JP7156407B2 - カーボンナノブラシの連続製造用部材および製造方法 - Google Patents

カーボンナノブラシの連続製造用部材および製造方法 Download PDF

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Description

本発明は、カーボンナノブラシを含むカーボンナノホーン集合体を製造するカーボンナノホーン集合体製造部材およびカーボンナノブラシを含むカーボンナノホーン集合体の製造方法に関する。
従来、炭素材料は、導電材、触媒担体、吸着剤、分離剤、インク、トナー等として利用されており、近年ではカーボンナノチューブ、カーボンナノホーン集合体等のナノサイズの大きさを有するナノ炭素材料の出現で、その構造体としての特徴が注目されている。
近年、従来の球状のカーボンナノホーン集合体(CNHsと略して記載する。)とは異なり、カーボンナノホーンが放射状に集合し、且つ、繊維状に繋がっている構造を有する繊維状カーボンナノホーン集合体(カーボンナノブラシとも呼ばれ、以降CNBと略して記載する。)が発見された(特許文献1)。CNBは、高分散性・高吸着性に優れ、さらに、高導電性を有する。従って、リチウムイオン電池の導電材、高容量電気二重層キャパシタ電極、高分子アクチュエータ電極、センサー電極、触媒担体、複合材等への応用が期待されている。
特許第6179678号
特許文献1には、触媒含有炭素ターゲットを配置した容器内でターゲットを回転させながらレーザーアブレーションするCNBの製造方法が記載されている。CNBはCNHsとともに生成するが、特許文献1の方法では生成物中のCNBの割合が非常に少なかった。更に、特許文献1の方法では、レーザー照射痕付近の触媒が蒸発し、且つ、熱により炭素の変質領域が形成されるため、CNBを連続生成することができなかった。また、ターゲットを蒸発させた後、新しくターゲットを交換する必要があるため効率よくCNBを生成することができなかった。本発明の目的は、上述した課題を鑑み、効率よくCNBを製造するための部材および方法を提供することにある。
本発明の一実施形態によれば、仕切りを有し、複数の棒状触媒含有炭素ターゲットを互いに接触することなく載せることができるターゲット収容部を上面に有し、移動用冶具ガイドを側面に有するターゲット固定冶具と、前記移動用冶具ガイドにスライド可能に係合しているターゲット固定冶具移動用冶具と、下方向へと傾斜し、前記複数の棒状触媒含有炭素ターゲットの配置に適合するガイドレールが設けられているターゲット固定冶具ガイドとを有し、前記ターゲット固定冶具は、前記ガイドレールにスライド可能に係合しており、自重により下方向に、前記ターゲット固定冶具移動用冶具により横方向に前記ガイドレールに沿って移動することを特徴とする、単層カーボンナノホーンが放射状に集合し、且つ、繊維状に繋がっている繊維状カーボンナノホーン集合体を製造するカーボンナノホーン集合体製造部材が提供される。
また、本発明の一実施形態によれば、仕切りを有し、複数の棒状触媒含有炭素ターゲットを互いに接触することなく載せることができるターゲット収容部を上面に有し、移動用冶具ガイドを側面に有するターゲット固定冶具に、複数の棒状触媒含有炭素ターゲットを載せる工程(a)と、前記複数の棒状触媒含有炭素ターゲットの端部を前記ターゲット固定冶具に固定する工程(b)と、前記ターゲット固定冶具の側面にある前記移動用冶具ガイドとターゲット固定冶具移動用冶具を繋げる工程(c)と、前記ターゲット固定冶具を、下方向へと傾斜し、前記複数の棒状触媒含有炭素ターゲットの配置に適合するガイドレールが設けられているターゲット固定冶具ガイドに載せる工程(d)と、前記棒状触媒含有炭素ターゲットの1つにレーザー光を照射する工程(e)と、前記ターゲット固定冶具を前記ガイドレールに沿って前記ターゲット固定冶具移動用冶具により移動させ、前記棒状触媒含有炭素ターゲットにおけるレーザー光の照射位置を移動させ、前記複数の棒状触媒含有炭素ターゲットの全てにレーザー光を照射する工程(f)と、を含む、単層カーボンナノホーンが放射状に集合し、且つ、繊維状に繋がっている繊維状カーボンナノホーン集合体を含むカーボンナノホーン集合体の製造方法が提供される。
本発明の一実施形態によれば、効率よくCNBを製造できる。
