JP7126105B1 - 排ガス浄化装置の触媒担体用ステンレス箔 - Google Patents

排ガス浄化装置の触媒担体用ステンレス箔 Download PDF

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Abstract

優れた耐拡散接合性とろう付け性とを両立し、高温での耐酸化性にも優れる排ガス浄化装置の触媒担体用ステンレス箔を提供する。所定の成分組成とし、かつ、ISO 25178に規定されるパラメータSaおよびStrをそれぞれ、0.50~3.00μmおよび0.20~1.00の範囲とする。

Description

本発明は、ステンレス箔、特には、排ガス浄化装置の触媒担体に用いられるステンレス箔に関する。
Alを多量に含有する(例えば、Alを5質量%程度含有する)ステンレス鋼(以下、Al含有ステンレス鋼ともいう)は、高温での耐酸化性に優れる。そのため、Al含有ステンレス鋼は、箔材に加工され、自動車、オートバイ、マリンバイク、モーターボート、大型芝刈り機、小型発電機などの排ガス浄化装置の触媒担体(以下、メタルハニカムともいう)に使用されている。
図1に、一般的なメタルハニカムの断面の模式図を示す。図1に示すように、メタルハニカムは、平坦なステンレス箔(平箔1)と波状に加工されたステンレス箔(波箔2)とを交互に積み重ねてなるハニカム構造を有し、箔同士はロウ付け等によって固定されている。そして、このステンレス箔の表面に触媒物質を塗布したものが、排ガス浄化装置に用いられる。
自動車などの排ガス温度は、エンジン出力の変化やエンジンの始動・停止の繰り返しにより、頻繁に変化する。これに伴い、メタルハニカムの温度も上昇と下降を繰り返す。メタルハニカムの温度が変化すると、メタルハニカムに用いられるステンレス箔が膨張と収縮を繰り返すため、メタルハニカムの内部に熱応力が発生する。
この熱応力を緩和するため、メタルハニカム製造時のろう付け処理では、平箔と波箔の接点の全てではなく、一部のみにろう材を塗布してろう付けにより固定するという施工が行われている。
一般的に、ろう付け処理は、真空中や窒素雰囲気中などの非酸化性雰囲気で1150℃程度の高温で行われる。そのため、ろう材を塗布していない平箔と波箔の接点でも、ステンレス箔同士が拡散接合してしまう場合がある。このような意図せぬ拡散接合が生じると、熱応力が緩和できず、メタルハニカムの耐久性が低下してしまう。
そのため、メタルハニカムに用いられるステンレス箔には、上記のような意図せぬ拡散接合の防止、すなわち、耐拡散接合性の向上が求められている。
耐拡散接合性の向上を図る技術として、例えば、特許文献1には、
「原子%比で、N%/(Fe%+Cr%+Al%+O%+N%)≧0.10の条件を満たす領域を表層に有することを特徴とする耐拡散接合性に優れたAl含有フェライト系ステンレス鋼板。」
が開示されている。
特許文献2には、
「質量%で、C:0.05%以下、Si:2.0%以下、Mn:1.0%以下、Cr:13.0~30.0%、Al:3.0~10.0%、N:0.10%以下、Ti:0.02%以下、Zr:0.005~0.20%、REM:0.03~0.20%、Ca:0.0010~0.0300%、Mg:0.0015~0.0300%を含み、残部がFeおよび不可避的不純物からなる組成を有し、表面には皮膜厚みが30~200nmであり、そのうちAl2O3の皮膜厚みが全皮膜厚みの50%以上を占める酸化皮膜を有し、かつ表面粗度Raが0.5~1.5μmであることを特徴とする拡散接合しにくいステンレス箔。」
が開示されている。
特許文献3には、
「Fe-Cr-Al系合金箔の平箔と波箔が交互に円筒状に巻かれたハニカム構造を有し、前記平箔と前記波箔との接触面において、一方の箔の巻き方向に測定した平均粗さRa(1)が0.10~0.50μmであり、他方の箔の巻き方向に測定した平均粗さRa(2)が前記Ra(1)より0.30~0.80μmだけ大きいことを特徴とする排ガス浄化装置の触媒担体。」
が開示されている。
特開2001-32051号公報 特許第5504778号 特許第4941320号
特許文献1および2の技術は、所定条件の熱処理を施してステンレス箔の表面に窒化物や酸化物などの皮膜(以下、表面皮膜ともいう)を生成させるものであり、このような表面皮膜によって拡散接合を防止しようとする技術である。しかし、ステンレス箔の表面にこのような表面皮膜が存在すると、ろう付け性が低下し、ろう材を塗布した平箔と波箔の接点において接合不良が発生する場合があった。
また、特許文献3の技術では、耐拡散接合性が必ずしも十分ではない場合があり、さらなる耐拡散接合性の向上が求められているのが現状である。
本発明は、上記の現状に鑑み開発されたものであって、優れた耐拡散接合性とろう付け性とを両立し、高温での耐酸化性にも優れるステンレス箔を提供することを目的とする。
さて、発明者らは、上記の課題を解決すべく、種々検討を重ねたところ、ステンレス箔の表面に凹凸を設けたうえで、当該凹凸の高さを大きくし、かつ、当該凹凸の形状を等方的にすることが有効であることを知見した。以下、上記の知見を得るに至った検討経緯について、説明する。
(1)まず、発明者らは、上掲特許文献3の技術において、耐拡散接合性が十分には得られない理由について検討すべく、特許文献3に開示されるFe-Cr-Al系合金箔の表面状態を観察した。その結果、特許文献3に開示されるFe-Cr-Al系合金箔の表面では、図2に示すような一方向(圧延方向)に伸びた筋状の凹凸が全面に形成されており、これが原因となって、十分な耐拡散接合性が得られないことが分かった。
(なお、図2は、質量%で、C:0.005%、Si:0.15%、Mn:0.12%、P:0.03%、S:0.001%、Cr:20.3%、Al:5.8%、N:0.006%、Zr:0.03%およびLa:0.08%を含有し、残部がFeおよび不可避的不純物であるFe-Cr-Al系合金を、厚さ50μmに冷間圧延したFe-Cr-Al系合金箔の表面状態をレーザー顕微鏡で観察した写真である。なお、このFe-Cr-Al系合金箔のSaは0.23μm、Strは0.04である。SaおよびStrの定義および測定方法については、後述する。)
(2)この理由について、発明者らは以下のように考えている。
