JP7129872B2 - 表皮付き発泡成形品およびその製造方法ならびにプラズマ処理装置 - Google Patents
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Description
図1に、車両用インストルメントパネルにおけるアッパパネルの右側半分を構成するパネル構成部材1の平面図を示す。図2に、図1のパネル構成部材1のII-II線における断面図を示す。図1に示すパネル構成部材1は、この実施形態に係る表皮付き発泡成形品であって、左ハンドル車用のもので運転席右隣の助手席側に配置される。
次に、上記の如く構成されたパネル構成部材1の製造方法とそれに用いるプラズマ処理装置55について、図3~図11を参照しながら説明する。
表皮材成形工程では、表皮材9をスラッシュ成形によって成形する。表皮材9の成形には、図3~図6に示すシェル状のスラッシュ成形金型31を用いる。スラッシュ成形金型31は、導電性を有する材料からなる。当該スラッシュ成形金型31は、表皮材9が成形される成形面33を有する凹状の成形本体部35と、成形本体部35の周囲全体、つまり当該金型31の外周部位に設けられたフランジ部37とを備えている。成形本体部35のうち成形面33の外周縁寄りの部分には、環状の突条39が設けられている。
前処理工程では、表皮材9の裏面にプラズマエッチングを施して清浄化および改質を行う。続いて行う炭素膜形成工程では、表皮材9の清浄化および改質された裏面に非晶質炭素膜27を形成する。これら前処理工程および炭素膜形成工程は、図7および図8に示す同一のプラズマ処理装置55を用いて行われる。このプラズマ処理装置55では、表皮材成形工程にて表皮材9の成形に用いられるスラッシュ成形金型31を構成の一部としている。
基材準備工程では、公知の射出成形により基材7を成形して準備する。
発泡体成形工程では、表皮材9の裏側に対し非晶質炭素膜27を介して発泡体11を成形する。発泡体11の成形には、図10および図11に示す発泡成形金型105を用いる。発泡成形金型105は、表皮材9がセットされる第1型107と、基材7がセットされる第2型109とを備えている。
以下に示す実施例1および2に係る表皮付き発泡成形品と比較例に係る表皮付き発泡成形品とを製造し、それら表皮付き発泡成形品の経年劣化の状態と機械特性をそれぞれ評価した。なお、以下では、便宜上、実施例1,2および比較例に係る表皮付き発泡成形品について、上記実施形態のパネル構成部材1と同様な参照符号を付して説明する。
実施例1に係る表皮付き発泡成形品は、上記実施形態のパネル構成部材1と同じく基材7と表皮材9との間に発泡体11が一体成形された構造を有している。表皮材9は、ポリ塩化ビニルからなり、スラッシュ成形により成形した。発泡体11は、発泡ポリウレタンからなり、型内発泡成形により成形した。この発泡体11の厚さは5.5mmであり、当該発泡体11の質量は0.175g/cm2とされている。表皮材9の裏面には、ダイヤモンドライクカーボンからなる非晶質炭素膜27を設けた。
実施例2に係る表皮付き発泡成形品は、上記実施形態のパネル構成部材1と同じく基材7と表皮材9との間に発泡体11が一体成形された構造を有している。基材7、表皮材9および発泡体11の材料および成形方法、その他の態様(発泡体11の厚さおよび質量など)は、実施例1の表皮付き発泡成形品と同じである。そして、表皮材9の裏面には、プラズマCVDによりダイヤモンドライクカーボンからなる非晶質炭素膜27を100nmの厚さに設けた。この非晶質炭素膜27の成膜時における条件は、実施例1と同じである。この実施例2に係る表皮付き発泡成形品では、非晶質炭素膜27の形成に先立って前処理工程を行った。前処理工程では、表皮材9の裏面に酸素ガスを用いたプラズマエッチングを30秒間施した。
比較例に係る表皮付き発泡成形品も、基材7と表皮材9との間に発泡体11が一体成形された構造を有している。基材7、表皮材9および発泡体11の材料および成形方法、その他の態様(発泡体11の厚さおよび質量など)は、実施例1の表皮付き発泡成形品と同じである。但し、表皮材9の裏面には、非晶質炭素膜27を設けていない。この比較例に係る表皮付き発泡成形品では、非晶質炭素膜27を設けていないため、前処理工程も行っていない。
13…凹部、15…外周端末部、17…外側縦壁、19…注入口、21…シール材、
27…非晶質炭素膜、31…スラッシュ成形金型、33…成形面、35…成形本体部、
37…フランジ部、39…突条、41…加熱炉、43,45…加熱ヒータ、
47…原料収容ボックス、49…シール材、51…回転軸、53…溶融樹脂層、
55…プラズマ処理装置、57…冷却装置、59…チャンバー、
