JP7096656B2 - Coating composition, conductive film, touch panel and manufacturing method - Google Patents

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Description

本発明は、導電性膜形成用コーティング組成物に関し、特に、タッチパネルの導電性膜形成用コーティング組成物に関する。 The present invention relates to a coating composition for forming a conductive film, and more particularly to a coating composition for forming a conductive film of a touch panel.

従来、液晶表示パネルの種類としては、かつてはTN(ツイスト・ネマチック)形に代表される縦電界方式が大勢を占めていたが、最近では横電界方式と称される液晶表示パネルも主流となってきている。横電界方式の液晶表示パネルは縦電界方式に比べて視野角が広いという利点があるが、縦電界方式の液晶表示パネルには発生しない課題として、液晶表示パネルの外部又は内部からの静電的な影響や外部の電磁的妨害を受けて、黒表示したとき光抜けが生ずるなど、表示品位が低下するという問題があった。これは、横電界方式の液晶表示パネルは、片方の透明基板に表示用電極と基準電極とが集積した構造になっているため、外部からの静電気等に対するシールド機能を備える導電層を全く有していない構成となっているためである。 Conventionally, the majority of liquid crystal display panels used to be the vertical electric field method represented by the TN (twist nematic) type, but recently, the liquid crystal display panel called the horizontal electric field method has also become mainstream. It's coming. The horizontal electric field type liquid crystal display panel has an advantage that the viewing angle is wider than the vertical electric field type, but as a problem that does not occur in the vertical electric field type liquid crystal display panel, electrostatic from the outside or the inside of the liquid crystal display panel is electrostatic. There is a problem that the display quality is deteriorated, such as light omission when the display is black due to the influence or external electromagnetic interference. This is because the horizontal electric field type liquid crystal display panel has a structure in which a display electrode and a reference electrode are integrated on one transparent substrate, so that it has a conductive layer having a shielding function against static electricity from the outside. This is because it is not configured.

横電界方式におけるこのようなパネル構成上の問題を解決するため、液晶表示パネルの透明基板のうち、バックライトユニットに対して遠い側の透明基板の液晶層とは反対側の面に透光性を備える導電層を形成し、静電気放電(ESD)機能を持たせるという技術が提案されており、具体的には導電層としてITO等を含む帯電防止膜を形成する方法が実用化されている。 In order to solve such a panel configuration problem in the transverse electric field method, the surface of the transparent substrate of the liquid crystal display panel on the side opposite to the liquid crystal layer of the transparent substrate on the side far from the backlight unit is translucent. A technique has been proposed in which a conductive layer comprising the above is formed to have an electrostatic discharge (ESD) function, and specifically, a method of forming an antistatic film containing ITO or the like as a conductive layer has been put into practical use.

また、タッチパネルの種類としては、タッチパネルセンサ上への位置を検出する原理に基づき、種々の方式が提案されている。スマートホンでは、光学的に明るく、構造がシンプルであることから、静電容量方式が多用されている。原理としては、位置を検知されるべき外部導体が誘電体を介してタッチパネルセンサ層に接触することにより、新たに奇生容量が発生し、この容量結合の変化を利用して、対象物の位置を検出する機構である。 Further, as a type of touch panel, various methods have been proposed based on the principle of detecting the position on the touch panel sensor. Capacitance methods are often used in smart phones because they are optically bright and have a simple structure. In principle, when the outer conductor whose position should be detected comes into contact with the touch panel sensor layer via the dielectric, a new parasite capacitance is generated, and the change in this capacitive coupling is used to position the object. It is a mechanism to detect.

最近では、スマートホン等に用いられる液晶表示装置に代表されるように、タッチパネル機能を有する液晶表示パネルを用いた液晶表示装置の需要が増大している。タッチパネル機能内蔵型液晶表示パネルの一例に、オンセル型タッチパネルと呼ばれるものがある。オンセル型タッチパネルは、タッチ検出電極がカラーフィルタ基板と上部偏光板の間に積層された層構造を有する、タッチパネル機能内蔵型液晶表示パネルである。 Recently, there is an increasing demand for a liquid crystal display device using a liquid crystal display panel having a touch panel function, as typified by a liquid crystal display device used for smart phones and the like. An example of a liquid crystal display panel with a built-in touch panel function is a so-called on-cell touch panel. The on-cell touch panel is a liquid crystal display panel with a built-in touch panel function, which has a layered structure in which touch detection electrodes are laminated between a color filter substrate and an upper polarizing plate.

特許文献1にはタッチパネル機能内蔵型液晶表示パネルの構造が記載されている。特許文献1の図6に示されているタッチパネルは、2枚の偏光板4、54の間に順番に積層された、TFTアレイ基板21、タッチパネル駆動電極COML、液晶層6、カラーフィルタ32、タッチ検出電極CB1、保護層33、接着層51、導電層52、カバー層53を備える層構造を有する。 Patent Document 1 describes the structure of a liquid crystal display panel with a built-in touch panel function. The touch panel shown in FIG. 6 of Patent Document 1 is a TFT array substrate 21, a touch panel drive electrode COML, a liquid crystal layer 6, a color filter 32, and a touch, which are sequentially laminated between two polarizing plates 4 and 54. It has a layer structure including a detection electrode CB1, a protective layer 33, an adhesive layer 51, a conductive layer 52, and a cover layer 53.

上記導電層52は、導電機能を持ち、TFTアレイ基板に導通されている。そのことにより、導電層52は、偏光板5の表面に静電気が加えられたときの画像の表示の乱れを低減する。あるいは、導電層52は、偏光板5の表面に静電気が加えられたときのタッチ検出感度の低下を、防止または抑制する。 The conductive layer 52 has a conductive function and is conductive to the TFT array substrate. As a result, the conductive layer 52 reduces the distortion of the image display when static electricity is applied to the surface of the polarizing plate 5. Alternatively, the conductive layer 52 prevents or suppresses a decrease in the touch detection sensitivity when static electricity is applied to the surface of the polarizing plate 5.

