JP7148598B2 - インプリント方法および装置 - Google Patents
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Description
本特許出願は、2017年9月29日に出願された米国仮出願第62/565,363号の優先権を主張するものである。
図1は、一実施形態を実施することができるナノインプリントリソグラフィシステム10を示す図である。ナノインプリントリソグラフィシステム10は、基板12上にレリーフパターンを形成するために使用される。基板12は、半導体ウエハのような平坦な表面でありうる。基板12は、基板チャック14に結合されうる。基板チャック14は、真空チャック、ピン型、溝型、静電型、電磁型等でありうるが、これらに限定されない。
第2の実施形態は、他のテンプレートデザインを利用することができる。例えば、1つのテンプレートデザインは図3Bに示されるように、30μmより大きく、100μm以上のオーダーであり得るギャップ高さh3を有するディープエッチングメサを含み得る。ギャップ高さh3のこの増加は、任意のはみ出した材料358の露出表面積に対して、図4に示すギャップ領域460の体積を増加させる。成形可能材料の所与の蒸気圧に対して、この体積の増加は、メサ縁部から蒸発する成形可能材料の比例するより大きな体積を可能にする。別のテンプレートデザインは、独立したメッサ側壁462を含む図3Cに図示されるようなダブルエッジメサを含みうる。さらに別のテンプレートデザインでは、はみ出しの減少を助けるようにメサ側壁が湾曲または角度付けされてもよい。テンプレート18と基板12との間のギャップを大きくすることにより(例えば、100μm)、テンプレート18と基板12との間の気体流に対する抵抗が減少する。テンプレート18の外側からメサ側壁462までの長さを減少させることにより、抵抗も減少する。気体輸送システム36bから流れる気体はまた、ギャップに向けられたノズルを使用してテンプレート18領域の外側から導入されてもよい。テンプレート18の周りに配置された任意の数のノズル(例えば、4個または20個のノズル)をメサ側壁に向けることができる。例えば、図5Dは、12個のノズルを含む実施形態を示す。ノズルは、気体流が実質的にメサ側壁に向かって導かれるように配置されうる。ノズルはまた、テンプレート18に対してある角度で配置され、基板12の表面を使用して、気体流をメサ側壁に向け直すことができる。気体輸送システム36cから気体を受け取るノズルは気体流がテンプレート18から偏向され、メサ側壁に向けられるように、基板12の周りに配置されてもよい。ノズルに印加される正圧または負圧、あるいはそれらの組み合わせを使用して、テンプレート18と基板12との間に気体流を発生させることができる。図5E~Fは、図5Dに示す領域Dの数値シミュレーションであり、基板12上の気体の速度を示し、気体は、一辺当たり15slpmでノズル36bを通って流れる。図5E~Fでは、基板12の上方のギャップ内の中央平面での速度が示されている。図5Eでは、ギャップ高さh3は30μmである。一方、図5Fでは、ギャップ高さh3は250μmである。メサを取り囲むギャップ領域における速度は、30μmの場合よりも250μmの場合の方がはるかに高いことに留意されたい。
第3の実施形態では、気体は、酸素または酸素含有混合物などの硬化禁止剤であり、気体流量がはみ出した成形可能材料358内のみに気体が拡散しインプリント領域の下では実質的に気体が拡散しないような、気体が流れるタイミングおよび気体流量とされる。例えば、酸素が存在すると、成形可能材料は重合阻害されうる。酸素は、成形可能材料内のラジカルと反応することによるラジカル重合禁止剤となりうる。ラジカル数が減少すると、UV硬化中の連鎖伝播は、はみ出した材料が重合しない点まで減少しうる。酸素を一定量供給することによって、成形可能材料34が硬化することが防止されうる。重合阻害された成形可能材料は、連鎖伝播が抑制されるので硬化したはみ出しを形成しないので、UV硬化後に液体のままである。また、重合阻害された成形可能材料は、メサ側壁から蒸発し続ける。この実施形態では、酸素または酸素含有混合物の流れはメサ20が成形可能材料34と完全に接触し、インプリント領域の下の成形可能材料が重合阻害されないように、注意深く計時されなければならない。
出願人は、孔564を通して気体を供給し、排気することにより、基板12とテンプレート面359との間に圧力を発生させることができると判断した。基板12とテンプレート面359との間のこの圧力は、テンプレート18を保持するインプリントヘッドと基板チャック14との両方に力を発生させることができる。この力は補償されない限り、力制御中にインプリントヘッドおよび基板チャック14の一方または両方の変位量をもたらす可能性がある。例えば、時刻T4の50ミリ秒後に開始して550ミリ秒間、孔あたり約0.05slpmのCDAを孔564を介して供給することにより、エッジはみ出しをうまく除去することができる。これらの条件下では、テンプレート18が約9μmだけ上方向に移動することができ、その結果、角部が縁部から剥がれることがある。この変位量はナノインプリントのような小さなインプリントを処理するときに、多くの欠陥を引き起こす可能性がある。
Claims (20)
- 成形可能材料の複数の液滴を基板のインプリント領域に供給する工程であって、前記成形可能材料の流体-気体界面で該成形可能材料の分圧が発生する工程と、