すなわち、特許文献3の技術は、Fe-Cr-Al系合金箔の表面粗度を高めるとともに、互いに接触する平箔と波箔の表面粗度をそれぞれ異なるものとすることにより、平箔と波箔の接点での接触面積を減少させて拡散接合を防止しようとする技術である。そして、この技術では、冷間圧延の際に高粗度のワークロールを用いることにより、箔の表面粗度を調整しており、この際に、圧延方向に伸びた筋状の凹凸が形成される。メタルハニカムに用いられる箔材には、波箔および平箔ともに数10m程度の長さが必要となる。そのため、波箔および平箔の長手方向はいずれも、冷間圧延コイルの圧延方向と平行になる。このような波箔および平箔を用いてメタルハニカムを製造すると、波箔と平箔の接点において筋状の凹凸の方向が揃うことになる。また、筋状の凹凸の間隔はほとんど一定である。よって、筋状の凹凸が表面に存在する箔材同士を接触させると、筋状の凸部同士の接触や、筋状の凸部と凹部のかみ合わせが発生し、平箔と波箔の接点での接触面積が増大する。その結果、特許文献3の技術では、十分な耐拡散接合性が得られない。
(3)上記の知見を踏まえ、発明者らは、凹凸の高さを増加させることにより、耐拡散接合性を向上させることを試みた。しかし、凹凸の高さを増加させるだけでは、筋状の凸部同士の接触や筋状の凸部と凹部のかみ合わせを完全には解消することはできず、十分な耐拡散接合性の向上効果を得ることはできなかった。
(4)そこで、発明者らがさらに検討を重ねたところ、ステンレス箔の表面の凹凸の高さを増加させるとともに、凹凸の形状を等方的にする、具体的には、ISO 25178に規定されるパラメータSaを0.50~3.00μmとし、かつ、ISO 25178に規定されるパラメータStrを0.20~1.00とすることにより、優れたろう付け性を担保しながら、耐拡散接合性を大幅に向上できるとの知見を得た。ここで、ISO 25178に規定されるパラメータSaは、面粗さのパラメータの一種であり、算術平均高さを表すものである。算術平均高さとは、表面の平均面に対する各点の高さの差の絶対値の平均であり、表面粗度を評価する際に一般的に利用されるパラメータである。また、ISO 25178に規定されるパラメータStrは、面粗さパラメータの一種であり、表面性状のアスペクト比を表すものである。なお、表面性状のアスペクト比は、表面性状の等方性・異方性を示すもので0~1.00の値をとる。表面性状のアスペクト比は、0に近いほど表面性状の異方性が強く、一方向にのびた筋目(筋状の凹凸)が多いことを示し、1に近いほど表面性状の等方性が強く、表面性状が方向に依存しない(筋状の凹凸が少ない)ことを示す。
(参考のため、図3に、本発明の一実施形態に従うステンレス箔の表面状態をレーザー顕微鏡で観察した写真を示す。なお、このステンレス箔のSaは2.0μm、Strは0.65である。)
(5)また、発明者らは、上記のような表面性状を有するステンレス箔を得るべく、その製造方法についても検討したところ、所定の成分組成を有するステンレス箔に対し、所定条件の表面処理を行う、具体的には、
・第1の浸漬処理として、処理液に、過酸化水素、銅イオンおよびハロゲン化物イオンを含む水溶液を使用し、かつ、処理温度および処理時間をそれぞれ20~60℃および30~120秒とした浸漬処理を施し、
・当該第1の浸漬処理後、さらに、第2の浸漬処理として、処理液に、過酸化水素を含む酸性水溶液、または、硝酸を含む水溶液を使用し、処理温度および処理時間をそれぞれ30~60℃および5~120秒とした浸漬処理を行う、
ことが重要であるとの知見を得た。
(6)さらに、第1の浸漬処理時の溶解挙動に対するステンレス箔の平均結晶粒径の影響を調査したところ、ステンレス箔の平均結晶粒径を15μm以上25μm以下にすることが好ましい、との知見を得た。
本発明は上記の知見に基づき、さらに検討を重ねた末に完成されたものである。
すなわち、本発明の要旨構成は次のとおりである。
1.質量%で、
C:0.020%以下、
Si:1.0%以下、
Mn:1.0%以下、
P:0.040%以下、
S:0.004%以下、
Cr:16.0~30.0%、
Al:2.00~6.50%、
N:0.020%以下および
Ni:0.50%以下
であり、さらに、
Ti:0.30%以下、
Zr:0.20%以下、
Hf:0.20%以下および
REM:0.20%以下
のうち少なくとも1種を含有し、
残部がFeおよび不可避的不純物である成分組成を有し、
ISO 25178に規定されるパラメータSaが0.50~3.00μmであり、かつ、ISO 25178に規定されるパラメータStrが0.20~1.00である、
排ガス浄化装置の触媒担体用ステンレス箔。
2.前記成分組成が、さらに質量%で、
Cu:0.10%以下、
Nb:0.30%以下、
V:0.30%以下、
Ca:0.0100%以下、
Mg:0.0100%以下および
B:0.0050%以下
のうち少なくとも1種を含有する、前記1に記載の排ガス浄化装置の触媒担体用ステンレス箔。
3.前記成分組成が、さらに、MoおよびWのうち少なくとも1種を含有し、MoおよびWの合計含有量が6.0質量%以下である、前記1または2に記載の排ガス浄化装置の触媒担体用ステンレス箔。
4.平均結晶粒径が15μm以上25μm以下である、前記1~3のいずれかに記載の排ガス浄化装置の触媒担体用ステンレス箔。
本発明によれば、優れた耐拡散接合性とろう付け性とを両立し、高温での耐酸化性にも優れるステンレス箔が得られる。また、本発明のステンレス箔は、自動車、オートバイ、マリンバイク、スノーモービル、船舶などの排ガス浄化装置の触媒担体のみならず、その他の燃焼ガス排気系部材に用いても好適である。
一般的なメタルハニカムの断面の模式図である。 従来技術に従うFe-Cr-Al系合金箔の表面状態をレーザー顕微鏡で観察した写真である。 本発明の一実施形態に従うステンレス箔の表面状態をレーザー顕微鏡で観察した写真である。 耐拡散接合性の評価に使用する試験片の作成要領を示す模式図である。
本発明を、以下の実施形態に基づき説明する。
まず、本発明の一実施形態に係るステンレス箔の成分組成について説明する。なお、成分組成における単位はいずれも「質量%」であるが、以下、特に断らない限り、単に「%」で示す。
C:0.020%以下
C含有量が0.020%を超えると、ステンレス箔の中間製造素材である熱延鋼板や冷延鋼板(以下、単に熱延鋼板や冷延鋼板ともいう)の靭性が低下してステンレス箔の製造が困難になる。このため、C含有量は0.020%以下とする。C含有量は、好ましくは0.015%以下、より好ましくは0.010%以下である。ただし、Cを過度に低減しようとすると、精錬の時間がかかり製造が困難になる。よって、C含有量は0.002%以上が好ましい。