オンセル型タッチパネルは優れた感度を示すため、高品質が要求される液晶表示装置に採用される。 Since the on-cell touch panel exhibits excellent sensitivity, it is used in liquid crystal display devices that require high quality.

特開2016-4183号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2016-4183

タッチパネルについては、液晶表示パネルの表示性能が向上するに伴って、タッチ検出感度、動作の信頼性及び安定性等のタッチパネル性能をより向上させることが要求されている。 As for the touch panel, as the display performance of the liquid crystal display panel is improved, it is required to further improve the touch panel performance such as touch detection sensitivity, operation reliability and stability.

本発明は、鎖状導電性無機粒子と、バインダと、高沸点溶剤と、低沸点溶剤とを含むコーティング組成物であって、
該コーティング組成物は、鎖状導電性無機粒子の含有量が鎖状導電性無機粒子及びバインダの合計量に対して10~70質量%であり、
2枚の偏光板の間に順番に積層された、TFT基板、液晶層、カラーフィルタ基板、及びタッチパネル基板を有するタッチパネルにおいて、該タッチパネル基板の電極パターンが存在する表面に導電性膜を形成する用途に使用されるものである、コーティング組成物を提供する。
The present invention is a coating composition containing chain conductive inorganic particles, a binder, a high boiling point solvent, and a low boiling point solvent.
The coating composition has a content of the chain conductive inorganic particles of 10 to 70% by mass with respect to the total amount of the chain conductive inorganic particles and the binder.
Used for forming a conductive film on the surface of a touch panel substrate having an electrode pattern in a touch panel having a TFT substrate, a liquid crystal layer, a color filter substrate, and a touch panel substrate, which are sequentially laminated between two polarizing plates. Provided is a coating composition that is to be used.

ある一形態においては、前記コーティング組成物は、前記鎖状導電性無機粒子と前記バインダから成る固形分を0.1~5.0質量%の量で含有し、7.0mPa・s以下の粘度を有する。 In one embodiment, the coating composition contains a solid content of the chain conductive inorganic particles and the binder in an amount of 0.1 to 5.0% by mass and a viscosity of 7.0 mPa · s or less. Has.

ある一形態においては、前記鎖状導電性無機粒子は、粒子径が2~30nmの一次粒子が2~50個連接してなるものである。 In one embodiment, the chain conductive inorganic particles are formed by connecting 2 to 50 primary particles having a particle size of 2 to 30 nm.

ある一形態においては、前記鎖状導電性無機粒子は、アンチモン含有酸化スズ粒子、スズ含有酸化インジウム粒子及びリン含有酸化スズ粒子からなる群から選ばれる少なくとも1種の粒子を含むものである。 In one embodiment, the chain conductive inorganic particles include at least one particle selected from the group consisting of antimony-containing tin oxide particles, tin-containing indium oxide particles, and phosphorus-containing tin oxide particles.

ある一形態においては、前記タッチパネルは、TFT基板とカラーフィルタ基板との間に積層された第二のタッチパネル基板を有するタッチパネルである。 In one embodiment, the touch panel is a touch panel having a second touch panel substrate laminated between a TFT substrate and a color filter substrate.

また、本発明は、2枚の偏光板の間に順番に積層された、TFT基板、液晶層、カラーフィルタ基板、及びタッチパネル基板を有するタッチパネルのタッチパネル基板の上面に、前記いずれかのコーティング組成物を使用して形成された、導電性膜を提供する。 Further, in the present invention, any of the above coating compositions is used on the upper surface of a touch panel substrate of a touch panel having a TFT substrate, a liquid crystal layer, a color filter substrate, and a touch panel substrate, which are sequentially laminated between two polarizing plates. To provide a conductive film formed in the above.

ある一形態においては、前記導電性膜は、2~100nmの膜厚を有する。 In one embodiment, the conductive film has a film thickness of 2-100 nm.

ある一形態においては、前記導電性膜は、1.0×10~1.0×1014Ω/スクエア以上の表面電気抵抗を有する。 In one embodiment, the conductive film has a surface electrical resistance of 1.0 × 10 9 to 1.0 × 10 14 Ω / square or more.

ある一形態においては、前記導電性膜は、3H~9Hの鉛筆硬度を有する。 In one embodiment, the conductive film has a pencil hardness of 3H-9H.

ある一形態においては、前記タッチパネルは、TFT基板とカラーフィルタ基板との間に積層された第二のタッチパネル基板を有するタッチパネルである。 In one embodiment, the touch panel is a touch panel having a second touch panel substrate laminated between a TFT substrate and a color filter substrate.

また、本発明は、2枚の偏光板の間に順番に積層された、TFT基板、液晶層、カラーフィルタ基板、タッチパネル基板、及び前記いずれかの導電性膜を有するタッチパネルを提供する。 The present invention also provides a TFT substrate, a liquid crystal layer, a color filter substrate, a touch panel substrate, and a touch panel having any of the above-mentioned conductive films, which are sequentially laminated between two polarizing plates.

ある一形態においては、前記タッチパネルは、TFT基板とカラーフィルタ基板との間に積層された第二のタッチパネル基板を有するタッチパネルである。 In one embodiment, the touch panel is a touch panel having a second touch panel substrate laminated between a TFT substrate and a color filter substrate.