初期接触時にテンプレート上のメサのインプリント面の一部を前記成形可能材料の複数の液滴と接触させることにより、前記成形可能材料の複数の液滴を融合させ、前記インプリント面のメサ側壁と前記基板との間のインプリントエッジ界面に向かって流動させる工程と、
前記初期接触時の前に、前記インプリント領域を含む第1領域へ第1気体の供給を開始する工程と、
前記初期接触時の後に、前記インプリントエッジ界面と、前記テンプレートと前記基板との間のギャップ領域の少なくとも一部と、を含む第2領域へ、第2気体を供給する工程と、を有し、
前記第2気体を供給する工程は、真空装置を使用して前記ギャップ領域内に前記第2気体の気流を形成することにより、前記インプリントエッジ界面における前記流体-気体界面に隣接する前記ギャップ領域の一部において前記成形可能材料の分圧を該成形可能材料の蒸気圧未満に低減させることを含む、
ことを特徴とするインプリント方法。 - 前記第2気体は、酸素、クリーンドライエア、窒素、アルゴン、二酸化炭素、ヘリウムのうちの1つであることを特徴とする請求項1に記載のインプリント方法。
- 前記第2気体は第1気体とは異なることを特徴とする請求項2に記載のインプリント方法。
- 前記第1気体はヘリウムであり、前記第2気体は、酸素、クリーンドライエア、窒素、アルゴン、および二酸化炭素のうちの1つである、ことを特徴とする請求項1に記載のインプリント方法。
- 前記第1気体は、前記テンプレートの縁部から前記第1領域に流入し、
前記第2気体は、前記テンプレートの前記縁部から前記ギャップ領域を通って前記メサ側壁に向かって流れ、
前記ギャップ領域は、前記テンプレートの前記縁部から前記メサ側壁への前記第2気体の流れを実質的に減少させないために十分な厚さを有する、
ことを特徴とする請求項1に記載のインプリント方法。 - 前記第1気体と前記第2気体の両方が、同じ気体ノズルを通って前記テンプレートの前記縁部に向かって流れる、ことを特徴とする請求項5に記載のインプリント方法。
- 前記ギャップ領域の厚さは100μm以上であることを特徴とする請求項5に記載のインプリント方法。
- 前記第2気体は、前記テンプレートの複数の孔を通って前記ギャップ領域に流れ、
前記ギャップ領域への前記第2気体の前記供給が、前記ギャップ領域を出入りする気体を循環させ、前記インプリントエッジ界面における前記流体-気体界面に隣接する前記ギャップ領域の前記一部において、前記成形可能材料の分圧を、該成形可能材料の前記蒸気圧未満に低減させるように構成されている、
ことを特徴とする請求項1に記載のインプリント方法。 - 前記第1気体は、前記テンプレートの縁部から前記テンプレートの前記複数の孔を通って前記第1領域に流入する、ことを特徴とする請求項8に記載のインプリント方法。
- 前記第1気体は、前記テンプレートの縁部から前記第1領域に流入する、ことを特徴とする請求項8に記載のインプリント方法。
- 前記第1気体は、前記テンプレートの前記複数の孔を通って流れることを特徴とする請求項8に記載のインプリント方法。
- 前記ギャップ領域は、前記メサ側壁、前記基板、テンプレート面、および前記テンプレート面のエッジ、によって境界が定められることを特徴とする請求項1に記載のインプリント方法。
- 前記第2気体は、前記複数の孔を通って前記ギャップ領域に対して流入および流出し、
前記第2気体を供給する工程は、
前記複数の孔のうちの1つ以上に正圧を加えることにより、前記第2気体を前記ギャップ領域に流入させることと、
前記複数の孔のうちの前記1つ以上に負圧を加えることにより、前記第2気体を前記ギャップ領域から流出させることと、
を交互に行うことを含み、
前記交互に行われるそれぞれの前記第2気体の供給の期間における前記正圧と前記負圧との時間平均圧力がゼロまたはゼロ未満となるように設定されている、
ことを特徴とする請求項8に記載のインプリント方法。 - 前記成形可能材料の分圧を前記成形可能材料の蒸気圧未満に低減させるための、前記複数の孔を介した前記第2気体の流量は、0.001slpm~1slpmであることを特徴とする請求項8に記載のインプリント方法。
- 前記第2気体の流量は、前記成形可能材料の分圧が前記成形可能材料の蒸気圧の1%、10%、20%、50%、70%、90%のうちのいずれかに低減されることを特徴とする請求項1に記載のインプリント方法。
- 前記第1気体は、前記インプリント領域から望ましくない気体を移動させ、
前記望ましくない気体は重合を阻害するものであり、
前記第2気体は、前記望ましくない気体であるか、またはそれを含み、
前記第2気体は、前記成形可能材料が前記インプリント領域の関心領域に充填した後に流れ始める、
ことを特徴とする請求項1に記載のインプリント方法。 - 前記第2気体は、酸素、クリーンドライエア、および酸素含有混合物のうちの1つであることを特徴とする請求項1に記載のインプリント方法。
- 前記第2気体の前記供給は、前記初期接触時またはその後に開始され、
前記第2気体の前記供給は、フィードバックベースの位置合わせ期間の開始時に、減少または終了される、
ことを特徴とする請求項1に記載のインプリント方法。 - インプリント装置コントローラであって、
メモリと、
インプリント装置に命令を送信するプロセッサと、を有し、
前記命令は、
成形可能材料の複数の液滴を基板のインプリント領域に供給するための命令であって、前記成形可能材料の流体-気体界面で該成形可能材料の分圧が発生する、命令と、
初期接触時にテンプレート上のメサのインプリント面の一部を前記成形可能材料の複数の液滴と接触させることにより、前記成形可能材料の複数の液滴を融合させ、前記インプリント面のメサ側壁と前記基板との間のインプリントエッジ界面に向かって流動させるための命令と、