61…チャンバー形成体、63…減圧装置、65…ガス供給装置、
67…シャワーヘッド(対向電極)、69…交流電源、71…プラズマ発生部、
73…冷却ボックス、75…水噴射ノズル、77…シール材、79…排水ダクト、
81…シール材、83…排気ダクト、85…排気口、87…ガス供給口、
89…エッチングガスタンク、91…原料ガスタンク、93…供給配管、
95,97…分岐配管、99,101…ゲートバルブ、103…放出口、
105…発泡成形金型、107…第1型、109…第2型、111…ベース、
113…セット面、115…ストライカ、117…被係合アーム、119…回転軸、
121…支持アーム、123…セット面、125…移動機構、127…支持プレート、
129…油圧シリンダ、131…キャビティ、133…連結部、135…フック、
137…係合アーム、139…注入ノズル
Claims (10)
- ポリ塩化ビニルからなる表皮材(9)と、該表皮材(9)の裏側に一体成形された発泡ポリウレタンからなる発泡体(11)と、を備えた表皮付き発泡成形品であって、
前記表皮材(9)の裏面には、非晶質炭素膜(27)が設けられ、
前記非晶質炭素膜(27)の厚さは、10nm以上且つ200nm以下であり、
107℃の環境下で400時間経過した時点での前記表皮材(9)に含まれる可塑剤の減少率が6.0%以下である
ことを特徴とする表皮付き発泡成形品。 - 請求項1に記載された表皮付き発泡成形品において、
前記非晶質炭素膜(27)は、グラファイト結合とダイヤモンド結合とを併せ持ち、水素を含有した水素化非晶質炭素からなる
ことを特徴とする表皮付き発泡成形品。 - ポリ塩化ビニルからなる表皮材(9)を準備する表皮材準備工程と、
前記表皮材(9)の裏面にプラズマエッチングを施して清浄化および改質を行う前処理工程と、
前記表皮材(9)の清浄化および改質された裏面に非晶質炭素膜(27)を形成する炭素膜形成工程と、
前記非晶質炭素膜(27)を介して前記表皮材(9)の裏側に発泡ポリウレタンからなる発泡体(11)を形成する発泡体形成工程と、を含み、
前記炭素膜形成工程では、前記非晶質炭素膜(27)を10nm以上且つ200nm以下の厚さで形成し、
107℃の環境下で400時間経過した時点での前記表皮材(9)に含まれる可塑剤の減少率が6.0%以下である表皮付き発泡成形品(1)を製造する
ことを特徴とする表皮付き発泡成形品の製造方法。 - ポリ塩化ビニルからなる表皮材(9)を準備する表皮材準備工程と、
前記表皮材(9)の裏面にプラズマエッチングを施して清浄化および改質を行う前処理工程と、
前記表皮材(9)の清浄化および改質された裏面に非晶質炭素膜(27)を形成する炭素膜形成工程と、
前記非晶質炭素膜(27)を介して前記表皮材(9)の裏側に発泡ポリウレタンからなる発泡体(11)を形成する発泡体形成工程と、を含み、
前記表皮材準備工程では、前記表皮材(9)を、金型(31)を用いたスラッシュ成形により成形して準備し、
前記前処理工程では、前記金型(31)を、前記表皮材(9)が成形後に付着したままの状態でプラズマ放電を発生させるための電極として利用する
ことを特徴とする表皮付き発泡成形品の製造方法。 - 請求項4に記載された表皮付き発泡成形品の製造方法において、
前記炭素膜形成工程では、前記金型(31)を、前記表皮材(9)が成形後に付着したままの状態でプラズマ放電を発生させるための電極として利用し、前記非晶質炭素膜(27)をプラズマ化学気相成長法により形成する
ことを特徴とする表皮付き発泡成形品の製造方法。 - 請求項4または5に記載された表皮付き発泡成形品の製造方法において、
前記表皮材準備工程で成形した前記表皮材(9)を冷却する冷却工程を含み、
前記炭素膜形成工程を前記冷却工程中に行う
ことを特徴とする表皮付き発泡成形品の製造方法。 - 表皮材(9)のスラッシュ成形に用いられる金型(31)と、
前記金型(31)のうち前記表皮材(9)が成形される成形面(33)との間にチャンバー(59)を形成するチャンバー形成体(61)と、
前記チャンバー(59)内の圧力を減圧する減圧装置(63)と、
前記チャンバー(59)内に処理ガスを供給するガス供給装置(65)と、
前記チャンバー(59)内で前記金型(31)の成形面(33)と対向する対向電極(67)と、
前記対向電極(67)に接続されて電圧を印加する電源(69)と、を備え、
前記チャンバー形成体(61)には、前記減圧装置(63)および前記ガス供給装置(65)が接続されており、
前記金型(31)は、前記チャンバー形成体(61)と接合および分離が可能であり、前記チャンバー形成体(61)と接合された状態で前記チャンバー(59)を形成して接地され、