本実施形態に係る製造部材1が設置された製造装置6を示す模式図(正面図)である。 本実施形態に係る製造部材1が設置された製造装置6を示す模式図(側面図)である。 ターゲット固定冶具2の模式図((a)上面図、(b)断面図、(c)下面図)である。 ターゲット固定冶具2を繋げたターゲット固定冶具ガイド5の模式図((a)上面、(b)移動前A-A’断面図、(c)移動後B-B’断面図)である。 本実施形態に係る製造部材1を示す模式図(側面図)である。 移動用冶具ガイド16の模式図((a)断面図、(b)側面図)である。 棒状触媒含有炭素ターゲット3の模式図である。 実施例1で得られた生成物10のSEM写真である。 実施例1で得られた生成物10のTEM写真である。 比較例1で得られた生成物10のSEM写真である。
(CNB)
以下では、本実施形態にて製造されるCNBについて説明する。CNBは、種型、つぼみ型、ダリア型、ペタルダリア型、ペタル型(グラフェンシート構造)のカーボンナノホーン集合体が一次元的に繋がった構造を有する。すなわち、単層カーボンナノホーンが放射状に集合し、且つ、繊維状に繋がっている構造を有する。従って、繊維状構造中に1種類または複数のこれらカーボンナノホーン集合体が含まれている。種型とは、繊維状構造の表面に角状の突起がほとんどみられない、あるいは全くみられない形状、つぼみ型は繊維状の構造の表面に角状の突起が多少みられる形状、ダリア型は繊維状構造の表面に角状の突起が多数みられる形状、ペタル型は繊維状構造の表面に花びら状の突起がみられる形状である(グラフェンシート構造)。ペタル-ダリア型はダリア型とペタル型の中間的な構造である。CNBは、単層カーボンナノホーンが繊維状に集合していればよく、上記の構造のみに限定されない。
各々の単層カーボンナノホーンの直径はおおよそ1nm~5nmであり、長さは30nm~100nmである。CNBは、通常、直径が30nm~200nm程度で、長さが1μm~100μm程度である。一方、CNHsは、通常、直径が30nm~200nm程度でほぼ均一なサイズである。
また、CNBの内部には、カーボンナノチューブが含まれていることがある。このことから、CNBは、以下のような生成メカニズムにより生成すると考えられる。すなわち、(1)レーザー照射により炭素ターゲットが急激に加熱され、それによって、炭素ターゲットから炭素と触媒が一気に気化し、高密度の炭素蒸発により、プルームを形成する。(2)その際、炭素は互いの衝突によりある程度の大きさの揃った炭素液滴を形成する。(3)炭素液滴は拡散していく過程で、徐々に冷え炭素のグラファイト化が進みチューブ状のカーボンナノホーンが形成する。この時炭素液滴に溶け込んだ触媒から、カーボンナノチューブも成長する。そして、(4)カーボンナノチューブをテンプレートにしてカーボンナノホーンの放射状構造が一次元的に繋がっていき、CNBが形成される。
CNBについては、特許文献1に詳細に記載されている。特許文献1の全開示内容はその引用をもって本書に組み込み記載されているものとする。
次に本実施形態に係るCNBの製造方法について説明する。一般的に、CNBは、所定の容器内で触媒含有炭素ターゲットをレーザーアブレーションすることにより得られる。本実施形態においては、製造部材1を用いて複数の棒状触媒含有炭素ターゲット3からCNBを連続的且つ効率的に製造する。
(触媒含有炭素ターゲット)
本実施形態において、棒状触媒含有炭素ターゲット3を触媒含有炭素ターゲットとして用いる。棒状触媒含有炭素ターゲット3をレーザー照射すると、変質領域をあまり生成することなく、効率的にCNBを生成することができる。
棒状触媒含有炭素ターゲット3は、触媒金属の微粒子と炭素粉末とを均一に混合した後、棒状に成形することにより作製できる。棒状触媒含有炭素ターゲット3に含まれる触媒量により、CNBの生成量が変化する。棒状触媒含有炭素ターゲット3における触媒の量は適宜選択してよいが、触媒量が0.3~20原子%(at.%)が好ましく、0.5~3at.%がより好ましい。触媒量が0.3at.%より少ないと、CNBの生成量が非常に少なくなる。また、20at.%を超えると、触媒量が多くなり、コスト増になるため適当ではない。触媒は、Fe、Ni、Coを単独で、または混合して使用することができる。中でもFe(鉄)を単独で用いることが好ましく、1at.%以上3at.%以下の鉄を含有する棒状触媒含有炭素ターゲット3を用いることが特に好ましい。
棒状触媒含有炭素ターゲット3の物性(熱伝導度、密度、硬さ等)はCNBの生成に影響を及ぼす場合がある。棒状触媒含有炭素ターゲット3は、熱伝導性が低く、密度が低く、やわらかいものが好適である。棒状触媒含有炭素ターゲット3のかさ密度は、好ましくは1.6g/cm以下、より好ましくは、1.4g/cm以下である。棒状触媒含有炭素ターゲット3の熱伝導率は、好ましくは15W/(m・K)以下、より好ましくは14W/(m・K)以下である。かさ密度および熱伝導率をこの範囲にすることで、CNBの収率を向上できる。かさ密度および熱伝導率がこれらの範囲を超える場合は、CNHsや他の炭素構造体の収率が増加し、CNBの収率が低下する場合がある。