Si:1.0%以下
Si含有量が1.0%を超えると、熱延鋼板や冷延鋼板の靭性が低下してステンレス箔の製造が困難になる。このため、Si含有量は1.0%以下とする。Si含有量は、好ましくは0.5%以下、より好ましくは0.2%以下である。ただし、Si含有量を0.01%未満にしようとすると、精錬が困難になる。よって、Si含有量は0.01%以上が好ましい。
Mn:1.0%以下
Mn含有量が1.0%を超えると、ステンレス箔の耐酸化性が失われる。このため、Mn含有量は1.0%以下とする。Mn含有量は、好ましくは0.5%以下、より好ましくは0.15%以下である。ただし、Mn含有量を0.01%未満にしようとすると、精錬が困難になる。よって、Mn含有量は0.01%以上が好ましい。
P:0.040%以下
P含有量が0.040%を超えると、熱延鋼板や冷延鋼板の靭性および延性が低下してステンレス箔の製造が困難になる。このため、P含有量は0.040%以下とする。P含有量は、好ましくは0.030%以下である。なお、Pは極力低減することが望ましく、P含有量は0%であってもよい。
S:0.004%以下
S含有量が0.004%を超えると、熱間加工性が低下して熱延鋼板の製造が困難になる。その結果、ステンレス箔の製造が困難になる。このため、S含有量は0.004%以下とする。S含有量は、好ましくは0.003%以下、より好ましくは0.002%以下である。なお、Sは極力低減することが望ましく、S含有量は0%であってもよい。
Cr:16.0~30.0%
Crは、高温での耐酸化性を確保する上で必要不可欠な元素である。ここで、Cr含有量が16.0%未満では、高温での十分な耐酸化性を確保できない。一方、Cr含有量が30.0%を超えると、ステンレス箔の中間製造素材であるスラブや熱延鋼板の靭性が低下してステンレス箔の製造が困難になる。このため、Cr含有量は16.0~30.0%とする。Cr含有量は、好ましくは17.0%以上である。また、Cr含有量は、好ましくは26.0%以下、より好ましくは22.0%以下である。
Al:2.00~6.50%
Alは、高温でAlを主成分とする酸化皮膜を生成させて耐酸化性を大きく向上させる元素である。この効果は、Al含有量を2.00%以上とすることにより得られる。一方、Al含有量が6.50%を超えると、鋼の靭性が低下してステンレス箔の製造が困難になる。このため、Al含有量は2.00~6.50%とする。Al含有量は、好ましくは3.00%以上、より好ましくは4.50%以上である。また、Al含有量は、好ましくは6.00%以下である。
N:0.020%以下
N含有量が0.020%を超えると、熱延鋼板や冷延鋼板の靱性が低下してステンレス箔の製造が困難になる。このため、N含有量は0.020%以下とする。N含有量は、好ましくは0.010%以下である。N含有量は0%でもよいが、Nを過度に低減しようとすると、精錬の時間がかかり製造が困難になる。よって、N含有量は0.002%以上が好ましい。
Ni:0.50%以下
Niは、オーステナイト生成元素である。ここで、Ni含有量が0.50%を超えると、高温での酸化が進み、ステンレス箔中のAlが酸化により枯渇した場合に、オーステナイト相が生成するようになる。オーステナイト相は、ステンレス箔の熱膨張係数を大きくするので、ステンレス箔の括れや破断などの不具合を発生させる。このため、Ni含有量は0.50%以下とする。Ni含有量は、好ましくは0.20%以下である。ただし、Ni含有量を0.01%未満にしようとすると、精錬が困難になる。よって、Ni含有量は0.01%以上が好ましい。
本発明の一実施形態に係るステンレス箔の成分組成は、さらに、Ti:0.30%以下、Zr:0.20%以下、Hf:0.20%以下、REM:0.20%以下のうち少なくとも1種を含有する。なお、Ti、Zr、HfおよびREMの合計の含有量は、0.01%以上とすることが好ましい。また、Ti、Zr、HfおよびREMの合計の含有量は、0.30%以下とすることが好ましい。ここで、Ti、Zr、HfおよびREMは単独で含有させても、複合して含有させてもよい。
Ti:0.30%以下
Tiは、Al酸化皮膜の密着性を改善して耐酸化性を向上させる効果や、C、Nを固定して靭性を向上させる効果がある。このような効果は、Ti含有量が0.01%以上で得られる。しかし、Ti含有量が0.30%を超えると、Al酸化皮膜の成長速度が増大して耐酸化性が低下する。よって、Ti含有量は0.30%以下とする。Ti含有量は、好ましくは0.10%以下である。また、Ti含有量は、好ましくは0.01%以上、より好ましくは0.02%以上である。
Zr:0.20%以下
Zrは、Al酸化皮膜の密着性を改善するとともに、Al酸化皮膜の成長速度を低減して耐酸化性を向上させる効果がある。また、Zrは、CおよびNを固定して靭性を向上させる効果がある。このような効果は、Zr含有量が0.01%以上で得られる。しかし、Zr含有量が0.20%を超えると、金属間化合物が生成して熱延鋼板や冷延鋼板の靭性が低下する。これにより、ステンレス箔の製造が困難になる。よって、Zr含有量は0.20%以下とする。Zr含有量は、好ましくは0.10%以下である。また、Zr含有量は、好ましくは0.01%以上、より好ましくは0.02%以上である。
Hf:0.20%以下
Hfは、Al酸化皮膜の密着性を改善するとともに、Al酸化皮膜の成長速度を低減して耐酸化性を向上させる効果がある。このような効果は、Hf含有量が0.01%以上で得られる。しかし、Hf含有量が0.20%を超えると、金属間化合物が生成して熱延鋼板や冷延鋼板の靭性が低下する。これにより、ステンレス箔の製造が困難になる。よって、Hf含有量は0.20%以下とする。Hf含有量は、好ましくは0.10%以下である。また、Hf含有量は、好ましくは0.01%以上、より好ましくは0.02%以上である。
REM:0.20%以下
REM(希土類元素、rare earth metals)は、Sc、Yおよびランタノイド系元素(La、Ce、Pr、Nd、Smなど原子番号57~71までの元素)をいう。REMは、Al酸化皮膜の密着性を改善し、耐酸化性を向上させる効果がある。このような効果は、REM含有量が0.01%以上で得られる。しかし、REM含有量が0.20%を超えると、熱間加工性が低下してステンレス箔の製造が困難になる。よって、REM含有量は0.20%以下とする。REM含有量は、好ましくは0.10%以下である。また、REM含有量は、好ましくは0.01%以上、より好ましくは0.03%以上である。
