JP7115807B2 - プラズモン粒子表面コーティングを有する可撓性基材、及びその製造方法 - Google Patents
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Description
関連出願の相互参照
本出願は、２０１６年１２月１９日に出願された米国特許仮出願第６２／４３６０７２号の優先権を主張するものであり、その開示の全容が、参照により本明細書に組み込まれる。
本出願は、２０１６年１２月１９日に出願された米国特許仮出願第６２／４３６０７２号の優先権を主張するものであり、その開示の全容が、参照により本明細書に組み込まれる。
粒子集合体の整列又は配向は、付与し得る総体的特性のための一般的に所望の構造であり、整列又は配向した粒子集合体の多くの実施形態が知られている。例えば、自己組織化して配向した酸化亜鉛ナノワイヤの配列は、室温紫外線レーザー発光を示すことが、例えば、Ｈｕａｎｇ，Ｍ．Ｈ．らの「Ｒｏｏｍ－Ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ Ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ Ｎａｎｏｗｉｒｅ Ｎａｎｏｌａｓｅｒｓ」（Ｓｃｉｅｎｃｅ，２９２，Ｎｏ．５５２３，１８９７～１８９９頁、２００１年）にて報告されている。黒体と最も類似した挙動をする垂直に整列した単層カーボンナノチューブのフォレストは、非常に広範囲のスペクトル範囲（０．２～２００マイクロメートル（μｍ））にわたってほぼ完全に光を吸収することが、例えば、Ｍｉｚｕｎｏ，Ｋ．らの「Ａ Ｂｌａｃｋ Ｂｏｄｙ Ａｂｓｏｒｂｅｒ Ｆｒｏｍ Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｓｉｎｇｌｅ－Ｗａｌｌｅｄ Ｃａｒｂｏｎ Ｎａｎｏｔｕｂｅｓ」（Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ ｏｆ ｔｈｅ Ｎａｔｉｏｎａｌ Ａｃａｄｅｍｙ ｏｆ Ｓｃｉｅｎｃｅｓ ｏｆ ｔｈｅ Ｕｎｉｔｅｄ Ｓｔａｔｅｓ ｏｆ Ａｍｅｒｉｃａ（ＰＮＡＳ），１０６（１５），６０４４～６０４７頁、２００９年）にて報告されている。ヤモリの足は、５０万近くのケラチン毛又は剛毛を有し、各剛毛が０．２～０．５μｍのヘラ形状構造体の中に数百の突起状先端を含むことが、例えば、Ａｕｔｕｍｎ，Ｋ．らの「Ａｄｈｅｓｉｖｅ Ｆｏｒｃｅ ｏｆ ａ Ｓｉｎｇｌｅ Ｇｅｃｋｏ Ｆｏｏｔ－Ｈａｉｒ」（Ｎａｔｕｒｅ，４０５，６８１～６８５頁、２０００年）にて報告されており、そこでは、剛毛の巨視的配向及び予荷重は、付着力を材料の摩擦測定値の６００倍を上回るほど増加させた。コーティングされた研磨製品における整列形状の研磨グレインは、例えば、米国特許第８，６８５，１２４（Ｂ２）号（Ｄａｖｉｄら）にて報告されている。
整列又は配向した粒子集合体の製造方法もまた、当該技術分野において知られている。例えば、垂直に整列した単層カーボンナノチューブ（フォレスト）は、ウォーターアシシト化学蒸着（ＣＶＤ）「スーパーグロース」により、７５０℃にて、炭素源としてエチレン、並びに触媒エンハンサー及び防腐剤として水とともにケイ素基材上で合成されることが、例えば、Ｍｉｚｕｎｏ，Ｋ．らの「Ａ Ｂｌａｃｋ Ｂｏｄｙ Ａｂｓｏｒｂｅｒ Ｆｒｏｍ Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｓｉｎｇｌｅ－Ｗａｌｌｅｄ Ｃａｒｂｏｎ Ｎａｎｏｔｕｂｅｓ」（Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ ｏｆ ｔｈｅ Ｎａｔｉｏｎａｌ Ａｃａｄｅｍｙ ｏｆ Ｓｃｉｅｎｃｅｓ ｏｆ ｔｈｅ Ｕｎｉｔｅｄ Ｓｔａｔｅｓ ｏｆ Ａｍｅｒｉｃａ（ＰＮＡＳ），１０６（１５），６０４４～６０４７頁、２００９年）にて報告されている。テトラキス（ジエチルアミノジチオカルバマト（diethylaminodithiocarbomato））モリブデン（ＩＶ）をベースにした単一源前駆体の蒸発により合成された、縁配向したＭｏＳ２ナノシートは、例えば、Ｚｈａｎｇ，Ｈ．らの「Ｓｕｒｆａｃｅ Ｍｏｄｉｆｉｃａｔｉｏｎ Ｓｔｕｄｉｅｓ ｏｆ Ｅｄｇｅ－Ｏｒｉｅｎｔｅｄ Ｍｏｌｙｂｄｅｎｕｍ Ｓｕｌｆｉｄｅ Ｎａｎｏｓｈｅｅｔｓ」（Ｌａｎｇｍｕｉｒ，２０，６９１４～６９２０頁、２００４年）にて報告されている。しかし、これらの方法は、（３００℃以上）を伴う高温加工条件が故に、熱的に安定な基材に制限され、ガス又は蒸気源からの、粒子の直接成長を伴う。
代替法は、予め形成された粒子の整列を含んでもよく、高温（３００℃以上）を必要としない場合もあり、又は粒子の直接成長を伴わない場合もある。例えば、対向する主表面の１つにメーク層を有するバッキングに粒子を適用して、静電力により粒子をメーク層に付着させる方法は、例えば、米国特許第８，７７１，８０１（Ｂ２）号（Ｍｏｒｅｎら）にて報告されている。静電フロック加工を、平面基材上に垂直に整列した高密度な配列の炭素繊維（ＣＦ）を製造するために使用することは、例えば、Ｕｅｔａｎｉ，Ｋ．らの「Ｅｌａｓｔｏｍｅｒｉｃ Ｔｈｅｒｍａｌ Ｉｎｔｅｒｆａｃｅ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｗｉｔｈ Ｈｉｇｈ Ｔｈｒｏｕｇｈ－Ｐｌａｎｅ Ｔｈｅｒｍａｌ Ｃｏｎｄｕｃｔｉｖｉｔｙ Ｆｒｏｍ Ｃａｒｂｏｎ Ｆｉｂｅｒ Ｆｉｌｌｅｒｓ Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ ｂｙ Ｅｌｅｃｔｒｏｓｔａｔｉｃ Ｆｌｏｃｋｉｎｇ」（Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，２６，５８５７～５８６２頁、２０１４年）にて報告されている。しかし、静電フロック加工プロセス中の高圧放電は、通常の線毛状発火の危険性があり、一般に、粒径が小さくなるにつれて、爆発の激しさは大きくなりやすい。繊維フロックの発火は、Ｗｏｒｓｆｏｌｄ，Ｓ．Ｍ．らの「Ｒｅｖｉｅｗ ｏｆ ｔｈｅ Ｅｘｐｌｏｓｉｂｉｌｉｔｙ ｏｆ Ｎｏｎｔｒａｄｉｔｉｏｎａｌ Ｄｕｓｔｓ」（Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ＆Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ Ｒｅｓｅａｒｃｈ，５１，７６５１～７６５５頁、２０１２年）にて、近年のフロック製造プラントにおける少なくとも１つの爆発原因として報告されている。
更なる整列又は配向した粒子集合体、並びに粒子の整列又は配向のみを超える機能を追加した整列又は配向したた粒子集合体を含む、整列又は配向した粒子集合体の製造方法が望まれている。
一態様では、本開示は、第１主表面を有するポリマー基材を含む物品であって、第１主表面は、第１主表面に付着した複数の二次元粒子（例えば、粘土（バーミキュライトを含む）粒子、ガラス粒子、窒化ホウ素粒子、炭素粒子、二硫化モリブデン粒子、又はオキシ塩化ビスマス粒子のうちの少なくとも１つ）を含み、複数の二次元粒子が、集団的外表面と、集団的外表面の少なくとも一部分の上のプラズモン材料（例えば、金、銀、銅、白金、ルテニウム、ニッケル、パラジウム、ロジウム、イリジウム、クロム、アルミニウム、鉄、スズ、鉛、亜鉛、これらの組み合わせ（例えば、白金及びルテニウムの層、又は共堆積）、又はこれらの合金（例えば、Ｐｔ－Ｆｅ合金）のうちの少なくとも１つ）を含む層とを有しており、複数の粒子が、各々外表面を有し、粒子の数の少なくとも５０％（いくつかの実施形態では、５５％、６０％、６５％、７０％、７５％、８０％、８５％、９０％、又は更には少なくとも９５％）において、個々の粒子の少なくとも２０％（いくつかの実施形態では、少なくとも２５％、３０％、３５％、４０％、４５％、５０％、５５％、６０％、６５％、７０％、７５％、８０％、８５％、９０％、又は更には少なくとも９５％）の、ポリマー基材の第１主表面から５度～１７５度の範囲の接線角（いくつかの実施形態では、１０度～１７０度、１５度～１６５度、２０度～１６０度、２５度～１５５度、３０度～１５０度、３５度～１４５度、４０度～１４０度、４５度～１３５度、５０度～１３０度、５５度～１２５度、６０度～１２０度、６５度～１１５度、７０度～１１０度、７５度～１０５度、８０度～１００度の範囲、又は更には８５度～９５度の範囲の少なくとも１つの接線角）を有する点からなる表面エリアがある、物品について記載する。いくつかの実施形態では、二次元粒子は、誘電体粒子である。いくつかの実施形態では、誘電体層は、複数の粒子とプラズモン材料との間に配置される。粒子は平面状であっても非平面状であってもよい。
別の態様では、本開示は、物品であって、第１主表面を有するポリマー基材であって、ポリマー基材の第１主表面上に結合層（すなわち、接着を促進するもので、必ずしも接着剤ではない層）を有するポリマー基材と、結合層に付着し、集団的外表面、及び集団的外表面の少なくとも一部分の上にプラズモン材料（例えば、金、銀、銅、白金、ルテニウム、ニッケル、パラジウム、ロジウム、イリジウム、クロム、アルミニウム、鉄、スズ、鉛、亜鉛、これらの組み合わせ（例えば、白金及びルテニウムの層、又は共堆積）、又はこれらの合金（例えば、Ｐｔ－Ｆｅ合金）のうちの少なくとも１つ）を含む層を有する複数の二次元粒子（例えば、粘土（バーミキュライトを含む）粒子、ガラス粒子、窒化ホウ素粒子、炭素粒子、二硫化モリブデン粒子、又はオキシ塩化ビスマス粒子のうちの少なくとも１つ）と、を含み、粒子の各々が外表面を有しており、粒子の数の少なくとも５０％（いくつかの実施形態では、５５％、６０％、６５％、７０％、７５％、８０％、８５％、９０％、又は更には少なくとも９５％）において、個々の粒子の少なくとも２０％（いくつかの実施形態では、少なくとも２５％、３０％、３５％、４０％、４５％、５０％、５５％、６０％、６５％、７０％、７５％、８０％、８５％、９０％、又は更には少なくとも９５％）の、ポリマー基材の第１主表面から５度～１７５度の範囲の接線角（いくつかの実施形態では、１０度～１７０度、１５度～１６５度、２０度～１６０度、２５度～１５５度、３０度～１５０度、３５度～１４５度、４０度～１４０度、４５度～１３５度、５０度～１３０度、５５度～１２５度、６０度～１２０度、６５度～１１５度、７０度～１１０度、７５度～１０５度、８０度～１００度の範囲、又は更には８５度～９５度の範囲の少なくとも１つの接線角）を有する点からなる表面エリアがある、物品について記載する。いくつかの実施形態では、二次元粒子は、誘電体粒子である。いくつかの実施形態では、誘電体層は、複数の粒子とプラズモン材料との間に配置される。粒子は平面状であっても非平面状であってもよいで。
別の態様では、本開示は、粒子を配向させる方法について記載し、上記方法は、
複数の粒子（例えば、粘土（バーミキュライトを含む）粒子、ガラス粒子、窒化ホウ素粒子、炭素粒子、二硫化モリブデン粒子、オキシ塩化ビスマス粒子、及びこれらの組み合わせ）をポリマー基材（例えば、熱収縮性フィルム、エラストマーフィルム、エラストマー繊維、又は熱収縮性チューブ）の主表面に適用して、ポリマー基材の主表面上に、コーティングであって、コーティングが複数の粒子を含み、粒子の各々が独立してポリマー基材の主表面から鋭角を有するものである、コーティングを設けることと、
コーティングされたポリマー基材を位置関係的に緩和させること（例えば、加熱を介するもの、張力除去を介するもの）であって、緩和させると、粒子の数の少なくとも５０％（いくつかの実施形態では、５５％、６０％、６５％、７０％、７５％、８０％、８５％、９０％、又は更には少なくとも９５％）が、少なくとも５度より大きく（いくつかの実施形態では、少なくとも１０度より大きく、１５度より大きく、２０度より大きく、２５度より大きく、３０度より大きく、３５度より大きく、４０度より大きく、４５度より大きく、５０度より大きく、５５度より大きく、６０度より大きく、６５度より大きく、７０度より大きく、７５度より大きく、８０度より大きく、又は更には少なくとも８５度より大きく）、ポリマー基材の第１主表面から離れて鋭角を変化させ、粒子が集団的外表面を有する、緩和させることと、
集団的外表面の少なくとも一部分の上に、プラズモン材料（例えば、金、銀、銅、白金、ルテニウム、ニッケル、パラジウム、ロジウム、イリジウム、クロム、アルミニウム、鉄、スズ、鉛、亜鉛、これらの組み合わせ（例えば、白金及びルテニウムの層、又は共堆積）、又はこれらの合金（例えば、Ｐｔ－Ｆｅ合金）のうちの少なくとも１つ）を含む層を堆積させることと、を含む。いくつかの実施形態では、方法は本明細書に記載された物品を提供する。いくつかの実施形態では、粒子は、一次元又は二次元粒子である。いくつかの実施形態では、粒子は、誘電体粒子である。いくつかの実施形態では、誘電体層は、複数の粒子とプラズモン材料との間に配置される。粒子は平面状であっても非平面状であってもよい。
複数の粒子（例えば、粘土（バーミキュライトを含む）粒子、ガラス粒子、窒化ホウ素粒子、炭素粒子、二硫化モリブデン粒子、オキシ塩化ビスマス粒子、及びこれらの組み合わせ）をポリマー基材（例えば、熱収縮性フィルム、エラストマーフィルム、エラストマー繊維、又は熱収縮性チューブ）の主表面に適用して、ポリマー基材の主表面上に、コーティングであって、コーティングが複数の粒子を含み、粒子の各々が独立してポリマー基材の主表面から鋭角を有するものである、コーティングを設けることと、
コーティングされたポリマー基材を位置関係的に緩和させること（例えば、加熱を介するもの、張力除去を介するもの）であって、緩和させると、粒子の数の少なくとも５０％（いくつかの実施形態では、５５％、６０％、６５％、７０％、７５％、８０％、８５％、９０％、又は更には少なくとも９５％）が、少なくとも５度より大きく（いくつかの実施形態では、少なくとも１０度より大きく、１５度より大きく、２０度より大きく、２５度より大きく、３０度より大きく、３５度より大きく、４０度より大きく、４５度より大きく、５０度より大きく、５５度より大きく、６０度より大きく、６５度より大きく、７０度より大きく、７５度より大きく、８０度より大きく、又は更には少なくとも８５度より大きく）、ポリマー基材の第１主表面から離れて鋭角を変化させ、粒子が集団的外表面を有する、緩和させることと、
集団的外表面の少なくとも一部分の上に、プラズモン材料（例えば、金、銀、銅、白金、ルテニウム、ニッケル、パラジウム、ロジウム、イリジウム、クロム、アルミニウム、鉄、スズ、鉛、亜鉛、これらの組み合わせ（例えば、白金及びルテニウムの層、又は共堆積）、又はこれらの合金（例えば、Ｐｔ－Ｆｅ合金）のうちの少なくとも１つ）を含む層を堆積させることと、を含む。いくつかの実施形態では、方法は本明細書に記載された物品を提供する。いくつかの実施形態では、粒子は、一次元又は二次元粒子である。いくつかの実施形態では、粒子は、誘電体粒子である。いくつかの実施形態では、誘電体層は、複数の粒子とプラズモン材料との間に配置される。粒子は平面状であっても非平面状であってもよい。
粒子をカールさせる方法であって、上記方法は、
複数の二次元粒子（例えば、粘土（バーミキュライトを含む）粒子、ガラス粒子、窒化ホウ素粒子、炭素粒子、二硫化モリブデン粒子、又はオキシ塩化ビスマス粒子のうちの少なくとも１つ）をポリマー基材（例えば、熱収縮性フィルム、エラストマーフィルム、エラストマー繊維、又は熱収縮性チューブ）の主表面に適用して、ポリマー基材の主表面上に、コーティングであって、コーティングが複数の粒子を含む、コーティングを設けることと、
コーティングされたポリマー基材を位置関係的に緩和させること（例えば、加熱を介するもの、張力除去を介するもの）であって、粒子の各々が外表面を有しており、緩和させると、粒子の数の少なくとも５０％（いくつかの実施形態では、５５％、６０％、６５％、７０％、７５％、８０％、８５％、９０％又は更には少なくとも９５％）において、個々の粒子の少なくとも２０％（いくつかの実施形態では、少なくとも２５％、３０％、３５％、４０％、４５％、５０％、５５％、６０％、６５％、７０％、７５％、８０％、８５％、９０％、又は更には少なくとも９５％）の、少なくとも５度より大きく（いくつかの実施形態では、少なくとも１０度より大きく、１５度より大きく、２０度より大きく、２５度より大きく、３０度より大きく、３５度より大きく、４０度より大きく、４５度より大きく、５０度より大きく、５５度より大きく、６０度より大きく、６５度より大きく、７０度より大きく、７５度より大きく、８０度より大きく、又は更には少なくとも８５度より大きく）ポリマー基材の主表面から変化させる接線角を有する点からなる表面エリアがあり、粒子が集団的外表面を有する、緩和させることと、
集団的外表面の少なくとも一部分の上に、プラズモン材料（例えば、金、銀、銅、白金、ルテニウム、ニッケル、パラジウム、ロジウム、イリジウム、クロム、アルミニウム、鉄、スズ、鉛、亜鉛、これらの組み合わせ（例えば、白金及びルテニウムの層、又は共堆積）、又はこれらの合金（例えば、Ｐｔ－Ｆｅ合金）のうちの少なくとも１つ）を含む層を堆積させることと、を含む。いくつかの実施形態では、二次元粒子は、誘電体粒子である。いくつかの実施形態では、誘電体層は、複数の粒子とプラズモン材料との間に配置される。粒子は平面状であっても非平面状であってもよい。
複数の二次元粒子（例えば、粘土（バーミキュライトを含む）粒子、ガラス粒子、窒化ホウ素粒子、炭素粒子、二硫化モリブデン粒子、又はオキシ塩化ビスマス粒子のうちの少なくとも１つ）をポリマー基材（例えば、熱収縮性フィルム、エラストマーフィルム、エラストマー繊維、又は熱収縮性チューブ）の主表面に適用して、ポリマー基材の主表面上に、コーティングであって、コーティングが複数の粒子を含む、コーティングを設けることと、
コーティングされたポリマー基材を位置関係的に緩和させること（例えば、加熱を介するもの、張力除去を介するもの）であって、粒子の各々が外表面を有しており、緩和させると、粒子の数の少なくとも５０％（いくつかの実施形態では、５５％、６０％、６５％、７０％、７５％、８０％、８５％、９０％又は更には少なくとも９５％）において、個々の粒子の少なくとも２０％（いくつかの実施形態では、少なくとも２５％、３０％、３５％、４０％、４５％、５０％、５５％、６０％、６５％、７０％、７５％、８０％、８５％、９０％、又は更には少なくとも９５％）の、少なくとも５度より大きく（いくつかの実施形態では、少なくとも１０度より大きく、１５度より大きく、２０度より大きく、２５度より大きく、３０度より大きく、３５度より大きく、４０度より大きく、４５度より大きく、５０度より大きく、５５度より大きく、６０度より大きく、６５度より大きく、７０度より大きく、７５度より大きく、８０度より大きく、又は更には少なくとも８５度より大きく）ポリマー基材の主表面から変化させる接線角を有する点からなる表面エリアがあり、粒子が集団的外表面を有する、緩和させることと、