(製造部材)
本実施形態に係るCNBの製造方法において、まず、棒状触媒含有炭素ターゲット3を製造部材1に載せ、これを製造装置6の中に設置する(図1、図2)。図1および図2は、製造部材1が設置されている製造装置6の正面図と側面図である。製造部材1は複数の棒状触媒含有炭素ターゲット3が載せられているターゲット固定冶具2と、ターゲット固定冶具移動用冶具4と、ターゲット固定冶具ガイド5とを有する。図2に示されるように、レーザー光11を棒状触媒含有炭素ターゲット3に照射して、CNBを製造する。本実施形態においてレーザー光11の方向は常に同じ方向に設定する。ターゲット固定冶具2とともに棒状触媒含有炭素ターゲット3を移動させて、棒状触媒含有炭素ターゲット3におけるレーザー光11の照射位置を移動させ、棒状触媒含有炭素ターゲット3からCNBを製造する。
図3は、ターゲット固定冶具2の(a)上面図、(b)側面図、(c)下面図を示している。ターゲット固定冶具2は、上面においてターゲット収容部12を有し、ターゲット収容部12には棒状触媒含有炭素ターゲット3を一本一本分ける仕切り13があり、複数の棒状触媒含有炭素ターゲット3が互いに接触しないようになっている。これにより、レーザー照射の際、照射されていない棒状触媒含有炭素ターゲット3にレーザー光11から与えられた熱が伝導することを防止でき、CNBの収率を改善できる。棒状触媒含有炭素ターゲット3は、好ましくは互いに平行に配置される。また、棒状触媒含有炭素ターゲット3は、好ましくは間隔が均等になるよう配置される。
ターゲット固定冶具2に載せる棒状触媒含有炭素ターゲット3の数は特に限定されない。ターゲット固定冶具2に載せる棒状触媒含有炭素ターゲット3の数は、例えば、1~5や1~30等の範囲内にて適宜設定してよい。隣接する棒状触媒含有炭素ターゲット3間の距離は、特に制限はないが、ターゲット固定冶具2にできるだけ多くの棒状触媒含有炭素ターゲット3を配置する観点から、狭い方が好ましい。しかしながら、隣接する棒状触媒含有炭素ターゲット3からの熱の影響を少なくする観点から、ある程度の距離を開けることも好ましい。例えば、隣接する棒状触媒含有炭素ターゲット3間の距離は1~10mmの範囲とすることができる。
ターゲット固定冶具2の基材は、放熱性の良好な材料で構成されることが好ましく、例えば、ステンレス、銅(Cu)、アルミニウム(Al)、タングステン(W)、モリブデン(Mo)、クロム(Cr)から選択される金属、これら金属を含む合金、セラミックス、ダイヤモンドまたは前記金属または合金との複合体から選択される1種を含むことができる。
強固に棒状触媒含有炭素ターゲット3を固定するために、棒状触媒含有炭素ターゲット3の端部をターゲット抑えネジ8によりターゲット固定冶具2に固定してもよい。この場合、ターゲット固定冶具2の側面にはターゲット抑えネジ8を挿入するための孔が設けられる。
ターゲット固定冶具2は下面にガイド部材14を有する。ターゲット固定冶具2はガイド部材14を介してターゲット固定冶具ガイド5に設けられているガイドレール15にスライド可能に係合する。これにより、ターゲット固定冶具2がガイドレール15に沿って移動することとなる。特に限定されるものではないが、図3の(b)および(c)に示されるようにガイド部材14は突起であってよい。
図4には、ターゲット固定冶具2とターゲット固定冶具ガイド5の配置が示されている。ガイド部材14は、CNBの製造を開始する時点では、ガイドレール15の上端に置かれ、図4(a)の矢印で示されるようにガイドレール15の上端から下端へと進行する。図4において、ターゲット固定冶具2は2つのガイド部材14を有し、ターゲット固定冶具ガイド5は2つのガイドレール15を有している。ガイド部材14およびガイドレール15が2つあることにより、ターゲット固定冶具ガイド5にターゲット固定冶具2をより安定に設置できる。しかしながら、ガイド部材14およびガイドレール15の数はこれに限定されず、例えば1つであってもよい。図4のターゲット固定冶具ガイド5は、ターゲット固定冶具2を安定に置けるようシート状であるが、これに限定されずに各種形態のターゲット固定冶具ガイド5を用いてよい。例えば、ターゲット固定冶具ガイド5をシート状にせずに、ターゲット固定冶具ガイド5がガイドレール15のみから構成されていてもよい。