前記初期接触時の前に、前記インプリント領域を含む第1領域へ第1気体の供給を開始するための命令と、
前記初期接触時の後に、前記インプリントエッジ界面と、前記テンプレートと前記基板との間のギャップ領域の少なくとも一部と、を含む第2領域へ、第2気体を供給するための命令と、を含み、
前記インプリント装置コントローラは、真空装置を使用して前記ギャップ領域内に前記第2気体の気流を形成することにより、前記インプリントエッジ界面における前記流体-気体界面に隣接する前記ギャップ領域の一部において前記成形可能材料の分圧を該成形可能材料の蒸気圧未満に低減させるように、前記第2気体の供給を行う、
ことを特徴とするインプリント装置コントローラ。 - 物品を製造する方法であって、
基板をパターニングする工程と、
前記基板に追加的な処理を行い前記物品を製造する工程と、を有し、
前記基板をパターニングする工程は、
成形可能材料の複数の液滴を基板のインプリント領域に供給する工程であって、前記成形可能材料の流体-気体界面で該成形可能材料の分圧が発生する工程と、
初期接触時にテンプレート上のメサのインプリント面の一部を前記成形可能材料の複数の液滴と接触させることにより、前記成形可能材料の複数の液滴を融合させ、前記インプリント面のメサ側壁と前記基板との間のインプリントエッジ界面に向かって流動させる工程と、
前記初期接触時の前に、前記インプリント領域を含む第1領域へ第1気体の供給を開始する工程と、
前記初期接触時の後に、前記インプリントエッジ界面と、前記テンプレートと前記基板との間のギャップ領域の少なくとも一部と、を含む第2領域へ第2気体を供給する工程と、を含み、
前記第2気体を供給する工程は、真空装置を使用して前記ギャップ領域内に前記第2気体の気流を形成することにより、前記インプリントエッジ界面における前記流体-気体界面に隣接する前記ギャップ領域の一部において前記成形可能材料の分圧を該成形可能材料の蒸気圧未満に低下させることを含む、
ことを特徴とする方法。
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US11614693B2 (en) | 2021-06-30 | 2023-03-28 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of determining the initial contact point for partial fields and method of shaping a surface |
US20230120053A1 (en) * | 2021-10-15 | 2023-04-20 | Canon Kabushiki Kaisha | Nanoimprint Lithography Template with Peripheral Pockets, System of Using the Template, and Method of Using the Template |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011108805A (ja) | 2009-11-17 | 2011-06-02 | Dainippon Printing Co Ltd | ナノインプリントによるパターン形成方法 |
JP2013513950A (ja) | 2009-12-10 | 2013-04-22 | モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド | インプリント・リソグラフィ用テンプレート |
JP2013251560A (ja) | 2013-07-18 | 2013-12-12 | Dainippon Printing Co Ltd | ナノインプリント方法 |
JP2015046605A (ja) | 2012-10-04 | 2015-03-12 | 大日本印刷株式会社 | インプリント方法およびインプリント装置 |
JP2016031952A (ja) | 2014-07-25 | 2016-03-07 | キヤノン株式会社 | インプリント装置及び物品の製造方法 |
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Family Cites Families (41)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6482742B1 (en) * | 2000-07-18 | 2002-11-19 | Stephen Y. Chou | Fluid pressure imprint lithography |
US5997963A (en) * | 1998-05-05 | 1999-12-07 | Ultratech Stepper, Inc. | Microchamber |
JP2002208563A (ja) * | 2001-01-09 | 2002-07-26 | Ebara Corp | 被加工物の加工装置及び加工方法 |
US6764386B2 (en) * | 2002-01-11 | 2004-07-20 | Applied Materials, Inc. | Air bearing-sealed micro-processing chamber |
