JP7137147B2 - β－リン酸硫酸ジルコニウム粒子およびその製造方法 - Google Patents
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Description
本発明は、低い熱膨張係数を有するβ－リン酸硫酸ジルコニウムを主成分として含む低熱膨張性粒子およびその製造方法に関する。
電子機器の普及に伴い、その主要部品であるプリント配線基板の需要が増大している。回路の高集積化や多層化が進むなか、基板の熱膨張係数（ＣＴＥ：Ｃｏｅｆｆｉｃｉｅｎｔ ｏｆ Ｔｈｅｒｍａｌ Ｅｘａｐａｎｓｉｏｎ）に対して半導体封止材料のＣＴＥが大きくなると、回路破壊の原因になる。そこで、封止材料のＣＴＥを低減させる目的で、該材料を構成するエポキシ樹脂等の耐熱性樹脂に、ＣＴＥの小さな無機物（非晶質シリカ等）をフィラーとして充填する技術が用いられている。
上記のような封止材料のフィラーとしてだけでなく、ＣＴＥの小さな無機物（非晶質シリカ等）をアンダーフィリングのフィラーとして利用する技術も用いられている。すなわち、ワイヤーボンディングやフリップチップボンディング等で基材に実装された回路は、外力や応力に対して脆弱であるケースが多いため、比較的小さな力で破断しやすい。そこで、アンダーフィルと呼ばれる液状硬化性樹脂（エポキシ樹脂等）を基板部品間に浸透させ、接続信頼性を確保することが行われている。ここで、樹脂の熱膨張・収縮が原因となり、ボンディングの破壊が引き起こされる場合も予想されるため、このような樹脂の熱膨張・収縮を抑制する目的で、ＣＴＥの小さな無機物（非晶質シリカ等）をフィラーとして充填する技術が用いられている。
このようなフィラーを充填する技術にあっては、封止材料やアンダーフィリングの形成材料（エポキシ樹脂等を主成分としたコンポジットレジン）のＣＴＥを効果的に低減させる点で、更なる改善が望まれていた。
そこで、リン酸ジルコニウム系の化合物は負のＣＴＥを有する物質として知られているおり、これをフィラーとして利用することが考えられる。
例えば、非特許文献１にはＺｒＯＣｌ２・８Ｈ２Ｏ、ＮＨ４Ｈ２ＰＯ４、Ｈ２ＳＯ４を蒸留水に溶解した溶液を９０分撹拌した後、テフロン（登録商標）製の容器を用いて１１０～１８０℃、１２～９６時間の条件で水熱処理し、得られた沈殿を４００～９００℃、４時間の条件で焼成してα－Ｚｒ２ＳＰ２Ｏ１２粉末が得られることが開示されている。
非特許文献２にはＺｒＯＣｌ２・８Ｈ２Ｏ、ＮＨ４Ｈ２ＰＯ４、Ｈ２ＳＯ４を蒸留水に溶解した溶液を９０分撹拌した後、テフロン（登録商標）製の容器を用いて１８０℃、１２時間の条件で水熱処理し、得られた沈殿を５００～９００℃、４時間の条件で焼成してα－Ｚｒ２ＳＰ２Ｏ１２粉末が得られることが開示されている。さらに得られた粉末をエポキシ樹脂液に混合し、硬化させて、Ｚｒ２ＳＰ２Ｏ１２粉／エポキシ複合材を作製できることが開示されている。
そこで、リン酸ジルコニウム系の化合物は負のＣＴＥを有する物質として知られているおり、これをフィラーとして利用することが考えられる。
例えば、非特許文献１にはＺｒＯＣｌ２・８Ｈ２Ｏ、ＮＨ４Ｈ２ＰＯ４、Ｈ２ＳＯ４を蒸留水に溶解した溶液を９０分撹拌した後、テフロン（登録商標）製の容器を用いて１１０～１８０℃、１２～９６時間の条件で水熱処理し、得られた沈殿を４００～９００℃、４時間の条件で焼成してα－Ｚｒ２ＳＰ２Ｏ１２粉末が得られることが開示されている。
非特許文献２にはＺｒＯＣｌ２・８Ｈ２Ｏ、ＮＨ４Ｈ２ＰＯ４、Ｈ２ＳＯ４を蒸留水に溶解した溶液を９０分撹拌した後、テフロン（登録商標）製の容器を用いて１８０℃、１２時間の条件で水熱処理し、得られた沈殿を５００～９００℃、４時間の条件で焼成してα－Ｚｒ２ＳＰ２Ｏ１２粉末が得られることが開示されている。さらに得られた粉末をエポキシ樹脂液に混合し、硬化させて、Ｚｒ２ＳＰ２Ｏ１２粉／エポキシ複合材を作製できることが開示されている。
非特許文献３には、ＨＮＯ３、ＺｒＯ（ＮＯ３）２・２Ｈ２ＯにＨ３ＰＯ４を添加して得られたリン酸ジルコニウムゲルを硫酸中にて１８０～２００℃５日間還流下にて加熱し、ジルコニウム原子、硫黄原子、リン原子のモル比（Ｚｒ：Ｓ：Ｐ）が２：１：２であるβ－Ｚｒ２（ＰＯ４）２ＳＯ４が得られることが開示されている。
早川、磯部、松下、中島、「Ｚｒ２ＳＯ４（ＰＯ４）２の合成とその性質」、日本セラミックス協会２０１８年年会講演予稿集、２０１８年３月、公益社団法人日本セラミックス協会
足立、磯部、松下、中島、「低膨張性Ｚｒ２ＳＰ２Ｏ１２／ポリマー複合材の作製とその性質」、日本セラミックス協会第３１回秋季シンポジウム講演予稿集、２０１８年９月、公益社団法人日本セラミックス協会
Ｙ．ＰＲＦＦＡＲＤ、Ａ．ＶＥＲＢＡＥＲＥ、Ｍ．ＫＩＮＯＳＨＩＴＡ、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ ｓｏｌｉｄ ｓｔａｔｅ ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ、１９８７、１２１－１３０頁、ｖｏｌ．７１
しかしながら、非特許文献１や非特許文献２では水熱処理が必須であって工程が煩雑であること、水熱処理後にゲル状の沈殿になるために焼成前の乾燥が難しいこと、用いる原料に塩化物を含むため水熱処理時に耐腐食性に優れたテフロン（登録商標）製等の容器を用いる必要があり、生産性が低いことが問題になっていた。
さらに、原料として塩化物を用いているため、得られるα－Ｚｒ２ＳＰ２Ｏ１２粉末には塩化物が残存しやすく、電子デバイス用途のフィラーに用いた場合、電子回路の腐食の原因になるため該用途には不適合であった。
また、これらリン酸硫酸ジルコニウム中の硫酸根が、粒子中に残存すると酸性度が高くなり、樹脂配合した際に樹脂を劣化させる懸念があった。
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、非塩化物の水溶性原料を用い、生産性に優れた製造方法により、Ｓ原子含有量が少なく、コンポジットレジンのＣＴＥを効率的に低減させるのに有利なβ－Ｚｒ２ＳＰ２Ｏ１２相を高純度に有するβ－リン酸硫酸ジルコニウム粒子およびその製造方法を提供することを目的とする。
また、これらリン酸硫酸ジルコニウム中の硫酸根が、粒子中に残存すると酸性度が高くなり、樹脂配合した際に樹脂を劣化させる懸念があった。
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、非塩化物の水溶性原料を用い、生産性に優れた製造方法により、Ｓ原子含有量が少なく、コンポジットレジンのＣＴＥを効率的に低減させるのに有利なβ－Ｚｒ２ＳＰ２Ｏ１２相を高純度に有するβ－リン酸硫酸ジルコニウム粒子およびその製造方法を提供することを目的とする。
本発明者らは上記課題を解決するため鋭意研究を行った結果、水溶性ジルコニウム塩、水溶性硫酸塩及び水溶性リン酸塩を混合し、その混合物を、ジルコニウム原子：硫黄原子：リン原子のモル比（Ｚｒ：Ｓ：Ｐ）が２：ｘ：ｙ（ｘ≧０．２５、１．５≦ｙ≦２．５）にある中で７５０℃以上１０００℃以下の範囲で焼成することにより、β－リン酸硫酸ジルコニウム相を高純度に有する低熱膨張性粒子を製造できることを見出した。
すなわち、本発明は、以下の第１観点～第１２観点の何れか一つに記載のβ－リン酸硫酸ジルコニウムを主成分として含む低熱膨張性粒子、およびその製造方法に関する。
すなわち本発明は、第１観点として、ジルコニウム原子、硫黄原子、リン原子のモル比（Ｚｒ：Ｓ：Ｐ）が２：０．０３～０．３５：１．２～２．０であるβ－リン酸硫酸ジルコニウムを主成分として含むことを特徴とする低熱膨張性粒子に関する。
第２観点として、Ｚｒ２Ｐ２Ｏ９相の（０１１）面に帰属するＸ線回折ピーク強度Ｉαと、β－リン酸硫酸ジルコニウム相の（０２２）面に帰属するＸ線回折ピーク強度Ｉβと、の比[Ｉα／Ｉα + Ｉβ]が０．１未満であることを特徴とする請求項１に記載の低熱膨張性粒子に関する。
第３観点として、平均粒径（Ｄ５０）が０．１～１００μｍであることを特徴とする、請求項１又は請求項２に記載の低熱膨張性粒子に関する。
第４観点として、水溶性ジルコニウム塩、水溶性硫酸塩及び水溶性リン酸塩の混合水溶液を調製する第１工程と、前記混合水溶液を乾燥する第２工程と、７５０℃以上１０００℃以下の温度で焼成する第３工程とを含み、前記第３工程では、前記混合物中のジルコニウム原子：硫黄原子：リン原子のモル比（Ｚｒ：Ｓ：Ｐ）が２：ｘ：ｙ（ｘ≧０．２５、１．５≦ｙ≦２．５）にある中で前記焼成すること、を特徴とする請求項１～３のいずれか一項に記載の低熱膨張性粒子の製造方法に関する。
第３観点として、平均粒径（Ｄ５０）が０．１～１００μｍであることを特徴とする、請求項１又は請求項２に記載の低熱膨張性粒子に関する。
第４観点として、水溶性ジルコニウム塩、水溶性硫酸塩及び水溶性リン酸塩の混合水溶液を調製する第１工程と、前記混合水溶液を乾燥する第２工程と、７５０℃以上１０００℃以下の温度で焼成する第３工程とを含み、前記第３工程では、前記混合物中のジルコニウム原子：硫黄原子：リン原子のモル比（Ｚｒ：Ｓ：Ｐ）が２：ｘ：ｙ（ｘ≧０．２５、１．５≦ｙ≦２．５）にある中で前記焼成すること、を特徴とする請求項１～３のいずれか一項に記載の低熱膨張性粒子の製造方法に関する。
第５観点として、前記水溶性ジルコニウム塩として、ジルコニウムのアンモニウム塩を用いることを特徴とする請求項４に記載の低熱膨張性粒子の製造方法に関する。
第６観点として、前記水溶性硫酸塩として、硫酸のアンモニウム塩を用いることを特徴とする請求項４又は請求項５に記載の低熱膨張性粒子の製造方法に関する。
第７観点として、前記水溶性リン酸塩として、リン酸のアンモニウム塩を用いることを特徴とする請求項４～６のいずれか一項に記載の低熱膨張性粒子の製造方法に関する。
第８観点として、前記第２工程で、前記モル比（Ｚｒ：Ｓ：Ｐ）が２：ｘ：ｙ（ｘ≧０．２５、１．５≦ｙ≦２．５）である水溶液を、５０℃以上３５０℃未満で噴霧乾燥する第１手法、凍結乾燥する第２手法、３５０℃以上１０００℃未満で噴霧熱分解する第３手法、を用いることを特徴とする請求項４～７のいずれか一項に記載の低熱膨張性粒子の製造方法に関する。
第９観点として、前記第３工程後に、さらに粉砕する第４工程を行うことを特徴とする請求項４～８のいずれか一項に記載の低熱膨張性粒子の製造方法に関する。