集団的外表面の少なくとも一部分の上に、プラズモン材料（例えば、金、銀、銅、白金、ルテニウム、ニッケル、パラジウム、ロジウム、イリジウム、クロム、アルミニウム、鉄、スズ、鉛、亜鉛、これらの組み合わせ（例えば、白金及びルテニウムの層、又は共堆積）、又はこれらの合金（例えば、Ｐｔ－Ｆｅ合金）のうちの少なくとも１つ）を含む層を堆積させることと、を含む。いくつかの実施形態では、二次元粒子は、誘電体粒子である。いくつかの実施形態では、誘電体層は、複数の粒子とプラズモン材料との間に配置される。粒子は平面状であっても非平面状であってもよい。
本願において：
「アスペクト比」とは、粒子の最長寸法の、粒子の最短寸法に対する比のことである。
「誘電体層」とは、誘電体材料を含む（すなわち、印加された界の所与の周波数で正の実数誘電率を有する）層を意味する。
「誘電体材料」とは、印加された電界の所与の周波数で正の実数誘電率を呈する材料を意味する。
「プラズモン材料」とは、印加された電界の所与の周波数で負の実数誘電率を呈する材料を意味する。プラズモン材料は、概ね、時間変動電界（例えば、電磁放射線）において電子密度の量子化された集団的振動（すなわち、プラズモン）を発生させることができる電荷キャリアを有する。
「プラズモン」とは、自由電子密度の（離散的な数の）振動を総称的に意味する。
「接線角」とは、粒子の外表面上の任意の所与の点における接平面と、粒子が付着している基材の主表面との間の角度を意味し、粒子自体の体積の大部分はこの角度内に含まれない。
図１Ｃを参照すると、上にプラズモン材料１１４Ｂを有する粒子１１３Ｂは、位置関係的に緩和されたポリマー基材１１０の第１主表面１１１に付着している。接平面１１７Ｂは、粒子１１３Ｂの外表面１１５Ｂ上の点１１６Ｂに接した平面である。点１１６Ｂにおける接線角α１Ｂは、接平面１１７Ｂからポリマー基材１１０の第１主表面１１１への角度であって、この角度内に粒子１１３Ｂの大部分は含まれない。接線角α１Ｂは、ポリマー基材１１０の第１主表面１１１から５度～１７５度の範囲であることができる。基面１１８Ｂは、粒子１１３Ｂの厚さと直交し、粒子１１３Ｂの厚さを二分する平面である。粒子１１３Ｂの鋭角α２Ｂは、基面１１８Ｂからポリマー基材１１０の第１主表面１１１への角度である。
図２Ｃを参照すると、上にプラズモン材料２１４Ｂ２を有する粒子２１３Ｂ２は、ポリマー基材２１０の第１主表面２１１に付着している。接平面２１７Ｂ２は、粒子２１３Ｂ２の表面２１５Ｂ２上の点２１６Ｂ２に接した平面である。点２１６Ｂ２における接線角α２Ｂ２は、接平面２１７Ｂ２からポリマー基材２１０の第１主表面２１１への角度であって、この角度内に粒子２１３Ｂ２の大部分は含まれない。接線角α２Ｂ２は、ポリマー基材２１０の第１主表面２１１から５度～１７５度の範囲であることができる。
図２Ｄを参照すると、粒子２１３Ｂ１は、ポリマー基材２１０の第１主表面２１１に付着している。接平面２１７Ｂ１は、粒子２１３Ｂ１の表面２１５Ｂ１上の点２１６Ｂ１に接した平面である。点２１６Ｂ１における接線角α２Ｂ１は、接平面２１７Ｂ１からポリマー基材２１０の第１主表面２１１への角度であって、粒子の大部分ではなく、粒子の一部分が含まれる（すなわち、角度内に粒子の大部分は含まれない）接線角の一例である。接平面２２７Ｂ３は、粒子２１３Ｂ１の表面２１５Ｂ１上の点２２６Ｂ３に接した平面である。点２２６Ｂ３における接線角α２Ｂ３は、接平面２２７Ｂ３からポリマー基材２１０の第１主表面２１１への角度であって、この角度内に粒子２１３Ｂ１の大部分は含まれない。接線角α２Ｂ１及びα２Ｂ３は、独立して、ポリマー基材２１０の第１主表面２１１から５度～１７５度の範囲であることができる。粒子２１３Ｂ１の２つの厚さは、２３０Ｂ１及び２３１Ｂ１として示される。
「二次元粒子」とは、長さ、幅及び厚さを有し、幅が長さ以下であり、幅が厚さより大きく、長さが少なくとも厚さの２倍である、粒子を意味する。変更可能な厚さを有する粒子において、粒子の厚さは、厚さの最大値として算出される。非平面状粒子において、粒子の最小（体積）境界囲み枠の長さ、幅及び厚さとして定義された、粒子の囲み枠の長さ、囲み枠の幅、及び囲み枠の厚さは、粒子が「二次元」である場合の算出に使用され、囲み枠の幅は囲み枠の長さ以下であり、囲み枠の幅は囲み枠の厚さよりも大きく、囲み枠の長さは囲み枠の厚さの少なくとも２倍である。いくつかの実施形態では、長さは幅よりも大きい。いくつかの実施形態では、長さは幅の少なくとも２倍、３倍、４倍、５倍、又は更には１０倍である。いくつかの実施形態では、幅は厚さの少なくとも２倍、３倍、４倍、５倍、又は更には１０倍である。非平面状粒子の長さは、非平面状粒子の囲み枠の長さとする。粒子の実際の厚さ（複数可）は、例えば、図２Ｄで厚さ２３０Ｂ１及び２３１Ｂ１として示されるように、実際の粒子の厚さを横断する点の間として測定される。
粒子の「最小（体積）境界囲み枠」は、完全に粒子を包含する、最も小さい体積を有する直方体であり、「Ｆａｓｔ ｏｒｉｅｎｔｅｄ ｂｏｕｎｄｉｎｇ ｂｏｘ ｏｐｔｉｍｉｚａｔｉｏｎ ｏｎ ｔｈｅ ｒｏｔａｔｉｏｎ ｇｒｏｕｐ ＳＯ（３，Ｒ）」，Ｃｈａｎｇ，ｅｔ ａｌ．，ＡＣＭ Ｔｒａｎｓａｃｔｉｏｎｓ ｏｎ Ｇｒａｐｈｉｃｓ，３０（５），ｐｐ．１２２（２００１）に記載の「ＨＹＢＢＲＩＤ」アルゴリズムを使用して計算することができ、その開示は、参照により本明細書に組み込まれる。「ＨＹＢＢＲＩＤ」（ハイブリッド境界囲み枠回転同定（Hybrid Bounding Box Rotation Identification））アルゴリズムは、２つの最適化構成要素、すなわち遺伝的アルゴリズム及びＮｅｌｄｅｒ－Ｍｅａｄアルゴリズムの組み合わせによる一連の点の最小－体積境界囲み枠の近似である。例えば、図３を参照すると、最小（体積）境界囲み枠３００中の（非平面状）粒子２１３Ｂ２の断面図である。
「鋭角」とは、二次元粒子の基面又は一次元粒子の長軸と、基材の第１主表面との間の鋭角のことである。粒子が非平面状である場合、粒子の最小（体積）境界囲み枠の表面を使用して、粒子の基面を求める。粒子の基面は、粒子の厚さ方向と直交し、粒子の厚さを二分する平面であり、非平面状粒子においては、最小（体積）境界囲み枠の厚さが使用される。
「一次元粒子」とは、長さ、幅及び厚さを有し、長さが幅の少なくとも２倍であり、厚さが幅以下であり、幅が厚さの２倍未満である、粒子を意味する。
粒子、特にミリメートル未満の桁の粒子を整列させるために本明細書で記載される方法の実施形態は、概ね、従来の方法よりも相対的に大きい処理量及び低い加工温度を有する。粒子を整列させるために本明細書で記載される方法の実施形態は更に、概ね、可燃性又は爆発性粒子を整列させること、を含む、従来の方法よりも高い粒子組成の自由度も提供する。粒子を整列させるために本明細書で記載される方法の実施形態は更に、概ね、整列した粒子の新規の構造物も可能にする。
理論に束縛されるものではないが、プラズモン材料上に吸着された分子は、プラズモン材料を用いない従来の測定から予想されるよりも高いラマン散乱、高い蛍光シグナル、及び高い赤外線吸収を示す傾向があり、環境におけるそのような分子の検出に対する感度がより高くなる。プラズモン材料の高曲率の鋭い表面特徴部及びエリアは、入射電磁放射線とカップリングした局在表面プラズモン共鳴を介して、局在電磁場を強く強化することが知られている。いくつかの実施形態では、垂直に配向した二次元誘電体材料は、プラズモン材料がコーティングされ得る高曲率縁部を提供し、したがって、より低い曲率の平坦な表面上にコーティングされたプラズモン材料と比較した場合に、表面プラズモン共鳴効果を向上させると考えられる。
本明細書に記載される物品は、例えば、検体の存在を特定するために有用であり、場合によっては、物品のプラズモン材料と接触しているマトリックス中に存在する検体の量を求めるために有用である。
本開示はまた：
本明細書に記載の物品と、
検体の存在を分光学的に（例えば、表面増強ラマン散乱、表面増強蛍光、又は表面増強赤外吸収）特定するため、物品を使用するための使用説明書と、
を含む、キットを提供する。
本明細書に記載の物品と、
検体の存在を分光学的に（例えば、表面増強ラマン散乱、表面増強蛍光、又は表面増強赤外吸収）特定するため、物品を使用するための使用説明書と、
を含む、キットを提供する。
本開示はまた、検体の存在を分光学的に特定する方法であって、
対象検体を本明細書に記載の物品に吸着させることと、
吸着された検体に電磁放射線を（例えば、レーザーを介して）照射することと、
照射され吸着された検体の電磁散乱スペクトル、電磁反射スペクトル、電磁発光スペクトル、又は電磁吸収スペクトルのうちの少なくとも１つを得ることと、
スペクトルを分析して、照射され吸着された検体の電磁散乱、電磁反射、電磁発光、又は電磁吸収特性のそれぞれを特定することと、
を含む、方法を提供する。例えば、検体からの一連の特徴的なラマン散乱帯域の存在により、試料体積中の検体の存在、又は更には量を示すことができる。
対象検体を本明細書に記載の物品に吸着させることと、
吸着された検体に電磁放射線を（例えば、レーザーを介して）照射することと、
照射され吸着された検体の電磁散乱スペクトル、電磁反射スペクトル、電磁発光スペクトル、又は電磁吸収スペクトルのうちの少なくとも１つを得ることと、
スペクトルを分析して、照射され吸着された検体の電磁散乱、電磁反射、電磁発光、又は電磁吸収特性のそれぞれを特定することと、
を含む、方法を提供する。例えば、検体からの一連の特徴的なラマン散乱帯域の存在により、試料体積中の検体の存在、又は更には量を示すことができる。
図１Ａを参照すると、粒子１１３Ａを含む粒子は、位置関係的緩和前にポリマー基材１１０の第１主表面１１１上にある。図１Ｂを参照すると、粒子１１３Ｂを含む粒子は、位置関係的緩和後にポリマー基材１１０の第１主表面１１１上にある。
図１Ｃを参照すると、上にプラズモン材料１１４Ｂを有する粒子１１３Ｂは、位置関係的に緩和されたポリマー基材１１０の第１主表面１１１に付着している。接平面１１７Ｂは、粒子１１３Ｂの表面１１５Ｂ上の点１１６Ｂに接した平面である。点１１６Ｂにおける接線角α１Ｂは、接平面１１７Ｂからポリマー基材１１０の第１主表面１１１への角度であって、この角度内に粒子１１３Ｂの大部分は含まれない。接線角α１Ｂは、ポリマー基材１１０の第１主表面１１１から５度～１７５度の範囲であることができる。基面１１８Ｂは、粒子１１３Ｂの厚さと直交し、粒子１１３Ｂの厚さを二分する平面である。粒子１１３Ｂの鋭角α２Ｂは、基面１１８Ｂからポリマー基材１１０の第１主表面１１１への角度である。
図２Ａを参照すると、粒子２１３Ａ１及び２１３Ａ２を含む粒子は、位置関係的緩和前にポリマー基材２１０の第１主表面２１１上にある。図２Ｂを参照すると、粒子２１３Ｂ１及び２１３Ｂ２を含む粒子は、基材の位置関係的緩和後にポリマー基材２１０の第１主表面２１１上にある。粒子２１３Ａ１、２１３Ａ２などの少なくともいくつかを、位置関係的緩和前にカールさせること（例えば、図２Ｂ及び図２Ｃにて粒子２１３Ｂ２と示されるように）、その後の位置関係的緩和で、基材２１０の第１主表面に対して配向させる（すなわち、緩和後に例えば、図２Ｄにて粒子２１３Ｂ１のように配向させる）ことも本開示の範囲内である。粒子２１３Ａ１、２１３Ａ２などの少なくともいくつかを、基材２１０の第１主表面２１１に対して配向することなく（すなわち、例えば、図２Ｂ及び図２Ｃにおける粒子２１３Ｂ２が示すように）、位置関係的緩和後にカールさせることも本開示の範囲内である。
図２Ｃを参照すると、上にプラズモン材料２１４Ｂ２を有する粒子２１３Ｂ２は、ポリマー基材２１０の第１主表面２１１に付着している。接平面２１７Ｂ２は、粒子２１３Ｂ２の表面２１５Ｂ２上の点２１６Ｂ２に接した平面である。点２１６Ｂ２における接線角α２Ｂ２は、接平面２１７Ｂ２からポリマー基材２１０の第１主表面２１１への角度であって、この角度内に粒子２１３Ｂ２の大部分は含まれない。接線角α２Ｂ２は、ポリマー基材２１０の第１主表面２１１から５度～１７５度の範囲であることができる。
図２Ｄを参照すると、粒子２１３Ｂ１は、ポリマー基材２１０の第１主表面２１１に付着している。接平面２１７Ｂ１は、粒子２１３Ｂ１の表面２１５Ｂ１上の点２１６Ｂ１に接した平面である。点２１６Ｂ１における接線角α２Ｂ１は、接平面２１７Ｂ１からポリマー基材２１０の第１主表面２１１への角度であって、この角度内に粒子２１３Ｂ１の大部分は含まれない。接平面２２７Ｂ３は、粒子２１３Ｂ１の表面２１５Ｂ１上の点２２６Ｂ３に接した平面である。点２２６Ｂ３における接線角α２Ｂ３は、接平面２２７Ｂ３からポリマー基材２１０の第１主表面２１１への角度であって、この角度内に粒子２１３Ｂ１の大部分は含まれない。接線角α２Ｂ１及びα２Ｂ３は、独立して、ポリマー基材２１０の第１主表面２１１から５度～１７５度の範囲であることができる。粒子２１３Ｂ１の２つの厚さは、２３０Ｂ１及び２３１Ｂ１として示される。
図３を参照すると、最小（体積）境界囲み枠３００の断面は、（上にプラズモン材料を有さない）粒子２１３Ｂ２の断面を含む。基面３１０は、粒子２１３Ｂ２の囲み枠の厚さと直交し、粒子２１３Ｂ２の囲み枠の厚さを二分する平面である。
例示的なポリマー基材としては、熱収縮性フィルム、エラストマーフィルム、エラストマー繊維、及び熱収縮性チューブが挙げられる。一般的に、基材は、位置関係的に緩和可能な性質を持つが、位置関係的に緩和可能とは、材料の少なくとも一寸法が緩和プロセス中にひずみの低減を受ける、性質を意味する。例えば、延伸された状態のエラストマー材料は、位置関係的に緩和可能であるが、緩和プロセスとは弾性材における伸び又はひずみの解放のことである。熱収縮材料の場合、熱エネルギーを材料に対して供給し、熱収縮材料中で配向から誘起されたひずみの解放を可能にする。熱収縮性材料の例としては、ポリオレフィン、ポリウレタン、ポリスチレン、ポリビニルクロライド、ポリ（エチレン－ビニルアセテート）、フルオロポリマー（例えば、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、合成フルオロエラストマー（例えば、「ＶＩＴＯＮ」の商品名でＤｕｐｏｎｔ（Ｗｉｌｍｉｎｇｔｏｎ，ＤＥ）から入手可能）、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、フッ素化エチレンプロピレン（ＦＥＰ））、シリコーンゴム、及びポリアクリレートが挙げられる。他の有用なポリマー基材材料の例は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンオキシド（ＰＥＯ）、ポリ（１，４－ブタジエン）、ポリテトラヒドロフラン、ポリ（２－メチル（methly）－２－オキサゾリン）、ポリノルボルネン及びこれらの組み合わせのブロックコポリマーなどの形状記憶ポリマーである。エラストマー材料の例としては、天然及び合成ゴム、フルオロエラストマー、シリコーンエラストマー、ポリウレタン、及びポリアクリレートが挙げられる。
本明細書に記載された物品のいくつかの実施形態では、ポリマー基材の第１主表面と複数の粒子との間に結合層が配置される。いくつかの実施形態では、結合層は連続層である（すなわち、層は、層の１つの主表面から別の主表面まで伸びる開口部を全く含まない）。いくつかの実施形態では、結合層は不連続層である（すなわち、層は、層の１つの主表面から別の主表面まで伸びる少なくとも１つの開口部を含む）。例えば、いくつかの不連続層は、層の至るところに開口部を有する、連続的なマトリックスを有する。いくつかの不連続層は、層を構成する多数の不連続部分（例えば、結合材料の島状のもの）を含む。
結合層は、粒子層と、位置関係的に変化するポリマー基材との間の、接着を促進する、任意の数の層を包含する。いくつかの実施形態では、層は、硬化性アクリレート、エポキシ又はウレタン樹脂などの接着剤であってもよい。結合層のその他の例としては、更に、ポリアクリレート、天然及び合成ゴム、ポリウレタン、ラテックス及び樹脂変性シリコーンなどの材料からなることができる感圧接着剤、可融性フィルム（例えば、結晶性オレフィン及びポリアクリレート）、並びに柔軟な材料（例えば、ポリアクリレート及びポリアクリルアミドのハイドロゲル）が挙げられる。結合層は、例えば、ポリマー基材、粒子、又はその両方との接着を促進するために官能基を組み込んだフィルム材料であってもよい。官能化フィルムの例としては、Ｈｏｎｅｙｗｅｌｌ（Ｍｏｒｒｉｓｖｉｌｌｅ，ＮＪ）から「ＡＣ ＲＥＳＩＮＳ」の商品名にて入手可能なものなどのマレエート化ポリエチレンが挙げられる。
結合層は、ソルベントコーティング、ホットメルトコーティング、転写ラミネート加工、カーテンコーティング、グラビアコーティング、ステンシル印刷、蒸着、及びエアゾール噴霧などの積層法又は堆積法を含む、当該技術分野において公知の技術により設けられてもよい。
いくつかの実施形態では、粒子は、誘電体材料である。例示的な誘電体粒子としては、粘土（バーミキュライトを含む）粒子、ガラス粒子、窒化ホウ素粒子、炭素粒子、二硫化モリブデン粒子、オキシ塩化ビスマス粒子及びこれらの組み合わせが挙げられる。好適な粘土粒子（バーミキュライト）は、例えば、Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｖｅｒｍｉｃｕｌｉｔｅ Ｃｏｒｐ．，Ｅｎｏｒｅｅ，ＳＣから商品名「ＭＩＣＲＯＬＩＴＥ ＰＯＷＤＥＲ ＶＥＲＭＩＣＵＬＩＴＥ ＤＩＳＰＥＲＳＩＯＮ」で入手可能である。好適なガラスフレークは、例えば、Ｇｌａｓｓ Ｆｌａｋｅ Ｌｔｄ．（Ｌｅｅｄｓ，Ｗｅｓｔ Ｙｏｒｋｓｈｉｒｅ，ＵＫ）から商品名「ＥＣＲ ＧＬＡＳＳＦＬＡＫＥ ＧＦ００１」で入手可能である。好適な窒化ホウ素粒子は、例えば、Ａｌｄｒｉｃｈ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．，Ｉｎｃ．（Ｍｉｌｗａｕｋｅｅ，ＷＩ）から入手可能である。好適な炭素粒子は、例えば、ＸＧ Ｓｃｉｅｎｃｅｓ（Ｌａｎｓｉｎｇ，ＭＩ）から「ＸＧＮＰ－Ｍ－５」の商品名で入手可能である。好適な二硫化モリブデン粒子は、例えば、Ｄｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ Ｃｏｒｐ．（Ｍｉｄｌａｎｄ，ＭＩ）から「ＭＯＬＹＫＯＴＥ Ｚ」の商品名で入手可能である。好適なオキシ塩化ビスマス粒子は、例えば、Ａｌｆａ Ｉｎｏｒｇａｎｉｃｓ（Ｂｅｖｅｒｌｙ，ＭＡ）から入手可能である。
いくつかの実施形態では、粒子は各々、１μｍ超の長さを有する。いくつかの実施形態では、粒子は、１μｍ～５０μｍの範囲の最大寸法（いくつかの実施形態では、１μｍ～２５μｍ、又は更には２μｍ～１５μｍの範囲）の最大寸法を有する。
いくつかの実施形態では、粒子は、３００ｎｍ以下（いくつかの実施形態では、２５０ｎｍ以下、２００ｎｍ以下、又は更には１５０ｎｍ以下、いくつかの実施形態では、１００ｎｍ～２００ｎｍの範囲）の厚さを有する。