また、本発明は、2枚の偏光板の間に順番に積層された、TFT基板、液晶層、カラーフィルタ基板、及びタッチパネル基板を有するタッチパネルにおいて、該タッチパネル基板の電極パターンが存在する表面にコーティング組成物を塗布し乾燥させる工程を包含する導電性膜を形成する方法であって、
該コーティング組成物は、鎖状導電性無機粒子と、バインダと、高沸点溶剤と、低沸点溶剤とを含み、
該鎖状導電性無機粒子の含有量が鎖状導電性無機粒子及びバインダの合計量に対して10~70質量%であり、
該塗布はスプレーコート法を使用して行われる方法を提供する。
Further, according to the present invention, in a touch panel having a TFT substrate, a liquid crystal layer, a color filter substrate, and a touch panel substrate, which are sequentially laminated between two polarizing plates, a coating composition is provided on the surface where the electrode pattern of the touch panel substrate is present. A method of forming a conductive film, which comprises a step of applying and drying.
The coating composition comprises chain conductive inorganic particles, a binder, a high boiling point solvent, and a low boiling point solvent.
The content of the chain conductive inorganic particles is 10 to 70% by mass with respect to the total amount of the chain conductive inorganic particles and the binder.
The coating provides a method performed using a spray coating method.

本発明によれば、タッチパネルのタッチ検出感度、動作の経時安定性等のタッチパネル性能を向上させることができるコーティング組成物、導電性膜が提供される。また、本発明によれば、タッチ検出感度、動作の信頼性及び安定性等のタッチパネル性能が向上したタッチパネルが提供される。 According to the present invention, there is provided a coating composition and a conductive film capable of improving touch panel performance such as touch detection sensitivity of a touch panel and stability over time of operation. Further, according to the present invention, there is provided a touch panel having improved touch panel performance such as touch detection sensitivity, operation reliability and stability.

本発明の一実施形態であるオンセル型タッチパネルの構造を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the on-cell type touch panel which is one Embodiment of this invention. 本発明のコーティング組成物を適用することができるオンセル型タッチパネルの層構造を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the layer structure of the on-cell type touch panel to which the coating composition of this invention can be applied. 本発明のコーティング組成物を適用することができるインセル型タッチパネルの層構造を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the layer structure of the in-cell type touch panel to which the coating composition of this invention can be applied. 実施例1で用いた鎖状アンチモン含有酸化スズ粒子の透過型電子顕微鏡写真である。6 is a transmission electron micrograph of the tin oxide particles containing chain antimony used in Example 1. 図4を拡大した透過型電子顕微鏡写真である。FIG. 4 is an enlarged transmission electron micrograph of FIG. 4.

本発明のコーティング組成物が適用されるタッチパネルは、電極に対して近接または接触する物体の容量に応じて変化する静電容量を検出する静電容量方式タッチパネルである。また、前記タッチパネルが使用されるタッチ検出機能付き液晶表示装置は、表示装置を形成するTFT基板および対向基板のいずれか一方にタッチ検出用の検出電極が設けられた横電界方式液晶表示装置である。 The touch panel to which the coating composition of the present invention is applied is a capacitance type touch panel that detects a capacitance that changes according to the capacitance of an object that is close to or in contact with an electrode. Further, the liquid crystal display device with a touch detection function in which the touch panel is used is a horizontal electric field type liquid crystal display device in which a detection electrode for touch detection is provided on either one of the TFT substrate and the facing substrate forming the display device. ..

(コーティング組成物)
先ず、本実施形態のコーティング組成物について説明する。
(Coating composition)
First, the coating composition of the present embodiment will be described.

本実施形態のコーティング組成物は、鎖状導電性無機粒子と、バインダと、高沸点溶剤と、低沸点溶剤とを含有している。また、上記鎖状導電性無機粒子の含有量は、上記鎖状導電性無機粒子及び上記バインダの合計量に対して、10~70質量%である。 The coating composition of the present embodiment contains chain conductive inorganic particles, a binder, a high boiling point solvent, and a low boiling point solvent. The content of the chain conductive inorganic particles is 10 to 70% by mass with respect to the total amount of the chain conductive inorganic particles and the binder.

上記コーティング組成物を用いることにより、ESD機能が高く、且つタッチ感度を低下させないと共に、光透過率と硬度に優れた導電性膜を提供できる。 By using the above coating composition, it is possible to provide a conductive film having a high ESD function, not lowering the touch sensitivity, and having excellent light transmittance and hardness.

<鎖状導電性無機粒子>
本実施形態のコーティング組成物は、上記鎖状導電性無機粒子の含有量を、上記鎖状導電性無機粒子及び上記バインダの合計量に対して10~70質量%とすることで、ESD機能が高く、且つタッチ感度を低下させない導電性膜を提供できる。上記鎖状導電性無機粒子の含有量が10質量%を下回ると導電性膜のESD機能が低下し、上記鎖状導電性無機粒子の含有量が70質量%を超えるとタッチ感度が低下する。鎖状導電性無機粒子の含有量は、上記鎖状導電性無機粒子及び上記バインダの合計量に対して、好ましくは12~62質量%、より好ましくは14~43質量%、更に好ましくは15~34質量%である。
<Chain-like conductive inorganic particles>
The coating composition of the present embodiment has an ESD function by setting the content of the chain conductive inorganic particles to 10 to 70% by mass with respect to the total amount of the chain conductive inorganic particles and the binder. It is possible to provide a conductive film which is high and does not reduce the touch sensitivity. When the content of the chain conductive inorganic particles is less than 10% by mass, the ESD function of the conductive film is lowered, and when the content of the chain conductive inorganic particles is more than 70% by mass, the touch sensitivity is lowered. The content of the chain conductive inorganic particles is preferably 12 to 62% by mass, more preferably 14 to 43% by mass, and further preferably 15 to 15 to the total amount of the chain conductive inorganic particles and the binder. It is 34% by mass.