第１０観点として、前記第４工程後に、さらに焼成する第５工程を行うことを特徴とする請求項４～９のいずれか一項に記載の低熱膨張性粒子の製造方法に関する。
第１１観点として、エポキシ樹脂と、硬化剤と、請求項１～請求項３のいずれか一項に記載の低熱膨張性粒子とを含むことを特徴とするエポキシ樹脂組成物に関する。
第１２観点として、エポキシ樹脂組成物の全成分の合計１００質量部に対して、前記低熱膨張性粒子が３０～９０質量部であることを特徴とする請求項１１に記載のエポキシ樹脂組成物に関する。
本発明によれば、水溶性原料を用いた合成法を利用して、コンポジットレジンのＣＴＥを低減させるのに有利なβ－リン酸硫酸ジルコニウムを主成分として含む低熱膨張性粒子を製造する方法を提供することができる。かかる製造方法により得られた低熱膨張性粒子は、半導体封止材料やアンダーフィリング等のフィラーとして好適に使用できる。
本発明に係る低熱膨張性粒子について説明する。以下の説明は、本発明の一態様を示すものであり、本発明の趣旨の範囲内で任意に変更できる。
本発明のβ－リン酸硫酸ジルコニウム粒子を主成分として含む低熱膨張性粒子は、ジルコニウム原子、硫黄原子、リン原子のモル比（Ｚｒ：Ｓ：Ｐ）が以下の範囲で含有することができる。
本発明のβ－リン酸硫酸ジルコニウム粒子を主成分として含む低熱膨張性粒子は、ジルコニウム原子、硫黄原子、リン原子のモル比（Ｚｒ：Ｓ：Ｐ）が以下の範囲で含有することができる。
ジルコニウム原子２モルに対する硫黄原子の含有量は、０．０３～０．３５、又は０．０５～０．３５の範囲で含むことができる。硫黄原子の含有量が０．０３モルより低いとＺｒ２Ｐ２Ｏ９相やＺｒＰ２Ｏ７相が生成しやすくなり、コンポジットレジンのＣＴＥを低減させることが難しくなる可能性がある。また、硫黄原子の含有量が０．３５モルより高いとβ－リン酸硫酸ジルコニウム粒子中に硫酸根が残存して酸性度が高くなり、樹脂に配合した場合に樹脂を劣化させる原因となる。
ジルコニウム原子２モルに対するリン原子の含有は、１．２～２．０、又は１．２～１．６の範囲で含むことができる。リン原子の含有量が１．２モルより低いとβ－リン酸硫酸ジルコニウムの構造を保つことが難しくなる。また、リン原子の含有量が２．０モルより高いとβ－リン酸硫酸ジルコニウム粒子中にリン酸根が残存して酸性度が高くなり、樹脂に配合した場合に樹脂を劣化させる原因となる。
ジルコニウム原子２モルに対するリン原子の含有は、１．２～２．０、又は１．２～１．６の範囲で含むことができる。リン原子の含有量が１．２モルより低いとβ－リン酸硫酸ジルコニウムの構造を保つことが難しくなる。また、リン原子の含有量が２．０モルより高いとβ－リン酸硫酸ジルコニウム粒子中にリン酸根が残存して酸性度が高くなり、樹脂に配合した場合に樹脂を劣化させる原因となる。
また、本発明のリン酸硫酸ジルコニウム粒子はβ－リン酸硫酸ジルコニウムが主結晶相であり、Ｚｒ２Ｐ２Ｏ９相の（０１１）面に帰属するＸ線回折ピーク強度Ｉαと、β－リン酸硫酸ジルコニウム相の（０２２）面に帰属するＸ線回折ピーク強度Ｉβと、の比[Ｉα／Ｉα + Ｉβ]が０．１未満であることを特徴とするβ－リン酸硫酸ジルコニウム粒子である。
Ｚｒ２Ｐ２Ｏ９相の（０１１）面に帰属するＸ線回折ピーク強度Ｉαと、β－リン酸硫酸ジルコニウム相の（０２２）面に帰属するＸ線回折ピーク強度Ｉβと、の比[Ｉβ／Ｉα + Ｉβ]が０．１以上では、該粒子を樹脂に配合したコンポジットレジンのＣＴＥを低減させる効果が不十分になるおそれがある。
比Ｉα／Ｉα + Ｉβは、その値が小さいほどβ－リン酸硫酸ジルコニウム相の割合が高いことを示す指標となるものである。なお、比Ｉβ／Ｉα + Ｉβを算出するための装置や手法の一例は、実施例の通りである。
Ｚｒ２Ｐ２Ｏ９相の（０１１）面に帰属するＸ線回折ピーク強度Ｉαと、β－リン酸硫酸ジルコニウム相の（０２２）面に帰属するＸ線回折ピーク強度Ｉβと、の比[Ｉβ／Ｉα + Ｉβ]が０．１以上では、該粒子を樹脂に配合したコンポジットレジンのＣＴＥを低減させる効果が不十分になるおそれがある。
比Ｉα／Ｉα + Ｉβは、その値が小さいほどβ－リン酸硫酸ジルコニウム相の割合が高いことを示す指標となるものである。なお、比Ｉβ／Ｉα + Ｉβを算出するための装置や手法の一例は、実施例の通りである。
回折ピークは、例えば、ＩＣＤＤ（ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ ｃｅｎｔｒｅ ｆｏｒ ｄｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ ｄａｔａ）のデータベース「ＰＤＦ－２」を使用し、α－Ｚｒ２ＳＰ２Ｏ１２相はＰＤＦ Ｎｏ．００－０３８－０４８９、β－Ｚｒ２ＳＰ２Ｏ１２相はＰＤＦ Ｎｏ．０１－０８４－１４２７、Ｚｒ２Ｐ２Ｏ９相はＰＤＦ Ｎｏ．０１－０７６－４７４４を参照して生成相の帰属を行うことができる。
また、樹脂組成物と粉末との混合時の作業性を良くするためには、平均粒径が０．１～１００μｍ以下であることが必要であり、０．１～３０μｍ以下であることが好ましく、より高い機械的強度を得るためには０．５～１０μｍ以下であることがより好ましい。
本発明のβ－リン酸硫酸ジルコニウム粒子を主成分として含む低熱膨張性粒子の製造方法は、水溶性ジルコニウム塩、水溶性モリブデン塩及び水溶性リン酸塩を混合する第１工程と、混合後の混合物を７５０℃以上１０００℃未満の温度で焼成する第３工程と、を含み、第３工程では、該混合物中のジルコニウム原子：硫黄原子：リン原子のモル比（Ｚｒ：Ｓ：Ｐ）が２：ｘ：ｙ（ｘ≧０．２５、１．５≦ｙ≦２．５）にある中で焼成するものである。
リン酸硫酸ジルコニウムの生成相には、α－リン酸硫酸ジルコニウムと、β－リン酸硫酸ジルコニウムが挙げられ、副生成相としてＺｒ２Ｐ２Ｏ９相やＺｒＰ２Ｏ７相がある。α－リン酸硫酸ジルコニウムと、β－リン酸硫酸ジルコニウムの何れも大きな負のＣＴＥを有するのに対して、Ｚｒ２Ｐ２Ｏ９相、ＺｒＰ２Ｏ７相は正のＣＴＥを有する。従って、リン酸硫酸ジルコニウム粒子を添加してコンポジットレジンのＣＴＥを低減させる効果（ＣＴＥ低減効果）の観点では、仕込みの組成及び焼成条件を制御することにより、リン酸硫酸ジルコニウム粒子の生成相において、副生成相の割合が少ないことが望ましい。
この点、本発明の製造方法によれば、β－リン酸硫酸ジルコニウム相を主成分として含む低熱膨張性粒子を得ることができる。特に、Ｚｒ２Ｐ２Ｏ９相の（０１１）面に帰属するＸ線回折ピーク強度Ｉαと、β－リン酸硫酸ジルコニウム相の（０２２）面に帰属するＸ線回折ピーク強度Ｉβと、の比[Ｉβ／Ｉα + Ｉβ]が０．１未満であるβ－リン酸硫酸ジルコニウムを主成分として含む低熱膨張性粒子を得ることができる。
まず、本発明に係る製造方法は、水溶性ジルコニウム塩、水溶性硫酸塩及び水溶性リン酸塩を混合する第１工程を有する。水溶性ジルコニウム塩、水溶性硫酸塩及び水溶性リン酸塩を含有する混合水溶液を調製する場合、上記の塩である固体原料のまま所定の溶液に溶解させて該混合水溶液とすることもでき、上記の塩を予め水溶液とした上でこれらの水溶液同士を混合することもできる。
水溶性ジルコニウム塩としては、例えば、２５℃の水に１質量％以上溶解するジルコニウム塩であり、炭酸ジルコニウムアンモニウム、酢酸ジルコニル、及び硝酸ジルコニルが挙げられる。これらは、単独で用いることができるし、相溶性に問題がない範囲で２種以上を混合して用いることもできる。ただ、混合水溶液の安定性の観点からは、アンモニウム塩（炭酸ジルコニウムアンモニウム）を単独で用いることが好ましい。アンモニウム塩であれば、他の強酸塩と比べ、混合水溶液への溶解性も確保される。塩化ジルコニルを用いた場合、焼成後にも塩化物の残存の原因になるので好ましくない。
水溶性ジルコニウム塩としては、例えば、２５℃の水に１質量％以上溶解するジルコニウム塩であり、炭酸ジルコニウムアンモニウム、酢酸ジルコニル、及び硝酸ジルコニルが挙げられる。これらは、単独で用いることができるし、相溶性に問題がない範囲で２種以上を混合して用いることもできる。ただ、混合水溶液の安定性の観点からは、アンモニウム塩（炭酸ジルコニウムアンモニウム）を単独で用いることが好ましい。アンモニウム塩であれば、他の強酸塩と比べ、混合水溶液への溶解性も確保される。塩化ジルコニルを用いた場合、焼成後にも塩化物の残存の原因になるので好ましくない。
水溶性硫酸塩としては、例えば、２５℃の水に１質量％以上溶解する硫酸塩であり、硫酸アンモニム、硫酸水素アンモニウムが挙げられ、これらは、単独で用いることができるし、相溶性に問題がない範囲で２種以上を混合して用いることもできる。硫酸をアンモニアで中和して用いても良い。
水溶性リン酸塩としては、例えば、２５℃の水に１質量％以上溶解するリン酸塩であり、リン酸二水素アンモニウム、リン酸水素二アンモニウム、リン酸三アンモニム、リン酸二水素ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、及びリン酸三ナトリウムが挙げられる。これらは、単独で用いることができるし、相溶性に問題がない範囲で２種以上を混合して用いることもできる。しかし、電子デバイス用途で使用されるフィラーはアルカリ金属を含まないことが望ましいため、リン酸二水素アンモニウム、リン酸水素二アンモニウム、リン酸三アンモニムを好ましく用いることができる。また、リン酸をアンモニアで中和して用いても良い。
ここで、上記の第１工程で水溶性ジルコニウム塩、水溶性硫酸塩及び水溶性リン酸塩を含有した混合水溶液を、第２工程で乾燥することができる。このような第２工程を実施することで、ジルコニウム原子、硫黄原子及びリン原子の混合均一性を確保しやすくなる。かかる乾燥の手法としては、例えば、後述する噴霧乾燥や凍結乾燥が挙げられる。このような乾燥を経ることで、その後の第３工程とあわせて、ジルコニウム原子、硫黄原子及びリン原子の混合均一性を確保しやすくなる。なお、乾燥の手法としては、後述する噴霧熱分解も挙げられる。
また、本発明に係る製造方法は、水溶性ジルコニウム塩、水溶性硫酸塩及び水溶性リン酸塩を混合後の混合物を、７５０℃以上１０００℃以下の温度で焼成する第３工程を有する。ここでの混合物には、上記の混合水溶液や、混合水溶液を乾燥させた乾燥物が含まれる。