なお、REMの添加には、コスト低減のためこれらが分離精製されていない金属(ミッシュメタル等)を用いることもできる。
以上、基本成分について説明したが、本発明の一実施形態に係るステンレス箔の成分組成は、さらに、
Cu:0.10%以下、Nb:0.30%以下、V:0.30%以下、Ca:0.0100%以下、Mg:0.0100%以下およびB:0.0050%以下のうち少なくとも1種を含有してもよい。
Cu:0.10%以下
Cuは、鋼中に析出しステンレス箔の高温強度を向上させる効果がある。このような効果は、Cu含有量が0.01%以上で得られる。しかし、Cu含有量が0.10%を超えると、熱延鋼板や冷延鋼板の靭性が低下してステンレス箔の製造が困難になる。よって、Cuを含有させる場合、Cu含有量は0.10%以下とする。また、Cu含有量は、好ましくは0.01%以上、より好ましくは0.02%以上である。
Nb:0.30%以下
Nbは、CおよびNを固定して熱延鋼板や冷延鋼板の靭性を向上させる効果がある。このような効果は、Nb含有量が0.01%以上で得られる。しかし、Nb含有量が0.30%を超えると、Nb酸化物が生成して高温での耐酸化性が低下する。よって、Nbを含有させる場合、Nb含有量は0.30%以下とする。また、Nb含有量は、好ましくは0.01%以上である。
V:0.30%以下
Vは、CおよびNを固定して熱延鋼板や冷延鋼板の靭性を向上させる効果がある。このような効果は、V含有量が0.01%以上で得られる。しかし、V含有量が0.30%を超えると、V酸化物が生成して高温での耐酸化性が低下する。よって、Vを含有させる場合、V含有量は0.30%以下とする。V含有量は、好ましくは0.10%以下である。また、V含有量は、好ましくは0.01%以上、より好ましくは0.02%以上である。
Ca:0.0100%以下
Caは、耐酸化性を向上させる効果がある。このような効果は、Ca含有量が0.0002%以上で得られる。しかし、Ca含有量が0.0100%を超えると、熱延鋼板および冷延鋼板の靭性の低下やステンレス箔の耐酸化性の低下が起こる。よって、Caを含有させる場合、Ca含有量は0.0100%以下とする。Ca含有量は、好ましくは0.0050%以下、より好ましくは0.0030%以下である。また、Ca含有量は、好ましくは0.0002%以上、より好ましくは0.0010%以上である。
Mg:0.0100%以下
Mgは、耐酸化性を向上させる効果がある。このような効果は、Mg含有量が0.0002%以上で得られる。しかし、Mg含有量が0.0100%を超えると、熱延鋼板および冷延鋼板の靭性の低下やステンレス箔の耐酸化性の低下が起こる。よって、Mgを含有させる場合、Mg含有量は0.0100%以下とする。Mg含有量は、好ましくは0.0050%以下、より好ましくは0.0030%以下である。また、Mg含有量は、好ましくは0.0002%以上、より好ましくは0.0010%以上である。
B:0.0050%以下
Bは、結晶粒界に偏析して熱延鋼板の靭性を向上させる効果がある。このような効果は、B含有量が0.0002%以上で得られる。しかし、B含有量が0.0050%を超えると、鋼が硬質化してかえって靭性の低下を招く。よって、Bを含有させる場合、B含有量は0.0050%以下とする。B含有量は、好ましくは0.0030%以下である。また、B含有量は、好ましくは0.0002%以上、より好ましくは0.0010%以上である。
また、本発明の一実施形態に係るステンレス箔の成分組成は、さらに、MoおよびWのうち少なくとも1種を、MoおよびWの合計含有量が6.0%以下の範囲で含有してもよい。
MoおよびWの合計含有量:6.0%以下
MoおよびWは、高温強度を増大させる。このため、MoおよびWは、ステンレス箔を触媒担体として用いるときに、触媒担体の寿命を伸ばす効果がある。このような効果は、MoおよびWの合計含有量が0.5%以上で得られる。しかし、MoおよびWの合計含有量が6.0%を超えると、熱延鋼板や冷延鋼板の加工性が低下してステンレス箔の製造が困難になる。よって、Moおよび/またはWを含有させる場合、MoおよびWの合計含有量は6.0%以下とする。MoおよびWの合計含有量は、好ましくは4.5%以下である。また、MoおよびWの合計含有量は、好ましくは0.5%以上、より好ましくは2.5%以上である。なお、MoおよびWについては、このうちの少なくとも1種、すなわち、MoおよびWのいずれか一方を含有しても、MoおよびWの両方を含有してもよい。
上記の成分以外の残部は、Feおよび不可避的不純物である。なお、不可避的不純物としては、Co、Zn、Snなどが挙げられ、これらの元素の含有量は、それぞれ0.3%以下が好ましい。
次に、本発明の一実施形態に係るステンレス箔の表面性状について説明する。
上述したように、本発明の一実施形態に係るステンレス箔では、表面の凹凸の高さを増加させ、かつ、凹凸の形状を等方的にする、具体的には、ISO 25178に規定されるパラメータSaを0.50~3.00μmとし、かつ、ISO 25178に規定されるパラメータStrを0.20~1.00とすることが重要である。これにより、優れたろう付け性を担保しながら、耐拡散接合性を大幅に向上することが可能となる。
ISO 25178に規定されるパラメータSa:0.50~3.00μm
Saは、ISO 25178に規定される面粗さのパラメータの一種であり、算術平均高さを表すものである。算術平均高さとは、表面の平均面に対する各点の高さの差の絶対値の平均であり、表面粗度を評価する際に一般的に利用されるパラメータである。ここで、Saが0.50μm未満では、表面の凹凸の高さが十分ではないため、平箔と波箔の接点での接触面積を十分には低減することができず、優れた耐拡散接合性が得られない。一方、Saが3.00μmを超えると、耐拡散接合性の向上効果が飽和する。また、ステンレス箔が過度に薄くなり、好ましくない。よって、Saは、0.50μm~3.00μmの範囲とする。Saは、好ましくは0.80μm以上、より好ましくは1.00μm以上である。
ISO 25178に規定されるパラメータStr:0.20~1.00