また、上記鎖状導電性無機粒子を用いることにより、非鎖状導電性無機粒子を用いた場合に比べて、より少ない量で導電性膜の導電性を高めることができる。これは、無機粒子が鎖状構造を有することにより、無機粒子が単独で存在するよりも、無機粒子相互間の導電性ネットワークが増加して、導電性膜の全体において導電性が向上するためと思われる。このため、導電性膜の所定の導電性を実現するための無機粒子の量を低減できるため、導電性膜の光透過率も向上できる。 Further, by using the above-mentioned chain-like conductive inorganic particles, the conductivity of the conductive film can be enhanced with a smaller amount as compared with the case of using the non-chain-like conductive inorganic particles. This is because the chain structure of the inorganic particles increases the conductive network between the inorganic particles as compared with the presence of the inorganic particles alone, and the conductivity of the entire conductive film is improved. Seem. Therefore, since the amount of inorganic particles for realizing the predetermined conductivity of the conductive film can be reduced, the light transmittance of the conductive film can also be improved.

上記鎖状導電性無機粒子とは、一次粒子が連結した鎖状の二次粒子を指す。一次粒子とは、単独で存在する粒子を意味し、二次粒子とは、一次粒子が二以上で存在する粒子を意味する。具体的に、上記鎖状導電性無機粒子としては、粒子径が2~30nmの一次粒子が2~50個連接してなるものを用いることが好ましく、3~20個連接してなることがより好ましい。上記粒子径の一次粒子の連接数が50個を超えると、粒子の散乱によって導電性膜のヘイズ値が上昇する傾向にある。また、上記粒子径の一次粒子の連接数が2個を下回ると、粒子が非鎖状となり無機粒子相互間の導電性ネットワークの形成が困難となり、導電性膜の導電性が低下する。 The chain-shaped conductive inorganic particles refer to chain-shaped secondary particles in which primary particles are linked. The primary particle means a particle existing alone, and the secondary particle means a particle in which two or more primary particles exist. Specifically, as the chain conductive inorganic particles, it is preferable to use 2 to 50 primary particles having a particle size of 2 to 30 nm, and 3 to 20 primary particles are more likely to be connected. preferable. When the number of connected primary particles having a particle size exceeds 50, the haze value of the conductive film tends to increase due to the scattering of the particles. Further, when the number of connected primary particles having a particle size of less than two is less than two, the particles become non-chained, it becomes difficult to form a conductive network between the inorganic particles, and the conductivity of the conductive film is lowered.

上記粒子径と連結数は、例えば、コーティング組成物を低沸点溶剤で希釈し、各種基材上に2~10nmの膜厚で薄く塗布した導電性膜を、透過型電子顕微鏡(TEM)により、鎖状導電性無機粒子を構成する個々の粒子の粒子径と連結数を観察・測定して求めることができる。 The particle size and the number of connections are determined by, for example, a conductive film obtained by diluting the coating composition with a low boiling point solvent and thinly coating it on various substrates with a thickness of 2 to 10 nm by a transmission electron microscope (TEM). It can be obtained by observing and measuring the particle size and the number of connections of the individual particles constituting the chain conductive inorganic particles.

上記鎖状導電性無機粒子としては、透明性と導電性を兼ね備えた鎖状粒子であれば特に限定されず、例えば、金属粒子、カーボン粒子、導電性金属酸化物粒子、導電性窒化物粒子等を用いることができる。中でも、透明性と導電性とを兼ね備えた導電性金属酸化物粒子が好ましい。上記導電性金属酸化物粒子としては、酸化スズ粒子、酸化アンチモン粒子、アンチモン含有酸化スズ(ATO)粒子、スズ含有酸化インジウム(ITO)粒子、リン含有酸化スズ(PTO)粒子、アルミニウム含有酸化亜鉛(AZO)粒子、ガリウム含有酸化亜鉛(GZO)粒子等の金属酸化物粒子が挙げられる。上記導電性金属酸化物粒子は、単独で用いてもよく、2種以上を組合せて用いてもよい。また、上記鎖状導電性無機粒子は、ATO粒子、ITO粒子及びPTO粒子からなる群から選ばれる少なくとも1種を含むことが好ましい。これらの導電性無機粒子は、透明性、導電性及び化学特性に優れており、導電性膜にした場合にも高い光透過率と導電性を実現することができるからである。 The chain conductive inorganic particles are not particularly limited as long as they are chain particles having both transparency and conductivity, and for example, metal particles, carbon particles, conductive metal oxide particles, conductive nitride particles and the like. Can be used. Of these, conductive metal oxide particles having both transparency and conductivity are preferable. Examples of the conductive metal oxide particles include tin oxide particles, antimony oxide particles, antimony-containing tin oxide (ATO) particles, tin-containing indium oxide (ITO) particles, phosphorus-containing tin oxide (PTO) particles, and aluminum-containing zinc oxide (. Examples thereof include metal oxide particles such as AZO) particles and gallium-containing zinc oxide (GZO) particles. The conductive metal oxide particles may be used alone or in combination of two or more. Further, the chain conductive inorganic particles preferably contain at least one selected from the group consisting of ATO particles, ITO particles and PTO particles. This is because these conductive inorganic particles are excellent in transparency, conductivity and chemical properties, and can realize high light transmittance and conductivity even when a conductive film is formed.

上記鎖状導電性無機粒子の製造方法は、特に限定されないが、例えば、特開2000-196287号公報、特開2005-139026号公報、特開2006-339113号公報、特開2012-25793号公報に記載の製造方法を採用することができる。 The method for producing the chain conductive inorganic particles is not particularly limited, and for example, JP-A-2000-196287, JP-A-2005-139026, JP-A-2006-339113, and JP-A-2012-25793 are not particularly limited. The manufacturing method described in the above can be adopted.