混合物の焼成は、大気中又は酸化雰囲気中の温度が７５０℃以上１０００℃以下の範囲であり、好ましくは、８００℃以上１０００℃以下の範囲である。焼成時の温度が上記の温度以上の場合、β－Ｚｒ２ＳＰ２Ｏ１２相が熱分解し、Ｚｒ２Ｐ２Ｏ９相に変化する恐れが生じる。一方、焼成時の温度が上記の温度未満の場合、水溶性ジルコニウム塩、水溶性硫酸塩及び水溶性リン酸塩が十分に反応し難くなる恐れが生じ、この場合、β－Ｚｒ２ＳＰ２Ｏ１２相が生成し難くなる。この焼成は、通常０．５～３０時間行われる。
また、焼成の前に、余剰の硫酸アンモニウムの分解を促進するため、大気中又は酸化雰囲気中で３５０℃以上５００℃未満の範囲で仮焼成しても良い。この仮焼成は、通常０．５～３０時間行われる。
更に、本発明に係る製造方法は、上記の第３工程で、混合物中のジルコニウム原子：硫黄原子：リン原子のモル比（Ｚｒ：Ｓ：Ｐ）が２：ｘ：ｙ（ｘ≧０．２５、１．５≦ｙ≦２．５）にある中で焼成するものである。
混合物中の硫黄原子のモル比は、ジルコニウム原子２モルに対して、０．２５以上含むことができ、又は０．２５～２．５モル、又は０．２５～２．０モル、又は０．２５～１．５モル含むことができる。
混合物中のリン原子のモル比は、ジルコニウム原子２モルに対して、１．５～２．５モル含むことができ、又は１．５～２．０モル含むことができる。
言い換えれば、水溶性ジルコニウム塩、水溶性硫酸塩及び水溶性リン酸塩を混合した該混合時のモル比の如何に関わらず、焼成前の時点で、上記のモル比が実現されるようにする。
言い換えれば、水溶性ジルコニウム塩、水溶性硫酸塩及び水溶性リン酸塩を混合した該混合時のモル比の如何に関わらず、焼成前の時点で、上記のモル比が実現されるようにする。
ジルコニウム原子及び硫黄原子に対してリン原子が過剰に存在すると、製造されるリン酸硫酸ジルコニウムの生成相において、Ｚｒ２Ｐ２Ｏ９相が生成しやすくなる。一方、ジルコニウム原子に対してリン原子が不足すると、ＺｒＯ２相とβ－リン酸硫酸ジルコニウム相との混相になるおそれがある。
ジルコニウム原子及びリン原子に対して硫黄原子が過剰に存在するときは、余剰の硫酸成分は分解を伴いながら揮発するだけであり、高純度なβ－リン酸硫酸ジルコニウム相を得ることができるが、ジルコニウム原子及びリン原子に対して硫黄原子が不足するとβ－リン酸硫酸ジルコニウム相が得られない。
なお、混合物中のジルコニウム原子の一部は、ＣＴＥ低減効果が得られる範囲において、ハフニウム原子で置換されていてもよい。
第３工程では、例えば、第１手法にて、モル比（Ｚｒ：Ｓ：Ｐ）が２：ｘ：ｙ（ｘ≧０．２５、１．５≦ｙ≦２．５）である混合水溶液を噴霧乾燥して得られた乾燥物（混合物）を、上記の温度範囲で焼成する方法が挙げられる。噴霧乾燥は上記の第２工程で行うことができる。噴霧乾燥にあたっては、水溶液における均一な混合状態を維持したまま噴霧して乾燥可能なスプレードライヤー、又はそれに準じた噴霧乾燥装置を用いることができる。
スプレードライヤー又はそれに準じた噴霧乾燥装置で乾燥する際の温度雰囲気は、５０℃以上３５０℃未満であり、使用する水溶性ジルコニウム塩、水溶性硫酸塩及び水溶性リン酸塩の分解温度以下であることが好ましい。乾燥する際の雰囲気は特に限定されず、大気中、酸化雰囲気中、還元雰囲気中、又は不活性雰囲気中の何れでもよい。
また、第３工程では、例えば、第２手法にて、モル比（Ｚｒ：Ｓ：Ｐ）が２：ｘ：ｙ（ｘ≧０．２５、１．５≦ｙ≦２．５）である水溶液を凍結乾燥して得られた乾燥物（混合物）を、上記の温度範囲で焼成する方法を挙げることができる。凍結乾燥は上記の第２工程で行うことができる。ここでの凍結乾燥には、真空凍結乾燥すなわちフリーズドライが含まれる。フリーズドライで使用可能な冷媒としては、ドライアイスとメタノールの混合媒体や、液体窒素等が挙げられる。
更に、第３工程では、例えば、第３手法にて、モル比（Ｚｒ：Ｓ：Ｐ）が２：ｘ：ｙ（ｘ≧０．２５、１．５≦ｙ≦２．５）である混合水溶液を所定の温度範囲で噴霧熱分解し焼成する方法を挙げることができる。噴霧熱分解によれば、第２工程での乾燥と仮焼成とが同工程で行われる。噴霧熱分解によれば、水溶性ジルコニウム塩、水溶性モリブデン塩及び水溶性リン酸塩を混合した混合水溶液を霧化させ、加熱炉に噴霧することで、乾燥及び仮焼成を同時に行うことができる。噴霧熱分解での温度雰囲気は、例えば５００℃以上１０００℃未満であり、これによれば噴霧熱分解を好適に行うことができる。
本発明に係る製造方法は、 第３工程の後に、粒子径の微細化を目的に第４工程として粉砕処理工程を行うことができる。粉砕処理工程は、乾式又は湿式にて行うことができる。乾式粉砕方法として、ハンマーミル、ピンミル等の衝撃粉砕機、解砕機等の摩砕粉砕機、ジェットミル等の気流宇粉砕機等の公知の方法を用いることができる。
また、湿式粉砕方法として、前記β－リン酸硫酸ジルコニウム粒子を主成分として含む低熱膨張性粒子を水や有機溶媒等の分散媒に分散させてスラリーを調整した後、ビーズミル、サンドミル、ディスパー、ペイントシェイカー等の公知の方法を用いることができる。湿式粉砕処理を施すスラリーは、固形分濃度として１～８質量％、又は１０～６０質量％にて行うことができる。湿式粉砕にて用いられる粉砕メディアは、アルミナ、ジルコニア、ガラスビーズなどが挙げられる。
また、本発明に係る製造方法は、第４工程にて粉砕の衝撃により生じた結晶性の低下を回復、若しくは向上させることを目的に、第５工程として焼成工程を行うことができる。焼成工程は、大気中又は酸化雰囲気中にて６００～１０００℃、又は６００～８００℃の間で行うことができる。焼成装置は、焼成時間は、１～２４時間、又は１～１０時間行うことができる。
本発明のβ－リン酸硫酸ジルコニウム粒子を含む低熱膨張性粒子は、エポキシ樹脂や硬化剤などと組み合わせてエポキシ樹脂組成物を得ることができる。
エポキシ樹脂は、公知のエポキシ樹脂を用いることができる。例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、アミノフェノール型エポキシ樹脂、水添ビスフェノール型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、アルコールエーテル型エポキシ樹脂、環状脂肪族型エポキシ樹脂、フルオレン型エポキシ樹脂、シロキサン系エポキシ樹脂などが挙げられる。また、エポキシ等量は粘度調整の観点から、８０～２５０ｇ／ｅｑであることが好ましい。市販品として、ＤＩＣ製ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂（品名：ＥＸＡ－８３０ＬＶＰ、ＥＸＡ－８３０ＣＲＰ）、三菱化学製ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂（グレード：ｊＥＲ－８０６）、新日鐵化学製ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂（品名：ＹＤＦ－８１７０Ｃ、ＹＤＦ－８７０ＧＳ）、三菱化学製アミノフェノール型エポキシ樹脂（グレード：ｊＥＲ－６３０、ｊＥＲ－６３０ＬＳＤ）、ＤＩＣ製ナフタレン型エポキシ樹脂（品名：ＨＰ－４０３２Ｄ）、モメンティブ・パフォーマンス製シロキサン系エポキシ樹脂（品名：ＴＳＬ－９９０６）、新日鐵化学株式会社製１，４－シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテル（品名：ＺＸ－１６５８ＧＳ）等が挙げられる。なお、これらは単独で用いても２種以上を併用して良い。
エポキシ樹脂は、公知のエポキシ樹脂を用いることができる。例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、アミノフェノール型エポキシ樹脂、水添ビスフェノール型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、アルコールエーテル型エポキシ樹脂、環状脂肪族型エポキシ樹脂、フルオレン型エポキシ樹脂、シロキサン系エポキシ樹脂などが挙げられる。また、エポキシ等量は粘度調整の観点から、８０～２５０ｇ／ｅｑであることが好ましい。市販品として、ＤＩＣ製ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂（品名：ＥＸＡ－８３０ＬＶＰ、ＥＸＡ－８３０ＣＲＰ）、三菱化学製ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂（グレード：ｊＥＲ－８０６）、新日鐵化学製ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂（品名：ＹＤＦ－８１７０Ｃ、ＹＤＦ－８７０ＧＳ）、三菱化学製アミノフェノール型エポキシ樹脂（グレード：ｊＥＲ－６３０、ｊＥＲ－６３０ＬＳＤ）、ＤＩＣ製ナフタレン型エポキシ樹脂（品名：ＨＰ－４０３２Ｄ）、モメンティブ・パフォーマンス製シロキサン系エポキシ樹脂（品名：ＴＳＬ－９９０６）、新日鐵化学株式会社製１，４－シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテル（品名：ＺＸ－１６５８ＧＳ）等が挙げられる。なお、これらは単独で用いても２種以上を併用して良い。
硬化剤は、エポキシ樹脂の硬化剤であれば、特に限定されず、公知のものを使用することができる。例えば、酸無水物系の硬化剤、アミン系硬化剤及びフェノール系硬化剤のいずれも使用することができる。
酸無水物系硬化剤の具体例としては、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルナジック酸無水物、水素化メチルナジック酸無水物、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルシクロヘキセンテトラカルボン酸二無水物、無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、エチレングリコールビスアンヒドロトリメリテート、グリセリンビス（アンヒドロトリメリテート）モノアセテート、ドデセニル無水コハク酸、脂肪族二塩基酸ポリ無水物、クロレンド酸無水物、メチルブテニルテトラヒドロフタル酸無水物、アルキル化テトラヒドロフタル酸無水物、メチルハイミック酸無水物、アルケニル基で置換されたコハク酸無水物、グルタル酸無水物等が挙げられる。