Strは、ISO 25178に規定される面粗さパラメータの一種であり、表面性状のアスペクト比を表すものである。なお、表面性状のアスペクト比は、表面性状の等方性・異方性を示すもので0~1.00の値をとる。表面性状のアスペクト比は、0に近いほど表面性状の異方性が強く、一方向にのびた筋目(筋状の凹凸)が多いことを示し、1.00に近いほど表面性状の等方性が強く、表面性状が方向に依存しない(筋状の凹凸が少ない)ことを示す。上述したように、耐拡散接合性を向上させるには、筋状の凹凸を低減させる必要がある。よって、Strの値が1.00に近い、すなわち、凹凸の形状が等方的であるほどよい。ここで、十分な耐拡散接合性の向上効果を得るためには、Strを0.20以上とする必要である。Strが0.20未満の場合、ステンレス箔の表面に筋状の凹凸が多く存在するため、優れた耐拡散接合性が得られない。よって、Strは、0.20~1.00の範囲とする。Strは、好ましくは0.40以上、より好ましくは0.60以上である。
なお、SaおよびStrは、ISO 25178に準拠して測定すればよい。測定装置としては、例えば、レーザー顕微鏡を用いればよい。また、SaおよびStrの測定はそれぞれ、ステンレス箔の両面において各面につき5点ずつ計10点で行い、得られた値の平均値を、当該ステンレス箔のSaおよびStrとする。
また、本発明の一実施形態に従うステンレス箔では、平均結晶粒径を15μm以上25μm以下とすることが好適である。
平均結晶粒径:15μm以上25μm以下
焼鈍を行っていない圧延ままのステンレス箔は、再結晶していない均一な加工組織を有する。このような圧延ままのステンレス箔に後述する第1の浸漬処理を施すと、ステンレス箔において溶解が均一に進行する。一方、圧延ままのステンレス箔に焼鈍を施したステンレス箔(以下、焼鈍ステンレス箔ともいう)では、再結晶した各結晶粒の境界(以下、結晶粒界ともいう)が溶解の起点となる。そのため、このような焼鈍ステンレス箔に後述する第1の浸漬処理を施すと、ステンレス箔において溶解が不均一に進行する。第1の浸漬処理においてステンレス箔の溶解が不均一に進行する場合には、溶解が均一に進行する場合に比べ、より溶解量の少ない段階からステンレス箔の表面の凹凸が生じやすい。
本発明者らが上記の知見を基に検討を重ねたところ、ステンレス箔の結晶粒のサイズを適切に制御する、具体的には、平均結晶粒径を15μm以上25μm以下の範囲に制御することによって、より少ない溶解量でステンレス箔の所望の表面性状(SaおよびStr)が得られることがわかった。溶解量が低減できれば、第1の浸漬処理における処理時間(浸漬時間)の短縮、処理温度の低下、処理液使用量の低減、および、使用済み処理液の処理費用の削減、ならびに、製品歩留まりの向上等の多くの利点が得られる。
ここで、平均結晶粒径を15μm以上にすると、結晶粒界に十分な量の欠陥が蓄積し、結晶粒界と結晶粒内の溶解特性の違いが大きくなり、上記の溶解量の低減効果が好適に得られる。一方、平均結晶粒径が25μmを超えると、単位面積当たり結晶粒界の量が減少し、上記の溶解量の低減効果が低下する。そのため、ステンレス箔の平均結晶粒径は15μm以上25μm以下とすることが好ましい。
また、ステンレス箔の平均結晶粒径は、EBSD(電子線後方散乱回折)解析によって求める。
すなわち、ステンレス箔の圧延方向と平行な断面が露出するように、ステンレス箔を樹脂に埋め込んで表面を研磨する。ついで、EBSD解析を行い、Area Fraction法に基づいて平均結晶粒径を算出する。なお、EBSD解析を行う際の視野面積は0.025mm以上確保することが望ましい。例えば、板厚0.05mmのステンレス箔の場合、視野の幅を0.5mm以上とすることが望ましい。その他の条件については常法に従えばよい。また、各結晶粒の粒径は、Area Fraction法により求めた各結晶粒の面積から円相当径を算出して求める。
また、本発明の一実施形態に係るステンレス箔の厚さは、200μm以下である。なお、ステンレス箔を排ガス浄化装置の触媒担体に使用する場合、排気抵抗を低下させる観点から、その厚さは薄いほうが有利である。そのため、本発明の一実施形態に係るステンレス箔の厚さの下限は特に限定されない。なお、排ガス浄化装置の触媒担体は、一般的な用途より苛酷な環境で使用され、ステンレス箔が切れたり折れたりするなどの問題が起こる場合がある。そのため、本発明の一実施形態に係るステンレス箔の厚さは、20μm以上とすることが好ましい。また、排ガス浄化装置の触媒担体には、優れた耐振動性や耐久性を有することが求められる場合がある。この場合には、ステンレス箔の厚さを100~200μmとすることが好ましい。一方、排ガス浄化装置の触媒担体は、高いセル密度や低背圧であることが求められる場合がある。この場合には、ステンレス箔の厚さを20~100μmとすることが好ましい。
次に、本発明の一実施形態に係るステンレス箔の製造方法について説明する。
まず、上記の成分組成を有する素材ステンレス箔を準備する。例えば、上記の成分組成を有する鋼を、転炉や電炉で溶製し、VODやAODなどで精錬後、分塊圧延や連続鋳造によりスラブとし、これを1050~1250℃に温度に加熱したのち、熱間圧延し、熱延鋼板とする。なお、上記の熱延鋼板に、熱延板焼鈍を施してもよい。また、表面のスケールや汚染物などを除去するために、上記の熱延鋼板に、グラインダーによる研磨処理やサンドブラスト処理、スチールグリッドブラスト処理、アルカリ脱脂、酸洗処理などを施してもよい。ついで、上記の熱延鋼板を冷間圧延し、任意に焼鈍と冷間圧延を繰り返し、さらに任意に仕上げ焼鈍を施すことにより、所定の厚さとした素材ステンレス箔を得ることができる。
また、ステンレス箔の平均結晶粒径を所定の範囲に制御する観点から、仕上げ焼鈍の条件、特には、仕上げ焼鈍温度および仕上げ焼鈍時間を適切に制御することが好適である。例えば、仕上げ焼鈍温度を850~950℃の範囲とし、かつ、仕上げ焼鈍時間を20~60秒の範囲に制御することが好適である。また、仕上げ焼鈍の雰囲気は、非酸化性雰囲気(例えば、HとNの混合雰囲気(体積比でH:N=75:25、露点:-50℃))とすることが好ましい。
[第1の浸漬処理(表面処理)]