いくつかの実施形態では、粒子は、少なくとも２：１より大きい（いくつかの実施形態では、少なくとも３：１より大きい、４：１より大きい、５：１より大きい、１０：１より大きい、１５：１より大きい、２０：１より大きい、２５：１より大きい、５０：１より大きい、７５：１より大きい、１００：１より大きい、２５０：１より大きい、５００：１より大きい、７５０：１より大きい、又は更には少なくとも１０００：１より大きい）アスペクト比を有する。いくつかの実施形態では、粒子の数の少なくとも５０％（いくつかの実施形態では、５５％、６０％、６５％、７０％、７５％、８０％、８５％、９０％、又は更には少なくとも９５％）において、個々の粒子の少なくとも２０％（いくつかの実施形態では、少なくとも２５％、３０％、３５％、４０％、４５％、５０％、５５％、６０％、６５％、７０％、７５％、８０％、８５％、９０％、又は更には少なくとも９５％）の、ポリマー基材の第１主表面から５度～１７５度の範囲の接線角（いくつかの実施形態では、１０度～１７０度、１５度～１６５度、２０度～１６０度、２５度～１５５度、３０度～１５０度、３５度～１４５度、４０度～１４０度、４５度～１３５度、５０度～１３０度、５５度～１２５度、６０度～１２０度、６５度～１１５度、７０度～１１０度、７５度～１０５度、８０度～１００度の範囲、又は更には８５度～９５度の範囲の少なくとも１つの角度）を有する点からなる表面エリアがある。
プラズモン材料は、概ね、プラズモンを生成することができる電荷キャリアを有する。表面プラズモンは、プラズモンと誘電体材料との間の界面に存在し、例えば、入射電磁放射線によって励起することができる。表面プラズモン共鳴は、表面プラズモンの固有周波数が入射電磁放射線周波数と一致する場合に発生し、局在電界の増強をもたらし、これによりプラズモン材料表面上に吸着された分子の検出が可能になる。
いくつかの実施形態では、プラズモン材料は、紫外波長範囲の少なくとも１つの波長（すなわち、１０ｎｍ～４００ｎｍの範囲の少なくとも１つの波長）のプラズモン材料である。このようなプラズモン材料の例としては、パラジウム、ニッケル、ロジウム、クロム、アルミニウム、亜鉛、これらの組み合わせ、又はこれらの合金のうちの少なくとも１つが挙げられる。いくつかの実施形態では、プラズモン材料は、可視波長範囲の少なくとも１つの波長（すなわち、４００ｎｍ～７００ｎｍの範囲の少なくとも１つの波長）のプラズモン材料である。このようなプラズモン材料の例としては、金、銀、銅、クロム、アルミニウム、パラジウム、ロジウム、ニッケル、亜鉛、鉄、これらの組み合わせ、又はこれらの合金のうちの少なくとも１つが挙げられる。いくつかの実施形態では、プラズモン材料は、赤外波長範囲の少なくとも１つの波長（すなわち、７００ｎｍ～１ｍｍの範囲の少なくとも１つの波長）のプラズモン材料である。このようなプラズモン材料の例としては、銀、銅、金、スズ、鉛、鉄、白金、ルテニウム、ニッケル、パラジウム、ロジウム、イリジウム、これらの組み合わせ、又はこれらの合金のうちの少なくとも１つが挙げられる。
いくつかの実施形態では、プラズモン材料を含む層は、少なくとも１０ｎｍ（いくつかの実施形態では、少なくとも１５ｎｍ、２０ｎｍ、２５ｎｍ、３０ｎｍ、４０ｎｍ、５０ｎｍ、１００ｎｍ、２００ｎｍ、２５０ｎｍ、又は更には少なくとも３００ｎｍ以上、いくつかの実施形態では、２５ｎｍ～３００ｎｍ、２５ｎｍ～２５０ｎｍ、３０ｎｍ～２００ｎｍ、３０ｎｍ～１５０ｎｍ、４０ｎｍ～２００ｎｍ、又は更には４０ｎｍ～１５０ｎｍの範囲）の平面等価厚（すなわち、実質的に平坦な平面基材上の厚さ）を有する。
いくつかの実施形態では、プラズモン材料を含む層は、連続的である（すなわち、層は、層の１つの主表面から別の主表面まで伸びる開口部を全く含まない）。いくつかの実施形態では、プラズモン材料を含む層は、不連続的である（すなわち、層は、層の１つの主表面から別の主表面まで伸びる少なくとも１つの開口部を含む）。
いくつかの実施形態では、誘電体層は、プラズモン材料と複数の粒子との間に配置される。誘電体層は、誘電体材料を含む（すなわち、印加された界の所与の周波数で正の実数誘電率を有する）層である。例示的な誘電体層としては、酸化物、炭化物、窒化物、カルコゲニド、又はポリマーのうちの少なくとも１つが挙げられる。例示的な酸化物としては、シリカ、アルミナ、ジルコニア、又はチタニアのうちの少なくとも１つが挙げられる。例示的な炭化物としては、炭化ケイ素、炭化ホウ素、又は遷移金属炭化物のうちの少なくとも１つ（例えば、炭化鉄、炭化タングステン、炭化チタン、又は炭化ジルコニウムのうちの少なくとも１つ）。例示的な窒化物としては、窒化ホウ素、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、窒化ガリウム、窒化インジウム、又は遷移金属窒化物のうちの少なくとも１つ（例えば、窒化チタン、窒化鉄、窒化銅、窒化ジルコニウム、又は窒化タングステンのうちの少なくとも１つ）が挙げられる。例示的なカルコゲニドとしては、モノカルコゲニド（例えば、硫化亜鉛、セレン化亜鉛、硫化カドミウム、セレン化カドミウム、又はテルル化カドミウムのうちの少なくとも１つ）又はジカルコゲニド（例えば、二硫化チタン、二セレン化チタン、二テルル化チタン、二硫化モリブデン、二セレン化モリブデン、二硫化タングステン、又は二セレン化タングステンのうちの少なくとも１つ）のうちの少なくとも１つが挙げられる。酸化物層、炭化物層、窒化物層、又はカルコゲニド層の堆積は、例えば、物理蒸着、化学蒸着、溶融塩合成、又はゾル－ゲル合成を含む、当該技術分野における技術を使用して適用されてもよい。誘電体ポリマー層としては、例えば、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、フッ素化エチレン－プロピレン（ＦＥＰ）、ペルフルオロアルコキシポリマー（ＰＦＡ）、ペルフルオロエラストマー、ポリオレフィン、ポリウレタン、ポリスチレン、ポリビニルクロライド、ポリ（エチレン－ビニルアセテート）、ポリアクリレート、ポリアクリルアミド、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンオキシド（ＰＥＯ）、ポリ（１，４－ブタジエン）、ポリテトラヒドロフラン、ポリ（２－メチル（methly）－２－オキサゾリン）、ポリノルボルネン、及びこれらの組み合わせのブロックコポリマーが挙げられる。誘電体ポリマー層の堆積は、例えば、フルオロポリマーラテックス溶液を粒子上に噴霧して、溶媒を乾燥させて、粒子の表面上にフルオロポリマーコーティングを残すことにより適用されてもよい。フルオロポリマー堆積を設けることができるフルオロポリマースプレーの一例は、例えば、ＤｕＰｏｎｔから「ＴＥＦＬＯＮ ＮＯＮ－ＳＴＩＣＫ ＤＲＹ ＦＩＬＭ ＬＵＢＲＩＣＡＮＴ ＡＥＲＯＳＯＬ ＳＰＲＡＹ」の商品名で入手可能である。低エネルギー表面を付与するのに使用してもよい他の誘電体ポリマー材料としては、シリコーン（例えば、シリコーンオイル、シリコーングリース、シリコーンエラストマー、シリコーン樹脂、及びシリコーンコーキング材）が挙げられる。ポリマー層堆積は、ソルベントコーティング、ホットメルトコーティング、転写ラミネート加工、カーテンコーティング、グラビアコーティング、ステンシル印刷、蒸着、及びエアゾール噴霧を含む、多数のコーティング法、積層法又は堆積法を介して適用されてもよい。
いくつかの実施形態では、誘電体層は連続層である（すなわち、層は、層の１つの主表面から別の主表面まで伸びる開口部を全く含まない）。いくつかの実施形態では、誘電体層は不連続層である（すなわち、層は、層の１つの主表面から別の主表面まで伸びる少なくとも１つの開口部を含む）。例えば、いくつかの不連続層は、層の至るところに開口部を有する、連続的なマトリックスを有する。いくつかの不連続層は、層を構成する多数の不連続部分（例えば、材料の島状のもの）を含む。上に複数の粒子を有するポリマー基材を位置関係的に緩和させることができ、例えば、加熱、及び／又は張力を除去することを介して、粒子の数の少なくとも５０％（いくつかの実施形態では、５５％、６０％、６５％、７０％、７５％、８０％、８５％、９０％、又は更には少なくとも９５％）が、少なくとも５より大きく（いくつかの実施形態では、少なくとも１０より大きく、１５より大きく、２０より大きく、２５より大きく、３０より大きく、３５より大きく、４０より大きく、４５より大きく、５０より大きく、５５より大きく、６０より大きく、６５より大きく、７０より大きく、７５より大きく、８０より大きく、又は更には少なくとも８５より大きく）、第１主表面から離れて鋭角を変化させることができる。例えば予め延伸されたエラストマー基材は、延伸された状態で基材を保持する張力を解放することにより緩和され得る。熱収縮性基材の場合、基材は、例えば、寸法の所望の縮小が達成されるまで、加熱オーブン又は加熱流体中に置かれてもよい。
いくつかの実施形態では、コーティングされた基材は初期の長さを有し、少なくとも一つの次元で初期の長さの少なくとも２０％（いくつかの実施形態では、少なくとも２５％、３０％、４０％、５０％、６０％、７０％、又は更には少なくとも８０％）に位置関係的に緩和されている。位置関係的に緩和させると、初期の長さが高いパーセントで変化することにより、典型的には、緩和後に基材とともに粒子の配向角度に大きな変化を起こす。
本明細書に記載される物品は、例えば、検体の存在を特定するために有用であり、場合によっては、物品のプラズモン材料と接触しているマトリックス中に存在する検体の量を測定するために有用である。
本開示はまた：
本明細書に記載の物品と、
検体の存在を分光学的に（例えば、表面増強ラマン散乱、表面増強蛍光、又は表面増強赤外吸収）特定するため、物品を使用するための使用説明書と、
を含む、キットを提供する。
本明細書に記載の物品と、
検体の存在を分光学的に（例えば、表面増強ラマン散乱、表面増強蛍光、又は表面増強赤外吸収）特定するため、物品を使用するための使用説明書と、
を含む、キットを提供する。
本開示はまた、検体の存在を分光学的に特定する方法であって、
対象検体を本明細書に記載の物品に吸着させることと、
吸着された検体に電磁放射線を（例えば、レーザーを介して）照射することと、
照射され吸着された検体の電磁散乱スペクトル、電磁反射スペクトル、電磁発光スペクトル、又は電磁吸収スペクトルのうちの少なくとも１つを得ることと、
スペクトルを分析して、照射され吸着された検体の電磁散乱、電磁反射、電磁発光、又は電磁吸収特性のそれぞれを特定することと、
を含む、方法を提供する。例えば、検体からの一連の特徴的なラマン散乱帯域の存在により、試料体積中の検体の存在、又は更には量を示すことができる。
例示的実施形態
１Ａ．第１主表面を有するポリマー基材を含む物品であって、第１主表面は、第１主表面に付着した複数の二次元粒子（例えば、粘土（バーミキュライトを含む）粒子、ガラス粒子、窒化ホウ素粒子、炭素粒子、二硫化モリブデン粒子、又はオキシ塩化ビスマス粒子のうちの少なくとも１つ）を含み、複数の二次元粒子が、集団的外表面と、集団的外表面の少なくとも一部分の上のプラズモン材料（例えば、金、銀、銅、白金、ルテニウム、ニッケル、パラジウム、ロジウム、イリジウム、クロム、アルミニウム、鉄、スズ、鉛、亜鉛、これらの組み合わせ（例えば、白金及びルテニウムの層、又は共堆積）、又はこれらの合金（例えば、Ｐｔ－Ｆｅ合金）のうちの少なくとも１つ）を含む層とを有しており、粒子の数の少なくとも５０％（いくつかの実施形態では、５５％、６０％、６５％、７０％、７５％、８０％、８５％、９０％、又は更には少なくとも９５％）において、個々の粒子の少なくとも２０％（いくつかの実施形態では、少なくとも２５％、３０％、３５％、４０％、４５％、５０％、５５％、６０％、６５％、７０％、７５％、８０％、８５％、９０％、又は更には少なくとも９５％）の、ポリマー基材の第１主表面から５度～１７５度の範囲の接線角（いくつかの実施形態では、１０度～１７０度、１５度～１６５度、２０度～１６０度、２５度～１５５度、３０度～１５０度、３５度～１４５度、４０度～１４０度、４５度～１３５度、５０度～１３０度、５５度～１２５度、６０度～１２０度、６５度～１１５度、７０度～１１０度、７５度～１０５度、８０度～１００度の範囲、又は更には８５度～９５度の範囲の少なくとも１つの接線角）を有する点からなる表面エリアがある、物品。粒子は平面状であっても非平面状であってもよい。
２Ａ．粒子が各々、１μｍ超の長さを有する、例示的実施形態１Ａに記載の物品。
３Ａ．プラズモン材料が、紫外波長範囲の少なくとも１つの波長のプラズモン材料である、例示的実施形態１Ａ又は２Ａに記載の物品。
４Ａ．プラズモン材料が、パラジウム、ニッケル、ロジウム、クロム、アルミニウム、亜鉛、これらの組み合わせ、又はこれらの合金のうちの少なくとも１つである、例示的実施形態３Ａに記載の物品。
５Ａ．プラズモン材料が、可視波長範囲の少なくとも１つの波長のプラズモン材料である、例示的実施形態１Ａ～４Ａのいずれか１つに記載の物品。
６Ａ．プラズモン材料が、金、銀、銅、クロム、アルミニウム、パラジウム、ロジウム、ニッケル、亜鉛、鉄、これらの組み合わせ、又はこれらの合金のうちの少なくとも１つである、例示的実施形態５Ａに記載の物品。
７Ａ．プラズモン材料が、赤外波長の少なくとも１つの波長のプラズモン材料である、例示的実施形態１Ａ～６Ａのいずれか１つに記載の物品。
８Ａ．プラズモン材料が、銀、銅、金、スズ、鉛、鉄、白金、ルテニウム、ニッケル、パラジウム、ロジウム、イリジウム、これらの組み合わせ、又はこれらの合金のうちの少なくとも１つである、例示的実施形態７Ａに記載の物品。
９Ａ．プラズモン材料を含む層が、少なくとも１０ｎｍ（いくつかの実施形態では、少なくとも１５ｎｍ、２０ｎｍ、２５ｎｍ、３０ｎｍ、４０ｎｍ、５０ｎｍ、１００ｎｍ、２００ｎｍ、２５０ｎｍ、又は更には少なくとも３００ｎｍ以上、いくつかの実施形態では、２５ｎｍ～３００ｎｍ、２５ｎｍ～２５０ｎｍ、３０ｎｍ～２００ｎｍ、３０ｎｍ～１５０ｎｍ、４０ｎｍ～２００ｎｍ、又は更には４０ｎｍ～１５０ｎｍの範囲）の平面換算を有する、例示的実施形態１Ａ～８Ａのいずれか１つに記載の物品。
１０Ａ．プラズモン材料を含む層が、少なくとも１０ｎｍ（いくつかの実施形態では、少なくとも１５ｎｍ、２０ｎｍ、２５ｎｍ、３０ｎｍ、４０ｎｍ、又は更には少なくとも５０ｎｍ、いくつかの実施形態では、２５ｎｍ～２５０ｎｍ、３０ｎｍ～２００ｎｍ、３０ｎｍ～１５０ｎｍ、４０ｎｍ～２００ｎｍ、又は更には４０ｎｍ～１５０ｎｍの範囲）の平面等価厚を有する金を含む、例示的実施形態１Ａ～８Ａのいずれか１つに記載の物品。
１１Ａ．プラズモン材料を含む層が、少なくとも少なくとも１０ｎｍ（いくつかの実施形態では、少なくとも１５ｎｍ、２０ｎｍ、２５ｎｍ、３０ｎｍ、４０ｎｍ、５０ｎｍ、１００ｎｍ、２００ｎｍ、２５０ｎｍ、又は更には少なくとも３００ｎｍ以上）の平面等価厚を有する銀を含む、例示的実施形態１Ａ～８Ａのいずれか１つに記載の物品。
１２Ａ．金以外のプラズモン材料を含む層が、少なくとも１０ｎｍ（いくつかの実施形態では、少なくとも１５ｎｍ、２０ｎｍ、２５ｎｍ、３０ｎｍ、４０ｎｍ、５０ｎｍ、７５ｎｍ、１００ｎｍ、１５０ｎｍ、２００ｎｍ、２５０ｎｍ、又は更には少なくとも３００ｎｍ以上、いくつかの実施形態では、２５ｎｍ～３００ｎｍ、２５ｎｍ～２５０ｎｍ、３０ｎｍ～２００ｎｍ、３０ｎｍ～１５０ｎｍ、４０ｎｍ～２００ｎｍ、又は更には４０ｎｍ～１５０ｎｍの範囲）の平面等価厚を有する、例示的実施形態１Ａ～８Ａのいずれか１つに記載の物品。
１３Ａ．プラズモン材料を含む層が、連続的である、例示的実施形態１Ａ～１２Ａのいずれか１つに記載の物品。
１４Ａ．プラズモン材料を含む層が、不連続的である、例示的実施形態１Ａ～１２Ａのいずれか１つに記載の物品。
１５Ａ．粒子が、３００ｎｍ以下（いくつかの実施形態では、２５０ｎｍ以下、２００ｎｍ以下、又は更には１５０ｎｍ以下、いくつかの実施形態では、１００ｎｍ～２００ｎｍの範囲）の厚さを有する、例示的実施形態１Ａ～１４Ａのいずれか１つに記載の物品。
１６Ａ．粒子が、１μｍ～５０μｍの範囲の最大寸法（いくつかの実施形態では、１μｍ～２５μｍ、又は更には２μｍ～１５μｍの範囲の最大寸法）を有する、例示的実施形態１Ａ～１５Ａのいずれか１つに記載の物品。
１７Ａ． 粒子が誘電体材料を含む、例示的実施形態１Ａ～１６Ａのいずれか１つに記載の物品。
１８Ａ．ポリマー基材の第１主表面と複数の粒子との間に配置された結合層を更に含む、例示的実施形態１Ａ～１７Ａのいずれか１つに記載の物品。
１９Ａ．結合層が連続層である、例示的実施形態１８Ａに記載の物品。
２０Ａ．結合層が不連続層である、例示的実施形態１８Ａに記載の物品。
２１Ａ．粒子の幅の、粒子の厚さに対する比が、少なくとも２：１より大きい（いくつかの実施形態では、少なくとも３：１より大きい、４：１より大きい、５：１より大きい、１０：１より大きい、１５：１より大きい、２０：１より大きい、２５：１より大きい、５０：１より大きい、７５：１より大きい、又は更には少なくとも１００：１より大きい）、例示的実施形態１Ａ～２０Ａのいずれか１つに記載の物品。
２２Ａ．粒子が、少なくとも３：１より大きい（いくつかの実施形態では、少なくとも４：１より大きい、５：１より大きい、１０：１より大きい、１５：１より大きい、２０：１より大きい、２５：１より大きい、５０：１より大きい、７５：１より大きい、１００：１より大きい、２５０：１より大きい、５００：１より大きい、７５０：１より大きい、又は更には少なくとも１０００：１より大きい）アスペクト比を有する、例示的実施形態１Ａ～２１Ａのいずれか１つに記載の物品。
２３Ａ．複数の粒子とプラズモン材料との間に配置された誘電体層を更に含む、例示的実施形態１Ａ～２２Ａのいずれか１つに記載の物品。
２４Ａ．誘電体層が、酸化物、炭化物、窒化物、カルコゲニド、又はポリマーのうちの少なくとも１つを含む、例示的実施形態２３Ａに記載の物品。
２５Ａ．誘電体層が連続層である、例示的実施形態２３Ａ又は２４Ａのいずれかに記載の物品。
２６Ａ．誘電体層が不連続層である、例示的実施形態２３Ａ又は２４Ａのいずれかに記載の物品。
１Ｂ．物品であって、第１主表面を有するポリマー基材であって、ポリマー基材の第１主表面上に結合層を有するポリマー基材と、結合層に付着し、集団的外表面、及び集団的外表面の少なくとも一部分の上にプラズモン材料（例えば、金、銀、銅、白金、ルテニウム、ニッケル、パラジウム、ロジウム、イリジウム、クロム、アルミニウム、鉄、スズ、鉛、亜鉛、これらの組み合わせ（例えば、白金及びルテニウムの層、又は共堆積）、又はこれらの合金（例えば、Ｐｔ－Ｆｅ合金）のうちの少なくとも１つ）を含む層を有する複数の二次元粒子（例えば、粘土（バーミキュライトを含む）粒子、ガラス粒子、窒化ホウ素粒子、炭素粒子、二硫化モリブデン粒子、又はオキシ塩化ビスマス粒子のうちの少なくとも１つ）と、を含み、粒子の各々が外表面を有しており、粒子の数の少なくとも５０％（いくつかの実施形態では、５５％、６０％、６５％、７０％、７５％、８０％、８５％、９０％、又は更には少なくとも９５％）において、個々の粒子の少なくとも２０％（いくつかの実施形態では、少なくとも２５％、３０％、３５％、４０％、４５％、５０％、５５％、６０％、６５％、７０％、７５％、８０％、８５％、９０％、又は更には少なくとも９５％）の、ポリマー基材の第１主表面から５度～１７５度の範囲の接線角（いくつかの実施形態では、１０度～１７０度、１５度～１６５度、２０度～１６０度、２５度～１５５度、３０度～１５０度、３５度～１４５度、４０度～１４０度、４５度～１３５度、５０度～１３０度、５５度～１２５度、６０度～１２０度、６５度～１１５度、７０度～１１０度、７５度～１０５度、８０度～１００度の範囲、又は更には８５度～９５度の範囲の少なくとも１つの接線角）を有する点からなる表面エリアがある、物品。粒子は平面状であっても非平面状であってもよい。