酸無水物系硬化剤の具体例としては、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルナジック酸無水物、水素化メチルナジック酸無水物、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルシクロヘキセンテトラカルボン酸二無水物、無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、エチレングリコールビスアンヒドロトリメリテート、グリセリンビス（アンヒドロトリメリテート）モノアセテート、ドデセニル無水コハク酸、脂肪族二塩基酸ポリ無水物、クロレンド酸無水物、メチルブテニルテトラヒドロフタル酸無水物、アルキル化テトラヒドロフタル酸無水物、メチルハイミック酸無水物、アルケニル基で置換されたコハク酸無水物、グルタル酸無水物等が挙げられる。
アミン系硬化剤の具体例としては、トリエチレンテトラアミン、テトラエチレンペンタミン、ｍ－キシレンジアミン、トリメチルヘキサメチレンジアミン、２－メチルペンタメチレンジアミンなどの脂肪族ポリアミン、イソフォロンジアミン、１，３－ビスアミノメチルシクロヘキサン、ビス（４－アミノシクロヘキシル）メタン、ノルボルネンジアミン、１，２－ジアミノシクロヘキサンなどの脂環式ポリアミン、Ｎ－アミノエチルピペラジン、１，４－ビス（２－アミノ－２－メチルプロピル）ピペラジンなどのピペラジン型のポリアミン、ジエチルトルエンジアミン、ジメチルチオトルエンジアミン、４，４’－ジアミノ－３，３’－ジエチルジフェニルメタン、ビス（メチルチオ）トルエンジアミン、ジアミノジフェニルメタン、ｍ－フェニレンジアミン、ジアミノジフェニルスルホン、ジエチルトルエンジアミン、トリメチレンビス（４－アミノベンゾエート）、ポリテトラメチレンオキシド－ジ－ｐ－アミノベンゾエートなどの芳香族ポリアミン類が挙げられる。
フェノール系の硬化剤の具体例としては、フェノール性水酸基を有するモノマー、オリゴマー、ポリマー全般を指し、フェノールノボラック樹脂およびそのアルキル化物またはアリル化物、クレゾールノボラック樹脂、フェノールアラルキル（フェニレン、ビフェニレン骨格を含む）樹脂、ナフトールアラルキル樹脂、トリフェノールメタン樹脂、ジシクロペンタジエン型フェノール樹脂等が挙げられる。樹脂組成物をアンダーフィル材として使用する場合には、液状のフェノール系硬化剤が好ましい。液状の市販品としては、明和化成製フェノール硬化剤（品名：ＭＥＨ－８０００Ｈ、ＭＥＨ－８００５）等が挙げられる。市販品としては、エタキュア１００プラス（アルベマール日本株式会社製）、ロンザキュアＤＥＴＤＡ８０（ロンザジャパン株式会社製）、カヤハードＡ－Ａ（日本化薬株式会社製）等が挙げられる。
本発明のエポキシ樹脂組成物において、硬化剤の配合割合は特に限定されず、エポキシ樹脂のエポキシ基１等量に対して、０．５～１．６等量であることが好ましく、０．６～１．３等量であることが好ましい。
本発明のエポキシ樹脂組成物において、エポキシ樹脂組成物の全成分の合計１００質量部に対して、β－リン酸硫酸ジルコニウムを主成分として含む低熱膨張性粒子の含有量３０～９０質量部、又は４０～７０質量部である。低熱膨張性粒子の含有量が３０質量部未満の場合、エポキシ樹脂組成物の線熱膨張係数を低減することができず、ボンディングの破壊を引き起こす可能性がある。また、β－リン酸硫酸ジルコニウムの含有量が９０質量部より大きい場合、エポキシ樹脂組成物の粘度が増加し、ハンドリング性が悪化する。
本発明のエポキシ樹脂組成物において、エポキシ樹脂組成物の全成分の合計１００質量部に対して、β－リン酸硫酸ジルコニウムを主成分として含む低熱膨張性粒子の含有量３０～９０質量部、又は４０～７０質量部である。低熱膨張性粒子の含有量が３０質量部未満の場合、エポキシ樹脂組成物の線熱膨張係数を低減することができず、ボンディングの破壊を引き起こす可能性がある。また、β－リン酸硫酸ジルコニウムの含有量が９０質量部より大きい場合、エポキシ樹脂組成物の粘度が増加し、ハンドリング性が悪化する。
また、本発明のエポキシ樹脂組成物は、固形分濃度の調整、流動性の付与などの目的に有機溶媒を含有することができる。 使用される溶媒としては、エポキシ樹脂組成物に含まれる各成分を溶解又は分散できる溶媒であれば限定されず、例えば、有機溶媒である。
上記有機溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール等のアルコール類、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ類、エチレングリコール等のグリコール類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、及びＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン等が挙げられる。
上記有機溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール等のアルコール類、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ類、エチレングリコール等のグリコール類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、及びＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン等が挙げられる。
以下、実施例及び比較例を挙げて本発明を説明するが、本発明は、これらの例に限定されるものではない。実施例及び比較例中、各種の評価は、それぞれ以下の通り行った。
（レーザー回折法による分散粒子径の測定）
マルバーン社製のレーザー回折式粒度分布測定装置マスターサイザー２０００を用いて、分散粒子径ｄ５０（レーザー回折法による分散粒子径ｄ５０）を測定した。測定にあたり、β－リン酸硫酸ジルコニウム乾燥粉末を水散媒に添加し、装置内で循環させながら超音波を１分間照射した。屈折率を１．７０、吸収係数（虚数部）を０として算出される平均粒子径を採用した。
（Ｘ線回折分析）
リガク社製Ｘ線回折装置ＭｉｎｉＦｌｅｘ６００を用いて、Ｘ線源；Ｃｕ、電圧；４０ｋＶ、電流；１５ｍＡで、ステップ幅；０．０２°、スキャン速度；１０°／分、発散角スリット（ＤＳ）；０．６２５°、散乱スリット（ＳＳ）；８．０ｍｍ、受光スリット（ＲＳ）；ＯＰＥＮ、入射ソーラースリット；２．５°、受光ソーラースリット；２．５°の条件で測定し、Ｘ線回折データを得た。
マルバーン社製のレーザー回折式粒度分布測定装置マスターサイザー２０００を用いて、分散粒子径ｄ５０（レーザー回折法による分散粒子径ｄ５０）を測定した。測定にあたり、β－リン酸硫酸ジルコニウム乾燥粉末を水散媒に添加し、装置内で循環させながら超音波を１分間照射した。屈折率を１．７０、吸収係数（虚数部）を０として算出される平均粒子径を採用した。
（Ｘ線回折分析）
リガク社製Ｘ線回折装置ＭｉｎｉＦｌｅｘ６００を用いて、Ｘ線源；Ｃｕ、電圧；４０ｋＶ、電流；１５ｍＡで、ステップ幅；０．０２°、スキャン速度；１０°／分、発散角スリット（ＤＳ）；０．６２５°、散乱スリット（ＳＳ）；８．０ｍｍ、受光スリット（ＲＳ）；ＯＰＥＮ、入射ソーラースリット；２．５°、受光ソーラースリット；２．５°の条件で測定し、Ｘ線回折データを得た。
（Ｘ線回折強度）
各試料のＸ線回折データを、解析ソフトＰＤＸＬ－２を用いて、自動設定によるバックグラウンド処理を実施し、Ｘ線回折強度を測定した。２θ＝２８．４°近傍に出現するβ－Ｚｒ２ＳＰ２Ｏ１２相の第二最強線（０２２）面の回折ピークの強度（単位はｃｏｕｎｔｓ）を採用した。
また、Ｚｒ２ＳＰ２Ｏ１２相とＺｒ２Ｐ２Ｏ９相との混相の場合、２θ＝１６．１°付近に出現するＺｒ２Ｐ２Ｏ９相の（０１１）面の回折ピーク強度Ｉαと、２θ＝２８．４°付近に出現するβ－Ｚｒ２ＳＰ２Ｏ１２相の最強線（０２２）面の回折ピーク強度Ｉβと、の比Ｉβ／Ｉα + Ｉβを算出した。
各試料のＸ線回折データを、解析ソフトＰＤＸＬ－２を用いて、自動設定によるバックグラウンド処理を実施し、Ｘ線回折強度を測定した。２θ＝２８．４°近傍に出現するβ－Ｚｒ２ＳＰ２Ｏ１２相の第二最強線（０２２）面の回折ピークの強度（単位はｃｏｕｎｔｓ）を採用した。
また、Ｚｒ２ＳＰ２Ｏ１２相とＺｒ２Ｐ２Ｏ９相との混相の場合、２θ＝１６．１°付近に出現するＺｒ２Ｐ２Ｏ９相の（０１１）面の回折ピーク強度Ｉαと、２θ＝２８．４°付近に出現するβ－Ｚｒ２ＳＰ２Ｏ１２相の最強線（０２２）面の回折ピーク強度Ｉβと、の比Ｉβ／Ｉα + Ｉβを算出した。
（結晶子径の算出）
各試料のＸ線回折データを、解析ソフトＰＤＸＬ－２を用いて、自動設定によるバックグラウンド処理を実施し、シェラーの式に基づいて結晶子径を算出した。（０２２）面に垂直方向の結晶子径を採用した。
各試料のＸ線回折データを、解析ソフトＰＤＸＬ－２を用いて、自動設定によるバックグラウンド処理を実施し、シェラーの式に基づいて結晶子径を算出した。（０２２）面に垂直方向の結晶子径を採用した。
（組成分析）
リガク社製蛍光Ｘ線分析装置Ｓｕｐｅｒｍｉｎｉ２００を用いて、ＦＰ法による粒子の組成分析を行った。各元素の含有量は酸化物（ＺｒＯ2、ＳＯ3、Ｐ２Ｏ５）に換算し合計が１００質量％になるよう算出した。その後、ジルコニウム原子、硫黄原子、リン原子のモル比に換算した。
リガク社製蛍光Ｘ線分析装置Ｓｕｐｅｒｍｉｎｉ２００を用いて、ＦＰ法による粒子の組成分析を行った。各元素の含有量は酸化物（ＺｒＯ2、ＳＯ3、Ｐ２Ｏ５）に換算し合計が１００質量％になるよう算出した。その後、ジルコニウム原子、硫黄原子、リン原子のモル比に換算した。
（エポキシ樹脂組成物の粘度）
アントンパール社のレオメーター「ＭＣＲ３０２」を使用し、熱硬化前のエポキシ樹脂組成物の粘度を測定した。測定治具としてコーンプレート型のＣＰ２５－２を使用し、温度２５℃、せん断速度１００ｓ－１における粘度を採用した。
アントンパール社のレオメーター「ＭＣＲ３０２」を使用し、熱硬化前のエポキシ樹脂組成物の粘度を測定した。測定治具としてコーンプレート型のＣＰ２５－２を使用し、温度２５℃、せん断速度１００ｓ－１における粘度を採用した。