ターゲット固定冶具2がガイドレール15に沿って移動すると、最終的には全ての棒状触媒含有炭素ターゲット3がレーザー光11に照射されるように、ガイドレール15は棒状触媒含有炭素ターゲット3の形状および配置に適合する。具体的には、ガイドレール15は横方向のレールと下方向のレールが端部にて交互に繋がって形成されるジグザグ状の形状を有する。この形状は、平行に並べられて収容されている複数の棒状触媒含有炭素ターゲット3に適合する。ガイドレール15が複数の棒状触媒含有炭素ターゲット3により適合するためには、ターゲット固定冶具2に載せられている棒状触媒含有炭素ターゲット3がガイドレール15の横方向のレールと平行に並べられることが好ましい。横方向のレールの距離L1は棒状触媒含有炭素ターゲット3の長さ以下であっても、以上であってもよい。更に、隣接する2つの横方向のレールの中心線間距離L2は、隣接する2つの棒状触媒含有炭素ターゲット3の中心線間距離L3と同一であることが好ましい。ガイドレール15は下方向へ傾斜を有し、この上に置かれるターゲット固定冶具2も同様に下方向へ傾斜を有する。これによりターゲット固定冶具2のガイド部材14が、下方向のレールに入ると、自重で次段の横方向のレールまで下方向に移動し、レーザー光11が照射される棒状触媒含有炭素ターゲット3が切り替わる。これを繰返すことで、半自動的にCNBを含む生成物10を連続生成できる。傾斜角度は特に限定されず適宜設定してよい。傾斜角度は例えば20度以上90度以下であり、好ましくは30度以上60度以下、特に好ましくは45度である。
ターゲット固定冶具2はガイドレール15の下方向には自重により移動するが、ガイドレール15の横方向にはターゲット固定冶具移動用冶具4により移動する。ガイドレール15が図4に示されるようなジグザグ状の形状を有する場合、ターゲット固定冶具2は横方向の進行方向を途中で切り替え、左右に移動する。このようにターゲット固定冶具2をジグザグ状のガイドレール15上で移動可能とするように、ターゲット固定冶具移動用冶具4は、好ましくは、前進も後進もできる。ターゲット固定冶具移動用冶具4が前進する場合には、ターゲット固定冶具2はターゲット固定冶具移動用冶具4に押されて移動する。ターゲット固定冶具移動用冶具4が後進する場合には、ターゲット固定冶具2はターゲット固定冶具移動用冶具4に引かれて移動する。
図5は、ターゲット固定冶具移動用冶具4とターゲット固定冶具2とが接続している製造部材1の側面を示す。ターゲット固定冶具2の側面には、移動用冶具ガイド16が設けられ、これにターゲット固定冶具移動用冶具4がスライド可能に係合している。移動用冶具ガイド16とターゲット固定冶具移動用冶具4とは、ターゲット固定冶具移動用冶具4が横方向に前進および後進しても外れない構造となっている。ターゲット固定冶具移動用冶具4とターゲット固定冶具2との接続機構は特に限定されず、公知の機構を採用できる。接続機構の一例として、図6には、移動用冶具ガイド16とターゲット固定冶具移動用冶具4の先端の構造が示されている。移動用冶具ガイド16は、ターゲット固定冶具2の側面に沿って設けられた溝である。移動用冶具ガイド16の内部は開口部よりも広がっている。ターゲット固定冶具移動用冶具4は先端が広がっており、先端で移動用冶具ガイド16の内部に係合している。ターゲット固定冶具移動用冶具4の先端が移動用冶具ガイド16の開口部より大きいため、移動用冶具ガイド16から外れないようになっている。これにより、ターゲット固定冶具移動用冶具4はターゲット固定冶具2を引くことができる。ターゲット固定冶具移動用冶具4は移動用冶具ガイド16には完全に固定されず、移動用冶具ガイド16の範囲内でターゲット固定冶具移動用冶具4に対して相対的にスライド移動できる。ターゲット固定冶具2がガイドレール15の全範囲で移動できるように、移動用冶具ガイド16の長さはガイドレール15の下方向の長さ(下方向のレールの総距離)以上であることが好ましい。ターゲット固定冶具移動用冶具4を更に制御部に繋げてよい。これにより製造部材1を搭載するCNB製造装置とすることができる。制御部はターゲット固定冶具移動用冶具4を横方向に移動させる機能を有してよい。ガイド部材14がガイドレール15の横方向のレールの端に到達したら、ガイド部材14の下方向への移動が完了するまで、ターゲット固定冶具移動用冶具4の移動を停止するように制御部がターゲット固定冶具移動用冶具4を制御する機能を有してもよい。ターゲット固定冶具移動用冶具4の形状は特に限定されないが、棒状であることが好ましい。