２Ｂ．二次元粒子が誘電体材料を含む、例示的実施形態１Ｂに記載の物品。
３Ｂ．プラズモン材料が、紫外波長範囲の少なくとも１つの波長のプラズモン材料である、例示的実施形態１Ｂ又は２Ｂに記載の物品。
４Ｂ．プラズモン材料が、パラジウム、ニッケル、ロジウム、クロム、アルミニウム、亜鉛、これらの組み合わせ、又はこれらの合金のうちの少なくとも１つである、例示的実施形態３Ｂに記載の物品。
５Ｂ．プラズモン材料が、可視波長の少なくとも１つの波長のプラズモン材料である、例示的実施形態１Ｂ～４Ｂのいずれか１つに記載の物品。
６Ｂ．プラズモン材料が、金、銀、銅、クロム、アルミニウム、パラジウム、ロジウム、ニッケル、亜鉛、鉄、これらの組み合わせ、又はこれらの合金のうちの少なくとも１つである、例示的実施形態５Ｂに記載の物品。
７Ｂ．プラズモン材料が、赤外波長範囲の少なくとも１つの波長のプラズモン材料である、例示的実施形態１Ｂ～６Ｂいずれか１つに記載の物品。
８Ｂ．プラズモン材料が、銀、銅、金、スズ、鉛、鉄、白金、ルテニウム、ニッケル、パラジウム、ロジウム、イリジウム、これらの組み合わせ、又はこれらの合金のうちの少なくとも１つである、例示的実施形態７Ｂに記載の物品。
９Ｂ．プラズモン材料を含む層が、少なくとも１０ｎｍ（いくつかの実施形態では、少なくとも１５ｎｍ、２０ｎｍ、２５ｎｍ、３０ｎｍ、４０ｎｍ、５０ｎｍ、１００ｎｍ、２００ｎｍ、２５０ｎｍ、又は更には少なくとも３００ｎｍ以上、いくつかの実施形態では、２５ｎｍ～３００ｎｍ、２５ｎｍ～２５０ｎｍ、３０ｎｍ～２００ｎｍ、３０ｎｍ～１５０ｎｍ、４０ｎｍ～２００ｎｍ、又は更には４０ｎｍ～１５０ｎｍの範囲）の平面等価厚を有する、例示的実施形態１Ｂ～８Ｂのいずれか１つに記載の物品。
１０Ｂ．プラズモン材料を含む層が、少なくとも１０ｎｍ（いくつかの実施形態では、少なくとも１５ｎｍ、２０ｎｍ、２５ｎｍ、３０ｎｍ、４０ｎｍ、又は更には少なくとも５０ｎｍ、いくつかの実施形態では、２５ｎｍ～２５０ｎｍ、３０ｎｍ～２００ｎｍ、３０ｎｍ～１５０ｎｍ、４０ｎｍ～２００ｎｍ、又は更には４０ｎｍ～１５０ｎｍの範囲）の平面等価厚を有する金を含む、例示的実施形態１Ｂ～８Ｂのいずれか１つに記載の物品。
１１Ｂ．プラズモン材料を含む層が、少なくとも少なくとも１０ｎｍ（いくつかの実施形態では、少なくとも１５ｎｍ、２０ｎｍ、２５ｎｍ、３０ｎｍ、４０ｎｍ、５０ｎｍ、１００ｎｍ、２００ｎｍ、２５０ｎｍ、又は更には少なくとも３００ｎｍ以上）の平面等価厚を有する銀を含む、例示的実施形態１Ｂ～８Ｂのいずれか１つに記載の物品。
１２Ｂ．プラズモン材料を含む層が、少なくとも１０ｎｍ（いくつかの実施形態では、少なくとも１５ｎｍ、２０ｎｍ、２５ｎｍ、３０ｎｍ、４０ｎｍ、５０ｎｍ、７５ｎｍ、１００ｎｍ、１５０ｎｍ、２００ｎｍ、２５０ｎｍ、又は更には少なくとも３００ｎｍ以上、いくつかの実施形態では、２５ｎｍ～３００ｎｍ、２５ｎｍ～２５０ｎｍ、３０ｎｍ～２００ｎｍ、３０ｎｍ～１５０ｎｍ、４０ｎｍ～２００ｎｍ、又は更には４０ｎｍ～１５０ｎｍの範囲）の平面等価厚を有する金以外を含む、例示的実施形態１Ｂ～８Ｂのいずれか１つに記載の物品。
１３Ｂ．プラズモン材料を含む層が、連続的である、例示的実施形態１Ｂ～１２Ｂのいずれか１つに記載の物品。
１４Ｂ．プラズモン材料を含む層が、不連続的である、例示的実施形態１Ｂ～１２Ｂのいずれか１つに記載の物品。
１５Ｂ．粒子が、３００ｎｍ以下の厚さ（いくつかの実施形態では、２５０ｎｍ以下、２００ｎｍ以下、又は更には１５０ｎｍ以下、いくつかの実施形態では、１００ｎｍ～２００ｎｍの範囲の厚さ）を有する、例示的実施形態１Ｂ～１４Ｂのいずれか一つに記載の物品。
１６Ｂ． 結合層が連続層である、例示的実施形態１Ｂ～１５Ｂのいずれか一つに記載の物品。
１７Ｂ． 結合層が不連続層である、例示的実施形態１Ｂ～１５Ｂのいずれか１つに記載の物品。
１８Ｂ．結合層が接着剤を含む、例示的な実施形態１Ｂ～１７Ｂのいずれか一つに記載の物品。
１９Ｂ． 粒子が、１μｍ～５０μｍの範囲の最大寸法（いくつかの実施形態では、１μｍ～２５μｍ、又は更には２μｍ～１５μｍの範囲の最大寸法）を有する、例示的実施形態１Ｂ～１８Ｂのいずれか一つに記載の物品。
２０Ｂ． 粒子が、３００ｎｍ以下の厚さ（いくつかの実施形態では、２５０ｎｍ以下、２００ｎｍ以下、又は更には１５０ｎｍ以下、いくつかの実施形態では、１００ｎｍ～２００ｎｍの範囲の厚さ）を有する、例示的な実施形態１Ｂ～１９Ｂのいずれか一つに記載の物品。
２１Ｂ． 粒子の幅の、粒子の厚さに対する比が、少なくとも２：１より大きい（いくつかの実施形態では、少なくとも３：１より大きい、４：１より大きい、５：１より大きい、１０：１より大きい、１５：１より大きい、２０：１より大きい、２５：１より大きい、５０：１より大きい、７５：１より大きい、又は更には少なくとも１００：１より大きい）、例示的実施形態１Ｂ～２０Ｂのいずれか１つに記載の物品。
２２Ｂ．粒子が、少なくとも３：１より大きい（いくつかの実施形態では、少なくとも４：１より大きい、５：１より大きい、１０：１より大きい、１５：１より大きい、２０：１より大きい、２５：１より大きい、５０：１より大きい、７５：１より大きい、１００：１より大きい、２５０：１より大きい、５００：１より大きい、７５０：１より大きい、又は更には少なくとも１０００：１より大きい）アスペクト比を有する、例示的実施形態１Ｂ～２１Ｂのいずれか１つに記載の物品。
２３Ｂ．複数の粒子とプラズモン材料との間に配置された誘電体層を更に含む、例示的実施形態１Ｂ～２２Ｂのいずれか１つに記載の物品。
２４Ｂ．誘電体層が、酸化物、炭化物、窒化物、カルコゲニド、又はポリマーのうちの少なくとも１つを含む、例示的実施形態２３Ｂに記載の物品。
２５Ｂ．誘電体層が連続層である、例示的実施形態２３Ｂ又は２４Ｂのいずれかに記載の物品。
２６Ｂ．誘電体層が不連続層である、例示的実施形態２３Ｂ又は２４Ｂのいずれかに記載の物品。
１Ｃ．粒子を配向させる方法であって、
複数の粒子（例えば、粘土（バーミキュライトを含む）粒子、ガラス粒子、窒化ホウ素粒子、炭素粒子、二硫化モリブデン粒子、又はオキシ塩化ビスマス粒子のうちの少なくとも１つ）をポリマー基材（例えば、熱収縮性フィルム、エラストマーフィルム、エラストマー繊維、又は熱収縮性チューブ）の主表面に適用して、ポリマー基材の主表面上に、コーティングであって、コーティングが複数の粒子を含み、粒子の各々が独立してポリマー基材の主表面から鋭角を有するものである、コーティングを設けることと、
コーティングされたポリマー基材を位置関係的に緩和させること（例えば、加熱を介するもの、張力除去を介するもの）であって、緩和させると、粒子の数の少なくとも５０％（いくつかの実施形態では、５５％、６０％、６５％、７０％、７５％、８０％、８５％、９０％、又は更には少なくとも９５％）が、少なくとも５度より大きく（いくつかの実施形態では、少なくとも１０度より大きく、１５度より大きく、２０度より大きく、２５度より大きく、３０度より大きく、３５度より大きく、４０度より大きく、４５度より大きく、５０度より大きく、５５度より大きく、６０度より大きく、６５度より大きく、７０度より大きく、７５度より大きく、８０度より大きく、又は更には少なくとも８５度より大きく）、ポリマー基材の第１主表面から離れて鋭角を変化させ、粒子が集団的外表面を有する、緩和させることと、
集団的外表面の少なくとも一部分の上に、プラズモン材料（例えば、金、銀、銅、白金、ルテニウム、ニッケル、パラジウム、ロジウム、イリジウム、クロム、アルミニウム、鉄、鉛、スズ、亜鉛、これらの組み合わせ（例えば、白金及びルテニウムの層、又は共堆積）、又はこれらの合金（例えば、Ｐｔ－Ｆｅ合金）のうちの少なくとも１つ）を含む層を堆積させることと、を含む、方法。粒子は、一次元であっても二次元粒子であってもよい。粒子は平面状であっても非平面状であってもよい。
２Ｃ．粒子が、少なくとも２：１より大きい（いくつかの実施形態では、少なくとも３：１より大きい、４：１より大きい、５：１より大きい、１０：１より大きい、１５：１より大きい、２０：１より大きい、２５：１より大きい、５０：１より大きい、７５：１より大きい、１００：１より大きい、２５０：１より大きい、５００：１より大きい、７５０：１より大きい、又は更には少なくとも１０００：１より大きい）アスペクト比を有する、例示的実施形態１Ｃに記載の方法。
３Ｃ．粒子が誘電体材料を含む、例示的実施形態１Ｃ又は２Ｃに記載の方法。
４Ｃ．プラズモン材料が、紫外波長範囲の少なくとも１つの波長のプラズモン材料である、例示的実施形態１Ｃ～３Ｃのいずれか１つに記載の方法。
５Ｃ．プラズモン材料が、パラジウム、ニッケル、ロジウム、クロム、アルミニウム、亜鉛、これらの組み合わせ、又はこれらの合金のうちの少なくとも１つである、例示的実施形態４Ｃに記載の方法。
６Ｃ．プラズモン材料が、可視波長範囲の少なくとも１つの波長のプラズモン材料である、例示的実施形態１Ｃ～５Ｃのいずれか１つに記載の方法。
７Ｃ．プラズモン材料が、金、銀、銅、クロム、アルミニウム、パラジウム、ロジウム、ニッケル、亜鉛、鉄、これらの組み合わせ、又はこれらの合金のうちの少なくとも１つである、例示的実施形態６Ｃに記載の方法。
８Ｃ．プラズモン材料が、赤外波長範囲の少なくとも１つの波長のプラズモン材料である、例示的実施形態１Ｃ～７Ｃのいずれか１つに記載の方法。
９Ｃ．プラズモン材料が、銀、銅、金、スズ、鉛、鉄、白金、ルテニウム、ニッケル、パラジウム、ロジウム、イリジウム、これらの組み合わせ、又はこれらの合金のうちの少なくとも１つである、例示的実施形態８Ｃに記載の方法。
１０Ｃ．プラズモン材料を含む層が、少なくとも１０ｎｍ（いくつかの実施形態では、少なくとも１５ｎｍ、２０ｎｍ、２５ｎｍ、３０ｎｍ、４０ｎｍ、５０ｎｍ、１００ｎｍ、２００ｎｍ、２５０ｎｍ、又は更には少なくとも３００ｎｍ以上、いくつかの実施形態では、２５ｎｍ～３００ｎｍ、２５ｎｍ～２５０ｎｍ、３０ｎｍ～２００ｎｍ、３０ｎｍ～１５０ｎｍ、４０ｎｍ～２００ｎｍ、又は更には４０ｎｍ～１５０ｎｍの範囲）の平面等価厚を有する、例示的実施形態１Ｃ～９Ｃのいずれか１つに記載の方法。
１１Ｃ．プラズモン材料を含む層が、少なくとも１０ｎｍ（いくつかの実施形態では、少なくとも１５ｎｍ、２０ｎｍ、２５ｎｍ、３０ｎｍ、４０ｎｍ、又は更には少なくとも５０ｎｍ、いくつかの実施形態では、２５ｎｍ～２５０ｎｍ、３０ｎｍ～２００ｎｍ、３０ｎｍ～１５０ｎｍ、４０ｎｍ～２００ｎｍ、又は更には４０ｎｍ～１５０ｎｍの範囲）の平面等価厚を有する金を含む、例示的実施形態１Ｃ～９Ｃのいずれか１つに記載の方法。
１２Ｃ．プラズモン材料を含む層が、少なくとも少なくとも１０ｎｍ（いくつかの実施形態では、少なくとも１５ｎｍ、２０ｎｍ、２５ｎｍ、３０ｎｍ、４０ｎｍ、５０ｎｍ、１００ｎｍ、２００ｎｍ、２５０ｎｍ、又は更には少なくとも３００ｎｍ以上）の平面等価厚を有する銀を含む、例示的実施形態１Ｃ～９Ｃのいずれか１つに記載の方法。
１３Ｃ．金以外のプラズモン材料を含む層が、少なくとも１０ｎｍ（いくつかの実施形態では、少なくとも１５ｎｍ、２０ｎｍ、２５ｎｍ、３０ｎｍ、４０ｎｍ、５０ｎｍ、７５ｎｍ、１００ｎｍ、１５０ｎｍ、２００ｎｍ、２５０ｎｍ、又は更には少なくとも３００ｎｍ以上、いくつかの実施形態では、２５ｎｍ～３００ｎｍ、２５ｎｍ～２５０ｎｍ、３０ｎｍ～２００ｎｍ、３０ｎｍ～１５０ｎｍ、４０ｎｍ～２００ｎｍ、又は更には４０ｎｍ～１５０ｎｍの範囲）の平面等価厚を有する、例示的実施形態１Ｃ～９Ｃのいずれか１つに記載の方法。
１４Ｃ．プラズモン材料を含む層が、連続的である、例示的実施形態１Ｃ～１３Ｃのいずれか１つに記載の方法。
１５Ｃ．プラズモン材料を含む層が、不連続的である、例示的実施形態１Ｃ～１３Ｃのいずれか１つに記載の方法。
１６Ｃ．粒子が、３００ｎｍ以下の厚さ（いくつかの実施形態では、２５０ｎｍ以下、２００ｎｍ以下、又は更には１５０ｎｍ以下、いくつかの実施形態では、１００ｎｍ～２００ｎｍの範囲の厚さ）を有する、例示的実施形態１Ｃ～１５Ｃのいずれか１つに記載の方法。
１７Ｃ．コーティングされたポリマー基材が初期の長さを有し、少なくとも一次元で初期の長さの少なくとも２０％（いくつかの実施形態では、少なくとも２５％、３０％、４０％、５０％、６０％、７０％、又は更には少なくとも８０％）に位置関係的に緩和される、例示的実施形態１Ｃ～１６Ｃのいずれか１つに記載の方法。
１８Ｃ．粒子が、１μｍ～５０μｍの範囲の最大寸法（いくつかの実施形態では、１μｍ～２５μｍ、又は更には２μｍ～１５μｍの範囲の最大寸法）を有する、例示的実施形態１Ｃ～１７Ｃのいずれか１つに記載の方法。
１９Ｃ．ポリマー基材の第１主表面と複数の粒子との間に配置された結合層を更に含む、例示的実施形態１Ｃ～１８Ｃのいずれか１つに記載の方法。
２０Ｃ．結合層が連続層である、例示的実施形態１９Ｃに記載の方法。
２１Ｃ．結合層が不連続層である、例示的実施形態１９Ｃに記載の方法。
２２Ｃ．粒子が、３００ｎｍ以下の厚さ（いくつかの実施形態では、２５０ｎｍ以下、２００ｎｍ以下、又は更には１５０ｎｍ以下、いくつかの実施形態では、１００ｎｍ～２００ｎｍの範囲の厚さ）を有する、例示的実施形態１Ｃ～２１Ｃのいずれか１つに記載の方法。
２３Ｃ．粒子の幅の、粒子の厚さに対する比が、少なくとも２：１より大きい（いくつかの実施形態では、少なくとも３：１より大きい、４：１より大きい、５：１より大きい、１０：１より大きい、１５：１より大きい、２０：１より大きい、２５：１より大きい、５０：１より大きい、７５：１より大きい、又は更には少なくとも１００：１より大きい）、例示的実施形態１Ｃ～２２Ｃのいずれか１つに記載の方法。
２４Ｃ．複数の粒子とプラズモン材料との間に誘電体層を配置すること、を更に含む、例示的実施形態１Ｃ～２３Ｃのいずれか１つに記載の方法。
２５Ｃ．誘電体層が、酸化物、炭化物、窒化物、カルコゲニド、又はポリマーのうちの少なくとも１つを含む、例示的実施形態２４Ｃに記載の物品。
２６Ｃ．誘電体層が連続層である、例示的実施形態２４Ｃ又は２５Ｃのいずれかに記載の方法。
２７Ｃ．誘電体層が不連続層である、例示的実施形態２４Ｃ又は２５Ｃのいずれかに記載の物品。
１Ｄ．粒子をカールさせる方法であって、
複数の二次元粒子（例えば、粘土（バーミキュライトを含む）粒子、ガラス粒子、窒化ホウ素粒子、炭素粒子、二硫化モリブデン粒子、又はオキシ塩化ビスマス粒子のうちの少なくとも１つ）をポリマー基材（例えば、熱収縮性フィルム、エラストマーフィルム、エラストマー繊維、又は熱収縮性チューブ）の主表面に適用して、ポリマー基材の主表面上に、コーティングであって、コーティングが複数の粒子を含む、コーティングを設けることと、
コーティングされたポリマー基材を位置関係的に緩和させること（例えば、加熱を介するもの、張力除去を介するもの）であって、粒子の各々が外表面を有しており、緩和させると、粒子の数の少なくとも５０％（いくつかの実施形態では、５５％、６０％、６５％、７０％、７５％、８０％、８５％、９０％、又は更には少なくとも９５％）において、個々の粒子の少なくとも２０％（いくつかの実施形態では、少なくとも２５％、３０％、３５％、４０％、４５％、５０％、５５％、６０％、６５％、７０％、７５％、８０％、８５％、９０％、又は更には少なくとも９５％）の、少なくとも５度より大きく（いくつかの実施形態では、少なくとも１０度より大きく、１５度より大きく、２０度より大きく、２５度より大きく、３０度より大きく、３５度より大きく、４０度より大きく、４５度より大きく、５０度より大きく、５５度より大きく、６０度より大きく、６５度より大きく、７０度より大きく、７５度より大きく、８０度より大きく、又は更には少なくとも８５度より大きく）ポリマー基材の主表面から離れて変化させる接線角を有する点からなる表面エリアがあり、粒子が集団的外表面を有する、緩和させることと、
集団的外表面の少なくとも一部分の上に、プラズモン材料（例えば、金、銀、銅、白金、ルテニウム、ニッケル、パラジウム、ロジウム、イリジウム、クロム、アルミニウム、鉄、鉛、スズ、亜鉛、これらの組み合わせ（例えば、白金及びルテニウムの層、又は共堆積）、又はこれらの合金（例えば、Ｐｔ－Ｆｅ合金）のうちの少なくとも１つ）を含む層を堆積させることと、を含む、方法。粒子は平面状であっても非平面状であってもよい。
２Ｄ．粒子が、少なくとも３：１より大きい（いくつかの実施形態では、少なくとも４：１より大きい、５：１より大きい、１０：１より大きい、１５：１より大きい、２０：１より大きい、２５：１より大きい、５０：１より大きい、７５：１より大きい、１００：１より大きい、２５０：１より大きい、５００：１より大きい、７５０：１より大きい、又は更には少なくとも１０００：１より大きい）アスペクト比を有する、例示的実施形態１Ｄに記載の方法。
３Ｄ．二次元粒子が誘電体材料を含む、例示的実施形態１Ｄ又は２Ｄに記載の方法。
４Ｄ．プラズモン材料が、紫外波長範囲の少なくとも１つの波長のプラズモン材料である、例示的実施形態１Ｄ～３Ｄのいずれか１つに記載の方法。
５Ｄ．プラズモン材料が、パラジウム、ニッケル、ロジウム、クロム、アルミニウム、亜鉛、これらの組み合わせ、又はこれらの合金のうちの少なくとも１つである、例示的実施形態４Ｄに記載の方法。
６Ｄ．プラズモン材料が、可視波長範囲の少なくとも１つの波長のプラズモン材料である、例示的実施形態１Ｄ～５Ｄのいずれか１つに記載の方法。
７Ｄ．プラズモン材料が、金、銀、銅、クロム、アルミニウム、パラジウム、ロジウム、ニッケル、亜鉛、鉄、これらの組み合わせ、又はこれらの合金のうちの少なくとも１つである、例示的実施形態６Ｄに記載の方法。
８Ｄ．プラズモン材料が、赤外波長範囲の少なくとも１つの波長のプラズモン材料である、例示的実施形態１Ｄ～７Ｄのいずれか１つに記載の方法。
９Ｄ．プラズモン材料が、銀、銅、金、スズ、鉛、鉄、白金、ルテニウム、ニッケル、パラジウム、ロジウム、イリジウム、これらの組み合わせ、又はこれらの合金のうちの少なくとも１つである、例示的実施形態８Ｄに記載の方法。
１０Ｄ．プラズモン材料を含む層が、少なくとも１０ｎｍ（いくつかの実施形態では、少なくとも１５ｎｍ、２０ｎｍ、２５ｎｍ、３０ｎｍ、４０ｎｍ、５０ｎｍ、１００ｎｍ、２００ｎｍ、２５０ｎｍ、又は更には少なくとも３００ｎｍ以上、いくつかの実施形態では、２５ｎｍ～３００ｎｍ、２５ｎｍ～２５０ｎｍ、３０ｎｍ～２００ｎｍ、３０ｎｍ～１５０ｎｍ、４０ｎｍ～２００ｎｍ、又は更には４０ｎｍ～１５０ｎｍの範囲）の平面等価厚を有する、例示的実施形態１Ｄ～９Ｄのいずれか１つに記載の方法。