US7019819B2 (en) * | 2002-11-13 | 2006-03-28 | Molecular Imprints, Inc. | Chucking system for modulating shapes of substrates |
US6936194B2 (en) | 2002-09-05 | 2005-08-30 | Molecular Imprints, Inc. | Functional patterning material for imprint lithography processes |
US8349241B2 (en) | 2002-10-04 | 2013-01-08 | Molecular Imprints, Inc. | Method to arrange features on a substrate to replicate features having minimal dimensional variability |
US20040065252A1 (en) | 2002-10-04 | 2004-04-08 | Sreenivasan Sidlgata V. | Method of forming a layer on a substrate to facilitate fabrication of metrology standards |
US7157036B2 (en) | 2003-06-17 | 2007-01-02 | Molecular Imprints, Inc | Method to reduce adhesion between a conformable region and a pattern of a mold |
US8211214B2 (en) * | 2003-10-02 | 2012-07-03 | Molecular Imprints, Inc. | Single phase fluid imprint lithography method |
US7090716B2 (en) * | 2003-10-02 | 2006-08-15 | Molecular Imprints, Inc. | Single phase fluid imprint lithography method |
CN100517584C (zh) * | 2003-12-19 | 2009-07-22 | 北卡罗来纳大学查珀尔希尔分校 | 使用软或压印光刻法制备隔离的微米-和纳米-结构的方法 |
US8076386B2 (en) | 2004-02-23 | 2011-12-13 | Molecular Imprints, Inc. | Materials for imprint lithography |
US7490547B2 (en) | 2004-12-30 | 2009-02-17 | Asml Netherlands B.V. | Imprint lithography |
US7377764B2 (en) * | 2005-06-13 | 2008-05-27 | Asml Netherlands B.V. | Imprint lithography |
MX2007016039A (es) | 2005-06-17 | 2008-10-27 | Univ North Carolina | Metodos, sistemas y materiales de fabricacion de nanoparticulas. |
US7316554B2 (en) * | 2005-09-21 | 2008-01-08 | Molecular Imprints, Inc. | System to control an atmosphere between a body and a substrate |
US20070138699A1 (en) | 2005-12-21 | 2007-06-21 | Asml Netherlands B.V. | Imprint lithography |
WO2007123805A2 (en) | 2006-04-03 | 2007-11-01 | Molecular Imprints, Inc. | Lithography imprinting system |
US8707890B2 (en) | 2006-07-18 | 2014-04-29 | Asml Netherlands B.V. | Imprint lithography |
TW200842934A (en) | 2006-12-29 | 2008-11-01 | Molecular Imprints Inc | Imprint fluid control |
US9573319B2 (en) | 2007-02-06 | 2017-02-21 | Canon Kabushiki Kaisha | Imprinting method and process for producing a member in which a mold contacts a pattern forming layer |
JP5137635B2 (ja) * | 2007-03-16 | 2013-02-06 | キヤノン株式会社 | インプリント方法、チップの製造方法及びインプリント装置 |
US8144309B2 (en) * | 2007-09-05 | 2012-03-27 | Asml Netherlands B.V. | Imprint lithography |
JP5121549B2 (ja) * | 2008-04-21 | 2013-01-16 | 株式会社東芝 | ナノインプリント方法 |