<バインダ>
上記バインダとしては、上記鎖状導電性無機粒子を分散して塗膜を形成できるものであれば特に限定されず、無機系バインダ及び有機系バインダのいずれも使用できる。上記バインダの含有量は、上記鎖状導電性無機粒子及び上記バインダの合計量に対して20質量%以上とすることが好ましい。20質量%を下回ると導電性薄膜の強度が低下する傾向があるからである。
<Binder>
The binder is not particularly limited as long as it can disperse the chain conductive inorganic particles to form a coating film, and either an inorganic binder or an organic binder can be used. The content of the binder is preferably 20% by mass or more with respect to the total amount of the chain conductive inorganic particles and the binder. This is because if it is less than 20% by mass, the strength of the conductive thin film tends to decrease.

上記無機系バインダとしては、例えば、アルコキシシランが使用できる。より具体的には、上記アルコキシシランは、3~4個のアルコキシ基がケイ素に結合した化合物であって、水に溶解させると、重合して-OSiO-で繋がれた高分子量SiO体になるものを使用できる。 As the inorganic binder, for example, alkoxysilane can be used. More specifically, the alkoxysilane is a compound in which 3 to 4 alkoxy groups are bonded to silicon, and when dissolved in water, it polymerizes into two high molecular weight SiO bodies connected by -OSiO-. Can be used.

上記アルコキシシランとしては、テトラアルコキシシラン、トリアルコキシシラン、ジアルコキシシラン及びアルコキシシランオリゴマーからなる群から選ばれる少なくとも1種の多官能アルコキシシランを含むものであることが好ましい。アルコキシシランオリゴマーとは、アルコキシシランのモノマー同士が縮合することで形成される高分子量化されたアルコキシシランであり、シロキサン結合(-OSiO-)を1分子内に2個以上有するオリゴマーのことをいう。その結合数は2~20個であることが好ましい。 The alkoxysilane preferably contains at least one polyfunctional alkoxysilane selected from the group consisting of tetraalkoxysilane, trialkoxysilane, dialkoxysilane, and alkoxysilane oligomer. The alkoxysilane oligomer is a high molecular weight alkoxysilane formed by condensation of alkoxysilane monomers, and refers to an oligomer having two or more siloxane bonds (-OSiO-) in one molecule. .. The number of bonds is preferably 2 to 20.

上記テトラアルコキシシランの例としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラiso-プロポキシシラン、テトラt-ブトキシシラン等の炭素数1~4のアルコキシ基でテトラ置換されたシランが挙げられる。 Examples of the tetraalkoxysilane include silanes substituted with an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms such as tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, tetraiso-propoxysilane, and tetrat-butoxysilane. Will be.

上記トリアルコキシシランの例としては、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、トリプロポキシシラン、トリブトキシシラン、トリiso-プロポキシシラン、トリL-ブトキシシラン等の炭素数1~4のアルコキシ基でトリ置換されたシラン、“KBM-13(メチルトリメトキシシラン)”、“KBE-13(メチルトリエトキシシラン)”等の一部がアルキル基で置換されたシランが挙げられる。 Examples of the above-mentioned trialkoxysilane are tri-substituted with an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms such as trimethoxysilane, triethoxysilane, tripropoxysilane, tributoxysilane, triiso-propoxysilane, and triL-butoxysilane. Examples thereof include silanes such as "KBM-13 (methyltrimethoxysilane)" and "KBE-13 (methyltriethoxysilane)" in which a part thereof is substituted with an alkyl group.

上記ジアルコキシシランの例としては、ジメチルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン等の炭素数1~4のアルコキシ基でジ置換されたシラン、“KBM-22(ジメチルジメトキシシラン)”、“KBE-22(ジメチルジエトキシシラン)”等の一部がアルキル基で置換されたシランが挙げられる。 Examples of the dialkoxysilane include "KBM-22 (dimethyldimethoxy), which is a silane di-substituted with an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms such as dimethyldimethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, and diphenyldiethoxysilane. Examples thereof include silane in which a part of "silane)", "KBE-22 (dimethyldiethoxysilane)" and the like are substituted with an alkyl group.

上記アルコキシシランオリゴマーの例としては、有機基とアルコキシシリル基を併せ持つ比較的低分子のアルコキシシランオリゴマーが挙げられる。具体例としては、信越化学社製の“X-40-2308”、“X-40-9238”、“X-40-9247”、“KR-401N”、“KR-510”、“KR-9218”、コルコート社製の“エチルシリケート40”、“エチルシリケート48”、“メチルシリケート51”、“メチルシリケート53A”等が挙げられる。 Examples of the alkoxysilane oligomer include a relatively low molecular weight alkoxysilane oligomer having both an organic group and an alkoxysilyl group. As specific examples, "X-40-2308", "X-40-9238", "X-40-9247", "KR-401N", "KR-510", "KR-9218" manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. , "Ethyl silicate 40", "Ethyl silicate 48", "Methyl silicate 51", "Methyl silicate 53A" and the like manufactured by Corcote.

上記アルコキシシランの具体例のうち、より高い硬度の導電性薄膜を形成するためには、テトラアルコキシラン、テトラアルコキシシラン及びトリアルコキシシランの併用、一部がアルキル基で置換されたトリアルコキシシランやジアルコキシシラン、官能基がアルコキシシリル基であるアルコキシシランオリゴマーが好ましい。これらを用いることにより、バインダ分子間のシロキサン結合を促進させた3次元架橋により導電性膜の硬度が強くなり、経時変化によって導電性薄膜に亀裂が発生する危険性をより一層なくし、且つ基板との密着性をより高めることができるからである。 Among the specific examples of the above alkoxysilanes, in order to form a conductive thin film having a higher hardness, tetraalkoxylan, tetraalkoxysilane and trialkoxysilane may be used in combination, or trialkoxysilane in which a part is substituted with an alkyl group or the like. Alkoxysilane and an alkoxysilane oligomer having an alkoxysilyl group as a functional group are preferable. By using these, the hardness of the conductive film becomes stronger due to the three-dimensional cross-linking that promotes the siloxane bond between the binder molecules, the risk of cracking in the conductive thin film due to aging is further eliminated, and the substrate and the substrate are used. This is because the adhesiveness of the film can be further enhanced.