前記対向電極(67)と前記金型(31)とは、前記電源(69)による電圧の印加により互いの間にプラズマ放電を発生させるプラズマ発生部(71)を構成する
ことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項7に記載されたプラズマ処理装置において、
前記金型(31)を冷却する冷却装置(57)をさらに備え、
前記冷却装置(57)は、前記金型(31)を前記チャンバー形成体(61)と接合した状態で、当該金型(31)の背面側に位置する
ことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項7または8に記載されたプラズマ処理装置において、
前記ガス供給装置(65)は、前記処理ガスとして非晶質炭素膜(27)の原料ガスを前記チャンバー(59)内に供給し、
前記プラズマ発生部(71)は、前記対向電極(67)と前記金型(31)との間に発生させたプラズマ放電により原料ガスを解離させて、前記表皮材(9)の裏面に非晶質炭素膜(27)を成膜する
ことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項7~9のいずれか1項に記載されたプラズマ処理装置において、
前記ガス供給装置(65)は、前記処理ガスとしてエッチングガスを前記チャンバー(59)内に供給し、
前記プラズマ発生部(71)は、前記対向電極(67)と前記金型(31)との間に発生させたプラズマ放電によりエッチングガスを解離させて、前記表皮材(9)の裏面にプラズマエッチングを施す
ことを特徴とするプラズマ処理装置。
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004080686A1 (ja) | 2003-03-13 | 2004-09-23 | Nakata Coating Co., Ltd. | パウダースラッシュ成形機およびパウダースラッシュ成形方法 |
JP2010021282A (ja) | 2008-07-09 | 2010-01-28 | Dan Takuma:Kk | 半導体用ケース |
JP2012020519A (ja) | 2010-07-15 | 2012-02-02 | Nihon Iac Kk | 自動車用内装品の製造方法 |
JP2017165793A (ja) | 2016-03-14 | 2017-09-21 | 新日本理化株式会社 | 耐着色性に優れた塩化ビニル系樹脂用の可塑剤組成物 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0550567A (ja) * | 1991-08-26 | 1993-03-02 | Inoac Corp | ポリウレタン発泡成形品用表皮 |
JP3119172B2 (ja) * | 1995-09-13 | 2000-12-18 | 日新電機株式会社 | プラズマcvd法及び装置 |
JP4415703B2 (ja) * | 2004-03-02 | 2010-02-17 | パナソニック株式会社 | 金型のクリーニング方法及び装置、成型方法及び装置 |
JP2009190165A (ja) * | 2008-01-16 | 2009-08-27 | Sumitomo Metal Fine Technology Co Ltd | 研磨装置用キャリアとその製造方法、両面研磨方法ならびにマスキング治具 |
JP2017218624A (ja) * | 2016-06-07 | 2017-12-14 | Ntn株式会社 | 硬質膜の成膜方法 |
-
2018
- 2018-10-09 JP JP2018190950A patent/JP7129872B2/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004080686A1 (ja) | 2003-03-13 | 2004-09-23 | Nakata Coating Co., Ltd. | パウダースラッシュ成形機およびパウダースラッシュ成形方法 |
JP2010021282A (ja) | 2008-07-09 | 2010-01-28 | Dan Takuma:Kk | 半導体用ケース |
JP2012020519A (ja) | 2010-07-15 | 2012-02-02 | Nihon Iac Kk | 自動車用内装品の製造方法 |
JP2017165793A (ja) | 2016-03-14 | 2017-09-21 | 新日本理化株式会社 | 耐着色性に優れた塩化ビニル系樹脂用の可塑剤組成物 |
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