ついで、上記のようにして得た素材ステンレス箔に対し、過酸化水素:0.1~20質量%、銅イオン:0.25~40質量%およびハロゲン化物イオン:1.0~30質量%を含む水溶液を処理液として、該処理液中に処理温度:20~60℃および処理時間:30~120秒の条件で浸漬する、表面処理を行う。すなわち、素材ステンレス箔の表面には、圧延時に形成された圧延方向に伸びた筋状の凹凸が存在している。上記の条件に従う表面処理を行うことにより、この筋状の凹凸を解消して、ステンレス箔の表面の凹凸の高さを増加させながら、凹凸の形状を等方的にする、具体的には、ISO 25178に規定されるパラメータSaを0.50~3.00μmとし、かつ、ISO 25178に規定されるパラメータStrを0.20~1.00とすることができる。以下、当該表面処理条件について、説明する。
まず、上記の水溶液(処理液)に含まれる各成分の機能と好適濃度について、説明する。
・過酸化水素:0.1~20質量%
上記の水溶液に含まれる過酸化水素の濃度は、0.1~20質量%とする。上記の水溶液に過酸化水素を含有させることで、表面処理反応を促進する効果がある。また、表面処理反応により生成するスマット(Cuを主要な構成元素とし、その他に、C、N、S、O、Fe、Cr、Niなどを含有する混合物)を除去しやすくする効果もある。そのため、過酸化水素の濃度は、0.1質量%以上とすることが好ましい。過酸化水素の濃度は、より好ましくは0.2質量%以上である。ただし、過酸化水素の濃度が20質量%を超えると、その効果が飽和する。そのため、過酸化水素の濃度は20質量%以下とする。過酸化水素の濃度は、好ましくは15質量%以下、より好ましくは10質量%以下、さらに好ましくは8質量%以下である。
・銅イオン:0.25~40質量%
ISO 25178に規定されるパラメータSaを0.50~3.00μmとし、かつ、ISO 25178に規定されるパラメータStrを0.20~1.00とするには、上記の水溶液に含まれる銅イオンの濃度を0.25質量%以上とする必要がある。ただし、銅イオンの濃度が40質量%を超えると、鋼板表面に付着するスマットが多くなり、次工程の第2の浸漬処理を行っても、スマットを十分に除去できなくなる。そのため、銅イオンの濃度は、0.25~40質量%とする。銅イオンの濃度は、好ましくは0.5質量%以上、より好ましくは1.0質量%以上、さらに好ましくは1.5質量%以上である。また、銅イオンの濃度は、好ましくは30質量%以下、より好ましくは20質量%以下、さらに好ましくは10質量%以下である。
・ハロゲン化物イオン:1.0~30質量%
ISO 25178に規定されるパラメータSaを0.50~3.00μmとし、かつ、ISO 25178に規定されるパラメータStrを0.20~1.00とするには上記の水溶液に含まれるハロゲン化物イオンの濃度を1.0質量%以上とする必要がある。一方、ハロゲン化物イオンの濃度が30質量%を超えると、その効果が飽和する。そのため、ハロゲン化物イオンの濃度は、1.0~30質量%とする。ハロゲン化物イオンの濃度は、好ましくは5.0質量%以上、より好ましくは10.0質量%以上である。また、ハロゲン化物イオンの濃度は、好ましくは25質量%以下、より好ましくは20質量%以下、さらに好ましくは15質量%以下である。なお、ハロゲン化物イオン源の種類については特に限定されるものではないが、例えばハロゲン化水素あるいはアルカリ金属のハロゲン化物が好ましく、塩酸または塩化ナトリウムがより好ましい。
上記の水溶液は、過酸化水素水溶液、銅イオンを供給できる銅化合物、ハロゲン化物イオンを供給できるハロゲン化物成分、および、水とを、均一になるまで攪拌することにより調製することができる。上記の水性組成物の性状については特に限定されないが、pH値は、-1.0~4.0の範囲が好ましい。pH値は、より好ましくは-0.5以上、さらに好ましくは-0.25以上、よりさらに好ましくは、0.0以上である。また、pH値は、より好ましくは3.0以下、さらに好ましくは2.5以下、よりさらに好ましくは2.0以下である。
処理温度(処理液の温度):20~60℃
処理温度は、20~60℃の範囲とする。すなわち、処理温度が20℃未満になると、反応速度が遅くなって処理効率が低下する。一方、処理温度が60℃を超えると、反応速度が過度に上昇し、表面形状の制御が困難となる。よって、処理温度は20~60℃の範囲とする。処理温度は、好ましくは25℃以上、より好ましくは30℃以上である。また、処理温度は、好ましくは55℃以下、より好ましくは50℃以下である。
処理時間(浸漬時間):30~120秒
処理時間は、30~120秒の範囲とする。すなわち、処理時間が30秒未満では十分な効果が得られず、処理時間が120秒を超えると素材ステンレス箔が過剰に溶解して歩留まりが低下する。よって、処理時間は30~120秒の範囲とする。処理時間は、好ましくは40秒以上、より好ましくは50秒以上である。また、処理時間は、好ましくは100秒以下、より好ましくは90秒以下である。
上記以外の条件については特に限定されず、常法に従えばよい。なお、上記の説明では、素材ステンレス箔を、処理液となる水溶液中に浸漬する態様の表面処理を挙げたが、素材ステンレス箔と水溶液とが接触すれば、例えば、処理液となる上記の水溶液を滴下またはスプレーするなどの形式をとることもできる。これらの場合、処理時間は、素材ステンレス箔と水溶液の接触時間となる。
[第2の浸漬処理(スマット除去処理)]
第1の浸漬処理後、素材ステンレス箔の表面にスマット(Cuを主要な構成元素とし、その他に、C、N、S、O、Fe、Cr、Niなどを含有する混合物)が生成する。これらが残存すると、製品外観の悪化や、触媒担体製造ラインの汚染を引き起こす。そこで、上記の第1の浸漬処理後、素材ステンレス箔に、スマットを除去するために第2の浸漬処理(スマット除去処理)を施す。
すなわち、上記の第1の浸漬処理後、素材ステンレス箔に、さらに第2の浸漬処理として、
(A)処理液に過酸化水素を含む酸性水溶液を使用し、処理温度および浸漬時間をそれぞれ30~60℃および5~120秒とした浸漬処理、または
(B)処理液に硝酸を含む水溶液を使用し、処理温度および浸漬時間をそれぞれ30~60℃および5~120秒とした浸漬処理、
を施す。