更に、より安定した状態で再現性良く、良質の膜を形成するためには、コーティング組成物にアルコキシシランの加水分解反応を進め、シラノール化させた状態で使用することが好ましい。その調整方法としては、例えば、アルコール等の低沸点溶剤で希釈したアルコキシシランに水と酸触媒を加えてあらかじめシラノール化させる方法や、導電性コーティング組成物に水と酸触媒を添加しシラノール化させる方法が挙げられる。水の含有量は、アルコキシシランの構造から加水分解率を求めることで理論値が求まるが、コーティング組成物のポットライフやコーティング適性、導電性膜の物理特性に合わせて適宜調整する。上記水の含有量は、アルコキシシラン全体量に対して50~1500質量%とすることが好ましい。50質量%を下回ると導電性薄膜の強度が低下し、1500質量%を超えると乾燥速度が遅くなるといったコーティング適性に影響するからである。 Further, in order to form a high-quality film with good reproducibility in a more stable state, it is preferable to promote the hydrolysis reaction of alkoxysilane in the coating composition and use it in a silanolized state. Examples of the adjusting method include a method of adding water and an acid catalyst to alkoxysilane diluted with a low boiling point solvent such as alcohol to silanolize in advance, and a method of adding water and an acid catalyst to a conductive coating composition to form silanol. The method can be mentioned. The theoretical value of the water content can be obtained by obtaining the hydrolysis rate from the structure of the alkoxysilane, but it is appropriately adjusted according to the pot life of the coating composition, the coating suitability, and the physical characteristics of the conductive film. The content of the water is preferably 50 to 1500% by mass with respect to the total amount of alkoxysilane. This is because if it is less than 50% by mass, the strength of the conductive thin film is lowered, and if it exceeds 1500% by mass, the drying speed is slowed down, which affects the coating suitability.

また、上記有機系バインダとしては、例えば、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、及び光重合性モノマーと重合開始剤とを含む光重合性樹脂等が使用できる。 Examples of the organic binder include acrylic resin, polyester resin, polyamide resin, polycarbonate resin, polyurethane resin, polystyrene resin, polyvinyl chloride resin, polyvinylidene chloride resin, polyvinyl alcohol resin, polyvinyl acetate resin, and light. A photopolymerizable resin containing a polymerizable monomer and a polymerization initiator can be used.

上記光重合性モノマーとしては、3官能以上の(メタ)アクリルモノマーを50~90%含むことが好ましい。ここで、光重合性モノマーの含率は、光重合性モノマー及び重合開始剤の合計質量に対する光重合性モノマーの質量割合を意味する。反応点の多い(メタ)アクリルモノマーを重合・硬化させてマトリックス樹脂とすることで、導電性膜の強度を更に高めることができる。3官能以上の光重合性モノマーの質量割合が50%未満になると、塗膜の硬度が弱くなり、耐久性が低下する。また、上記光重合性モノマーと共に重合開始剤を使用する必要があることから、光重合性モノマーの質量割合が90%を超えることは実質的に困難である。 The photopolymerizable monomer preferably contains 50 to 90% of a trifunctional or higher functional (meth) acrylic monomer. Here, the content of the photopolymerizable monomer means the mass ratio of the photopolymerizable monomer to the total mass of the photopolymerizable monomer and the polymerization initiator. By polymerizing and curing a (meth) acrylic monomer having many reaction points to form a matrix resin, the strength of the conductive film can be further increased. When the mass ratio of the trifunctional or higher photopolymerizable monomer is less than 50%, the hardness of the coating film becomes weak and the durability is lowered. Further, since it is necessary to use a polymerization initiator together with the photopolymerizable monomer, it is practically difficult for the mass ratio of the photopolymerizable monomer to exceed 90%.

3官能(メタ)アクリルモノマーとしては、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート;4官能以上の(メタ)アクリルモノマーとしては、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等が挙げられる。また、光重合性モノマーとしては、一般に販売されている多官能アクリルオリゴマーであってもよく、特に硬化性が高く硬度が高いものが好ましく、例えば、共栄社化学社製の“AH-600”、“UA-306H”や、新中村化学社製の“NKオリゴU-6HA”、“NKオリゴU-15HA”等が挙げられる。 As the trifunctional (meth) acrylic monomer, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, ethoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate; as a tetrafunctional or higher functional (meth) acrylic monomer, Examples thereof include pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, and dipentaerythritol hexaacrylate. Further, the photopolymerizable monomer may be a polyfunctional acrylic oligomer that is generally sold, and particularly preferably one having high curability and high hardness, for example, "AH-600" manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., " Examples thereof include "UA-306H", "NK Oligo U-6HA" and "NK Oligo U-15HA" manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.