（熱膨張係数）
ＴＡインスツルメント社の熱機械分析装置「ＴＭＡ Ｑ４００」を使用した。エポキシ樹脂組成物を加熱硬化させ、５ｍｍ角×厚み３ｍｍの直方体に成形した硬化物について、室温から毎分５℃で昇温し、厚み方向の試料長変化（硬化物の長さ変化）から線熱膨張係数を算出した。なお、３０～７０℃における線熱膨張係数の平均値をＣＴＥ１とし、１７０～２００℃における線熱膨張係数の平均値をＣＴＥ２とした。
ＴＡインスツルメント社の熱機械分析装置「ＴＭＡ Ｑ４００」を使用した。エポキシ樹脂組成物を加熱硬化させ、５ｍｍ角×厚み３ｍｍの直方体に成形した硬化物について、室温から毎分５℃で昇温し、厚み方向の試料長変化（硬化物の長さ変化）から線熱膨張係数を算出した。なお、３０～７０℃における線熱膨張係数の平均値をＣＴＥ１とし、１７０～２００℃における線熱膨張係数の平均値をＣＴＥ２とした。
（弾性率）
ＴＡインスツルメント社の動的粘弾性測定装置「ＤＭＡ Ｑ８００」を使用した。エポキシ樹脂組成物を加熱硬化させ、幅１０ｍｍ×長さ６０ｍｍ×厚み３ｍｍの直方体に成形した硬化物について、３０℃における弾性率を測定した。
ＴＡインスツルメント社の動的粘弾性測定装置「ＤＭＡ Ｑ８００」を使用した。エポキシ樹脂組成物を加熱硬化させ、幅１０ｍｍ×長さ６０ｍｍ×厚み３ｍｍの直方体に成形した硬化物について、３０℃における弾性率を測定した。
（ガラス転移温度（Ｔｇ））
熱機械分析（ＴＭＡ法）では、試料長変化の変曲点に相当する温度をガラス転移温度とした。
熱機械分析（ＴＭＡ法）では、試料長変化の変曲点に相当する温度をガラス転移温度とした。
［実施例１］
炭酸ジルコニウムアンモニウム水溶液（日本軽金属社製、製品名；ベイコート２０、酸化ジルコニウム濃度１９．６質量％相当）３７７．１ｇ（Ｚｒとして０．６０ｍｏｌ）を純水８１５．１ｇで希釈した水溶液に、リン酸水素二アンモニウム７９．２３ｇ（Ｐとして０．６０ｍｏｌ）、硫酸アンモニウム３９．６ｇ（Ｓとして０．３０ｍｏｌ）、純水１５００ｇとを添加し、混合水溶液を調製した。調製した混合水溶液のｐＨは９．２、電気伝導度は４４．２ｍＳ／ｃｍであった。
炭酸ジルコニウムアンモニウム水溶液（日本軽金属社製、製品名；ベイコート２０、酸化ジルコニウム濃度１９．６質量％相当）３７７．１ｇ（Ｚｒとして０．６０ｍｏｌ）を純水８１５．１ｇで希釈した水溶液に、リン酸水素二アンモニウム７９．２３ｇ（Ｐとして０．６０ｍｏｌ）、硫酸アンモニウム３９．６ｇ（Ｓとして０．３０ｍｏｌ）、純水１５００ｇとを添加し、混合水溶液を調製した。調製した混合水溶液のｐＨは９．２、電気伝導度は４４．２ｍＳ／ｃｍであった。
この混合水溶液をスプレードライヤー（パルビスミニスプレーＧＢ２１０－Ａ型、ヤマト科学社製）を使用して、入口温度１８０℃、噴霧圧０．１５ＭＰａ、風量０．５５ｍ3／分、混合水溶液の送液速度４００ｇ／時の条件で乾燥させ、乾燥粉を得た。このときの出口温度は７０±５℃であった。得られた乾燥粉高純度アルミナ製匣鉢に入れ、電気炉を使用して大気中において４００℃で４時間の仮焼成した後、８００℃で４時間の本焼成することにより焼成粉末を得た。
得られた粉末をＸ線回折分析により同定したところ、生成相はβ－Ｚｒ２ＳＰ２Ｏ１２（ＰＤＦ Ｎｏ．０１－０８４－１４２７）に帰属される単相からなり、２θ＝２８．４°付近に出現する（０２２）面の回折ピークの強度Ｉβは１４３２ｃｏｕｎｔｓ、算出される結晶子径は５４４Åであった。レーザー回折法による分散粒子径Ｄ５０は５．０２μｍであった。また、蛍光Ｘ線による組成分析では、ジルコニウム原子、硫黄原子、リン原子のモル比（Ｚｒ：Ｓ：Ｐ）は２．０：０．２２：１．６であった。
［実施例２］
炭酸ジルコニウムアンモニウム水溶液（日本軽金属社製、製品名；ベイコート２０、酸化ジルコニウム濃度１９．６質量％相当）３７７．１ｇ（Ｚｒとして０．６０ｍｏｌ）を純水７１７．８ｇで希釈した水溶液に、リン酸水素二アンモニウム７９．２３ｇ（Ｐとして０．６０ｍｏｌ）、９６％硫酸６１．３ｇ（Ｓとして０．６０ｍｏｌ）、２７％アンモニア水７５．６ｇ、純水１５００ｇとを添加し、混合水溶液を調製した。調製した混合水溶液のｐＨは９．３、電気伝導度は５３．７ｍＳ／ｃｍであった。
炭酸ジルコニウムアンモニウム水溶液（日本軽金属社製、製品名；ベイコート２０、酸化ジルコニウム濃度１９．６質量％相当）３７７．１ｇ（Ｚｒとして０．６０ｍｏｌ）を純水７１７．８ｇで希釈した水溶液に、リン酸水素二アンモニウム７９．２３ｇ（Ｐとして０．６０ｍｏｌ）、９６％硫酸６１．３ｇ（Ｓとして０．６０ｍｏｌ）、２７％アンモニア水７５．６ｇ、純水１５００ｇとを添加し、混合水溶液を調製した。調製した混合水溶液のｐＨは９．３、電気伝導度は５３．７ｍＳ／ｃｍであった。
この混合水溶液をスプレードライヤー（パルビスミニスプレーＧＢ２１０－Ａ型、ヤマト科学社製）を使用して、入口温度１８０℃、噴霧圧０．１５ＭＰａ、風量０．５５ｍ3／分、混合水溶液の送液速度４００ｇ／時の条件で乾燥させ、乾燥粉を得た。このときの出口温度は７０±５℃であった。得られた乾燥粉高純度アルミナ製匣鉢に入れ、電気炉を使用して大気中において４００℃で４時間の仮焼成した後、８００℃で４時間の本焼成することにより焼成粉末を得た。
得られた粉末をＸ線回折分析により同定したところ、生成相はβ－Ｚｒ２ＳＰ２Ｏ１２（ＰＤＦ Ｎｏ．０１－０８４－１４２７）に帰属される単相からなり、２θ＝２８．４°付近に出現する（０２２）面の回折ピークの強度Ｉβは１１４１ｃｏｕｎｔｓ、算出される結晶子径は４１３Åであった。レーザー回折法による分散粒子径Ｄ５０は９．０５μｍであった。また、蛍光Ｘ線による組成分析では、ジルコニウム原子、硫黄原子、リン原子のモル比（Ｚｒ：Ｓ：Ｐ）は２．０：０．１３：１．３であった。
［実施例３］
本焼成を９００℃、４時間に変更した以外は実施例１と同様に行った。得られた粉末をＸ線回折分析により同定したところ、生成相はβ－Ｚｒ２ＳＰ２Ｏ１２（ＰＤＦ Ｎｏ．０１－０８４－１４２７）に帰属される単相からなり、２θ＝２８．４°付近に出現する（０２２）面の回折ピークの強度Ｉβは２５４１ｃｏｕｎｔｓ、算出される結晶子径は５４５Åであった。レーザー回折法による分散粒子径Ｄ５０は５．３２μｍであった。また、蛍光Ｘ線による組成分析では、ジルコニウム原子、硫黄原子、リン原子のモル比（Ｚｒ：Ｓ：Ｐ）は２．０：０．１６：１．５であった。
本焼成を９００℃、４時間に変更した以外は実施例１と同様に行った。得られた粉末をＸ線回折分析により同定したところ、生成相はβ－Ｚｒ２ＳＰ２Ｏ１２（ＰＤＦ Ｎｏ．０１－０８４－１４２７）に帰属される単相からなり、２θ＝２８．４°付近に出現する（０２２）面の回折ピークの強度Ｉβは２５４１ｃｏｕｎｔｓ、算出される結晶子径は５４５Åであった。レーザー回折法による分散粒子径Ｄ５０は５．３２μｍであった。また、蛍光Ｘ線による組成分析では、ジルコニウム原子、硫黄原子、リン原子のモル比（Ｚｒ：Ｓ：Ｐ）は２．０：０．１６：１．５であった。
［実施例４］
本焼成を９００℃、４時間に変更した以外は実施例２と同様に行った。得られた粉末をＸ線回折分析により同定したところ、生成相はβ－Ｚｒ２ＳＰ２Ｏ１２（ＰＤＦ Ｎｏ．０１－０８４－１４２７）に帰属される単相からなり、２θ＝２８．４°付近に出現する（０２２）面の回折ピークの強度Ｉβは１７５６ｃｏｕｎｔｓ、算出される結晶子径は４１８Åであった。レーザー回折法による分散粒子径Ｄ５０は８．８７μｍであった。また、蛍光Ｘ線による組成分析では、ジルコニウム原子、硫黄原子、リン原子のモル比（Ｚｒ：Ｓ：Ｐ）は２．０：０．１１：１．４であった。
本焼成を９００℃、４時間に変更した以外は実施例２と同様に行った。得られた粉末をＸ線回折分析により同定したところ、生成相はβ－Ｚｒ２ＳＰ２Ｏ１２（ＰＤＦ Ｎｏ．０１－０８４－１４２７）に帰属される単相からなり、２θ＝２８．４°付近に出現する（０２２）面の回折ピークの強度Ｉβは１７５６ｃｏｕｎｔｓ、算出される結晶子径は４１８Åであった。レーザー回折法による分散粒子径Ｄ５０は８．８７μｍであった。また、蛍光Ｘ線による組成分析では、ジルコニウム原子、硫黄原子、リン原子のモル比（Ｚｒ：Ｓ：Ｐ）は２．０：０．１１：１．４であった。
［実施例５］
炭酸ジルコニウムアンモニウム水溶液（日本軽金属社製、製品名；ベイコート２０、酸化ジルコニウム濃度１９．６質量％相当）３７７．１ｇ（Ｚｒとして０．６０ｍｏｌ）を純水８２０．５ｇで希釈した水溶液に、リン酸水素二アンモニウム７９．２３ｇ（Ｐとして０．６０ｍｏｌ）、９６％硫酸１５．３ｇ（Ｓとして０．１５ｍｏｌ）、２７％アンモニア水１８．９ｇ、純水１５００ｇとを添加し、混合水溶液を調製した。調製した混合水溶液のｐＨは９．３、電気伝導度は５３．７ｍＳ／ｃｍであった。
炭酸ジルコニウムアンモニウム水溶液（日本軽金属社製、製品名；ベイコート２０、酸化ジルコニウム濃度１９．６質量％相当）３７７．１ｇ（Ｚｒとして０．６０ｍｏｌ）を純水８２０．５ｇで希釈した水溶液に、リン酸水素二アンモニウム７９．２３ｇ（Ｐとして０．６０ｍｏｌ）、９６％硫酸１５．３ｇ（Ｓとして０．１５ｍｏｌ）、２７％アンモニア水１８．９ｇ、純水１５００ｇとを添加し、混合水溶液を調製した。調製した混合水溶液のｐＨは９．３、電気伝導度は５３．７ｍＳ／ｃｍであった。
この混合水溶液をスプレードライヤー（パルビスミニスプレーＧＢ２１０－Ａ型、ヤマト科学社製）を使用して、入口温度１８０℃、噴霧圧０．１５ＭＰａ、風量０．５５ｍ3／分、混合水溶液の送液速度４００ｇ／時の条件で乾燥させ、乾燥粉を得た。このときの出口温度は７０±５℃であった。得られた乾燥粉高純度アルミナ製匣鉢に入れ、電気炉を使用して大気中において４００℃で４時間の仮焼成した後、９００℃で４時間の本焼成することにより焼成粉末を得た。
得られた粉末をＸ線回折分析により同定したところ、生成相はβ－Ｚｒ２ＳＰ２Ｏ１２（ＰＤＦ Ｎｏ．０１－０８４－１４２７）に帰属される単相からなり、２θ＝２８．４°付近に出現する（０２２）面の回折ピークの強度Ｉβは２５４７ｃｏｕｎｔｓ、算出される結晶子径は５６０Åであった。レーザー回折法による分散粒子径Ｄ５０は５．２５μｍであった。また、蛍光Ｘ線による組成分析では、ジルコニウム原子、硫黄原子、リン原子のモル比（Ｚｒ：Ｓ：Ｐ）は２．０：０．１０：１．４であった。