ターゲット固定冶具移動用冶具4によりターゲット固定冶具2を横方向に移動させる際には、棒状触媒含有炭素ターゲット3の表面に照射されるレーザー光11のパワー密度が略一定となるように一定速度で移動させることが好ましい。このとき、移動速度が遅すぎると、棒状触媒含有炭素ターゲット3から炭素が蒸発できずに棒状触媒含有炭素ターゲット3上に堆積物として析出する。この析出物は、主にグラファイトやカーボンナノチューブであり、一部CNHsが生成するがCNBは生成しにくくなる。詳細については明らかではないが、わずかに蒸発した炭素はCNHsの生成に消費され、CNBが生成しにくくなると考えられる。また、移動速度が速くなりすぎても、主にCNHsになり、CNBが生成しにくくなる。そのため、移動速度は、レーザーパワー、レーザー光11のスポット径、触媒量に応じて適宜最適となるように設定する。例えば、0.05cm/秒~10cm/秒の範囲に移動速度を設定することができる。
(製造装置)
図1と図2は、製造部材1を搭載した製造装置6の概略を示す図である。製造装置6は、窒素ガスまたは希ガス(Ar等)等の非酸化性雰囲気中で棒状触媒含有炭素ターゲット3にレーザー光11を照射して炭素を蒸発させ、CNBを含む生成物10を製造する装置である。この製造装置6は、CNBを生成するための生成チャンバ7を備えている。また、生成チャンバ7は、レーザー発振器(例えば、炭酸ガスレーザー発振器)からのレーザー光11を生成チャンバ7内の棒状触媒含有炭素ターゲット3に照射するためのレーザー照射窓9(例えば、ZnSe製)を有している。また、生成チャンバ7には、ガス挿入口/排気口が連結されており、非酸化性ガス(窒素ガスやArガス等の希ガス)を生成チャンバ7内に導入、排気し、一定流量に制御することができる。レーザー光11が照射されている間、一定速度でターゲット固定冶具移動用冶具4に連結されたターゲット固定冶具2が横方向に前進および後進し、棒状触媒含有炭素ターゲット3を連続的に蒸発させる。通常、最初は最下段の棒状触媒含有炭素ターゲット3にレーザー光11の照射位置を設定し、最下段の棒状触媒含有炭素ターゲット3からレーザー光11の照射を開始する。横方向にターゲット固定冶具2が移動するとともに最下段の棒状触媒含有炭素ターゲット3におけるレーザー光11の照射位置が移動し、最下段の棒状触媒含有炭素ターゲット3全体を蒸発させる。ターゲット固定冶具2がガイドレール15の横方向のレールの端に到達すると、ターゲット固定冶具2は下に移動し、下から二段目の棒状触媒含有炭素ターゲット3にレーザー光11の照射位置が切り替わる。その後、最初とは逆向きで横方向にターゲット固定冶具2は移動するとともにレーザー光11が下から二段目の棒状触媒含有炭素ターゲット3におけるレーザー光11の照射位置が移動し、下から二段目の棒状触媒含有炭素ターゲット3全体を蒸発させる。これを繰り返すことで半自動的にCNBを含む生成物10を連続生成できる。
生成チャンバ7内の圧力は、一般には、3332.2hPa(10000Torr)以下で使用することができるが、圧力が真空に近くなるほど、カーボンナノチューブが生成しやすくなり、CNBが得られなくなる。好ましくは666.61hPa(500Torr)~1266.56hPa(950Torr)で、より好ましくは常圧(1013hPa(1atm≒760Torr))付近で使用することが大量合成や低コスト化のためにも適当である。生成チャンバ7内は任意の温度に設定できるが、大量合成や低コスト化のためには、温度は、好ましくは0~100℃であり、より好ましくは室温である。生成チャンバ7内には、窒素ガスや、希ガス等を単独でまたは混合して導入することで上記の雰囲気とする。ガス流量は任意の量を使用できるが、0.5L/min~100L/minの範囲が適当である。炭素が蒸発する過程では、好ましくはガス流量を一定に制御する。供給ガス流量と排気ガス流量とを合わせることでガス流量を一定にできる。また、ロータリーポンプやドライポンプを制御することで、圧力を一定にすることもできる。
レーザー光11の照射位置にはレーザースポット17が形成される。図7では、長さa、幅b、深さcを有する棒状触媒含有炭素ターゲット3の側面にレーザー光11が照射され、棒状触媒含有炭素ターゲット3の幅方向のスポット径dを有するレーザースポット17が側面に形成されている。棒状触媒含有炭素ターゲット3の照射面内にレーザースポット17が納まるように、幅bはスポット径dよりも大きく設定される。本実施形態において、レーザースポット17は任意の位置に設定できるが、ターゲット照射面の中心より下に照射すると、レーザースポット17が隣接する未照射の棒状触媒含有炭素ターゲット3と離れるので好ましい場合もある。