また、上記光重合性モノマー中には単官能及び2官能の光重合性モノマーを含有していてもよく、例えば、1,4-ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、エトキシ化ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、シクロヘキサンジメタノールジ(メタ)アクリレート等の2官能重合性モノマー;ビニルピロリドン、ビニルホルムアミド等のビニルモノマー、ブチル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート等のアルキル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート等の脂環式(メタ)アクリレート、(メタ)ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート等のヒドロキシ(メタ)アクリレート、アクリロイルモルフォリン、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート等の窒素含有(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート等の芳香族系(メタ)アクリレート等の単官能重合性モノマーが挙げられる。 Further, the photopolymerizable monomer may contain monofunctional and bifunctional photopolymerizable monomers, for example, 1,4-butanediol di (meth) acrylate and neopentyl glycol di (meth) acrylate. , 1,6-Hexanediol di (meth) acrylate, 1,9 nonanediol di (meth) acrylate, ethoxylated bisphenol A di (meth) acrylate, cyclohexanedimethanol di (meth) acrylate and other bifunctional polymerizable monomers; Vinyl monomers such as vinylpyrrolidone and vinylformamide, alkyl (meth) acrylates such as butyl (meth) acrylate and 2-ethylhexyl (meth) acrylate, alicyclic (meth) such as cyclohexyl (meth) acrylate and isobornyl (meth) acrylate. Hydroxy (meth) acrylates such as acrylates, (meth) hydroxyethyl (meth) acrylates and hydroxypropyl (meth) acrylates, nitrogen-containing (meth) acrylates such as acryloylmorpholine and dimethylaminoethyl (meth) acrylates, benzyl (meth) Examples thereof include monofunctional polymerizable monomers such as aromatic (meth) acrylates such as acrylates, phenoxyethyl (meth) acrylates and tetrahydrofurfuryl acrylates.

上記重合開始剤としては、例えば、ベンジル、ジアセチル等のα-ジケトン類、ベンゾイン等のアシロイン類、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のアシロインエーテル類、チオキサントン、2,4-ジエチルチオキサントン、2-クロロチオキサントン、チオキサントン-4-スルホン酸等のチオキサントン類、ベンゾフェノン、4,4’-ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4’-ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン等のベンゾフェノン類、ミヒラーケトン類、アセトフェノン、2-(4-トルエンスルホニルオキシ)-2-フェニルアセトフェノン、p-ジメチルアミノアセトフェノン、α,α’-ジメトキシアセトキシベンゾフェノン、2,2’-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン、p-メトキシアセトフェノン、2-メチル-1-[4-(メチルチオ)フェニル]-2-モルフォリノプロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルフォリノフェニル)-ブタン-1-オン等のアセトフェノン類、アントラキノン、1,4-ナフトキノン等のキノン類、フェナシルクロライド、トリハロメチルフェニルスルホン、トリス(トリハロメチル)-s-トリアジン等のハロゲン化合物、アシルホスフィンオキシド類、ジ-t-ブチルパーオキサイド等の過酸化物等が挙げられる。 Examples of the polymerization initiator include α-diketones such as benzyl and diacetyl, acyloins such as benzoin, acyloin ethers such as benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether and benzoin isopropyl ether, thioxanthone and 2,4-diethyl. Thioxanthones such as thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, thioxanthone-4-sulfonic acid, benzophenone, benzophenone such as 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, Michiller ketones, Acetphenone, 2- (4-toluenesulfonyloxy) -2-phenylacetophenone, p-dimethylaminoacetophenone, α, α'-dimethoxyacetoxybenzophenone, 2,2'-dimethoxy-2-phenylacetophenone, p-methoxyacetophenone, 2 -Methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butane-1-one, etc. Acetphenones, anthraquinones, quinones such as 1,4-naphthoquinone, halogen compounds such as phenacylloride, trihalomethylphenylsulfone, tris (trihalomethyl) -s-triazine, acylphosphine oxides, di-t-butyl peroxide Examples thereof include peroxides such as.

上記光重合性モノマー及び重合開始剤は、それぞれ1種類を単独で使用してよく、それぞれ2種類以上を併用してもよい。 One type of each of the photopolymerizable monomer and the polymerization initiator may be used alone, or two or more types may be used in combination.

<高沸点溶剤>
上記高沸点溶剤としては、バインダ成分を溶解し、且つ塗布後の乾燥工程によって除去できるものであればよく、例えば、エチレングリコール、ジメチルスルホキシド、N-メチルピロリドン、N-エチルピロリドン、N-メチルホルムアミド、1,2-プロパンジオール、N,N-ジメチルアニリン、クレゾール、ニトロベンゼン、エチレングリコール等を使用できる。高沸点溶剤は、沸点120℃以上の有機系および無機系の溶剤が好ましい。
<High boiling point solvent>
The high boiling point solvent may be any solvent as long as it can dissolve the binder component and can be removed by a drying step after coating. For example, ethylene glycol, dimethyl sulfoxide, N-methylpyrrolidone, N-ethylpyrrolidone, N-methylformamide. , 1,2-Propanediol, N, N-dimethylaniline, cresol, nitrobenzene, ethylene glycol and the like can be used. The high boiling point solvent is preferably an organic or inorganic solvent having a boiling point of 120 ° C. or higher.

上記高沸点溶剤の含有量は、導電性コーティング組成物全量に対して0.1~30.0質量%程度とすればよい。 The content of the high boiling point solvent may be about 0.1 to 30.0% by mass with respect to the total amount of the conductive coating composition.

<低沸点溶剤>
上記低沸点溶剤としては、例えば、エチルアルコール、メチルアルコール、n-プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、n-ブチルアルコール、イソブチルアルコール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、テトラヒドロフラン、アセトン、ジオキサン、酢酸エチル、クロロホルム、アセトニトリル、ピリジン、酢酸、水等を使用できる。上記低沸点溶剤を使用することにより、上記鎖状導電性無機粒子の分散性が向上する。低沸点溶剤は、沸点120℃未満の有機系および無機系の溶剤が好ましい。
<Low boiling point solvent>
Examples of the low boiling point solvent include ethyl alcohol, methyl alcohol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, isobutyl alcohol, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, tetrahydrofuran, acetone, dioxane, ethyl acetate, chloroform, acetonitrile, and the like. Ppyridine, acetic acid, water, etc. can be used. By using the low boiling point solvent, the dispersibility of the chain conductive inorganic particles is improved. The low boiling point solvent is preferably an organic or inorganic solvent having a boiling point of less than 120 ° C.

上記低沸点溶剤の含有量は、導電性コーティング組成物全体量に対して50.0~99.5質量%程度とすればよい。 The content of the low boiling point solvent may be about 50.0 to 99.5% by mass with respect to the total amount of the conductive coating composition.