［実施例６］
炭酸ジルコニウムアンモニウム水溶液（日本軽金属社製、製品名；ベイコート２０、酸化ジルコニウム濃度１９．６質量％相当）３７７．１ｇ（Ｚｒとして０．６０ｍｏｌ）を純水８３７．６ｇで希釈した水溶液に、リン酸水素二アンモニウム７９．２３ｇ（Ｐとして０．６０ｍｏｌ）、９６％硫酸７．６５ｇ（Ｓとして０．０７５ｍｏｌ）、２７％アンモニア水９．４５ｇ、純水１５００ｇとを添加し、混合水溶液を調製した。調製した混合水溶液のｐＨは９．３、電気伝導度は５３．７ｍＳ／ｃｍであった。
炭酸ジルコニウムアンモニウム水溶液（日本軽金属社製、製品名；ベイコート２０、酸化ジルコニウム濃度１９．６質量％相当）３７７．１ｇ（Ｚｒとして０．６０ｍｏｌ）を純水８３７．６ｇで希釈した水溶液に、リン酸水素二アンモニウム７９．２３ｇ（Ｐとして０．６０ｍｏｌ）、９６％硫酸７．６５ｇ（Ｓとして０．０７５ｍｏｌ）、２７％アンモニア水９．４５ｇ、純水１５００ｇとを添加し、混合水溶液を調製した。調製した混合水溶液のｐＨは９．３、電気伝導度は５３．７ｍＳ／ｃｍであった。
この混合水溶液をスプレードライヤー（パルビスミニスプレーＧＢ２１０－Ａ型、ヤマト科学社製）を使用して、入口温度１８０℃、噴霧圧０．１５ＭＰａ、風量０．５５ｍ3／分、混合水溶液の送液速度４００ｇ／時の条件で乾燥させ、乾燥粉を得た。このときの出口温度は７０±５℃であった。得られた乾燥粉高純度アルミナ製匣鉢に入れ、電気炉を使用して大気中において４００℃で４時間の仮焼成した後、９００℃で４時間の本焼成することにより焼成粉末を得た。
得られた粉末をＸ線回折分析により同定したところ、生成相はβ－Ｚｒ２ＳＰ２Ｏ１２（ＰＤＦ Ｎｏ．０１－０８４－１４２７）に帰属される単相からなり、２θ＝２８．４°付近に出現する（０２２）面の回折ピークの強度Ｉβは１０１９ｃｏｕｎｔｓ、算出される結晶子径は４８７Åであった。レーザー回折法による分散粒子径Ｄ５０は３．４２μｍであった。また、蛍光Ｘ線による組成分析では、ジルコニウム原子、硫黄原子、リン原子のモル比（Ｚｒ：Ｓ：Ｐ）は２．０：０．０６：１．４であった。
［実施例７］
炭酸ジルコニウムアンモニウム水溶液（日本軽金属社製、製品名；ベイコート２０、酸化ジルコニウム濃度１９．６質量％相当）３７７．１ｇ（Ｚｒとして０．６０ｍｏｌ）を純水８３７．６ｇで希釈した水溶液に、リン酸水素二アンモニウム７９．２３ｇ（Ｐとして０．６０ｍｏｌ）、９６％硫酸３．８３ｇ（Ｓとして０．０３７５ｍｏｌ）、２７％アンモニア水４．７２ｇ、純水１５００ｇとを添加し、混合水溶液を調製した。調製した混合水溶液のｐＨは９．３、電気伝導度は４０．７ｍＳ／ｃｍであった。
この混合水溶液をスプレードライヤー（パルビスミニスプレーＧＢ２１０－Ａ型、ヤマト科学社製）を使用して、入口温度１８０℃、噴霧圧０．１５ＭＰａ、風量０．５５ｍ3／分、混合水溶液の送液速度４００ｇ／時の条件で乾燥させ、乾燥粉を得た。このときの出口温度は７０±５℃であった。得られた乾燥粉高純度アルミナ製匣鉢に入れ、電気炉を使用して大気中において４００℃で４時間の仮焼成した後、９００℃で４時間の本焼成することにより焼成粉末を得た。
得られた粉末をＸ線回折分析により同定したところ、β－Ｚｒ２ＳＰ２Ｏ１２（ＰＤＦ Ｎｏ．０１－０８４－１４２７）およびＺｒ２Ｐ２Ｏ９（ＰＤＦ Ｎｏ．０１－０７６－４７４４）に帰属される回折が観測された。２θ＝２８．４°付近に出現するβ－Ｚｒ２ＳＰ２Ｏ１２相の（０２２）面の回折ピークの強度Ｉβは１６６６ｃｏｕｎｔｓ、算出される結晶子径は５１８Åであった。また、２θ＝１６．１°付近に出現するＺｒ２Ｐ２Ｏ９相の（０１１）面の回折ピークの強度Ｉαは２５３ｃｏｕｎｔｓ、算出される結晶子径は４５９Åであり、Ｉα／Ｉα＋Ｉβは０．１３であった。レーザー回折法による分散粒子径Ｄ５０は３．９９μｍであった。また、蛍光Ｘ線による組成分析では、ジルコニウム原子、硫黄原子、リン原子のモル比（Ｚｒ：Ｓ：Ｐ）は２．０：０．０３：１．５であった。
炭酸ジルコニウムアンモニウム水溶液（日本軽金属社製、製品名；ベイコート２０、酸化ジルコニウム濃度１９．６質量％相当）３７７．１ｇ（Ｚｒとして０．６０ｍｏｌ）を純水８３７．６ｇで希釈した水溶液に、リン酸水素二アンモニウム７９．２３ｇ（Ｐとして０．６０ｍｏｌ）、９６％硫酸３．８３ｇ（Ｓとして０．０３７５ｍｏｌ）、２７％アンモニア水４．７２ｇ、純水１５００ｇとを添加し、混合水溶液を調製した。調製した混合水溶液のｐＨは９．３、電気伝導度は４０．７ｍＳ／ｃｍであった。
この混合水溶液をスプレードライヤー（パルビスミニスプレーＧＢ２１０－Ａ型、ヤマト科学社製）を使用して、入口温度１８０℃、噴霧圧０．１５ＭＰａ、風量０．５５ｍ3／分、混合水溶液の送液速度４００ｇ／時の条件で乾燥させ、乾燥粉を得た。このときの出口温度は７０±５℃であった。得られた乾燥粉高純度アルミナ製匣鉢に入れ、電気炉を使用して大気中において４００℃で４時間の仮焼成した後、９００℃で４時間の本焼成することにより焼成粉末を得た。
得られた粉末をＸ線回折分析により同定したところ、β－Ｚｒ２ＳＰ２Ｏ１２（ＰＤＦ Ｎｏ．０１－０８４－１４２７）およびＺｒ２Ｐ２Ｏ９（ＰＤＦ Ｎｏ．０１－０７６－４７４４）に帰属される回折が観測された。２θ＝２８．４°付近に出現するβ－Ｚｒ２ＳＰ２Ｏ１２相の（０２２）面の回折ピークの強度Ｉβは１６６６ｃｏｕｎｔｓ、算出される結晶子径は５１８Åであった。また、２θ＝１６．１°付近に出現するＺｒ２Ｐ２Ｏ９相の（０１１）面の回折ピークの強度Ｉαは２５３ｃｏｕｎｔｓ、算出される結晶子径は４５９Åであり、Ｉα／Ｉα＋Ｉβは０．１３であった。レーザー回折法による分散粒子径Ｄ５０は３．９９μｍであった。また、蛍光Ｘ線による組成分析では、ジルコニウム原子、硫黄原子、リン原子のモル比（Ｚｒ：Ｓ：Ｐ）は２．０：０．０３：１．５であった。
［実施例８］
本焼成を１０００℃、４時間に変更した以外は実施例１と同様に行った。得られた粉末をＸ線回折分析により同定したところ、β－Ｚｒ２ＳＰ２Ｏ１２（ＰＤＦ Ｎｏ．０１－０８４－１４２７）およびＺｒ２Ｐ２Ｏ９（ＰＤＦ Ｎｏ．０１－０７６－４７４４）に帰属される回折が観測された。２θ＝２８．４°付近に出現するβ－Ｚｒ２ＳＰ２Ｏ１２相の（０２２）面の回折ピークの強度Ｉβは２１８０ｃｏｕｎｔｓ、算出される結晶子径は５７６Åであった。また、２θ＝１６．１°付近に出現するＺｒ２Ｐ２Ｏ９相の（０１１）面の回折ピークの強度Ｉαは１２０２ｃｏｕｎｔｓ、算出される結晶子径は４２１Åであり、Ｉα／Ｉα＋Ｉβは０．３６であった。レーザー回折法による分散粒子径Ｄ５０は８．５０μｍであった。また、蛍光Ｘ線による組成分析では、ジルコニウム原子、硫黄原子、リン原子のモル比（Ｚｒ：Ｓ：Ｐ）は２．０：０．１２：１．５であった。
本焼成を１０００℃、４時間に変更した以外は実施例１と同様に行った。得られた粉末をＸ線回折分析により同定したところ、β－Ｚｒ２ＳＰ２Ｏ１２（ＰＤＦ Ｎｏ．０１－０８４－１４２７）およびＺｒ２Ｐ２Ｏ９（ＰＤＦ Ｎｏ．０１－０７６－４７４４）に帰属される回折が観測された。２θ＝２８．４°付近に出現するβ－Ｚｒ２ＳＰ２Ｏ１２相の（０２２）面の回折ピークの強度Ｉβは２１８０ｃｏｕｎｔｓ、算出される結晶子径は５７６Åであった。また、２θ＝１６．１°付近に出現するＺｒ２Ｐ２Ｏ９相の（０１１）面の回折ピークの強度Ｉαは１２０２ｃｏｕｎｔｓ、算出される結晶子径は４２１Åであり、Ｉα／Ｉα＋Ｉβは０．３６であった。レーザー回折法による分散粒子径Ｄ５０は８．５０μｍであった。また、蛍光Ｘ線による組成分析では、ジルコニウム原子、硫黄原子、リン原子のモル比（Ｚｒ：Ｓ：Ｐ）は２．０：０．１２：１．５であった。
［比較例１］
炭酸ジルコニウムアンモニウム水溶液（日本軽金属社製、製品名；ベイコート２０、酸化ジルコニウム濃度１９．６質量％相当）３７７．１ｇ（Ｚｒとして０．６０ｍｏｌ）を純水８５４．７ｇで希釈した水溶液に、リン酸水素二アンモニウム７９．２３ｇ（Ｐとして０．６０ｍｏｌ）、純水１５００ｇとを添加し、混合水溶液を調製した。調製した混合水溶液のｐＨは９．２、電気伝導度は４４．２ｍＳ／ｃｍであった。
この混合水溶液をスプレードライヤー（パルビスミニスプレーＧＢ２１０－Ａ型、ヤマト科学社製）を使用して、入口温度１８０℃、噴霧圧０．１５ＭＰａ、風量０．５５ｍ3／分、混合水溶液の送液速度４００ｇ／時の条件で乾燥させ、乾燥粉を得た。このときの出口温度は７０±５℃であった。得られた乾燥粉高純度アルミナ製匣鉢に入れ、電気炉を使用して大気中において４００℃で４時間の仮焼成した後、９００℃で４時間の本焼成することにより焼成粉末を得た。
炭酸ジルコニウムアンモニウム水溶液（日本軽金属社製、製品名；ベイコート２０、酸化ジルコニウム濃度１９．６質量％相当）３７７．１ｇ（Ｚｒとして０．６０ｍｏｌ）を純水８５４．７ｇで希釈した水溶液に、リン酸水素二アンモニウム７９．２３ｇ（Ｐとして０．６０ｍｏｌ）、純水１５００ｇとを添加し、混合水溶液を調製した。調製した混合水溶液のｐＨは９．２、電気伝導度は４４．２ｍＳ／ｃｍであった。
この混合水溶液をスプレードライヤー（パルビスミニスプレーＧＢ２１０－Ａ型、ヤマト科学社製）を使用して、入口温度１８０℃、噴霧圧０．１５ＭＰａ、風量０．５５ｍ3／分、混合水溶液の送液速度４００ｇ／時の条件で乾燥させ、乾燥粉を得た。このときの出口温度は７０±５℃であった。得られた乾燥粉高純度アルミナ製匣鉢に入れ、電気炉を使用して大気中において４００℃で４時間の仮焼成した後、９００℃で４時間の本焼成することにより焼成粉末を得た。
得られた粉末をＸ線回折分析により同定したところ、非晶質であり、β－Ｚｒ２ＳＰ２Ｏ１２（ＰＤＦ Ｎｏ．０１－０８４－１４２７）に帰属される回折は観測されなかった。
［比較例２］
本焼成を６００℃、４時間に変更した以外は実施例１と同様に行った。得られた粉末をＸ線回折分析により同定したところ、非晶質であり、β－Ｚｒ２ＳＰ２Ｏ１２（ＰＤＦ Ｎｏ．０１－０８４－１４２７）に帰属される回折は観測されなかった。レーザー回折法による分散粒子径Ｄ５０は５．１１μｍであった。また、蛍光Ｘ線による組成分析では、ジルコニウム原子、硫黄原子、リン原子のモル比（Ｚｒ：Ｓ：Ｐ）は２．０：０．３６：１．６であった。