ここで、過酸化水素を含む酸性水溶液とは、過酸化水素と硫酸の混合水溶液が挙げられる。また、硝酸を含有する水溶液とは、硝酸水溶液が挙げられる。また、過酸化水素と硫酸の混合水溶液を使用する場合、過酸化水素の濃度は0.1~20質量%、硫酸の濃度は1.0~20質量%とすることが好ましい。さらに、硝酸水溶液を使用する場合、硝酸の濃度は1.0~40.0質量%とすることが好ましい。さらに、スマットを除去しやすくする目的で、処理液に、アルコールを加えてもよい。アルコールとしては、例えば、メタノール、エタノール、n-プロパノールなどを用いることができ、アルコールの濃度は、処理液全量を基準として0.1~5.0質量%とすればよい。特に、硝酸を含む水溶液を適用すれば、スマット除去と同時に、ステンレス箔表面が不動態化されて耐食性が高まる効果も得られるため、より好ましい。なお、過酸化水素と硫酸の混合水溶液における過酸化水素、硫酸および任意のアルコール以外の成分、ならびに、硝酸水溶液における硝酸および任意のアルコール以外の成分は、基本的に水である。
さらに、第2の浸漬処理における処理温度(処理液の温度)は、上記(A)および(B)いずれの場合も、30~60℃とすることが好適である。
加えて、処理時間(浸漬時間)は長いほど、スマット等の除去を促すが、長すぎるとその効果が飽和し、また生産性が低下する。そのため、処理時間は、上記(A)および(B)いずれの場合も、5~120秒とすることが好ましい。この場合、処理時間は、より好ましくは30秒以上である。また、処理時間は、より好ましくは90秒以下である。
なお、第2の浸漬処理の際、必要に応じて、不織布ワイパー等を用いて被処理材のステンレス鋼板の表面を擦ると、スマット等が除去され易くなる。また、上記の説明では、素材ステンレス箔を、処理液となる水溶液中に浸漬する態様の処理を挙げたが、素材ステンレス箔と水溶液とが接触すれば、例えば、処理液となる上記の水溶液を滴下またはスプレーするなどの形式をとることもできる。これらの場合、処理時間は、素材ステンレス箔と水溶液の接触時間となる。
なお、上記以外の条件については、常法に従えばよい。
・実施例1
50kg小型真空溶解炉によって溶製した表1に示す成分組成(残部はFeおよび不可避的不純物)の鋼を、1200℃に加熱後、900~1200℃の温度域で熱間圧延して厚さ:2.0mmの熱延鋼板とした。ついで、熱延鋼板を大気中、900℃、1分間の条件で焼鈍し、グラインダーで表面スケールを除去した後、厚さ:0.3mmまで冷間圧延して冷延鋼板とした。この冷延鋼板をHとNの混合雰囲気(体積比でH:N=75:25、露点:-50℃)において、900℃、20秒間の条件で焼鈍した後、さらに冷間圧延を施して厚さ:50μmの素材ステンレス箔を得た。また、一部の素材ステンレス箔に対しては、冷間圧延後、さらに、HとNの混合雰囲気(体積比でH:N=75:25、露点:-50℃)において、900℃、20秒間の条件で焼鈍(以下、仕上焼鈍ともいう)を行った(当該仕上焼鈍の有無については表2参照)。
ついで、素材ステンレス箔に、表2に示す条件の第1の浸漬処理(表面処理)および第2の浸漬処理(スマット除去処理)を施し、最終製品となるステンレス箔を得た。なお、上記の処理では、第2の浸漬処理後、ステンレス箔を純水中に浸漬して反応を停止させた。また、比較のため、鋼記号AおよびBの鋼を使用して、「表面処理無し」、「予備酸化実施、表面処理無し」および「高粗度ロール圧延実施、表面処理無し」の3種類の最終製品となるステンレス箔を製造した。
ここで、「表面処理無し」は、いずれの表面処理も行っていない素材ステンレス箔ままのものである。
「予備酸化実施、表面処理無し」は、仕上焼鈍無しの圧延ままの素材ステンレス箔を、HとNの混合雰囲気(体積比でH:N=75:25、露点:-10℃)において、950℃、30秒間の条件で焼鈍して、表面皮膜を生成させたものである。
「高粗度ロール圧延実施、表面処理無し」とは、素材ステンレス箔の製造プロセスにおいて冷間圧延を施す際、最終圧延パスにおいて表面粗度Ra:0.6μmの高粗度ワークロールを用いることにより、表面粗度を高めたものである。なお、その他の素材ステンレス箔の製造プロセスでは、最終圧延パスにおいて表面粗度Ra:0.1μmのワークロールを使用した。
かくして得られたステンレス箔について、ISO 25178に準拠してSaおよびStrを測定した。なお、測定には、レーザー顕微鏡(キーエンス社製VK-X260)を使用した。具体的には、ステンレス箔から、幅:10mm、長さ:15mmの試験片を採取し、倍率:50倍の対物レンズを用いて、上記のレーザー顕微鏡により幅:202μm、長さ:270μmの領域の表面形状のデータを測定した。得られたデータを装置付属の解析ソフト「マルチ解析アプリケーション」で解析し、SaおよびStrを求めた。フィルター設定は、フィルター種別:ガウシアン、S-フィルター:なし、F-オペレーション:なし、L-フィルター:なし、とした。同様の測定を、ステンレス箔の両面において各面につき5点ずつ計10点で行い、得られた値の平均値を、当該ステンレス箔のSaおよびStrとした。測定結果を表3に示す。なお、最終的に得られたステンレス箔の成分組成はそれぞれ、表1に記載した各鋼記号の成分組成と実質的に同じであり、いずれも本発明の一実施形態に係るステンレス箔の成分組成の範囲を満足するものであった。
また、上記のステンレス箔について、以下の方法により、(1)耐拡散接合性、(2)ろう付け性、および、(3)耐酸化性を評価した。評価結果を表3に併記する。
(1)耐拡散接合性
上記のステンレス箔から幅:7mm、長さ:100mmの試験片を2枚採取し、一方に対して波付け加工を行った。すなわち、最小曲げ半径:0.25mm、波ピッチ:3.0mm、波高さ:3.0mmの歯車状ロール2本の間を通過させることにより、波付け加工を施して波箔を作製した。この際、波付け加工を施す長さを、波箔と平箔が接する波形状の頂点が10カ所となるように調整した。その後、図4に示すように、波箔と未加工の箔(平箔)とを重ね合わせた試験体を作製してジルコニア製のセラミック板上に配置し、さらにこの試験体の上に質量32gのジルコニア製のセラミックス板の重りを載せた。図中、符号3はセラミック板である。ついで、この状態で、試験体に、5.3×10―3Pa以下の真空中で、1150℃で30分間保持する熱処理(ろう付け時の熱処理に相当する処理)を施した。この際、波箔と平箔の接点にろう材は塗布しなかった。熱処理後に得られた試験体について、島津製作所製万能引張試験機(AGS-1000B、ロードセル容量1kN)を用いて波箔と平箔を引き剥し、その際の剥離荷重を求めた。ここでは、10カ所ある波箔と平箔の接点それぞれにおける最大剥離荷重を測定し、これら10点の平均値を剥離荷重とした。そして、以下の基準により耐拡散接合性を評価した。
