを導入する処理ガス導入口と、
前記処理ガス導入口から導入された前記処理ガスをプラズマ化して、プラズマガスを発生させるプラズマ発生部と、
前記プラズマ発生部により発生された前記プラズマガスを前記プラズマ発生部内から導出するプラズマガス導出口と、
不活性ガス発生装置が発生した圧縮不活性ガスを導入する不活性ガス導入口と、
前記プラズマガス導出口から導出された前記プラズマガスと前記不活性ガス導入口から導入された前記圧縮不活性ガスを混合したプラズマ混合ガスを外部に排出するノズルと、
前記プラズマガス導出口と前記ノズルとの間を接続し、前記プラズマガスが流れるプラズマ流路と、
前記不活性ガス導入口から導入された前記圧縮不活性ガスを前記プラズマ流路内に供給する不活性ガス供給路と、
を備え、
前記不活性ガス供給路は、
前記圧縮不活性ガスの下流側への供給量を絞る絞り部
を有する、
プラズマ発生装置。 - 前記絞り部は、前記圧縮不活性ガスを高速化して、前記プラズマ流路内に供給する、
請求項1に記載のプラズマ発生装置。 - 処理ガス発生装置が発生した処理ガスを導入する処理ガス導入口と、
前記処理ガス導入口から導入された前記処理ガスをプラズマ化して、プラズマガスを発生させるプラズマ発生部と、
前記プラズマ発生部により発生された前記プラズマガスを前記プラズマ発生部内から導出するプラズマガス導出口と、
不活性ガス発生装置が発生した圧縮不活性ガスを導入する不活性ガス導入口と、
前記プラズマガス導出口から導出された前記プラズマガスと前記不活性ガス導入口から導入された前記圧縮不活性ガスを混合したプラズマ混合ガスを外部に排出するノズルと、
前記不活性ガス導入口と前記ノズルとの間を接続し、前記圧縮不活性ガスが流れる不活性ガス流路と、
前記プラズマガス導出口から導出された前記プラズマガスを前記不活性ガス流路内に供給するプラズマガス供給路と、
を備え、
前記不活性ガス流路は、
前記圧縮不活性ガスの下流側への供給量を絞る絞り部
を有する、
プラズマ発生装置。 - 前記絞り部は、前記圧縮不活性ガスを高速化して、前記プラズマ混合ガスを前記ノズルに供給する、
請求項3に記載のプラズマ発生装置。
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---|---|---|---|
PCT/JP2019/038520 WO2021064796A1 (ja) | 2019-09-30 | 2019-09-30 | プラズマ発生装置 |
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JPWO2021064796A1 JPWO2021064796A1 (ja) | 2021-04-08 |
JP7168792B2 true JP7168792B2 (ja) | 2022-11-09 |
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ID=75337766
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country | Link |
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WO (1) | WO2021064796A1 (ja) |
Citations (4)
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---|---|---|---|---|
JP2012059548A (ja) | 2010-09-09 | 2012-03-22 | Ihi Corp | プラズマガス生成装置及びそれを用いた微粉炭燃焼試験装置 |
JP2017217650A (ja) | 2016-06-06 | 2017-12-14 | 拜普生醫科技股▲ふん▼有限公司Amsalp Biomedical Co., Ltd. | プラズマ液生成装置 |
JP2019050216A (ja) | 2018-12-26 | 2019-03-28 | 株式会社Fuji | プラズマガス照射装置 |
JP2019067609A (ja) | 2017-09-29 | 2019-04-25 | 日本電産株式会社 | プラズマ処理装置 |
-
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- 2019-09-30 WO PCT/JP2019/038520 patent/WO2021064796A1/ja active Application Filing
- 2019-09-30 JP JP2021550755A patent/JP7168792B2/ja active Active
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