本焼成を６００℃、４時間に変更した以外は実施例１と同様に行った。得られた粉末をＸ線回折分析により同定したところ、非晶質であり、β－Ｚｒ２ＳＰ２Ｏ１２（ＰＤＦ Ｎｏ．０１－０８４－１４２７）に帰属される回折は観測されなかった。レーザー回折法による分散粒子径Ｄ５０は５．１１μｍであった。また、蛍光Ｘ線による組成分析では、ジルコニウム原子、硫黄原子、リン原子のモル比（Ｚｒ：Ｓ：Ｐ）は２．０：０．３６：１．６であった。
［比較例３］
本焼成を７００℃、２４時間に変更した以外は実施例１と同様に行った。得られた粉末をＸ線回折分析により同定したところ、生成相はβ－Ｚｒ２ＳＰ２Ｏ１２（ＰＤＦ Ｎｏ．０１－０８４－１４２７）に帰属される単相からなり、２θ＝２８．４°付近に出現する（０２２）面の回折ピークの強度Ｉβは７８ｃｏｕｎｔｓであり、非常に結晶性が低かった。レーザー回折法による分散粒子径Ｄ５０は４．７８μｍであった。また、蛍光Ｘ線による組成分析では、ジルコニウム原子、硫黄原子、リン原子のモル比（Ｚｒ：Ｓ：Ｐ）は２．０：０．１９２：１．５であった。
実施例１～８、比較例１～３の低熱膨張性粒子の製造における原料の仕込み組成、焼成条件、及び生成物の結晶相を表１に示す。なお、表中のβ－ＺＳＰはβ－リン酸硫酸ジルコニウム相を表す。また、実施例１～８、比較例１～３にて得られた低熱膨張性粒子の回折ピーク強度比（Iα／Iα+Iβ）、分散粒子径（Ｄ５０［μｍ］）、原子モル比（Ｚｒ：Ｓ：Ｐ）を表２に示す。
本焼成を７００℃、２４時間に変更した以外は実施例１と同様に行った。得られた粉末をＸ線回折分析により同定したところ、生成相はβ－Ｚｒ２ＳＰ２Ｏ１２（ＰＤＦ Ｎｏ．０１－０８４－１４２７）に帰属される単相からなり、２θ＝２８．４°付近に出現する（０２２）面の回折ピークの強度Ｉβは７８ｃｏｕｎｔｓであり、非常に結晶性が低かった。レーザー回折法による分散粒子径Ｄ５０は４．７８μｍであった。また、蛍光Ｘ線による組成分析では、ジルコニウム原子、硫黄原子、リン原子のモル比（Ｚｒ：Ｓ：Ｐ）は２．０：０．１９２：１．５であった。
実施例１～８、比較例１～３の低熱膨張性粒子の製造における原料の仕込み組成、焼成条件、及び生成物の結晶相を表１に示す。なお、表中のβ－ＺＳＰはβ－リン酸硫酸ジルコニウム相を表す。また、実施例１～８、比較例１～３にて得られた低熱膨張性粒子の回折ピーク強度比（Iα／Iα+Iβ）、分散粒子径（Ｄ５０［μｍ］）、原子モル比（Ｚｒ：Ｓ：Ｐ）を表２に示す。
〔表１〕
表１
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仕込み組成
Ｚｒ［ｍｏｌ］ Ｓ［ｍｏｌ］ Ｐ［ｍｏｌ］ 焼成条件 結晶相
実施例１ ０．６ ０．３ ０．６ ８００℃４時間 β－ＺＳＰ
実施例２ ０．６ ０．６ ０．６ ８００℃４時間 β－ＺＳＰ
実施例３ ０．６ ０．３ ０．６ ９００℃４時間 β－ＺＳＰ
実施例４ ０．６ ０．６ ０．６ ９００℃４時間 β－ＺＳＰ
実施例５ ０．６ ０．１５ ０．６ ９００℃４時間 β－ＺＳＰ
実施例６ ０．６ ０．０７５ ０．６ ９００℃４時間 β－ＺＳＰ
実施例７ ０．６ ０．０３７５ ０．６ ９００℃４時間 β－ＺＳＰ、
Ｚｒ２Ｐ２Ｏ９
実施例８ ０．６ ０．３ ０．６ １０００℃４時間 β－ＺＳＰ、
Ｚｒ２Ｐ２Ｏ９
比較例１ ０．６ ０ ０．６ ９００℃４時間 非晶質
比較例２ ０．６ ０．３ ０．６ ６００℃４時間 非晶質
比較例３ ０．６ ０．３ ０．６ ７００℃２４時間 β－ＺＳＰ
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表１
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仕込み組成
Ｚｒ［ｍｏｌ］ Ｓ［ｍｏｌ］ Ｐ［ｍｏｌ］ 焼成条件 結晶相
実施例１ ０．６ ０．３ ０．６ ８００℃４時間 β－ＺＳＰ
実施例２ ０．６ ０．６ ０．６ ８００℃４時間 β－ＺＳＰ
実施例３ ０．６ ０．３ ０．６ ９００℃４時間 β－ＺＳＰ
実施例４ ０．６ ０．６ ０．６ ９００℃４時間 β－ＺＳＰ
実施例５ ０．６ ０．１５ ０．６ ９００℃４時間 β－ＺＳＰ
実施例６ ０．６ ０．０７５ ０．６ ９００℃４時間 β－ＺＳＰ
実施例７ ０．６ ０．０３７５ ０．６ ９００℃４時間 β－ＺＳＰ、
Ｚｒ２Ｐ２Ｏ９
実施例８ ０．６ ０．３ ０．６ １０００℃４時間 β－ＺＳＰ、
Ｚｒ２Ｐ２Ｏ９
比較例１ ０．６ ０ ０．６ ９００℃４時間 非晶質
比較例２ ０．６ ０．３ ０．６ ６００℃４時間 非晶質
比較例３ ０．６ ０．３ ０．６ ７００℃２４時間 β－ＺＳＰ
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〔表２〕
表２
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Iα／Iα+Iβ Ｄ５０［μｍ］ 原子モル比（Ｚｒ：Ｓ：Ｐ）
実施例１ ０．０１未満 ５．０２ ２．０：０．２２：１．６
実施例２ ０．０１未満 ９．０５ ２．０：０．１３：１．３
実施例３ ０．０１未満 ５．３２ ２．０：０．１６：１．５
実施例４ ０．０１未満 ８．８７ ２．０：０．１１：１．４
実施例５ ０．０１未満 ５．２５ ２．０：０．１０：１．４
実施例６ ０．０１未満 ３．４２ ２．０：０．０６：１．４
実施例７ ０．１ ３．９９ ２．０：０．０３：１．５
実施例８ ０．３６ ７．５１ ２．０：０．１２：１．５
比較例１ － － －
比較例２ － ５．１１ ２．０：０．３６：１．６
比較例３ ０．０１未満 ４．７８ ２．０：０．１９：１．５
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表２
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Iα／Iα+Iβ Ｄ５０［μｍ］ 原子モル比（Ｚｒ：Ｓ：Ｐ）
実施例１ ０．０１未満 ５．０２ ２．０：０．２２：１．６
実施例２ ０．０１未満 ９．０５ ２．０：０．１３：１．３
実施例３ ０．０１未満 ５．３２ ２．０：０．１６：１．５
実施例４ ０．０１未満 ８．８７ ２．０：０．１１：１．４
実施例５ ０．０１未満 ５．２５ ２．０：０．１０：１．４
実施例６ ０．０１未満 ３．４２ ２．０：０．０６：１．４
実施例７ ０．１ ３．９９ ２．０：０．０３：１．５
実施例８ ０．３６ ７．５１ ２．０：０．１２：１．５
比較例１ － － －
比較例２ － ５．１１ ２．０：０．３６：１．６
比較例３ ０．０１未満 ４．７８ ２．０：０．１９：１．５
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評価例に用いた（Ａ）エポキシ樹脂、（Ｂ）硬化剤は、以下の通りである。
（Ａ）ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、品名：ＥＸＡ－８３０ＣＲＰ、ＤＩＣ社製、エポキシ当量１５９
（Ｂ）ジエチルトルエンジアミン、品名：エタキュア１００プラス、アルベマール日本株式会社製
また、評価例４で用いたβ－ユークリプタイト微粒子は（１）～（６）の手順で製造した。
（１）：コロイダルシリカ（スノーテックス（登録商標）ＯＸＳ、日産化学工業社製、シリカ濃度１０．５質量％、透過型電子顕微鏡観察による一次粒子径５ｎｍ）５７２．２ｇ（ＳｉＯ２ １モル）に、シュウ酸アルミニウム水溶液１０１９．６ｇ（Ａｌ２Ｏ３ ０．５モル）及びシュウ酸リチウム水溶液９２４．１ｇ（Ｌｉ２Ｏ ０．５モル）を添加し、室温下で１０分間撹拌して、混合液を得た。得られた混合液の比重は１．０６８、ｐＨは２．０、電気伝導度は２２．３ｍＳ／ｃｍであった。
（Ａ）ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、品名：ＥＸＡ－８３０ＣＲＰ、ＤＩＣ社製、エポキシ当量１５９
（Ｂ）ジエチルトルエンジアミン、品名：エタキュア１００プラス、アルベマール日本株式会社製
また、評価例４で用いたβ－ユークリプタイト微粒子は（１）～（６）の手順で製造した。
（１）：コロイダルシリカ（スノーテックス（登録商標）ＯＸＳ、日産化学工業社製、シリカ濃度１０．５質量％、透過型電子顕微鏡観察による一次粒子径５ｎｍ）５７２．２ｇ（ＳｉＯ２ １モル）に、シュウ酸アルミニウム水溶液１０１９．６ｇ（Ａｌ２Ｏ３ ０．５モル）及びシュウ酸リチウム水溶液９２４．１ｇ（Ｌｉ２Ｏ ０．５モル）を添加し、室温下で１０分間撹拌して、混合液を得た。得られた混合液の比重は１．０６８、ｐＨは２．０、電気伝導度は２２．３ｍＳ／ｃｍであった。
得られた混合液を、スプレードライヤー（パルビスミニスプレーＧＢ２１０－Ａ型、ヤマト科学社製）を用いて、入口温度１８５℃、アトマイジングエアー圧力０．１４ＭＰａ、アスピレーター流量０．５０ｍ３／分、混合液の送液速度４ｇ／分の条件で乾燥し、乾燥粉を得た。このときの出口温度は８０±３℃であった。
（２）：得られた乾燥粉３００ｇをアルミナ坩堝に入れ、卓上電気炉を使用して大気中で８５０℃の温度で５時間焼成することにより、白色粉末１０３ｇを得た。得られた白色粉末をＸ線回折分析により同定したところ、β－ユークリプタイト単相であり、２θ＝２５°近傍に出現する最強線（１０２）面の回折ピーク強度は２８０５４、結晶子径は５２ｎｍであった。窒素吸着法による一次粒子径は２．７２μｍ、レーザー回折法による分散粒子径Ｄ５０は１１．２μｍであった。
（２）：得られた乾燥粉３００ｇをアルミナ坩堝に入れ、卓上電気炉を使用して大気中で８５０℃の温度で５時間焼成することにより、白色粉末１０３ｇを得た。得られた白色粉末をＸ線回折分析により同定したところ、β－ユークリプタイト単相であり、２θ＝２５°近傍に出現する最強線（１０２）面の回折ピーク強度は２８０５４、結晶子径は５２ｎｍであった。窒素吸着法による一次粒子径は２．７２μｍ、レーザー回折法による分散粒子径Ｄ５０は１１．２μｍであった。
（３）：β－ユークリプタイト粉末４０ｇ、イソプロパノール１６０ｇ、φ０．５ｍｍジルコニアビーズ９００ｇを粉砕容器に入れ、アイメックス社製のビーズミル装置イージーナノＲＭＢ型を用いて１０００ｒｐｍの条件で湿式粉砕した。５時間粉砕した後にジルコニアビーズを除去し、スラリーを回収した。