JP5349588B2 (ja) * | 2008-06-09 | 2013-11-20 | ボード・オブ・リージエンツ,ザ・ユニバーシテイ・オブ・テキサス・システム | 適応ナノトポグラフィ・スカルプティング |
US20100096764A1 (en) | 2008-10-20 | 2010-04-22 | Molecular Imprints, Inc. | Gas Environment for Imprint Lithography |
US20100104852A1 (en) | 2008-10-23 | 2010-04-29 | Molecular Imprints, Inc. | Fabrication of High-Throughput Nano-Imprint Lithography Templates |
US20100109205A1 (en) * | 2008-11-04 | 2010-05-06 | Molecular Imprints, Inc. | Photocatalytic reactions in nano-imprint lithography processes |
JP4892026B2 (ja) | 2009-03-19 | 2012-03-07 | 株式会社東芝 | パターン形成方法 |
NL2004685A (en) | 2009-07-27 | 2011-01-31 | Asml Netherlands Bv | Imprint lithography apparatus and method. |
JP5679850B2 (ja) * | 2011-02-07 | 2015-03-04 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、および、物品の製造方法 |
JP5787691B2 (ja) * | 2011-09-21 | 2015-09-30 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、それを用いた物品の製造方法 |
GB2501681A (en) | 2012-04-30 | 2013-11-06 | Ibm | Nanoimprint lithographic methods |
JP2013251462A (ja) * | 2012-06-01 | 2013-12-12 | Canon Inc | インプリント装置、および、物品の製造方法 |
JP5865332B2 (ja) * | 2013-11-01 | 2016-02-17 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、物品の製造方法、及びインプリント方法 |
JP6294679B2 (ja) * | 2014-01-21 | 2018-03-14 | キヤノン株式会社 | インプリント装置及び物品の製造方法 |
JP6525567B2 (ja) * | 2014-12-02 | 2019-06-05 | キヤノン株式会社 | インプリント装置及び物品の製造方法 |
JP2019040957A (ja) * | 2017-08-23 | 2019-03-14 | 東芝メモリ株式会社 | 基板処理装置および遮蔽板 |
US10895806B2 (en) * | 2017-09-29 | 2021-01-19 | Canon Kabushiki Kaisha | Imprinting method and apparatus |
US11194247B2 (en) * | 2018-01-31 | 2021-12-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Extrusion control by capillary force reduction |
-
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011108805A (ja) | 2009-11-17 | 2011-06-02 | Dainippon Printing Co Ltd | ナノインプリントによるパターン形成方法 |
JP2013513950A (ja) | 2009-12-10 | 2013-04-22 | モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド | インプリント・リソグラフィ用テンプレート |
JP2015046605A (ja) | 2012-10-04 | 2015-03-12 | 大日本印刷株式会社 | インプリント方法およびインプリント装置 |
JP2013251560A (ja) | 2013-07-18 | 2013-12-12 | Dainippon Printing Co Ltd | ナノインプリント方法 |
JP2016031952A (ja) | 2014-07-25 | 2016-03-07 | キヤノン株式会社 | インプリント装置及び物品の製造方法 |
JP2016111201A (ja) | 2014-12-05 | 2016-06-20 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、および物品の製造方法 |
Also Published As
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