レーザーアブレーションには、COレーザー、エキシマレーザー、YAGレーザー、半導体レーザー等、棒状触媒含有炭素ターゲット3を高温に加熱できるものであれば適宜使用可能で、高出力化が容易なCOレーザーが最も適当である。COレーザーのパワー(出力)は、適宜設定してよいが、1.0kW~10kWのパワーが好ましく、2.0kW~5.0kWのパワーがより好ましい。このパワーよりも小さいと、ほとんど炭素が蒸発しないため、生成量の観点から好ましくない。これ以上だと、グラファイトやアモルファスカーボン等の不純物が多くなるので好ましくない。また、レーザー光11の照射は、連続照射およびパルス照射のどちらでも行うことが出来る。大量製造のためには、連続照射が好ましい。
上述の通りレーザー光11から与えられたエネルギーにより、レーザースポット17において炭素と触媒が蒸発し、CNBが生成する。しかしながら、レーザースポット17の周辺部も熱的な影響を受けて、冷却後に分析すると炭素質の結晶状態や触媒金属の分布等が変化していることが確認される(変質領域という)。一旦変質領域となってしまうと、その部分からはCNBは生成されない。従って、変質領域の生成が少ない方がよい。変質領域を少なくして棒状触媒含有炭素ターゲット3を有効活用するために、レーザースポット17の大きさ(スポット径)に応じて棒状触媒含有炭素ターゲット3の大きさ(長さ、幅、深さ)を適切に調整することが好ましい。なお、棒状触媒含有炭素ターゲット3が角柱型である場合、幅と深さはレーザー光11が照射される面により決定される。レーザー光11が照射される面の短辺を棒状触媒含有炭素ターゲット3の幅とする。また、レーザー光11が照射される面に対して垂直方向の長さを深さとする。棒状触媒含有炭素ターゲット3が円柱型である場合、幅および深さを円柱の直径とする。
レーザー光11のスポット径、特には幅方向のスポット径は、通常、照射面積が約0.02cm~約2cmとなる範囲から選択される。ここで、照射面積はレーザーパワーとレンズでの集光の度合いにより制御できる。単に「スポット径」と記載する場合、「スポット径」は、代表的には平面をなす表面に垂直にレーザー光11を一点に照射した場合のレーザースポット17(円または楕円)における平均の直径を意味している。棒状触媒含有炭素ターゲット3の表面が平面でない場合、あるいは棒状触媒含有炭素ターゲット3の面を傾けた場合、レーザースポット17の形状は円ではなく、例えば、略楕円となるが、レーザー光11のスポット中心を通る短径は、上記円の直径とほぼ同等である。このようなレーザー光11のスポット径の場合において、棒状触媒含有炭素ターゲット3の幅(図7b)は、10mm~100mmの幅に設定することが好ましい。また、棒状触媒含有炭素ターゲット3の深さ(図7c)は、任意の値に設定できるが一度のレーザー光11の照射でレーザースポット17の炭素が全て蒸発する程度の深さとすることが好ましく、例えば、10mm~100mmの深さに設定することが好ましい。
棒状触媒含有炭素ターゲット3の長さ(図7a)は製造条件等により適宜調整してよい。一般的には、棒状触媒含有炭素ターゲット3の長さが長い場合に、連続してCNBを製造でき、製造効率を高めることができる。一実施形態において、長さは、好ましくは50mm以上であり、より好ましくは60mm以上である。一実施形態において、長さは、好ましくは1000mm以下である。一実施形態において、長さは、50mm~700mmである。
一般的には、棒状触媒含有炭素ターゲット3において、幅または深さに対する長さの比率は、適宜調整できるが、好ましくは4以上、より好ましくは10以上である。また、一般的には、幅または深さに対する長さの比率は、100以下である。
また、レーザー光11を棒状触媒含有炭素ターゲット3に照射すると棒状触媒含有炭素ターゲット3が加熱され、棒状触媒含有炭素ターゲット3の表面からプルーム(発光)が発生して炭素が蒸発する。その際、棒状触媒含有炭素ターゲット3の表面と45度の角をなすレーザー光11が照射されると、プルームは棒状触媒含有炭素ターゲット3の表面に対して垂直な方向に発生する。レーザー光11がプルームに当たらず、棒状触媒含有炭素ターゲット3以外の部分を通過しないように、棒状触媒含有炭素ターゲット3の位置とレーザー光11の照射方向を調整することが好ましい。
(追加処理)
このようにして得られたCNBには、必要に応じてさらに開孔処理等の追加処理を施すことができる。