（４）：次いで、（３）で回収したスラリーをナスフラスコに入れて、ロータリーエバポレーターを用いて１０Ｔｏｒｒで揮発分がなくなるまで乾燥して乾燥粉を得た。この乾燥粉をＸ線回折分析により同定したところ、β－ユークリプタイト単相であり、２θ＝２５°近傍に出現する最強線（１０２）面の回折ピーク強度は１５３６１、結晶子径は４０ｎｍであった。窒素吸着法による一次粒子径は０．２０μｍであり、レーザー回折法による分散粒子径Ｄ５０は０．３９μｍであった。
（４）：次いで、（３）で回収したスラリーをナスフラスコに入れて、ロータリーエバポレーターを用いて１０Ｔｏｒｒで揮発分がなくなるまで乾燥して乾燥粉を得た。この乾燥粉をＸ線回折分析により同定したところ、β－ユークリプタイト単相であり、２θ＝２５°近傍に出現する最強線（１０２）面の回折ピーク強度は１５３６１、結晶子径は４０ｎｍであった。窒素吸着法による一次粒子径は０．２０μｍであり、レーザー回折法による分散粒子径Ｄ５０は０．３９μｍであった。
（５）：得られた乾燥粉をアルミナ匣鉢に入れて、卓上電気炉により毎分３℃で８５０℃まで昇温し、５時間焼成して焼成粉を得た。得られた焼成粉をＸ線回折分析により同定したところ、β－ユークリプタイト単相であり、２θ＝２５°近傍に出現する最強線（１０２）面の回折ピーク強度は３５７１４、結晶子径は６１ｎｍであった。
（６）：次に、上記の（５）で得られた焼成粉を、アイシンナノテクノロジーズ社のナノジェットマイザーＮＪ－５０を用いて、乾式粉砕し、レーザー回折法による分散粒子径ｄ５０が０．５μｍのβ－ユークリプタイト微粒子を得た。
（６）：次に、上記の（５）で得られた焼成粉を、アイシンナノテクノロジーズ社のナノジェットマイザーＮＪ－５０を用いて、乾式粉砕し、レーザー回折法による分散粒子径ｄ５０が０．５μｍのβ－ユークリプタイト微粒子を得た。
［評価例１］
ＥＸＡ－８３０ＣＲＰ １８．０ｇ、エタキュア１００プラス ５．０４ｇを自公転式真空撹拌脱泡ミキサー（Ｖ－ｍｉｎｉ３００、ＥＭＥ社製）で６分間混合し、実施例１のβ－リン酸硫酸ジルコニウム粒子 ２３．０４ｇを加えて三本ロールミル（ＥＸＡＫＴ Ｍ－５０Ｉ）を用いて混練し、自公転式真空撹拌脱泡ミキサーで６分間混合を行い、液状エポキシ樹脂組成物を調製した。フィラーの配合量は液状エポキシ樹脂組成物中の約３０体積％に相当する。得られた液状エポキシ樹脂組成物を、予め離型剤を塗布したガラス板で作製した型に注型し、１２０℃で２時間、１６５℃で５時間、１８５℃で２時間の加熱を行い、熱硬化させた。硬化物は適切なサイズに切出し、各種測定を行った。
［評価例２］
実施例２のβ－リン酸硫酸ジルコニウム粒子 ２３．０４ｇを用いた以外は評価例１と同様に行った。
［評価例３］
実施例４のβ－リン酸硫酸ジルコニウム粒子 ２３．０４ｇを用いた以外は評価例１と同様に行った。
ＥＸＡ－８３０ＣＲＰ １８．０ｇ、エタキュア１００プラス ５．０４ｇを自公転式真空撹拌脱泡ミキサー（Ｖ－ｍｉｎｉ３００、ＥＭＥ社製）で６分間混合し、実施例１のβ－リン酸硫酸ジルコニウム粒子 ２３．０４ｇを加えて三本ロールミル（ＥＸＡＫＴ Ｍ－５０Ｉ）を用いて混練し、自公転式真空撹拌脱泡ミキサーで６分間混合を行い、液状エポキシ樹脂組成物を調製した。フィラーの配合量は液状エポキシ樹脂組成物中の約３０体積％に相当する。得られた液状エポキシ樹脂組成物を、予め離型剤を塗布したガラス板で作製した型に注型し、１２０℃で２時間、１６５℃で５時間、１８５℃で２時間の加熱を行い、熱硬化させた。硬化物は適切なサイズに切出し、各種測定を行った。
［評価例２］
実施例２のβ－リン酸硫酸ジルコニウム粒子 ２３．０４ｇを用いた以外は評価例１と同様に行った。
［評価例３］
実施例４のβ－リン酸硫酸ジルコニウム粒子 ２３．０４ｇを用いた以外は評価例１と同様に行った。
［評価例４］
ＥＸＡ－８３０ＣＲＰ １８．０ｇ、エタキュア１００プラス ５．０４ｇを自公転式真空撹拌脱泡ミキサー（Ｖ－ｍｉｎｉ３００、ＥＭＥ社製）で６分間混合し、参考例に従い作製したβ－ユークリプタイト ２３．０４ｇを加えて三本ロールミル（ＥＸＡＫＴ Ｍ－５０Ｉ）を用いて混練し、自公転式真空撹拌脱泡ミキサーで６分間混合を行い、液状エポキシ樹脂組成物を調製した。フィラーの配合量は液状エポキシ樹脂組成物中の約３４体積％に相当する。得られた液状エポキシ樹脂組成物を、予め離型剤を塗布したガラス板で作製した型に注型し、１２０℃で２時間、１６５℃で５時間、１８５℃で２時間の加熱を行い、熱硬化させた。硬化物は適切なサイズに切出し、各種測定を行った。
ＥＸＡ－８３０ＣＲＰ １８．０ｇ、エタキュア１００プラス ５．０４ｇを自公転式真空撹拌脱泡ミキサー（Ｖ－ｍｉｎｉ３００、ＥＭＥ社製）で６分間混合し、参考例に従い作製したβ－ユークリプタイト ２３．０４ｇを加えて三本ロールミル（ＥＸＡＫＴ Ｍ－５０Ｉ）を用いて混練し、自公転式真空撹拌脱泡ミキサーで６分間混合を行い、液状エポキシ樹脂組成物を調製した。フィラーの配合量は液状エポキシ樹脂組成物中の約３４体積％に相当する。得られた液状エポキシ樹脂組成物を、予め離型剤を塗布したガラス板で作製した型に注型し、１２０℃で２時間、１６５℃で５時間、１８５℃で２時間の加熱を行い、熱硬化させた。硬化物は適切なサイズに切出し、各種測定を行った。
評価例１～４における使用フィラー種及びその添加量［ｖｏｌ％］、組成物物性を表３に、硬化物物性を表４に示す。なお、表中のβ－ＬＡＳはβ－ユークリプタイトを表す。
〔表３〕
表３
―――――――――――――――――――――――――――
使用フィラー 組成物物性
種類 添加量 粘度
［ｖｏｌ％］ ［Ｐａ・ｓ］
評価例１ 実施例１ ３０ １１．８
評価例２ 実施例２ ３０ ２８．５
評価例３ 実施例４ ３０ ２８．４
評価例４ β－ＬＡＳ ３４ ７６．７
――――――――――――――――――――――――――――
表３
―――――――――――――――――――――――――――
使用フィラー 組成物物性
種類 添加量 粘度
［ｖｏｌ％］ ［Ｐａ・ｓ］
評価例１ 実施例１ ３０ １１．８
評価例２ 実施例２ ３０ ２８．５
評価例３ 実施例４ ３０ ２８．４
評価例４ β－ＬＡＳ ３４ ７６．７
――――――――――――――――――――――――――――
〔表４〕
表４
――――――――――――――――――――――――――――――――
硬化物物性
弾性率 Ｔｇ ＣＴＥ１ ＣＴＥ２
［ＭＰａ］ ［℃］ ［ｐｐｍ／Ｋ］ ［ｐｐｍ／Ｋ］
評価例１ ４８８２ １５５ ４０ １２２
評価例２ ５０２０ １４９ ４０ １２５
評価例３ ５１１３ １５２ ３９ １２１
評価例４ ５６１５ １５４ ４０ １２７
―――――――――――――――――――――――――――――――――
表４
――――――――――――――――――――――――――――――――
硬化物物性
弾性率 Ｔｇ ＣＴＥ１ ＣＴＥ２
［ＭＰａ］ ［℃］ ［ｐｐｍ／Ｋ］ ［ｐｐｍ／Ｋ］
評価例１ ４８８２ １５５ ４０ １２２
評価例２ ５０２０ １４９ ４０ １２５
評価例３ ５１１３ １５２ ３９ １２１
評価例４ ５６１５ １５４ ４０ １２７
―――――――――――――――――――――――――――――――――
本発明によるβ－Ｚｒ２ＳＰ２Ｏ１２相を主成分として含む低熱膨張性粒子は、エポキシ樹脂等にフィラーとして配合したコンポジットレジンとして効果的にＣＴＥを低減でき、特に電子デバイス用途のフィラーとして好適に用いることができる。
Claims (12)
- ジルコニウム原子、硫黄原子、リン原子のモル比（Ｚｒ：Ｓ：Ｐ）が２：０．０３～０．３５：１．２～２．０であるβ－リン酸硫酸ジルコニウムを主成分として含むことを特徴とする低熱膨張性粒子。
- Ｚｒ２Ｐ２Ｏ９相の（０１１）面に帰属するＸ線回折ピーク強度Ｉαと、β－リン酸硫酸ジルコニウム相の（０２２）面に帰属するＸ線回折ピーク強度Ｉβと、の比[Ｉα／Ｉα + Ｉβ]が０．１未満であることを特徴とする請求項１に記載の低熱膨張性粒子。
- 平均粒径（Ｄ５０）が０．１～１００μｍであることを特徴とする、請求項１又は請求項２に記載の低熱膨張性粒子。
- 水溶性ジルコニウム塩、水溶性硫酸塩及び水溶性リン酸塩の混合水溶液を調製する第１工程と、前記混合水溶液を乾燥する第２工程と、７５０℃以上１０００℃以下の温度で焼成する第３工程とを含み、前記第３工程では、前記混合物中のジルコニウム原子：硫黄原子：リン原子のモル比（Ｚｒ：Ｓ：Ｐ）が２：ｘ：ｙ（ｘ≧０．２５、１．５≦ｙ≦２．５）にある中で前記焼成すること、を特徴とする請求項１～３のいずれか一項に記載の低熱膨張性粒子の製造方法。
- 前記水溶性ジルコニウム塩として、ジルコニウムのアンモニウム塩を用いることを特徴とする請求項４に記載の低熱膨張性粒子の製造方法。
- 前記水溶性硫酸塩として、硫酸のアンモニウム塩を用いることを特徴とする請求項４又は請求項５に記載の低熱膨張性粒子の製造方法。
- 前記水溶性リン酸塩として、リン酸のアンモニウム塩を用いることを特徴とする請求項４～６のいずれか一項に記載の低熱膨張性粒子の製造方法。
- 前記第２工程で、前記モル比（Ｚｒ：Ｓ：Ｐ）が２：ｘ：ｙ（ｘ≧０．２５、１．５≦ｙ≦２．５）である水溶液を、５０℃以上３５０℃未満で噴霧乾燥する第１手法、凍結乾燥する第２手法、３５０℃以上１０００℃未満で噴霧熱分解する第３手法、を用いることを特徴とする請求項４～７のいずれか一項に記載の低熱膨張性粒子の製造方法。
- 前記第３工程後に、さらに粉砕する第４工程を行うことを特徴とする請求項４～８のいずれか一項に記載の低熱膨張性粒子の製造方法。
- 前記第４工程後に、さらに焼成する第５工程を行うことを特徴とする請求項９に記載の低熱膨張性粒子の製造方法。
- エポキシ樹脂と、硬化剤と、請求項１～請求項３のいずれか一項に記載の低熱膨張性粒子とを含むことを特徴とするエポキシ樹脂組成物。
- エポキシ樹脂組成物の全成分の合計１００質量部に対して、前記低熱膨張性粒子が３０～９０質量部であることを特徴とする請求項１１に記載のエポキシ樹脂組成物。
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|---|---|---|---|---|
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