１１Ｄ．プラズモン材料を含む層が、少なくとも１０ｎｍ（いくつかの実施形態では、少なくとも１５ｎｍ、２０ｎｍ、２５ｎｍ、３０ｎｍ、４０ｎｍ、又は更には少なくとも５０ｎｍ、いくつかの実施形態では、２５ｎｍ～２５０ｎｍ、３０ｎｍ～２００ｎｍ、３０ｎｍ～１５０ｎｍ、４０ｎｍ～２００ｎｍ、又は更には４０ｎｍ～１５０ｎｍの範囲）の平面等価厚を有する金を含む、例示的実施形態１Ｄ～９Ｄのいずれか１つに記載の方法。
１２Ｄ．プラズモン材料を含む層が、少なくとも少なくとも１０ｎｍ（いくつかの実施形態では、少なくとも１５ｎｍ、２０ｎｍ、２５ｎｍ、３０ｎｍ、４０ｎｍ、５０ｎｍ、１００ｎｍ、２００ｎｍ、２５０ｎｍ、又は更には少なくとも３００ｎｍ以上）の平面等価厚を有する銀を含む、例示的実施形態１Ｄ～９Ｄのいずれか１つに記載の方法。
１３Ｄ．金以外のプラズモン材料を含む層が、少なくとも１０ｎｍ（いくつかの実施形態では、少なくとも１５ｎｍ、２０ｎｍ、２５ｎｍ、３０ｎｍ、４０ｎｍ、５０ｎｍ、７５ｎｍ、１００ｎｍ、１５０ｎｍ、２００ｎｍ、２５０ｎｍ、又は更には少なくとも３００ｎｍ以上、いくつかの実施形態では、２５ｎｍ～３００ｎｍ、２５ｎｍ～２５０ｎｍ、３０ｎｍ～２００ｎｍ、３０ｎｍ～１５０ｎｍ、４０ｎｍ～２００ｎｍ、又は更には４０ｎｍ～１５０ｎｍの範囲）の平面等価厚を有する、例示的実施形態１Ｄ～９Ｄのいずれか１つに記載の方法。
１４Ｄ．プラズモン材料を含む層が、連続的である、例示的実施形態１Ｄ～１３Ｄのいずれか１つに記載の方法。
１５Ｄ．プラズモン材料を含む層が、不連続的である、例示的実施形態１Ｄ～１３Ｄのいずれか１つに記載の方法。
１６Ｄ．粒子が、３００ｎｍ以下の厚さ（いくつかの実施形態では、２５０ｎｍ以下、２００ｎｍ以下、又は更には１５０ｎｍ以下、いくつかの実施形態では、１００ｎｍ～２００ｎｍの範囲の厚さ）を有する、例示的実施形態１Ｄ～１５Ｄのいずれか１つに記載の方法。
１７Ｄ．コーティングされたポリマー基材が初期の長さを有し、少なくとも一次元で初期の長さの少なくとも２０％（いくつかの実施形態では、少なくとも２５％、３０％、４０％、５０％、６０％、７０％、又は更には少なくとも８０％）に位置関係的に緩和される、例示的実施形態１Ｄ～１６Ｄのいずれか１つに記載の方法。
１８Ｄ．粒子が、１μｍ～５０μｍの範囲の最大寸法（いくつかの実施形態では、１μｍ～２５μｍ、又は更には２μｍ～１５μｍの範囲の最大寸法）を有する、例示的な実施形態１Ｄ又は２Ｄに記載の方法。
１９Ｄ． ポリマー基材の第１主表面と複数の粒子との間に配置された結合層を更に含む、例示的実施形態１Ｄ～１８Ｄのいずれか１つに記載の方法。
２０Ｄ．結合層が連続層である、例示的実施形態１９Ｄに記載の方法。
２１Ｄ．結合層が不連続層である、例示的実施形態１９Ｄに記載の方法。
２２Ｄ．粒子が、３００ｎｍ以下の厚さ（いくつかの実施形態では、２５０ｎｍ以下、２００ｎｍ以下、又は更には１５０ｎｍ以下、いくつかの実施形態では、１００ｎｍ～２００ｎｍの範囲の厚さ）を有する、例示的実施形態１Ｄ～２１Ｄのいずれか１つに記載の方法。
２３Ｄ．粒子の幅の、粒子の厚さに対する比が、少なくとも２：１より大きい（いくつかの実施形態では、少なくとも３：１より大きい、４：１より大きい、５：１より大きい、１０：１より大きい、１５：１より大きい、２０：１より大きい、２５：１より大きい、５０：１より大きい、７５：１より大きい、又は更には少なくとも１００：１より大きい）、例示的実施形態１Ｄ～２２Ｄのいずれか１つに記載の方法。
２４Ｄ．粒子が、少なくとも２：１より大きい（いくつかの実施形態では、少なくとも３：１より大きい、４：１より大きい、５：１より大きい、１０：１より大きい、１５：１より大きい、２０：１より大きい、２５：１より大きい、５０：１より大きい、７５：１より大きい、１００：１より大きい、２５０：１より大きい、５００：１より大きい、７５０：１より大きい、又は更には少なくとも１０００：１より大きい）アスペクト比を有する、例示的実施形態１Ｄ～２３Ｄのいずれか１つに記載の方法。
２５Ｄ．複数の粒子とプラズモン材料との間に誘電体層を配置すること、を更に含む、例示的実施形態１Ｄ～２４Ｄのいずれか１つに記載の方法。
２６Ｄ．誘電体層が、酸化物、炭化物、窒化物、カルコゲニド、又はポリマーのうちの少なくとも１つを含む、例示的実施形態２５Ｄに記載の物品。
２７Ｄ．誘電体層が連続層である、例示的実施形態２５Ｄ又は２６Ｄのいずれかに記載の方法。
２８Ｄ．誘電体層が不連続層である、例示的実施形態２５Ｄ又は２６Ｄのいずれかに記載の物品。
１Ｅ．本明細書に記載の物品と、
検体の存在を分光学的に（例えば、表面増強ラマン散乱、表面増強蛍光、又は表面増強赤外吸収）特定するため、物品を使用するための使用説明書と、
を含む、キット。
１Ｆ．検体の存在を分光学的に特定する方法であって、
対象検体を本明細書に記載の物品に吸着させることと、
吸着された検体に電磁放射線を（例えば、レーザーを介して）照射することと、
照射され吸着された検体の電磁散乱スペクトル、電磁反射スペクトル、電磁発光スペクトル、又は電磁吸収スペクトルのうちの少なくとも１つを得ることと、
スペクトルを分析して、照射され吸着された検体の電磁散乱、電磁反射、電磁発光、又は電磁吸収特性のそれぞれを特定することと、
を含む、方法。例えば、検体からの一連の特徴的なラマン散乱帯域の存在により、試料体積中の検体の存在、又は更には量を示すことができる。
対象検体を本明細書に記載の物品に吸着させることと、
吸着された検体に電磁放射線を（例えば、レーザーを介して）照射することと、
照射され吸着された検体の電磁散乱スペクトル、電磁反射スペクトル、電磁発光スペクトル、又は電磁吸収スペクトルのうちの少なくとも１つを得ることと、
スペクトルを分析して、照射され吸着された検体の電磁散乱、電磁反射、電磁発光、又は電磁吸収特性のそれぞれを特定することと、
を含む、方法を提供する。例えば、検体からの一連の特徴的なラマン散乱帯域の存在により、試料体積中の検体の存在、又は更には量を示すことができる。
例示的実施形態
１Ａ．第１主表面を有するポリマー基材を含む物品であって、第１主表面は、第１主表面に付着した複数の二次元粒子（例えば、粘土（バーミキュライトを含む）粒子、ガラス粒子、窒化ホウ素粒子、炭素粒子、二硫化モリブデン粒子、又はオキシ塩化ビスマス粒子のうちの少なくとも１つ）を含み、複数の二次元粒子が、集団的外表面と、集団的外表面の少なくとも一部分の上のプラズモン材料（例えば、金、銀、銅、白金、ルテニウム、ニッケル、パラジウム、ロジウム、イリジウム、クロム、アルミニウム、鉄、スズ、鉛、亜鉛、これらの組み合わせ（例えば、白金及びルテニウムの層、又は共堆積）、又はこれらの合金（例えば、Ｐｔ－Ｆｅ合金）のうちの少なくとも１つ）を含む層とを有しており、粒子の数の少なくとも５０％（いくつかの実施形態では、５５％、６０％、６５％、７０％、７５％、８０％、８５％、９０％、又は更には少なくとも９５％）において、個々の粒子の少なくとも２０％（いくつかの実施形態では、少なくとも２５％、３０％、３５％、４０％、４５％、５０％、５５％、６０％、６５％、７０％、７５％、８０％、８５％、９０％、又は更には少なくとも９５％）の、ポリマー基材の第１主表面から５度～１７５度の範囲の接線角（いくつかの実施形態では、１０度～１７０度、１５度～１６５度、２０度～１６０度、２５度～１５５度、３０度～１５０度、３５度～１４５度、４０度～１４０度、４５度～１３５度、５０度～１３０度、５５度～１２５度、６０度～１２０度、６５度～１１５度、７０度～１１０度、７５度～１０５度、８０度～１００度の範囲、又は更には８５度～９５度の範囲の少なくとも１つの接線角）を有する点からなる表面エリアがある、物品。粒子は平面状であっても非平面状であってもよい。
２Ａ．粒子が各々、１μｍ超の長さを有する、例示的実施形態１Ａに記載の物品。
３Ａ．プラズモン材料が、紫外波長範囲の少なくとも１つの波長のプラズモン材料である、例示的実施形態１Ａ又は２Ａに記載の物品。
４Ａ．プラズモン材料が、パラジウム、ニッケル、ロジウム、クロム、アルミニウム、亜鉛、これらの組み合わせ、又はこれらの合金のうちの少なくとも１つである、例示的実施形態３Ａに記載の物品。
５Ａ．プラズモン材料が、可視波長範囲の少なくとも１つの波長のプラズモン材料である、例示的実施形態１Ａ～４Ａのいずれか１つに記載の物品。
６Ａ．プラズモン材料が、金、銀、銅、クロム、アルミニウム、パラジウム、ロジウム、ニッケル、亜鉛、鉄、これらの組み合わせ、又はこれらの合金のうちの少なくとも１つである、例示的実施形態５Ａに記載の物品。
７Ａ．プラズモン材料が、赤外波長の少なくとも１つの波長のプラズモン材料である、例示的実施形態１Ａ～６Ａのいずれか１つに記載の物品。
８Ａ．プラズモン材料が、銀、銅、金、スズ、鉛、鉄、白金、ルテニウム、ニッケル、パラジウム、ロジウム、イリジウム、これらの組み合わせ、又はこれらの合金のうちの少なくとも１つである、例示的実施形態７Ａに記載の物品。
９Ａ．プラズモン材料を含む層が、少なくとも１０ｎｍ（いくつかの実施形態では、少なくとも１５ｎｍ、２０ｎｍ、２５ｎｍ、３０ｎｍ、４０ｎｍ、５０ｎｍ、１００ｎｍ、２００ｎｍ、２５０ｎｍ、又は更には少なくとも３００ｎｍ以上、いくつかの実施形態では、２５ｎｍ～３００ｎｍ、２５ｎｍ～２５０ｎｍ、３０ｎｍ～２００ｎｍ、３０ｎｍ～１５０ｎｍ、４０ｎｍ～２００ｎｍ、又は更には４０ｎｍ～１５０ｎｍの範囲）の平面換算を有する、例示的実施形態１Ａ～８Ａのいずれか１つに記載の物品。
１０Ａ．プラズモン材料を含む層が、少なくとも１０ｎｍ（いくつかの実施形態では、少なくとも１５ｎｍ、２０ｎｍ、２５ｎｍ、３０ｎｍ、４０ｎｍ、又は更には少なくとも５０ｎｍ、いくつかの実施形態では、２５ｎｍ～２５０ｎｍ、３０ｎｍ～２００ｎｍ、３０ｎｍ～１５０ｎｍ、４０ｎｍ～２００ｎｍ、又は更には４０ｎｍ～１５０ｎｍの範囲）の平面等価厚を有する金を含む、例示的実施形態１Ａ～８Ａのいずれか１つに記載の物品。
１１Ａ．プラズモン材料を含む層が、少なくとも少なくとも１０ｎｍ（いくつかの実施形態では、少なくとも１５ｎｍ、２０ｎｍ、２５ｎｍ、３０ｎｍ、４０ｎｍ、５０ｎｍ、１００ｎｍ、２００ｎｍ、２５０ｎｍ、又は更には少なくとも３００ｎｍ以上）の平面等価厚を有する銀を含む、例示的実施形態１Ａ～８Ａのいずれか１つに記載の物品。
１２Ａ．金以外のプラズモン材料を含む層が、少なくとも１０ｎｍ（いくつかの実施形態では、少なくとも１５ｎｍ、２０ｎｍ、２５ｎｍ、３０ｎｍ、４０ｎｍ、５０ｎｍ、７５ｎｍ、１００ｎｍ、１５０ｎｍ、２００ｎｍ、２５０ｎｍ、又は更には少なくとも３００ｎｍ以上、いくつかの実施形態では、２５ｎｍ～３００ｎｍ、２５ｎｍ～２５０ｎｍ、３０ｎｍ～２００ｎｍ、３０ｎｍ～１５０ｎｍ、４０ｎｍ～２００ｎｍ、又は更には４０ｎｍ～１５０ｎｍの範囲）の平面等価厚を有する、例示的実施形態１Ａ～８Ａのいずれか１つに記載の物品。
１３Ａ．プラズモン材料を含む層が、連続的である、例示的実施形態１Ａ～１２Ａのいずれか１つに記載の物品。
１４Ａ．プラズモン材料を含む層が、不連続的である、例示的実施形態１Ａ～１２Ａのいずれか１つに記載の物品。
１５Ａ．粒子が、３００ｎｍ以下（いくつかの実施形態では、２５０ｎｍ以下、２００ｎｍ以下、又は更には１５０ｎｍ以下、いくつかの実施形態では、１００ｎｍ～２００ｎｍの範囲）の厚さを有する、例示的実施形態１Ａ～１４Ａのいずれか１つに記載の物品。
１６Ａ．粒子が、１μｍ～５０μｍの範囲の最大寸法（いくつかの実施形態では、１μｍ～２５μｍ、又は更には２μｍ～１５μｍの範囲の最大寸法）を有する、例示的実施形態１Ａ～１５Ａのいずれか１つに記載の物品。
１７Ａ． 粒子が誘電体材料を含む、例示的実施形態１Ａ～１６Ａのいずれか１つに記載の物品。
１８Ａ．ポリマー基材の第１主表面と複数の粒子との間に配置された結合層を更に含む、例示的実施形態１Ａ～１７Ａのいずれか１つに記載の物品。
１９Ａ．結合層が連続層である、例示的実施形態１８Ａに記載の物品。
２０Ａ．結合層が不連続層である、例示的実施形態１８Ａに記載の物品。
２１Ａ．粒子の幅の、粒子の厚さに対する比が、少なくとも２：１より大きい（いくつかの実施形態では、少なくとも３：１より大きい、４：１より大きい、５：１より大きい、１０：１より大きい、１５：１より大きい、２０：１より大きい、２５：１より大きい、５０：１より大きい、７５：１より大きい、又は更には少なくとも１００：１より大きい）、例示的実施形態１Ａ～２０Ａのいずれか１つに記載の物品。
２２Ａ．粒子が、少なくとも３：１より大きい（いくつかの実施形態では、少なくとも４：１より大きい、５：１より大きい、１０：１より大きい、１５：１より大きい、２０：１より大きい、２５：１より大きい、５０：１より大きい、７５：１より大きい、１００：１より大きい、２５０：１より大きい、５００：１より大きい、７５０：１より大きい、又は更には少なくとも１０００：１より大きい）アスペクト比を有する、例示的実施形態１Ａ～２１Ａのいずれか１つに記載の物品。
２３Ａ．複数の粒子とプラズモン材料との間に配置された誘電体層を更に含む、例示的実施形態１Ａ～２２Ａのいずれか１つに記載の物品。
２４Ａ．誘電体層が、酸化物、炭化物、窒化物、カルコゲニド、又はポリマーのうちの少なくとも１つを含む、例示的実施形態２３Ａに記載の物品。
２５Ａ．誘電体層が連続層である、例示的実施形態２３Ａ又は２４Ａのいずれかに記載の物品。
２６Ａ．誘電体層が不連続層である、例示的実施形態２３Ａ又は２４Ａのいずれかに記載の物品。
１Ｂ．物品であって、第１主表面を有するポリマー基材であって、ポリマー基材の第１主表面上に結合層を有するポリマー基材と、結合層に付着し、集団的外表面、及び集団的外表面の少なくとも一部分の上にプラズモン材料（例えば、金、銀、銅、白金、ルテニウム、ニッケル、パラジウム、ロジウム、イリジウム、クロム、アルミニウム、鉄、スズ、鉛、亜鉛、これらの組み合わせ（例えば、白金及びルテニウムの層、又は共堆積）、又はこれらの合金（例えば、Ｐｔ－Ｆｅ合金）のうちの少なくとも１つ）を含む層を有する複数の二次元粒子（例えば、粘土（バーミキュライトを含む）粒子、ガラス粒子、窒化ホウ素粒子、炭素粒子、二硫化モリブデン粒子、又はオキシ塩化ビスマス粒子のうちの少なくとも１つ）と、を含み、粒子の各々が外表面を有しており、粒子の数の少なくとも５０％（いくつかの実施形態では、５５％、６０％、６５％、７０％、７５％、８０％、８５％、９０％、又は更には少なくとも９５％）において、個々の粒子の少なくとも２０％（いくつかの実施形態では、少なくとも２５％、３０％、３５％、４０％、４５％、５０％、５５％、６０％、６５％、７０％、７５％、８０％、８５％、９０％、又は更には少なくとも９５％）の、ポリマー基材の第１主表面から５度～１７５度の範囲の接線角（いくつかの実施形態では、１０度～１７０度、１５度～１６５度、２０度～１６０度、２５度～１５５度、３０度～１５０度、３５度～１４５度、４０度～１４０度、４５度～１３５度、５０度～１３０度、５５度～１２５度、６０度～１２０度、６５度～１１５度、７０度～１１０度、７５度～１０５度、８０度～１００度の範囲、又は更には８５度～９５度の範囲の少なくとも１つの接線角）を有する点からなる表面エリアがある、物品。粒子は平面状であっても非平面状であってもよい。
２Ｂ．二次元粒子が誘電体材料を含む、例示的実施形態１Ｂに記載の物品。
３Ｂ．プラズモン材料が、紫外波長範囲の少なくとも１つの波長のプラズモン材料である、例示的実施形態１Ｂ又は２Ｂに記載の物品。
４Ｂ．プラズモン材料が、パラジウム、ニッケル、ロジウム、クロム、アルミニウム、亜鉛、これらの組み合わせ、又はこれらの合金のうちの少なくとも１つである、例示的実施形態３Ｂに記載の物品。
５Ｂ．プラズモン材料が、可視波長の少なくとも１つの波長のプラズモン材料である、例示的実施形態１Ｂ～４Ｂのいずれか１つに記載の物品。
６Ｂ．プラズモン材料が、金、銀、銅、クロム、アルミニウム、パラジウム、ロジウム、ニッケル、亜鉛、鉄、これらの組み合わせ、又はこれらの合金のうちの少なくとも１つである、例示的実施形態５Ｂに記載の物品。
７Ｂ．プラズモン材料が、赤外波長範囲の少なくとも１つの波長のプラズモン材料である、例示的実施形態１Ｂ～６Ｂいずれか１つに記載の物品。
８Ｂ．プラズモン材料が、銀、銅、金、スズ、鉛、鉄、白金、ルテニウム、ニッケル、パラジウム、ロジウム、イリジウム、これらの組み合わせ、又はこれらの合金のうちの少なくとも１つである、例示的実施形態７Ｂに記載の物品。
９Ｂ．プラズモン材料を含む層が、少なくとも１０ｎｍ（いくつかの実施形態では、少なくとも１５ｎｍ、２０ｎｍ、２５ｎｍ、３０ｎｍ、４０ｎｍ、５０ｎｍ、１００ｎｍ、２００ｎｍ、２５０ｎｍ、又は更には少なくとも３００ｎｍ以上、いくつかの実施形態では、２５ｎｍ～３００ｎｍ、２５ｎｍ～２５０ｎｍ、３０ｎｍ～２００ｎｍ、３０ｎｍ～１５０ｎｍ、４０ｎｍ～２００ｎｍ、又は更には４０ｎｍ～１５０ｎｍの範囲）の平面等価厚を有する、例示的実施形態１Ｂ～８Ｂのいずれか１つに記載の物品。
１０Ｂ．プラズモン材料を含む層が、少なくとも１０ｎｍ（いくつかの実施形態では、少なくとも１５ｎｍ、２０ｎｍ、２５ｎｍ、３０ｎｍ、４０ｎｍ、又は更には少なくとも５０ｎｍ、いくつかの実施形態では、２５ｎｍ～２５０ｎｍ、３０ｎｍ～２００ｎｍ、３０ｎｍ～１５０ｎｍ、４０ｎｍ～２００ｎｍ、又は更には４０ｎｍ～１５０ｎｍの範囲）の平面等価厚を有する金を含む、例示的実施形態１Ｂ～８Ｂのいずれか１つに記載の物品。
１１Ｂ．プラズモン材料を含む層が、少なくとも少なくとも１０ｎｍ（いくつかの実施形態では、少なくとも１５ｎｍ、２０ｎｍ、２５ｎｍ、３０ｎｍ、４０ｎｍ、５０ｎｍ、１００ｎｍ、２００ｎｍ、２５０ｎｍ、又は更には少なくとも３００ｎｍ以上）の平面等価厚を有する銀を含む、例示的実施形態１Ｂ～８Ｂのいずれか１つに記載の物品。
１２Ｂ．プラズモン材料を含む層が、少なくとも１０ｎｍ（いくつかの実施形態では、少なくとも１５ｎｍ、２０ｎｍ、２５ｎｍ、３０ｎｍ、４０ｎｍ、５０ｎｍ、７５ｎｍ、１００ｎｍ、１５０ｎｍ、２００ｎｍ、２５０ｎｍ、又は更には少なくとも３００ｎｍ以上、いくつかの実施形態では、２５ｎｍ～３００ｎｍ、２５ｎｍ～２５０ｎｍ、３０ｎｍ～２００ｎｍ、３０ｎｍ～１５０ｎｍ、４０ｎｍ～２００ｎｍ、又は更には４０ｎｍ～１５０ｎｍの範囲）の平面等価厚を有する金以外を含む、例示的実施形態１Ｂ～８Ｂのいずれか１つに記載の物品。
１３Ｂ．プラズモン材料を含む層が、連続的である、例示的実施形態１Ｂ～１２Ｂのいずれか１つに記載の物品。
１４Ｂ．プラズモン材料を含む層が、不連続的である、例示的実施形態１Ｂ～１２Ｂのいずれか１つに記載の物品。
１５Ｂ．粒子が、３００ｎｍ以下の厚さ（いくつかの実施形態では、２５０ｎｍ以下、２００ｎｍ以下、又は更には１５０ｎｍ以下、いくつかの実施形態では、１００ｎｍ～２００ｎｍの範囲の厚さ）を有する、例示的実施形態１Ｂ～１４Ｂのいずれか一つに記載の物品。
１６Ｂ． 結合層が連続層である、例示的実施形態１Ｂ～１５Ｂのいずれか一つに記載の物品。
１７Ｂ． 結合層が不連続層である、例示的実施形態１Ｂ～１５Ｂのいずれか１つに記載の物品。
１８Ｂ．結合層が接着剤を含む、例示的な実施形態１Ｂ～１７Ｂのいずれか一つに記載の物品。