酸化処理によって、CNBを構成する単層カーボンナノホーンに微細な孔を開けることができる。この酸化処理により、開孔部に酸素を含む表面官能基が形成される。また、酸化処理は、気相プロセスと液相プロセスを使用できる。気相プロセスの場合は、空気、酸素、二酸化炭素等の酸素を含む雰囲気ガス中で熱処理して行う。中でも、コストの観点から空気が適している。また、温度は、300~650℃の範囲内が好ましく、400~550℃の範囲内がより好ましい。300℃以上の温度では、炭素が燃え、確実に開孔を形成できる。また、650℃以下でCNBの全体が燃焼することを抑制できる。液相プロセスの場合、硝酸、硫酸、過酸化水素等の酸化性物質を含む液体中で行う。硝酸の場合は、室温~120℃の温度範囲で使用できる。120℃以下であれば必要以上に酸化されることがない。過酸化水素の場合、室温~100℃の温度範囲で使用でき、40℃以上がより好ましい。40~100℃の温度範囲では、効率よく開孔を形成できる。また液相プロセスのとき、光照射を併用するとより効果的である。
CNBに含まれる触媒金属は、必要に応じて除去することができる。触媒金属は硝酸、硫酸、塩酸中で溶解するため除去できる。使いやすさの観点から、塩酸が適している。触媒を溶解する温度は適宜選択できるが、触媒を十分に除去する場合は、70℃以上に加熱して行うことが望ましい。また、硝酸、硫酸を用いる場合、触媒除去を開孔の形成と同時に、あるいは開孔の形成後に行うことができる。また、触媒がCNB生成時に炭素被膜で覆われる場合があるため、300~500℃程度で加熱することが望ましい。
得られるCNBは、不活性ガス、窒素、水素、真空中等の非酸化性雰囲気で熱処理することで結晶性を向上させることができる。熱処理温度は、800~2000℃であってよいが、好ましくは1000~1500℃である。また、開孔処理後では、開孔部に酸素を含んだ表面官能基が形成されるが、熱処理により除去することもできる。その熱処理温度は、150~2000℃であってよい。表面官能基であるカルボキシル基、水酸基等を除去するには150~600℃が望ましい。表面官能基であるカルボニル基等を除去するには、600℃以上が望ましい。また、表面官能基は、気体または液体雰囲気下で還元することによって除去することができる。気体雰囲気下での還元には、水素を使用でき、上記の結晶性の向上と兼用することができる。液体雰囲気下では、ヒドラジン等を利用できる。
CNBとCNHsの混合物は、そのまま、あるいはCNBを単離して使用することができる。好ましくは混合物のまま使用する。
以下に実施例を示し、さらに詳しく本発明について説明する。もちろん、以下の実施例によって本発明が限定されることはない。
(実施例1)
製造装置6内に窒素ガスを10L/minで流し、圧力を700~950Torrに制御した。鉄を1at.%含有した四角柱の棒状触媒含有炭素ターゲット3(幅:17mm、深さ:15mm、長さ:70mm、かさ密度:約1.4g/cm、熱伝導率:約5W/(m・K))を製造装置6内のターゲット固定冶具2(ステンレス製)に5本設置した。ターゲット固定冶具2をターゲット固定冶具移動用冶具4に連結し、ターゲット固定冶具ガイド5上に配置した。この時、一番下段の棒状触媒含有炭素ターゲット3にレーザー照射位置を合わせた。棒状触媒含有炭素ターゲット3を0.15cm/秒の速度で横方向に移動させながら、COレーザー光を30秒連続照射した。その後、ターゲット固定冶具2がガイドレール15の端部まで達し、自重により自動的にターゲット固定冶具2がガイドレール15に沿って下に移動し、下から二段目の棒状触媒含有炭素ターゲット3がレーザー照射位置に配置された。再び、COレーザー光を30秒連続照射した。この操作を繰り返し、5本の棒状触媒含有炭素ターゲット3を蒸発させた。その結果、炭素粉末がおよそ1g生成した。レーザーパワーは3.2kW、スポット径は1.5mmとなるように調整した。生成チャンバ7内の温度は室温であった。
図8は、得られた生成物10のSEM写真である。繊維状構造体と球状構造体が観察された。非常に多くの繊維状構造体を含んでいることが分かった。図9は、得られた生成物10のTEM写真である。繊維状構造体と球状構造体は、それぞれCNBとCNHsであった。CNBには、直径1~5nm、長さが40~50nm程度の単層カーボンナノホーンが繊維状に集合していた。CNB自体は、直径が30~100nm程度で、長さが数μm~数10μmであった。また、CNBやCNHsの中に見られる黒い線状構造は、グラフェンシート(ペタル)を端から見た構造である。また、黒い粒子は触媒金属(Fe)である。
(比較例1)