◎(合格、特に優れている):剥離荷重<0.20kgf
○(合格):0.20kgf≦剥離荷重<0.40kgf
×(不合格):0.40kgf≦剥離荷重
(2)ろう付け性
JIS Z 3191に規定されるろう広がり試験を行った。なお、ろう付け時の雰囲気は5.3×10―3Pa以下の真空中とし、ろう材には、JIS Z 3265に規定されるBNi-5(Ni-20Cr-10Si)を用いた。すなわち、上記のステンレス箔から50mm角の試験片を採取し、それぞれにろう材を0.1g塗布した。ついで、試験片をろう付け炉の内部に挿入し、1150℃で30分間加熱した後に、炉冷する、ろう付け熱処理を行った。その後、試験片をろう付け炉から取り出して、ろう材部の面積(ろう材の広がり面積)を測定した。同様の測定をステンレス箔ごとに3回行い、ろう材部の面積の平均値を算出して、以下の基準によりろう付け性を評価した。
○(合格):ろう材部の面積の平均値が200mm以上
×(不合格):ろう材部の面積の平均値が200mm未満
(3)耐酸化性
上記のステンレス箔に、1150℃で30分間保持する熱処理(ろう付け時の熱処理に相当する処理)を5.3×10―3Pa以下の真空中で行った。熱処理後のステンレス箔から、幅:20mm×長さ:30mmの試験片を3枚採取した。これらの試験片に、大気雰囲気中、1100℃で400時間保持する熱処理を施し、3枚の試験片で測定される酸化増量の平均値を求めた。そして、以下の基準により、耐酸化性を評価した。なお、酸化増量は、熱処理前後での質量変化(増加)量(g)を、熱処理前の試験片の表面積(m)で除した値である。
◎(合格、優れている):酸化増量の平均値が10.0g/m以下
○(合格):酸化増量の平均値が10.0g/m超15.0g/m以下
×(不合格):酸化増量の平均値が15.0g/m
Figure 0007126105000001
Figure 0007126105000002
Figure 0007126105000003
表3に示すように、発明例ではいずれも、優れた耐拡散接合性とろう付け性とを両立できており、高温での耐酸化性にも優れていた。
一方、比較例ではいずれも、耐拡散接合性、ろう付け性および耐酸化性のうちの少なくとも1つが十分ではなかった。
・実施例2
表1の鋼記号A、B、EおよびLについて、実施例1と同じ条件で、厚さ:50μmの素材ステンレス箔を得た。また、一部の素材ステンレス箔に対しては、冷間圧延後、さらに、HとNの混合雰囲気(体積比でH:N=75:25、露点:-50℃)において、表4に示す条件で仕上焼鈍を行った。
ついで、これらの素材ステンレス箔に、表4に示す条件の第1の浸漬処理(表面処理)および第2の浸漬処理(スマット除去処理)を施し、最終製品となるステンレス箔を得た。なお、上記の処理では、第2の浸漬処理後、ステンレス箔を純水中に浸漬して反応を停止させた。
かくして得られたステンレス箔について、マイクロメーターで厚さを測定した。また、実施例1と同じ要領で、SaおよびStrを測定した。さらに、上述した要領で、平均結晶粒径を測定した。測定結果を表5に併記する。表5の結晶粒径の欄の「測定不能」は、EBSD(電子線後方散乱回折)解析において結晶粒界が観察されず、平均結晶粒径を測定できなかったことを意味する。なお、最終的に得られたステンレス箔の成分組成はそれぞれ、表1に記載した各鋼記号の成分組成と実質的に同じであり、いずれも本発明の一実施形態に係るステンレス箔の成分組成の範囲を満足するものであった。
また、上記のステンレス箔について、実施例1と同じ方法により、(1)耐拡散接合性、(2)ろう付け性、および、(3)耐酸化性を評価した。評価結果を表5に併記する。
Figure 0007126105000004
Figure 0007126105000005
表5に示すように、発明例ではいずれも、優れた耐拡散接合性とろう付け性とを両立できており、高温での耐酸化性にも優れていた。
なかでも、平均結晶粒径が15μm以上25μm以下である発明例No.2-4、2-5、2-10、2-11、2-14および2-17ではいずれも、第1の浸漬処理におけるステンレス箔の溶解量を低減しつつ(最終製品のステンレス箔の厚さを45μm以上確保する、換言すれば、ステンレス箔の厚さの減少量を5μm以下に抑制しつつ)、特に優れた耐拡散接合性と優れたろう付け性とを両立できており、高温での耐酸化性にも優れていた。
1 平箔
2 波箔
3 セラミック板

Claims (4)

  1. 質量%で、
    C:0.020%以下、
    Si:1.0%以下、
    Mn:1.0%以下、
    P:0.040%以下、
    S:0.004%以下、
    Cr:16.0~30.0%、
    Al:2.00~6.50%、
    N:0.020%以下および
    Ni:0.50%以下
    であり、さらに、
    Ti:0.30%以下、
    Zr:0.20%以下、
    Hf:0.20%以下および
    REM:0.20%以下
    のうち少なくとも1種を含有し、
    残部がFeおよび不可避的不純物である成分組成を有し、
    ISO 25178に規定されるパラメータSaが0.50~3.00μmであり、かつ、ISO 25178に規定されるパラメータStrが0.20~1.00である、
    排ガス浄化装置の触媒担体用ステンレス箔。
  2. 前記成分組成が、さらに質量%で、
    Cu:0.10%以下、
    Nb:0.30%以下、
    V:0.30%以下、
    Ca:0.0100%以下、
    Mg:0.0100%以下および
    B:0.0050%以下
    のうち少なくとも1種を含有する、請求項1に記載の排ガス浄化装置の触媒担体用ステンレス箔。
  3. 前記成分組成が、さらに、MoおよびWのうち少なくとも1種を含有し、MoおよびWの合計含有量が6.0質量%以下である、請求項1または2に記載の排ガス浄化装置の触媒担体用ステンレス箔。
  4. 平均結晶粒径が15μm以上25μm以下である、請求項1~3のいずれかに記載の排ガス浄化装置の触媒担体用ステンレス箔。
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