１９Ｂ． 粒子が、１μｍ～５０μｍの範囲の最大寸法（いくつかの実施形態では、１μｍ～２５μｍ、又は更には２μｍ～１５μｍの範囲の最大寸法）を有する、例示的実施形態１Ｂ～１８Ｂのいずれか一つに記載の物品。
２０Ｂ． 粒子が、３００ｎｍ以下の厚さ（いくつかの実施形態では、２５０ｎｍ以下、２００ｎｍ以下、又は更には１５０ｎｍ以下、いくつかの実施形態では、１００ｎｍ～２００ｎｍの範囲の厚さ）を有する、例示的な実施形態１Ｂ～１９Ｂのいずれか一つに記載の物品。
２１Ｂ． 粒子の幅の、粒子の厚さに対する比が、少なくとも２：１より大きい（いくつかの実施形態では、少なくとも３：１より大きい、４：１より大きい、５：１より大きい、１０：１より大きい、１５：１より大きい、２０：１より大きい、２５：１より大きい、５０：１より大きい、７５：１より大きい、又は更には少なくとも１００：１より大きい）、例示的実施形態１Ｂ～２０Ｂのいずれか１つに記載の物品。
２２Ｂ．粒子が、少なくとも３：１より大きい（いくつかの実施形態では、少なくとも４：１より大きい、５：１より大きい、１０：１より大きい、１５：１より大きい、２０：１より大きい、２５：１より大きい、５０：１より大きい、７５：１より大きい、１００：１より大きい、２５０：１より大きい、５００：１より大きい、７５０：１より大きい、又は更には少なくとも１０００：１より大きい）アスペクト比を有する、例示的実施形態１Ｂ～２１Ｂのいずれか１つに記載の物品。
２３Ｂ．複数の粒子とプラズモン材料との間に配置された誘電体層を更に含む、例示的実施形態１Ｂ～２２Ｂのいずれか１つに記載の物品。
２４Ｂ．誘電体層が、酸化物、炭化物、窒化物、カルコゲニド、又はポリマーのうちの少なくとも１つを含む、例示的実施形態２３Ｂに記載の物品。
２５Ｂ．誘電体層が連続層である、例示的実施形態２３Ｂ又は２４Ｂのいずれかに記載の物品。
２６Ｂ．誘電体層が不連続層である、例示的実施形態２３Ｂ又は２４Ｂのいずれかに記載の物品。
１Ｃ．粒子を配向させる方法であって、
複数の粒子（例えば、粘土（バーミキュライトを含む）粒子、ガラス粒子、窒化ホウ素粒子、炭素粒子、二硫化モリブデン粒子、又はオキシ塩化ビスマス粒子のうちの少なくとも１つ）をポリマー基材（例えば、熱収縮性フィルム、エラストマーフィルム、エラストマー繊維、又は熱収縮性チューブ）の主表面に適用して、ポリマー基材の主表面上に、コーティングであって、コーティングが複数の粒子を含み、粒子の各々が独立してポリマー基材の主表面から鋭角を有するものである、コーティングを設けることと、
コーティングされたポリマー基材を位置関係的に緩和させること（例えば、加熱を介するもの、張力除去を介するもの）であって、緩和させると、粒子の数の少なくとも５０％（いくつかの実施形態では、５５％、６０％、６５％、７０％、７５％、８０％、８５％、９０％、又は更には少なくとも９５％）が、少なくとも５度より大きく（いくつかの実施形態では、少なくとも１０度より大きく、１５度より大きく、２０度より大きく、２５度より大きく、３０度より大きく、３５度より大きく、４０度より大きく、４５度より大きく、５０度より大きく、５５度より大きく、６０度より大きく、６５度より大きく、７０度より大きく、７５度より大きく、８０度より大きく、又は更には少なくとも８５度より大きく）、ポリマー基材の第１主表面から離れて鋭角を変化させ、粒子が集団的外表面を有する、緩和させることと、
集団的外表面の少なくとも一部分の上に、プラズモン材料（例えば、金、銀、銅、白金、ルテニウム、ニッケル、パラジウム、ロジウム、イリジウム、クロム、アルミニウム、鉄、鉛、スズ、亜鉛、これらの組み合わせ（例えば、白金及びルテニウムの層、又は共堆積）、又はこれらの合金（例えば、Ｐｔ－Ｆｅ合金）のうちの少なくとも１つ）を含む層を堆積させることと、を含む、方法。粒子は、一次元であっても二次元粒子であってもよい。粒子は平面状であっても非平面状であってもよい。
２Ｃ．粒子が、少なくとも２：１より大きい（いくつかの実施形態では、少なくとも３：１より大きい、４：１より大きい、５：１より大きい、１０：１より大きい、１５：１より大きい、２０：１より大きい、２５：１より大きい、５０：１より大きい、７５：１より大きい、１００：１より大きい、２５０：１より大きい、５００：１より大きい、７５０：１より大きい、又は更には少なくとも１０００：１より大きい）アスペクト比を有する、例示的実施形態１Ｃに記載の方法。
３Ｃ．粒子が誘電体材料を含む、例示的実施形態１Ｃ又は２Ｃに記載の方法。
４Ｃ．プラズモン材料が、紫外波長範囲の少なくとも１つの波長のプラズモン材料である、例示的実施形態１Ｃ～３Ｃのいずれか１つに記載の方法。
５Ｃ．プラズモン材料が、パラジウム、ニッケル、ロジウム、クロム、アルミニウム、亜鉛、これらの組み合わせ、又はこれらの合金のうちの少なくとも１つである、例示的実施形態４Ｃに記載の方法。
６Ｃ．プラズモン材料が、可視波長範囲の少なくとも１つの波長のプラズモン材料である、例示的実施形態１Ｃ～５Ｃのいずれか１つに記載の方法。
７Ｃ．プラズモン材料が、金、銀、銅、クロム、アルミニウム、パラジウム、ロジウム、ニッケル、亜鉛、鉄、これらの組み合わせ、又はこれらの合金のうちの少なくとも１つである、例示的実施形態６Ｃに記載の方法。
８Ｃ．プラズモン材料が、赤外波長範囲の少なくとも１つの波長のプラズモン材料である、例示的実施形態１Ｃ～７Ｃのいずれか１つに記載の方法。
９Ｃ．プラズモン材料が、銀、銅、金、スズ、鉛、鉄、白金、ルテニウム、ニッケル、パラジウム、ロジウム、イリジウム、これらの組み合わせ、又はこれらの合金のうちの少なくとも１つである、例示的実施形態８Ｃに記載の方法。
１０Ｃ．プラズモン材料を含む層が、少なくとも１０ｎｍ（いくつかの実施形態では、少なくとも１５ｎｍ、２０ｎｍ、２５ｎｍ、３０ｎｍ、４０ｎｍ、５０ｎｍ、１００ｎｍ、２００ｎｍ、２５０ｎｍ、又は更には少なくとも３００ｎｍ以上、いくつかの実施形態では、２５ｎｍ～３００ｎｍ、２５ｎｍ～２５０ｎｍ、３０ｎｍ～２００ｎｍ、３０ｎｍ～１５０ｎｍ、４０ｎｍ～２００ｎｍ、又は更には４０ｎｍ～１５０ｎｍの範囲）の平面等価厚を有する、例示的実施形態１Ｃ～９Ｃのいずれか１つに記載の方法。
１１Ｃ．プラズモン材料を含む層が、少なくとも１０ｎｍ（いくつかの実施形態では、少なくとも１５ｎｍ、２０ｎｍ、２５ｎｍ、３０ｎｍ、４０ｎｍ、又は更には少なくとも５０ｎｍ、いくつかの実施形態では、２５ｎｍ～２５０ｎｍ、３０ｎｍ～２００ｎｍ、３０ｎｍ～１５０ｎｍ、４０ｎｍ～２００ｎｍ、又は更には４０ｎｍ～１５０ｎｍの範囲）の平面等価厚を有する金を含む、例示的実施形態１Ｃ～９Ｃのいずれか１つに記載の方法。
１２Ｃ．プラズモン材料を含む層が、少なくとも少なくとも１０ｎｍ（いくつかの実施形態では、少なくとも１５ｎｍ、２０ｎｍ、２５ｎｍ、３０ｎｍ、４０ｎｍ、５０ｎｍ、１００ｎｍ、２００ｎｍ、２５０ｎｍ、又は更には少なくとも３００ｎｍ以上）の平面等価厚を有する銀を含む、例示的実施形態１Ｃ～９Ｃのいずれか１つに記載の方法。
１３Ｃ．金以外のプラズモン材料を含む層が、少なくとも１０ｎｍ（いくつかの実施形態では、少なくとも１５ｎｍ、２０ｎｍ、２５ｎｍ、３０ｎｍ、４０ｎｍ、５０ｎｍ、７５ｎｍ、１００ｎｍ、１５０ｎｍ、２００ｎｍ、２５０ｎｍ、又は更には少なくとも３００ｎｍ以上、いくつかの実施形態では、２５ｎｍ～３００ｎｍ、２５ｎｍ～２５０ｎｍ、３０ｎｍ～２００ｎｍ、３０ｎｍ～１５０ｎｍ、４０ｎｍ～２００ｎｍ、又は更には４０ｎｍ～１５０ｎｍの範囲）の平面等価厚を有する、例示的実施形態１Ｃ～９Ｃのいずれか１つに記載の方法。
１４Ｃ．プラズモン材料を含む層が、連続的である、例示的実施形態１Ｃ～１３Ｃのいずれか１つに記載の方法。
１５Ｃ．プラズモン材料を含む層が、不連続的である、例示的実施形態１Ｃ～１３Ｃのいずれか１つに記載の方法。
１６Ｃ．粒子が、３００ｎｍ以下の厚さ（いくつかの実施形態では、２５０ｎｍ以下、２００ｎｍ以下、又は更には１５０ｎｍ以下、いくつかの実施形態では、１００ｎｍ～２００ｎｍの範囲の厚さ）を有する、例示的実施形態１Ｃ～１５Ｃのいずれか１つに記載の方法。
１７Ｃ．コーティングされたポリマー基材が初期の長さを有し、少なくとも一次元で初期の長さの少なくとも２０％（いくつかの実施形態では、少なくとも２５％、３０％、４０％、５０％、６０％、７０％、又は更には少なくとも８０％）に位置関係的に緩和される、例示的実施形態１Ｃ～１６Ｃのいずれか１つに記載の方法。
１８Ｃ．粒子が、１μｍ～５０μｍの範囲の最大寸法（いくつかの実施形態では、１μｍ～２５μｍ、又は更には２μｍ～１５μｍの範囲の最大寸法）を有する、例示的実施形態１Ｃ～１７Ｃのいずれか１つに記載の方法。
１９Ｃ．ポリマー基材の第１主表面と複数の粒子との間に配置された結合層を更に含む、例示的実施形態１Ｃ～１８Ｃのいずれか１つに記載の方法。
２０Ｃ．結合層が連続層である、例示的実施形態１９Ｃに記載の方法。
２１Ｃ．結合層が不連続層である、例示的実施形態１９Ｃに記載の方法。
２２Ｃ．粒子が、３００ｎｍ以下の厚さ（いくつかの実施形態では、２５０ｎｍ以下、２００ｎｍ以下、又は更には１５０ｎｍ以下、いくつかの実施形態では、１００ｎｍ～２００ｎｍの範囲の厚さ）を有する、例示的実施形態１Ｃ～２１Ｃのいずれか１つに記載の方法。
２３Ｃ．粒子の幅の、粒子の厚さに対する比が、少なくとも２：１より大きい（いくつかの実施形態では、少なくとも３：１より大きい、４：１より大きい、５：１より大きい、１０：１より大きい、１５：１より大きい、２０：１より大きい、２５：１より大きい、５０：１より大きい、７５：１より大きい、又は更には少なくとも１００：１より大きい）、例示的実施形態１Ｃ～２２Ｃのいずれか１つに記載の方法。
２４Ｃ．複数の粒子とプラズモン材料との間に誘電体層を配置すること、を更に含む、例示的実施形態１Ｃ～２３Ｃのいずれか１つに記載の方法。
２５Ｃ．誘電体層が、酸化物、炭化物、窒化物、カルコゲニド、又はポリマーのうちの少なくとも１つを含む、例示的実施形態２４Ｃに記載の物品。
２６Ｃ．誘電体層が連続層である、例示的実施形態２４Ｃ又は２５Ｃのいずれかに記載の方法。
２７Ｃ．誘電体層が不連続層である、例示的実施形態２４Ｃ又は２５Ｃのいずれかに記載の物品。
１Ｄ．粒子をカールさせる方法であって、
複数の二次元粒子（例えば、粘土（バーミキュライトを含む）粒子、ガラス粒子、窒化ホウ素粒子、炭素粒子、二硫化モリブデン粒子、又はオキシ塩化ビスマス粒子のうちの少なくとも１つ）をポリマー基材（例えば、熱収縮性フィルム、エラストマーフィルム、エラストマー繊維、又は熱収縮性チューブ）の主表面に適用して、ポリマー基材の主表面上に、コーティングであって、コーティングが複数の粒子を含む、コーティングを設けることと、
コーティングされたポリマー基材を位置関係的に緩和させること（例えば、加熱を介するもの、張力除去を介するもの）であって、粒子の各々が外表面を有しており、緩和させると、粒子の数の少なくとも５０％（いくつかの実施形態では、５５％、６０％、６５％、７０％、７５％、８０％、８５％、９０％、又は更には少なくとも９５％）において、個々の粒子の少なくとも２０％（いくつかの実施形態では、少なくとも２５％、３０％、３５％、４０％、４５％、５０％、５５％、６０％、６５％、７０％、７５％、８０％、８５％、９０％、又は更には少なくとも９５％）の、少なくとも５度より大きく（いくつかの実施形態では、少なくとも１０度より大きく、１５度より大きく、２０度より大きく、２５度より大きく、３０度より大きく、３５度より大きく、４０度より大きく、４５度より大きく、５０度より大きく、５５度より大きく、６０度より大きく、６５度より大きく、７０度より大きく、７５度より大きく、８０度より大きく、又は更には少なくとも８５度より大きく）ポリマー基材の主表面から離れて変化させる接線角を有する点からなる表面エリアがあり、粒子が集団的外表面を有する、緩和させることと、
集団的外表面の少なくとも一部分の上に、プラズモン材料（例えば、金、銀、銅、白金、ルテニウム、ニッケル、パラジウム、ロジウム、イリジウム、クロム、アルミニウム、鉄、鉛、スズ、亜鉛、これらの組み合わせ（例えば、白金及びルテニウムの層、又は共堆積）、又はこれらの合金（例えば、Ｐｔ－Ｆｅ合金）のうちの少なくとも１つ）を含む層を堆積させることと、を含む、方法。粒子は平面状であっても非平面状であってもよい。
２Ｄ．粒子が、少なくとも３：１より大きい（いくつかの実施形態では、少なくとも４：１より大きい、５：１より大きい、１０：１より大きい、１５：１より大きい、２０：１より大きい、２５：１より大きい、５０：１より大きい、７５：１より大きい、１００：１より大きい、２５０：１より大きい、５００：１より大きい、７５０：１より大きい、又は更には少なくとも１０００：１より大きい）アスペクト比を有する、例示的実施形態１Ｄに記載の方法。
３Ｄ．二次元粒子が誘電体材料を含む、例示的実施形態１Ｄ又は２Ｄに記載の方法。
４Ｄ．プラズモン材料が、紫外波長範囲の少なくとも１つの波長のプラズモン材料である、例示的実施形態１Ｄ～３Ｄのいずれか１つに記載の方法。
５Ｄ．プラズモン材料が、パラジウム、ニッケル、ロジウム、クロム、アルミニウム、亜鉛、これらの組み合わせ、又はこれらの合金のうちの少なくとも１つである、例示的実施形態４Ｄに記載の方法。
６Ｄ．プラズモン材料が、可視波長範囲の少なくとも１つの波長のプラズモン材料である、例示的実施形態１Ｄ～５Ｄのいずれか１つに記載の方法。
７Ｄ．プラズモン材料が、金、銀、銅、クロム、アルミニウム、パラジウム、ロジウム、ニッケル、亜鉛、鉄、これらの組み合わせ、又はこれらの合金のうちの少なくとも１つである、例示的実施形態６Ｄに記載の方法。
８Ｄ．プラズモン材料が、赤外波長範囲の少なくとも１つの波長のプラズモン材料である、例示的実施形態１Ｄ～７Ｄのいずれか１つに記載の方法。
９Ｄ．プラズモン材料が、銀、銅、金、スズ、鉛、鉄、白金、ルテニウム、ニッケル、パラジウム、ロジウム、イリジウム、これらの組み合わせ、又はこれらの合金のうちの少なくとも１つである、例示的実施形態８Ｄに記載の方法。
１０Ｄ．プラズモン材料を含む層が、少なくとも１０ｎｍ（いくつかの実施形態では、少なくとも１５ｎｍ、２０ｎｍ、２５ｎｍ、３０ｎｍ、４０ｎｍ、５０ｎｍ、１００ｎｍ、２００ｎｍ、２５０ｎｍ、又は更には少なくとも３００ｎｍ以上、いくつかの実施形態では、２５ｎｍ～３００ｎｍ、２５ｎｍ～２５０ｎｍ、３０ｎｍ～２００ｎｍ、３０ｎｍ～１５０ｎｍ、４０ｎｍ～２００ｎｍ、又は更には４０ｎｍ～１５０ｎｍの範囲）の平面等価厚を有する、例示的実施形態１Ｄ～９Ｄのいずれか１つに記載の方法。
１１Ｄ．プラズモン材料を含む層が、少なくとも１０ｎｍ（いくつかの実施形態では、少なくとも１５ｎｍ、２０ｎｍ、２５ｎｍ、３０ｎｍ、４０ｎｍ、又は更には少なくとも５０ｎｍ、いくつかの実施形態では、２５ｎｍ～２５０ｎｍ、３０ｎｍ～２００ｎｍ、３０ｎｍ～１５０ｎｍ、４０ｎｍ～２００ｎｍ、又は更には４０ｎｍ～１５０ｎｍの範囲）の平面等価厚を有する金を含む、例示的実施形態１Ｄ～９Ｄのいずれか１つに記載の方法。
１２Ｄ．プラズモン材料を含む層が、少なくとも少なくとも１０ｎｍ（いくつかの実施形態では、少なくとも１５ｎｍ、２０ｎｍ、２５ｎｍ、３０ｎｍ、４０ｎｍ、５０ｎｍ、１００ｎｍ、２００ｎｍ、２５０ｎｍ、又は更には少なくとも３００ｎｍ以上）の平面等価厚を有する銀を含む、例示的実施形態１Ｄ～９Ｄのいずれか１つに記載の方法。
１３Ｄ．金以外のプラズモン材料を含む層が、少なくとも１０ｎｍ（いくつかの実施形態では、少なくとも１５ｎｍ、２０ｎｍ、２５ｎｍ、３０ｎｍ、４０ｎｍ、５０ｎｍ、７５ｎｍ、１００ｎｍ、１５０ｎｍ、２００ｎｍ、２５０ｎｍ、又は更には少なくとも３００ｎｍ以上、いくつかの実施形態では、２５ｎｍ～３００ｎｍ、２５ｎｍ～２５０ｎｍ、３０ｎｍ～２００ｎｍ、３０ｎｍ～１５０ｎｍ、４０ｎｍ～２００ｎｍ、又は更には４０ｎｍ～１５０ｎｍの範囲）の平面等価厚を有する、例示的実施形態１Ｄ～９Ｄのいずれか１つに記載の方法。
１４Ｄ．プラズモン材料を含む層が、連続的である、例示的実施形態１Ｄ～１３Ｄのいずれか１つに記載の方法。
１５Ｄ．プラズモン材料を含む層が、不連続的である、例示的実施形態１Ｄ～１３Ｄのいずれか１つに記載の方法。
１６Ｄ．粒子が、３００ｎｍ以下の厚さ（いくつかの実施形態では、２５０ｎｍ以下、２００ｎｍ以下、又は更には１５０ｎｍ以下、いくつかの実施形態では、１００ｎｍ～２００ｎｍの範囲の厚さ）を有する、例示的実施形態１Ｄ～１５Ｄのいずれか１つに記載の方法。
１７Ｄ．コーティングされたポリマー基材が初期の長さを有し、少なくとも一次元で初期の長さの少なくとも２０％（いくつかの実施形態では、少なくとも２５％、３０％、４０％、５０％、６０％、７０％、又は更には少なくとも８０％）に位置関係的に緩和される、例示的実施形態１Ｄ～１６Ｄのいずれか１つに記載の方法。
１８Ｄ．粒子が、１μｍ～５０μｍの範囲の最大寸法（いくつかの実施形態では、１μｍ～２５μｍ、又は更には２μｍ～１５μｍの範囲の最大寸法）を有する、例示的な実施形態１Ｄ又は２Ｄに記載の方法。
１９Ｄ． ポリマー基材の第１主表面と複数の粒子との間に配置された結合層を更に含む、例示的実施形態１Ｄ～１８Ｄのいずれか１つに記載の方法。
２０Ｄ．結合層が連続層である、例示的実施形態１９Ｄに記載の方法。
２１Ｄ．結合層が不連続層である、例示的実施形態１９Ｄに記載の方法。
２２Ｄ．粒子が、３００ｎｍ以下の厚さ（いくつかの実施形態では、２５０ｎｍ以下、２００ｎｍ以下、又は更には１５０ｎｍ以下、いくつかの実施形態では、１００ｎｍ～２００ｎｍの範囲の厚さ）を有する、例示的実施形態１Ｄ～２１Ｄのいずれか１つに記載の方法。
２３Ｄ．粒子の幅の、粒子の厚さに対する比が、少なくとも２：１より大きい（いくつかの実施形態では、少なくとも３：１より大きい、４：１より大きい、５：１より大きい、１０：１より大きい、１５：１より大きい、２０：１より大きい、２５：１より大きい、５０：１より大きい、７５：１より大きい、又は更には少なくとも１００：１より大きい）、例示的実施形態１Ｄ～２２Ｄのいずれか１つに記載の方法。
２４Ｄ．粒子が、少なくとも２：１より大きい（いくつかの実施形態では、少なくとも３：１より大きい、４：１より大きい、５：１より大きい、１０：１より大きい、１５：１より大きい、２０：１より大きい、２５：１より大きい、５０：１より大きい、７５：１より大きい、１００：１より大きい、２５０：１より大きい、５００：１より大きい、７５０：１より大きい、又は更には少なくとも１０００：１より大きい）アスペクト比を有する、例示的実施形態１Ｄ～２３Ｄのいずれか１つに記載の方法。
２５Ｄ．複数の粒子とプラズモン材料との間に誘電体層を配置すること、を更に含む、例示的実施形態１Ｄ～２４Ｄのいずれか１つに記載の方法。
２６Ｄ．誘電体層が、酸化物、炭化物、窒化物、カルコゲニド、又はポリマーのうちの少なくとも１つを含む、例示的実施形態２５Ｄに記載の物品。
２７Ｄ．誘電体層が連続層である、例示的実施形態２５Ｄ又は２６Ｄのいずれかに記載の方法。
２８Ｄ．誘電体層が不連続層である、例示的実施形態２５Ｄ又は２６Ｄのいずれかに記載の物品。
１Ｅ．本明細書に記載の物品と、
検体の存在を分光学的に（例えば、表面増強ラマン散乱、表面増強蛍光、又は表面増強赤外吸収）特定するため、物品を使用するための使用説明書と、