生成チャンバ7内に窒素ガスを10L/minで流し、圧力を700~950Torrに制御した。この生成チャンバ7内で、鉄を1at.%含有した円柱型の炭素ターゲット(直径:30mm、長さ:50mm、かさ密度:約1.4g/cm、熱伝導率:約5W/(m・K))を1rpm(線速度:0.15cm/秒)の速度で回転させながら、COレーザー光を30秒連続照射した。レーザーパワーは3.2kW、スポット径は1.5mm、照射角度はスポット中心で約45度となるように調整した。生成チャンバ7内の温度は室温であった。図10は、得られた生成物10のSEM写真である。繊維状構造体と球状構造体が観察された。しかしながら、実施例1の生成物10に比べて繊維状構造体が少ないことが分かった。
この出願は、2019年1月29日に出願された日本出願特願2019-012995を基礎とする優先権を主張し、その開示の全てをここに取り込む。
以上、実施形態及び実施例を参照して本願発明を説明したが、本願発明は上記実施形態及び実施例に限定されるものではない。本願発明の構成や詳細には、本願発明のスコープ内で当業者が理解し得る様々な変更をすることができる。
1 製造部材
2 ターゲット固定冶具
3 棒状触媒含有炭素ターゲット
4 ターゲット固定冶具移動用冶具
5 ターゲット固定冶具ガイド
6 製造装置
7 生成チャンバ
8 ターゲット抑えネジ
9 レーザー照射窓
10 生成物
11 レーザー光
12 ターゲット収容部
13 仕切り
14 ガイド部材
15 ガイドレール
16 移動用冶具ガイド
17 レーザースポット
L1 横方向のレールの距離
L2 横方向のレールの中心線間距離
L3 棒状触媒含有炭素ターゲットの中心線間距離

Claims (6)

  1. 仕切りを有し、複数の棒状触媒含有炭素ターゲットを互いに接触することなく載せることができるターゲット収容部を上面に有し、移動用冶具ガイドを側面に有するターゲット固定冶具と、
    前記移動用冶具ガイドにスライド可能に係合しているターゲット固定冶具移動用冶具と、
    下方向へと傾斜し、前記複数の棒状触媒含有炭素ターゲットの配置に適合するガイドレールが設けられているターゲット固定冶具ガイドとを有し、
    前記ターゲット固定冶具は、前記ガイドレールにスライド可能に係合し、自重により下方向に、前記ターゲット固定冶具移動用冶具により横方向に、前記ガイドレールに沿って移動することを特徴とする、単層カーボンナノホーンが放射状に集合し、且つ、繊維状に繋がっている繊維状カーボンナノホーン集合体を製造するカーボンナノホーン集合体製造部材。
  2. 前記ガイドレールが、横方向のレールと下方向のレールが交互に繋がって形成されるジグザグ状のレールである、請求項1に記載の製造部材。
  3. 隣接する2つの前記横方向のレールの中心線間距離が、隣接する2つの前記棒状触媒含有炭素ターゲットの中心線間距離と同一である、請求項2に記載の製造部材。
  4. 前記棒状触媒含有炭素ターゲットの幅と深さが10mm~100mm、長さが50mm~700mmである、請求項1~3のいずれか1項に記載の製造部材。
  5. 仕切りを有し、複数の棒状触媒含有炭素ターゲットを互いに接触することなく載せることができるターゲット収容部を上面に有し、移動用冶具ガイドを側面に有するターゲット固定冶具に、複数の棒状触媒含有炭素ターゲットを載せる工程(a)と、
    前記複数の棒状触媒含有炭素ターゲットの端部を前記ターゲット固定冶具に固定する工程(b)と、
    前記ターゲット固定冶具の側面にある前記移動用冶具ガイドとターゲット固定冶具移動用冶具を繋げる工程(c)と、
    前記ターゲット固定冶具を、下方向へと傾斜し、前記複数の棒状触媒含有炭素ターゲットの配置に適合するガイドレールが設けられているターゲット固定冶具ガイドに載せる工程(d)と、
    前記棒状触媒含有炭素ターゲットの1つにレーザー光を照射する工程(e)と、
    前記ターゲット固定冶具を前記ガイドレールに沿って前記ターゲット固定冶具移動用冶具により移動させ、前記棒状触媒含有炭素ターゲットにおけるレーザー光の照射位置を移動させ、前記複数の棒状触媒含有炭素ターゲットの全てにレーザー光を照射する工程(f)と、
    を含む、単層カーボンナノホーンが放射状に集合し、且つ、繊維状に繋がっている繊維状カーボンナノホーン集合体を含むカーボンナノホーン集合体の製造方法。
  6. 前記棒状触媒含有炭素ターゲットの幅と深さが10mm~100mm、長さが50mm~700mmである、請求項5に記載の製造方法。
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