を含む、キット。
１Ｆ．検体の存在を分光学的に特定する方法であって、
対象検体を本明細書に記載の物品に吸着させることと、
吸着された検体に電磁放射線を（例えば、レーザーを介して）照射することと、
照射され吸着された検体の電磁散乱スペクトル、電磁反射スペクトル、電磁発光スペクトル、又は電磁吸収スペクトルのうちの少なくとも１つを得ることと、
スペクトルを分析して、照射され吸着された検体の電磁散乱、電磁反射、電磁発光、又は電磁吸収特性のそれぞれを特定することと、
を含む、方法。例えば、検体からの一連の特徴的なラマン散乱帯域の存在により、試料体積中の検体の存在、又は更には量を示すことができる。
本発明の利点及び実施形態を以降の実施例によって更に説明するが、これら実施例において述べられる特定の材料及びそれらの量、並びに他の条件及び詳細は、本発明を不当に制限するものと解釈されるべきではない。全ての部分及びパーセントは、特に指示のない限り、重量に基づく。
方法
基材上の粒子研磨方法
次の実施例にて使用されるポリマー基材は、位置関係的に「ひずみを与えられた状態」（例えば、熱収縮基材において予め延伸された状態）、及び位置関係的に「緩和された状態」（例えば、熱収縮基材において加熱後の状態）を有していた。全ての基材を、次の実施例にて、別途注記のない限り、受領したままの状態で使用した（例えば、感圧接着剤（ＰＳＡ）コーティングを粒子コーティングの前に適用の場合）。
基材上の粒子研磨方法
次の実施例にて使用されるポリマー基材は、位置関係的に「ひずみを与えられた状態」（例えば、熱収縮基材において予め延伸された状態）、及び位置関係的に「緩和された状態」（例えば、熱収縮基材において加熱後の状態）を有していた。全ての基材を、次の実施例にて、別途注記のない限り、受領したままの状態で使用した（例えば、感圧接着剤（ＰＳＡ）コーティングを粒子コーティングの前に適用の場合）。
熱収縮フィルム基材の場合、「ひずみを与えられた状態」のフィルムを、透明なテープ（３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙから「３Ｍ ＳＣＯＴＣＨ６００ＴＲＡＮＳＰＡＲＥＮＴ ＴＡＰＥ」の商品名で入手）を使用して、アルミニウム金属板上に各縁に沿ってテープで貼り付け、ベース基材の小さな露出領域が粒子のコーティング可能となるようにした。いくつかの実施例では、接着剤結合層コーティングを、まず、粒子コーティングの前に、位置関係的に緩和可能な基材に適用した。
次に、縁がテープで貼り付けられた基材を、過剰量の粒子を振りまいて軽くコーティングした。使用された粒子の種類は、以下の実施例の各々に記載され、まとめて「コーティング粒子（coating particle）又は（coating particles）」と呼ばれる。本文脈中、過剰量の粒子とは、研磨プロセス後に未コーティング粒子が生じる量を意味する。次に、コーティング粒子を基材の全露出領域上で研磨するには、ドリルプレス（ＷＥＮ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ（Ｅｌｇｉｎ，ＩＬ）から「ＷＥＮ ４２１０ １０－ＩＮＣＨ ＤＲＩＬＬ ＰＲＥＳＳ ＷＩＴＨ ＣＲＯＳＳＨＡＩＲ ＬＡＳＥＲ」の商品名で入手）に取り付けられたフォームパッドベースの研磨ツール（Ｍｅｇｕｉａｒ’ｓ Ｉｎｃ．（Ｉｒｖｉｎｅ，ＣＡ）から「ＭＥＧＵＩＡＲ’Ｓ Ｇ３５００ ＤＡ ＰＯＷＥＲ ＳＹＳＴＥＭ ＴＯＯＬ」の商品名で入手）、及び研磨パッド（Ｍｅｇｕｉａｒ’ｓ Ｉｎｃ．から「Ｇ３５０９ ＤＡ ＷＡＸＩＮＧ ＰＯＷＥＲ ＰＡＤＳ」の商品名で入手）を使用した。粒子を基材上で研磨するには、約１７００回転／分（ＲＰＭ）の主軸回転数にて、合計約１２０秒間とした。圧縮空気を使用して、残った未コーティング粒子を除去した後、フィルムの各縁におけるテープを取り除いた。
コーティングされた基材を位置関係的に緩和させる方法
コーティングされたフィルムを、２つのポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）メッシュスクリーンの間に（コーティング面を上にして）置き、１５０℃（空気温度）にて２分間（ＰＯ熱収縮フィルムに対して）又は３分間（ＰＳ熱収縮フィルム）予熱されたオーブン内に入れた後、迅速に除去して１分以内に約４０℃まで冷却した。縮んだ試料は、目立ってより厚くなると同時に、長手方向でより小さくなった（程度は使用した特定の基材フィルムの収縮比に依存）。収縮比は、収縮前の「位置関係的に緩和可能な」ベース基材の収縮寸法／弛緩寸法の長さ（例えば、ＰＯ熱収縮フィルムの場合の幅又は長さ）を収縮後の同じ寸法の長さで割ることによって算出した。より低い収縮比（約２：１）のためには、オーブン温度を１１７℃に設定した。
コーティングされたフィルムを、２つのポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）メッシュスクリーンの間に（コーティング面を上にして）置き、１５０℃（空気温度）にて２分間（ＰＯ熱収縮フィルムに対して）又は３分間（ＰＳ熱収縮フィルム）予熱されたオーブン内に入れた後、迅速に除去して１分以内に約４０℃まで冷却した。縮んだ試料は、目立ってより厚くなると同時に、長手方向でより小さくなった（程度は使用した特定の基材フィルムの収縮比に依存）。収縮比は、収縮前の「位置関係的に緩和可能な」ベース基材の収縮寸法／弛緩寸法の長さ（例えば、ＰＯ熱収縮フィルムの場合の幅又は長さ）を収縮後の同じ寸法の長さで割ることによって算出した。より低い収縮比（約２：１）のためには、オーブン温度を１１７℃に設定した。
接着剤結合層の適用方法
以下の実施例のうちの１つについて、粒子をコーティングする前に、ＰＯ熱収縮フィルム上にエチレン－ビニルアセテートコポリマー樹脂（「ＤＵＰＯＮＴ ＥＬＶＡＸ ４０Ｌ－０３」）コーティングを調製した。約１０重量％固形分の溶液をトルエン中で調製し、ワイヤ巻きサイズ４番のロッド（０．４ｍｉｌのウェットフィルム厚）を用いてＰＯフィルム上にコーティングした。ウェットフィルムコーティングされた基材を５０℃の加熱空気中で約２．６分間乾燥させた。得られたコーティングされたフィルムは、以下の実施例において「ＰＯ熱収縮フィルム／エチレン－ビニルアセテートコポリマー樹脂（「ＤＵＰＯＮＴ ＥＬＶＡＸ ４０ Ｌ－０３」）と呼ばれる。
以下の実施例のうちの１つについて、粒子をコーティングする前に、ＰＯ熱収縮フィルム上にエチレン－ビニルアセテートコポリマー樹脂（「ＤＵＰＯＮＴ ＥＬＶＡＸ ４０Ｌ－０３」）コーティングを調製した。約１０重量％固形分の溶液をトルエン中で調製し、ワイヤ巻きサイズ４番のロッド（０．４ｍｉｌのウェットフィルム厚）を用いてＰＯフィルム上にコーティングした。ウェットフィルムコーティングされた基材を５０℃の加熱空気中で約２．６分間乾燥させた。得られたコーティングされたフィルムは、以下の実施例において「ＰＯ熱収縮フィルム／エチレン－ビニルアセテートコポリマー樹脂（「ＤＵＰＯＮＴ ＥＬＶＡＸ ４０ Ｌ－０３」）と呼ばれる。
走査型電子顕微鏡のための方法
画像は、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）（日本電子（東京）から「ＪＥＯＬ ＢＥＮＣＨ ＴＯＰ ＳＥＭ」の商品名で入手）を使用して得られた。４５°角マウント（Ｔｅｄ Ｐｅｌｌａ，Ｉｎｃ．（Ｒｅｄｄｉｎｇ，ＣＡ）から「ＰＥＬＣＯ ＳＥＭＣＬＩＰ ４５／９０° ＭＯＵＮＴ」（番号１６３５７－２０）の商品名で入手）を、ＳＥＭ内に試料をマウントするのに使用した。導電性カーボンテープ（３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙから「３Ｍ ＴＹＰＥ９７１２ＸＹＺ ＡＸＩＳ ＥＬＥＣＴＲＩＣＡＬＬＹ ＣＯＮＤＵＣＴＩＶＥ ＤＯＵＢＬＥ ＳＩＤＥＤ ＴＡＰＥ」の商品名で入手）の小片を、マウントの４５°角表面の上部に配置し、カーボンテープ上へフィルム／チューブの小片を貼り付けることにより、試料をマウントした。可能な場合、試料片を、可能な限り４５°角表面の上端に近接させるように置いた。次に、少量の銀塗料（Ｔｅｄ Ｐｅｌｌａ，Ｉｎｃ．（Ｒｅｄｄｉｎｇ，ＣＡ）から「ＰＥＬＣＯ ＣＯＮＤＵＣＴＩＶＥ ＬＩＱＵＩＤ ＳＩＬＶＥＲ ＰＡＩＮＴ」（番号１６０３４）の商品名で入手）を、各試料片の小さな領域に適用し、カーボンテープ、アルミニウムマウント表面のいずれか片方又は両方に接触するように広げた。塗料を少しの間、室温で送風乾燥した後、マウントした試料アセンブリをスパッタ／エッチング装置（Ｄｅｎｔｏｎ Ｖａｃｕｕｍ，Ｉｎｃ．（Ｍｏｏｒｅｓｔｏｗｎ，ＮＪ）から「ＤＥＮＴＯＮ ＶＡＣＵＭＭ ＤＥＳＫ Ｖ」の商品名で入手）内に置いて、チャンバを約０．０４トールまで真空引きした。次に、スパッタチャンバ内にアルゴンガスを導入し、圧力を約０．０６トールで安定させた後、プラズマを発生させ、１２０秒間、約３０ｍＡにてアセンブリ上に金をスパッタコーティングした。
画像は、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）（日本電子（東京）から「ＪＥＯＬ ＢＥＮＣＨ ＴＯＰ ＳＥＭ」の商品名で入手）を使用して得られた。４５°角マウント（Ｔｅｄ Ｐｅｌｌａ，Ｉｎｃ．（Ｒｅｄｄｉｎｇ，ＣＡ）から「ＰＥＬＣＯ ＳＥＭＣＬＩＰ ４５／９０° ＭＯＵＮＴ」（番号１６３５７－２０）の商品名で入手）を、ＳＥＭ内に試料をマウントするのに使用した。導電性カーボンテープ（３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙから「３Ｍ ＴＹＰＥ９７１２ＸＹＺ ＡＸＩＳ ＥＬＥＣＴＲＩＣＡＬＬＹ ＣＯＮＤＵＣＴＩＶＥ ＤＯＵＢＬＥ ＳＩＤＥＤ ＴＡＰＥ」の商品名で入手）の小片を、マウントの４５°角表面の上部に配置し、カーボンテープ上へフィルム／チューブの小片を貼り付けることにより、試料をマウントした。可能な場合、試料片を、可能な限り４５°角表面の上端に近接させるように置いた。次に、少量の銀塗料（Ｔｅｄ Ｐｅｌｌａ，Ｉｎｃ．（Ｒｅｄｄｉｎｇ，ＣＡ）から「ＰＥＬＣＯ ＣＯＮＤＵＣＴＩＶＥ ＬＩＱＵＩＤ ＳＩＬＶＥＲ ＰＡＩＮＴ」（番号１６０３４）の商品名で入手）を、各試料片の小さな領域に適用し、カーボンテープ、アルミニウムマウント表面のいずれか片方又は両方に接触するように広げた。塗料を少しの間、室温で送風乾燥した後、マウントした試料アセンブリをスパッタ／エッチング装置（Ｄｅｎｔｏｎ Ｖａｃｕｕｍ，Ｉｎｃ．（Ｍｏｏｒｅｓｔｏｗｎ，ＮＪ）から「ＤＥＮＴＯＮ ＶＡＣＵＭＭ ＤＥＳＫ Ｖ」の商品名で入手）内に置いて、チャンバを約０．０４トールまで真空引きした。次に、スパッタチャンバ内にアルゴンガスを導入し、圧力を約０．０６トールで安定させた後、プラズマを発生させ、１２０秒間、約３０ｍＡにてアセンブリ上に金をスパッタコーティングした。
銀又は金の堆積方法
銀又は金層を、超低真空「電子ビーム蒸着」チャンバ内で基材上に堆積させた。このチャンバは、Ｋｕｒｔ Ｊ．Ｌｅｓｋｅｒ Ｃｏｍｐａｎｙ（Ｊｅｆｆｅｒｓｏｎ Ｈｉｌｌｓ，ＰＡ）から入手した。試料を、Ｋａｐｔｏｎテープ（３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙから商品名「３Ｍ ＰＯＬＹＩＭＩＤＥ ＦＩＬＭ ＴＡＰＥ ５４１３」で入手）を用いて、１０インチ×１０インチ（２５ｃｍ×２５ｃｍ）の金属板上に低く保持し、ロードロックチャンバ内に下向きに配置した（堆積は主チャンバの下部からであり、試料は、供給源材料の約４５ｃｍ（１８インチ）上にある）。ロードロックを、１×１０－５トール（１．３３×１０－３Ｐａ）より低くなるまでポンプダウンした後、板を主チャンバ内に移動させた。主チャンバ圧は、３×１０－６トール（８×１０－４Ｐａ）よりも低い範囲であった。
銀又は金層を、超低真空「電子ビーム蒸着」チャンバ内で基材上に堆積させた。このチャンバは、Ｋｕｒｔ Ｊ．Ｌｅｓｋｅｒ Ｃｏｍｐａｎｙ（Ｊｅｆｆｅｒｓｏｎ Ｈｉｌｌｓ，ＰＡ）から入手した。試料を、Ｋａｐｔｏｎテープ（３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙから商品名「３Ｍ ＰＯＬＹＩＭＩＤＥ ＦＩＬＭ ＴＡＰＥ ５４１３」で入手）を用いて、１０インチ×１０インチ（２５ｃｍ×２５ｃｍ）の金属板上に低く保持し、ロードロックチャンバ内に下向きに配置した（堆積は主チャンバの下部からであり、試料は、供給源材料の約４５ｃｍ（１８インチ）上にある）。ロードロックを、１×１０－５トール（１．３３×１０－３Ｐａ）より低くなるまでポンプダウンした後、板を主チャンバ内に移動させた。主チャンバ圧は、３×１０－６トール（８×１０－４Ｐａ）よりも低い範囲であった。
電力供給及び源並びにコントローラゲージをオンにすることによって、堆積を実施した。堆積速度は、コントローラ（Ｉｎｆｉｃｏｎ（Ｅａｓｔ Ｓｙｒａｃｕｓｅ，ＮＹ）から商品名「ＩＮＦＩＣＯＮ ＸＴＣ／２ ＴＨＩＮ ＦＩＬＭ ＤＥＰＯＳＩＴＩＯＮ ＣＯＮＴＲＯＬＬＥＲ」の商品名で入手）により、１秒当たり０．１ｎｍの速度で（ソフトウェアを使用して）制御し、特定の厚さの金属を堆積させた。金属層の厚さは、実施例及び比較例に記載されるように、金属の平面等価厚である。フィードバックループを有するＸＴＣ／２コントローラに接続された６ＭＨｚのＡｕコーティングされた石英結晶厚モニタ（Ｉｎｆｉｃｏｎから入手）によって厚さを監視した。目標の厚さに達すると、電力供給を遮断した。次いで試料をロードロックチャンバに戻し、排気し、試料をプレートから取り出した。
使用される金属の種類は、以下の実施例の各々に記載され、まとめて「コーティング金属（coating metal）又は（coating metals）」と呼ばれる。
ラマンスペクトルの測定
表面増強ラマン散乱（ＳＥＲＳ）活性は、少量の１－２－ビス（４－ピリジル）エチレン（ＢＰＥ）（Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ（Ｓｔ．Ｌｏｕｉｓ，ＭＯ）から入手）を基材（約５ｍｍ×５ｍｍサイズ）の各々に適用することによって調べた。様々な濃度の１－２－ビス（４－ピリジル）エチレン（「ＢＰＥ」）溶液を、メタノール（ＨＨ－ＧＣグレード、ＥＭＤ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ（Ｇｉｂｂｓｔｏｗｎ，ＮＪ）から入手）中で調製した。各場合において、２μＬ又は４μＬの１－２－ビス（４－ピリジル）エチレン（「ＢＰＥ」）溶液を基材に適用し、２２℃で少なくとも２分間空気中で乾燥させた。次いで、５０倍／０．７５ＮＡ対物レンズを通して集束される７８５－ｎｍダイオードレーザーを備える共焦点ラマン顕微鏡（Ｒｅｎｉｓｈａｗ（Ｇｌｏｕｃｅｓｔｅｒｓｈｉｒｅ，ＵＫ）から商品名「ＲＥＮＩＳＨＡＷ ＩＮＶＩＡ」で入手）、又は４０倍対物レンズを通して集束される７８５－ｎｍダイオードレーザーを備えるラマン顕微鏡（Ｍｅｔｒｏｈｍ Ｒａｍａｎ（Ｌａｒａｍｉｅ，ＷＹ）から商品名「ＳｎｏｗＹ Ｒａｎｇｅ ＩＭ－５２」で入手）を用いて、コーティングされた基材のラマンスペクトルを取得した。
表面増強ラマン散乱（ＳＥＲＳ）活性は、少量の１－２－ビス（４－ピリジル）エチレン（ＢＰＥ）（Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ（Ｓｔ．Ｌｏｕｉｓ，ＭＯ）から入手）を基材（約５ｍｍ×５ｍｍサイズ）の各々に適用することによって調べた。様々な濃度の１－２－ビス（４－ピリジル）エチレン（「ＢＰＥ」）溶液を、メタノール（ＨＨ－ＧＣグレード、ＥＭＤ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ（Ｇｉｂｂｓｔｏｗｎ，ＮＪ）から入手）中で調製した。各場合において、２μＬ又は４μＬの１－２－ビス（４－ピリジル）エチレン（「ＢＰＥ」）溶液を基材に適用し、２２℃で少なくとも２分間空気中で乾燥させた。次いで、５０倍／０．７５ＮＡ対物レンズを通して集束される７８５－ｎｍダイオードレーザーを備える共焦点ラマン顕微鏡（Ｒｅｎｉｓｈａｗ（Ｇｌｏｕｃｅｓｔｅｒｓｈｉｒｅ，ＵＫ）から商品名「ＲＥＮＩＳＨＡＷ ＩＮＶＩＡ」で入手）、又は４０倍対物レンズを通して集束される７８５－ｎｍダイオードレーザーを備えるラマン顕微鏡（Ｍｅｔｒｏｈｍ Ｒａｍａｎ（Ｌａｒａｍｉｅ，ＷＹ）から商品名「ＳｎｏｗＹ Ｒａｎｇｅ ＩＭ－５２」で入手）を用いて、コーティングされた基材のラマンスペクトルを取得した。
共焦点ラマン顕微鏡（「ＲＥＮＩＳＨＡＷ ＩＮＶＩＡ」）の場合、系全体の光学スループット（約３３％）で、３００－ｍＷのレーザービームを０．３ｍＷまで減衰させるために中性濃度フィルタを使用し、試料に焦点を合わせる前に更に約０．１ｍＷまでビームを減衰させた。試料からの散乱光をエッジフィルタによってフィルタリングしてレーザー線を取り出し、約１ｃｍ－１の分解能を有する格子／電荷結合素子（ＣＣＤ）分光計に結像した。ラマン顕微鏡（「ＳＮＯＷＹ ＲＡＮＧＥ ＩＭ－５２」）の場合、１．８～３．５ｍＷのレーザー出力を使用した。スペクトル分解能は１ｃｍ－１であり、積分時間は１秒であった。各試料で３つのスペクトルを取得し、積分ピーク強度の平均値を得た。カスタマイズされたプログラム（Ｎａｔｉｏｎａｌ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ Ｃｏｒｐ．（Ａｕｓｔｉｎ，ＴＸ）から商品名「ＬＡＢＶＩＥＷ」で入手したソフトウェア）を使用して、積分ピーク強度を得た。
比較例１～５（それぞれＣＥ１～ＣＥ５）
ＣＥ１～ＣＥ５は、様々な銀コーティングされた平坦な表面（スライドガラス、ＰＯ熱収縮フィルム、及びＰＳ熱収縮フィルム）から調製した。別途注記のない限り、全ての実施例は、収縮した基材上にコーティング金属を堆積させた。ＣＥ４及びＣＥ５については、収縮後に銀コーティングを行った。銀の厚さは１００ｎｍであった。
ＣＥ１～ＣＥ５は、様々な銀コーティングされた平坦な表面（スライドガラス、ＰＯ熱収縮フィルム、及びＰＳ熱収縮フィルム）から調製した。別途注記のない限り、全ての実施例は、収縮した基材上にコーティング金属を堆積させた。ＣＥ４及びＣＥ５については、収縮後に銀コーティングを行った。銀の厚さは１００ｎｍであった。
図４Ａ及び図４Ｂは、それぞれ、２μＬの１００μＭ ＢＰＥ溶液をＣＥ１に添加し、２２℃で少なくとも２分間空気中で乾燥させる前及び後のラマンスペクトルを示す。ＢＰＥからの識別可能なＳＥＲＳシグナルは、ＣＥ１で観察されなかった。２μＬの１００μＭ １－２－ビス（４－ピリジル）エチレン（「ＢＰＥ」）溶液を各実施例（以下の表１参照）に適用した後、１－２－ビス（４－ピリジル）エチレン（「ＢＰＥ」）からの識別可能なＳＥＲＳシグナルは、ＣＥ２～ＣＥ５で観察されなかった。
比較例６並びに実施例１及び２（それぞれＣＥ６並びにＥＸ１及びＥＸ２）
ＣＥ６、ＥＸ１、及びＥＸ２の試料を調製するには、上記の「コーティングされた基材を位置関係的に緩和させる方法」を使用して「位置関係的にひずみを与えられた」状態の基材上に粒子をコーティングし、次にその基材を位置関係的に緩和させ、続いて銀堆積を行うことによった。銀堆積の厚さは１００ｎｍであった。基材を位置関係的に緩和させ、得られた、上にコーティングを有する基材を、上述のようにＳＥＭの使用によって検査した。以下の表２に、ＣＥ６並びにＥＸ１及びＥＸ２の試料を調製するために使用される、基材、コーティング粒子、焼成条件、及び測定された収縮比をまとめる。
ＣＥ６、ＥＸ１、及びＥＸ２の試料を調製するには、上記の「コーティングされた基材を位置関係的に緩和させる方法」を使用して「位置関係的にひずみを与えられた」状態の基材上に粒子をコーティングし、次にその基材を位置関係的に緩和させ、続いて銀堆積を行うことによった。銀堆積の厚さは１００ｎｍであった。基材を位置関係的に緩和させ、得られた、上にコーティングを有する基材を、上述のようにＳＥＭの使用によって検査した。以下の表２に、ＣＥ６並びにＥＸ１及びＥＸ２の試料を調製するために使用される、基材、コーティング粒子、焼成条件、及び測定された収縮比をまとめる。
図５は、位置関係的緩和がないＣＥ６の、５０００倍のＳＥＭ画像である。ＣＥ６において、基材上のコーティングされた粒子は、基材の第１主表面に沿って配向した基面を有した。
図６は、位置関係的緩和（加熱）後のＥＸ１の、５０００倍のＳＥＭ画像である。ＥＸ１において、基材上にコーティングされた粒子の大部分は、位置関係的に緩和されて、基材の長さと幅とを、基材の初期の長さと幅との５３％減少させた後に、基材の第１主表面に対する角度で配向した基面を有した。
図７は、位置関係的緩和（加熱）後のＥＸ２の、５０００倍のＳＥＭ画像である。ＥＸ２において、基材上にコーティングされた粒子の大部分は、位置関係的に緩和されて、基材の長さと幅とを、基材の初期の長さと幅との７８％減少させた後に、基材の第１主表面に対する角度で配向した基面を有した。
図８は、２μＬの１００μＭ １－２－ビス（４－ピリジル）エチレン（「ＢＰＥ」）溶液をＣＥ２、ＣＥ６、ＥＸ１、及びＥＸ２に添加し、２２℃で少なくとも２分間空気中で乾燥させた後のラマンスペクトルを示す。この一連のスペクトルについて、共焦点ラマン顕微鏡（Ｒｅｎｉｓｈａｗから商品名「ＩＮＶＩＡ」で入手）を使用し、全ての測定パラメータ（対物レンズ、レーザー出力、スペクトル分解能、及び積分時間）は同じであった。明確化のために、オフセットを使用した。ＥＸ２では、１－２－ビス（４－ピリジル）エチレン（「ＢＰＥ」）からの識別可能なＳＥＲＳシグナルは観察されなかった。ＣＥ６、ＥＸ１、及びＥＸ２では、１－２－ビス（４－ピリジル）エチレン（「ＢＰＥ」）からの識別可能なＳＥＲＳシグナルが観察された。１－２－ビス（４－ピリジル）エチレン（「ＢＰＥ」）の主バンドは、１６３９、１６１０、及び１２００ｃｍ－１でそれぞれ現れる。１２００ｃｍ－１のラマンバンドを使用して、ＳＥＲＳ活性基材の１－２－ビス（４－ピリジル）エチレン（「ＢＰＥ」）検出能力を監視した。
図９は、１２００ｃｍ－１での点線の基線を有する１２００ｃｍ－１でのラマンバンドの積分強度（模様入りの塗りつぶし領域）の測定結果を示す。表２（上記）は、ＣＥ６、ＥＸ１、及びＥＸ２について、１２００ｃｍ－１で測定された積分強度を示す。
実施例３（ＥＸ３）
ＥＸ３の試料を調製するには、上述の「コーティングされた基材を位置関係的に緩和させる方法」を使用して「位置関係的にひずみを与えられた」状態の基材上に粒子をコーティングし、次にその基材を位置関係的に緩和させ、続いて銀堆積を行うことによった。銀堆積の厚さは１００ｎｍであった。以下の表３に、ＥＸ３の試料を調製するために使用される基材、コーティング粒子、焼成条件、及び測定された収縮比をまとめる。
ＥＸ３の試料を調製するには、上述の「コーティングされた基材を位置関係的に緩和させる方法」を使用して「位置関係的にひずみを与えられた」状態の基材上に粒子をコーティングし、次にその基材を位置関係的に緩和させ、続いて銀堆積を行うことによった。銀堆積の厚さは１００ｎｍであった。以下の表３に、ＥＸ３の試料を調製するために使用される基材、コーティング粒子、焼成条件、及び測定された収縮比をまとめる。
図１０は、２μＬの１００μＭ １－２－ビス（４－ピリジル）エチレン（「ＢＰＥ」）溶液をＥＸ３に添加し、２２℃で少なくとも２分間空気中で乾燥させる前及び後のラマンスペクトルを示す。この一連のスペクトルについて、共焦点ラマン顕微鏡（「ＩＮＶＩＡ」）を使用し、全ての測定パラメータ（対物レンズ、レーザー出力、スペクトル分解能、及び積分時間）は同じであった。
比較例７及び８並びに実施例４～７（それぞれＣＥ７、ＣＥ８、及びＥＸ４～ＥＸ７）
ＥＸ４～ＥＸ７の試料を調製するには、上述の「コーティングされた基材を位置関係的に緩和させる方法」を使用して「位置関係的にひずみを与えられた」状態の基材上に粒子をコーティングし、次にその基材を位置関係的に緩和させ、続いて金堆積を行うことによった。金堆積の厚さは１００ｎｍであった。ＣＥ７及びＣＥ８は、それぞれ、金の堆積なし及び粒子なしの比較例である。２μＬの１００μＭ １－２－ビス（４－ピリジル）エチレン（「ＢＰＥ」）をＣＥ７、ＣＥ８、及びＥＸ４～ＥＸ７に添加し、２２℃で少なくとも２分間空気中で乾燥させた後、ラマンスペクトルを得た。以下の表４は、基材、コーティング粒子、焼成条件、及び測定された収縮比、並びに２μＬの１００μＭ １－２－ビス（４－ピリジル）エチレン（「ＢＰＥ」）からの１２００ｃｍ－１での積分強度についてまとめている。
ＥＸ４～ＥＸ７の試料を調製するには、上述の「コーティングされた基材を位置関係的に緩和させる方法」を使用して「位置関係的にひずみを与えられた」状態の基材上に粒子をコーティングし、次にその基材を位置関係的に緩和させ、続いて金堆積を行うことによった。金堆積の厚さは１００ｎｍであった。ＣＥ７及びＣＥ８は、それぞれ、金の堆積なし及び粒子なしの比較例である。２μＬの１００μＭ １－２－ビス（４－ピリジル）エチレン（「ＢＰＥ」）をＣＥ７、ＣＥ８、及びＥＸ４～ＥＸ７に添加し、２２℃で少なくとも２分間空気中で乾燥させた後、ラマンスペクトルを得た。以下の表４は、基材、コーティング粒子、焼成条件、及び測定された収縮比、並びに２μＬの１００μＭ １－２－ビス（４－ピリジル）エチレン（「ＢＰＥ」）からの１２００ｃｍ－１での積分強度についてまとめている。
この一連のスペクトルについて、共焦点ラマン顕微鏡（「ＲＥＮＩＳＨＡＷ ＩＮＶＩＡ」）を使用し、全ての測定パラメータ（対物レンズ、レーザー出力、スペクトル分解能、及び積分時間）は同じであった。
実施例８～１４（それぞれＥＸ８～ＥＸ１４）
ＥＸ８～ＥＸ１４の試料を調製するには、上述の方法を使用して「位置関係的にひずみを与えられた」状態の基材上に粒子をコーティングし、次にその基材を位置関係的に緩和させ、続いて金堆積を行うことによった。金堆積の厚さは１００ｎｍであった。焼成条件は１５０℃で２分間であった。２μＬの様々な濃度の１－２－ビス（４－ピリジル）エチレン（「ＢＰＥ」）溶液をＥＸ８～ＥＸ１４に添加し、２２℃で少なくとも２分間空気中で乾燥させた後、ラマンスペクトルを得た。以下の表５は、基材、コーティング粒子、コーティング金属、測定された収縮比、１－２－ビス（４－ピリジル）エチレン（「ＢＰＥ」）濃度、及び２μＬの様々な濃度の１－２－ビス（４－ピリジル）エチレン（「ＢＰＥ」）からの１２００ｃｍ－１での積分強度についてまとめている。
ＥＸ８～ＥＸ１４の試料を調製するには、上述の方法を使用して「位置関係的にひずみを与えられた」状態の基材上に粒子をコーティングし、次にその基材を位置関係的に緩和させ、続いて金堆積を行うことによった。金堆積の厚さは１００ｎｍであった。焼成条件は１５０℃で２分間であった。２μＬの様々な濃度の１－２－ビス（４－ピリジル）エチレン（「ＢＰＥ」）溶液をＥＸ８～ＥＸ１４に添加し、２２℃で少なくとも２分間空気中で乾燥させた後、ラマンスペクトルを得た。以下の表５は、基材、コーティング粒子、コーティング金属、測定された収縮比、１－２－ビス（４－ピリジル）エチレン（「ＢＰＥ」）濃度、及び２μＬの様々な濃度の１－２－ビス（４－ピリジル）エチレン（「ＢＰＥ」）からの１２００ｃｍ－１での積分強度についてまとめている。
この一連のスペクトルについて、共焦点ラマン顕微鏡（「ＲＥＮＩＳＨＡＷ ＩＮＶＩＡ」）を使用し、全ての測定パラメータ（対物レンズ、レーザー出力、スペクトル分解能、及び積分時間）は同じであった。
実施例１５～３４（それぞれＥＸ１５～ＥＸ３４）
ＥＸ１５～ＥＸ３４の試料を調製するには、上述の「コーティングされた基材を位置関係的に緩和させる方法」を使用して「位置関係的にひずみを与えられた」状態の基材上に粒子をコーティングし、次にその基材を位置関係的に緩和させ、続いて金堆積を行うことによった。金層の厚さを、下の表６に示す。
ＥＸ１５～ＥＸ３４の試料を調製するには、上述の「コーティングされた基材を位置関係的に緩和させる方法」を使用して「位置関係的にひずみを与えられた」状態の基材上に粒子をコーティングし、次にその基材を位置関係的に緩和させ、続いて金堆積を行うことによった。金層の厚さを、下の表６に示す。
焼成条件は１５０℃で２分間であった。４μＬの１０μＭ １－２－ビス（４－ピリジル）エチレン（「ＢＰＥ」）をＥＸ１５～ＥＸ３４に添加し、２２℃で少なくとも２分間空気中で乾燥させた後、ラマンスペクトルを得た。表６（上記）は、基材、コーティング粒子、コーティング金属、金属厚、測定された収縮比、及び４μＬの１０μＭ １－２－ビス（４－ピリジル）エチレン（「ＢＰＥ」）からの１２００ｃｍ－１での積分強度についてまとめている。
この一連のスペクトルについて、ラマン顕微鏡（「ＳＮＯＷＹ ＲＡＮＧＥ ＩＭ－５２」）を使用し、全ての測定パラメータ（対物レンズ、レーザー出力、スペクトル分解能、及び積分時間）は同じであった。
実施例３５～３８（それぞれＥＸ３５～ＥＸ３８）
ＥＸ３５～ＥＸ３８の試料を調製するには、上述の「コーティングされた基材を位置関係的に緩和させる方法」を使用して「位置関係的にひずみを与えられた」状態の基材上に粒子をコーティングし、次にその基材を位置関係的に緩和させ、続いて金堆積を行うことによった。金層の厚さは１００ｎｍであった。焼成条件は１５０℃で２分間であった。４μＬの１００μＭ １－２－ビス（４－ピリジル）エチレン（「ＢＰＥ」）をＥＸ３５～ＥＸ３８に添加し、２２℃で少なくとも２分間空気中で乾燥させた後、ラマンスペクトルを得た。以下の表７は、基材、コーティング粒子、コーティング金属、測定された収縮比、及び４μＬの１００μＭ １－２－ビス（４－ピリジル）エチレン（「ＢＰＥ」）からの１２００ｃｍ－１での積分強度についてまとめている。
ＥＸ３５～ＥＸ３８の試料を調製するには、上述の「コーティングされた基材を位置関係的に緩和させる方法」を使用して「位置関係的にひずみを与えられた」状態の基材上に粒子をコーティングし、次にその基材を位置関係的に緩和させ、続いて金堆積を行うことによった。金層の厚さは１００ｎｍであった。焼成条件は１５０℃で２分間であった。４μＬの１００μＭ １－２－ビス（４－ピリジル）エチレン（「ＢＰＥ」）をＥＸ３５～ＥＸ３８に添加し、２２℃で少なくとも２分間空気中で乾燥させた後、ラマンスペクトルを得た。以下の表７は、基材、コーティング粒子、コーティング金属、測定された収縮比、及び４μＬの１００μＭ １－２－ビス（４－ピリジル）エチレン（「ＢＰＥ」）からの１２００ｃｍ－１での積分強度についてまとめている。
この一連のスペクトルについて、ラマン顕微鏡（「ＳＮＯＷＹ ＲＡＮＧＥ ＩＭ－５２」）を使用し、全ての測定パラメータ（対物レンズ、レーザー出力、スペクトル分解能、及び積分時間）は同じであった。
比較例９及び実施例３９～４６（それぞれ、ＣＥ９及びＥＸ３９～ＥＸ４６）
ＥＸ３９～ＥＸ４６の試料を調製するには、上述の方法を使用して「位置関係的にひずみを与えられた」状態の基材上に粒子をコーティングし、次にその基材を位置関係的に緩和させ、続いて銀堆積を行うことによった。堆積した銀の厚さを、下の表８に示す。
ＥＸ３９～ＥＸ４６の試料を調製するには、上述の方法を使用して「位置関係的にひずみを与えられた」状態の基材上に粒子をコーティングし、次にその基材を位置関係的に緩和させ、続いて銀堆積を行うことによった。堆積した銀の厚さを、下の表８に示す。
ＣＥ９については、銀を堆積させなかった。焼成条件は１５０℃で２分間であった。４μＬの１μＭ １－２－ビス（４－ピリジル）エチレン（「ＢＰＥ」）をＥＸ４７～ＥＸ５３に添加し、２２℃で少なくとも２分間空気中で乾燥させた後、ラマンスペクトルを得た。以下の表８は、基材、コーティング粒子、コーティング金属、金属厚、測定された収縮比、及び４μＬの１μＭ １－２－ビス（４－ピリジル）エチレン（「ＢＰＥ」）からの１２００ｃｍ－１での積分強度についてまとめている。
この一連のスペクトルについて、ラマン顕微鏡（「ＳＮＯＷＹ ＲＡＮＧＥ ＩＭ－５２」）を使用し、全ての測定パラメータ（対物レンズ、レーザー出力、スペクトル分解能、及び積分時間）は同じであった。
実施例４７～５３（ＥＸ４７～ＥＸ５３）
ＥＸ４７～ＥＸ５３の試料を調製するには、上述の方法を使用して「位置関係的にひずみを与えられた」状態の基材上に粒子をコーティングし、次にその基材を位置関係的に緩和させ、続いて銀及び金堆積を行うことによった。最初に５０ｎｍの銀を堆積させ、続いて５０ｎｍの金を堆積させた。焼成条件は１５０℃で２分間であった。収縮比は４．８０：１であった。４μＬの様々な濃度の１－２－ビス（４－ピリジル）エチレン（「ＢＰＥ」）溶液をＥＸ４７～ＥＸ５３に添加し、２２℃で少なくとも２分間空気中で乾燥させた後、ラマンスペクトルを得た。以下の表９は、基材、コーティング粒子、コーティング金属、１－２－ビス（４－ピリジル）エチレン（「ＢＰＥ」）濃度、及び４μＬの様々な濃度の１－２－ビス（４－ピリジル）エチレン（「ＢＰＥ」）からの１２００ｃｍ－１での積分強度についてまとめている。
ＥＸ４７～ＥＸ５３の試料を調製するには、上述の方法を使用して「位置関係的にひずみを与えられた」状態の基材上に粒子をコーティングし、次にその基材を位置関係的に緩和させ、続いて銀及び金堆積を行うことによった。最初に５０ｎｍの銀を堆積させ、続いて５０ｎｍの金を堆積させた。焼成条件は１５０℃で２分間であった。収縮比は４．８０：１であった。４μＬの様々な濃度の１－２－ビス（４－ピリジル）エチレン（「ＢＰＥ」）溶液をＥＸ４７～ＥＸ５３に添加し、２２℃で少なくとも２分間空気中で乾燥させた後、ラマンスペクトルを得た。以下の表９は、基材、コーティング粒子、コーティング金属、１－２－ビス（４－ピリジル）エチレン（「ＢＰＥ」）濃度、及び４μＬの様々な濃度の１－２－ビス（４－ピリジル）エチレン（「ＢＰＥ」）からの１２００ｃｍ－１での積分強度についてまとめている。
この一連のスペクトルについて、ラマン顕微鏡（「ＳＮＯＷＹ ＲＡＮＧＥ ＩＭ－５２」）を使用し、全ての測定パラメータ（対物レンズ、レーザー出力、スペクトル分解能、及び積分時間）は同じであった。
本発明の範囲及び趣旨から外れることなく、本開示の予測可能な修正及び変更が当業者にとって自明であろう。本発明は、例示目的のために本出願に記載されている実施形態に限定されるものではない。
Claims (9)
- 第１主表面を有する位置関係的に緩和されたポリマー基材を含む物品であって、前記第１主表面は、前記第１主表面に付着した複数の二次元粒子を含み、複数の前記二次元粒子が、集団的外表面と、前記集団的外表面の少なくとも一部分の上のプラズモン材料を含む層とを有し、前記粒子の数の少なくとも５０％において、個々の前記粒子の少なくとも２０％の、前記ポリマー基材の前記第１主表面から５度～１７５度の範囲の接線角を有する点からなる表面エリアがあり、前記プラズモン材料が金を含む場合には前記プラズモン材料を含む層が少なくとも２５ｎｍの平面等価厚を有し、前記プラズモン材料が金以外の材料を含む場合には前記プラズモン材料を含む層が少なくとも１０ｎｍの平面等価厚を有する、物品。
- 前記粒子が誘電体材料を含む、請求項１に記載の物品。
- 前記複数の粒子とプラズモン材料との間に配置された誘電体層を更に含む、請求項１または２に記載の物品。
- 物品であって、第１主表面を有する位置関係的に緩和されたポリマー基材であって、前記ポリマー基材の前記第１主表面上に結合層を有するポリマー基材と、前記結合層に付着し、集団的外表面、及び前記集団的外表面の少なくとも一部分の上にプラズモン材料を含む層を有する複数の二次元粒子と、を含み、前記粒子の各々が、外表面を有しており、前記粒子の数の少なくとも５０％において、個々の前記粒子の少なくとも２０％の、前記ポリマー基材の前記第１主表面から５度～１７５度の範囲の接線角を有する点からなる表面エリアがあり、前記プラズモン材料が金を含む場合には前記プラズモン材料を含む層が少なくとも２５ｎｍの平面等価厚を有し、前記プラズモン材料が金以外の材料を含む場合には前記プラズモン材料を含む層が少なくとも１０ｎｍの平面等価厚を有する、物品。
- 粒子を配向させる方法であって、
複数の粒子をポリマー基材の主表面に適用して、前記ポリマー基材の前記主表面上に、コーティングであって、前記コーティングが複数の前記粒子を含み、前記粒子の各々が独立して前記ポリマー基材の前記主表面から０度以上９０度未満の角度である鋭角を有するものである、コーティングを設けることと、
前記コーティングされたポリマー基材を位置関係的に緩和させることであって、緩和させると、前記粒子の数の少なくとも５０％が、少なくとも５度より大きく、前記ポリマー基材の前記第１主表面から離れて前記鋭角を変化させ、前記粒子が集団的外表面を有する、緩和させることと、
前記集団的外表面の少なくとも一部分の上にプラズモン材料を含む層を堆積させることと、
を含み、
前記プラズモン材料が金を含む場合には前記プラズモン材料を含む層が少なくとも２５ｎｍの平面等価厚を有し、前記プラズモン材料が金以外の材料を含む場合には前記プラズモン材料を含む層が少なくとも１０ｎｍの平面等価厚を有する、
方法。 - 前記コーティングされたポリマー基材が初期の長さを有し、少なくとも一次元で前記初期の長さの少なくとも２０％に位置関係的に緩和される、請求項５に記載の方法。
- 前記コーティングされたポリマー基材が初期の長さを有し、少なくとも一次元で前記初期の長さの少なくとも２０％に位置関係的に緩和される、請求項５～６のいずれか一項に記載の方法。
- 請求項１～４のいずれか一項に記載の物品と、
検体の存在を分光学的に特定するため、前記物品を使用するための使用説明書と、
を含む、キット。 - 検体の存在を分光学的に特定する方法であって、
対象検体を請求項１～４のいずれか一項に記載の物品に吸着させることと、
前記吸着された検体に電磁放射線を照射することと、
前記照射され吸着された検体の電磁散乱スペクトル、電磁反射スペクトル、電磁発光スペクトル、又は電磁吸収スペクトルのうちの少なくとも１つを得ることと、
前記スペクトルを分析して、前記照射され吸着された検体の電磁散乱、電磁反射、電磁発光、又は電磁吸収特性のそれぞれを特定することと、
を含む、方法。
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