<酸触媒>
本発明のコーティング組成物には、一般に使用される酸触媒(塩酸、硫酸、酢酸、リン酸等)を更に添加することができる。これにより、より安定した性能で高品質の導電性膜を再現性よく形成可能となる。上記酸触媒の含有量は、アルコキシシラン全体量に対して1.0~30.0質量%程度とすればよい。
<Acid catalyst>
A commonly used acid catalyst (hydrochloric acid, sulfuric acid, acetic acid, phosphoric acid, etc.) can be further added to the coating composition of the present invention. This makes it possible to form a high-quality conductive film with more stable performance and good reproducibility. The content of the acid catalyst may be about 1.0 to 30.0% by mass with respect to the total amount of alkoxysilane.

<レベリング剤>
本発明のコーティング組成物には、レベリング剤を更に添加することができる。これにより、導電性膜の表面平滑性が確保できる。上記レベリング剤としては、例えば、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル等を使用できる。上記レベリング剤触媒の含有量は、導電性コーティング組成物全体量に対して0.01~5.0質量%程度とすればよい。
<Leveling agent>
A leveling agent can be further added to the coating composition of the present invention. As a result, the surface smoothness of the conductive film can be ensured. As the leveling agent, for example, polyether-modified polydimethylsiloxane, dipropylene glycol monomethyl ether and the like can be used. The content of the leveling agent catalyst may be about 0.01 to 5.0% by mass with respect to the total amount of the conductive coating composition.

<調製法>
本発明のコーティング組成物の調製法は、上記各成分を混合して、上記鎖状導電性無機粒子を上記バインダと上記溶剤の中に分散できれば特に限定されず、例えば、上記各成分をボールミル、サンドミル、ピコミル、ペイントコンディショナー等のメディアを介在させた機械的処理、又は超音波分散機、ホモジナイザー、ディスパー及びジェットミル等を使用して分散処理を施して混合・分散することができる。
<Preparation method>
The method for preparing the coating composition of the present invention is not particularly limited as long as the above-mentioned components can be mixed and the above-mentioned chain conductive inorganic particles can be dispersed in the above-mentioned binder and the above-mentioned solvent. It can be mixed and dispersed by mechanical treatment using a medium such as a sand mill, pico mill, paint conditioner, or dispersion treatment using an ultrasonic disperser, homogenizer, disper, jet mill, or the like.

上記調製後の本発明のコーティング組成物は、固形分濃度が、全体量に対して0.1~5.0質量%である。コーティング組成物の固形分は、典型的には、上記鎖状導電性無機粒子及び上記バインダの合計量である。コーティング組成物の固形分濃度が0.1質量%未満になると導電性膜の厚さを適性範囲に制御するため、塗布量が多くなることで、乾燥過程におけるウエット膜からドライ膜への移行に時間がかかり、製造工程として現実的でない。また、5.0質量%を超えると塗布量が少なくなることで、ウエット膜の厚みが不十分となり、レベリング性能が発現されず、表面電気抵抗などの皮膜特性において基板内の偏差が生じる。コーティング組成物の固形分濃度は、好ましくは0.3~3.0質量%であり、より好ましくは0.5~2.0質量%である。 The coating composition of the present invention after the above preparation has a solid content concentration of 0.1 to 5.0% by mass with respect to the total amount. The solid content of the coating composition is typically the total amount of the chain conductive inorganic particles and the binder. When the solid content concentration of the coating composition is less than 0.1% by mass, the thickness of the conductive film is controlled within an appropriate range. It takes time and is not realistic as a manufacturing process. On the other hand, if it exceeds 5.0% by mass, the coating amount becomes small, so that the thickness of the wet film becomes insufficient, leveling performance is not exhibited, and deviation in the film characteristics such as surface electrical resistance occurs in the substrate. The solid content concentration of the coating composition is preferably 0.3 to 3.0% by mass, more preferably 0.5 to 2.0% by mass.

本発明のコーティング組成物は、粘度が50mPa・s以下であることが好ましい。コーティング組成物の粘度が50mPa・sを超えるとスプレー方式における組成物の霧化が適正に行われず、スプレー液滴が大きすぎたり、スプレー液滴粒度分布が不均一になりすぎたりする。その結果、表面電気抵抗などの皮膜特性において基板内の特性偏差が生じたり、皮膜外観が悪化したりする。コーティング組成物の粘度は、好ましくは25mPa・s以下、より好ましくは7.0mPa・s以下である。 The coating composition of the present invention preferably has a viscosity of 50 mPa · s or less. If the viscosity of the coating composition exceeds 50 mPa · s, the composition is not properly atomized in the spray method, and the spray droplets become too large or the spray droplet particle size distribution becomes too uneven. As a result, characteristic deviations in the substrate may occur in the film characteristics such as surface electrical resistance, and the appearance of the film may deteriorate. The viscosity of the coating composition is preferably 25 mPa · s or less, more preferably 7.0 mPa · s or less.

(導電性膜)
次に、本発明の導電性膜について説明する。
(Conductive film)
Next, the conductive film of the present invention will be described.

本発明の導電性膜は、本発明のコーティング組成物を後述するタッチパネル基板9に塗布して塗膜を形成した後に、上記塗膜を乾燥、要すれば硬化させて成膜する。 The conductive film of the present invention is formed by applying the coating composition of the present invention to a touch panel substrate 9 described later to form a coating film, and then drying the coating film, if necessary, curing the coating film.

上記コーティング組成物の塗布方法としては、スプレーコート法を用いることが好ましい。被塗物はタッチパネル基板9であり、その上面には電極パターン92が存在する。つまり、被塗物の表面にはパターン状の凸部が存在することになる。そのため、スプレーコート法を使用することにより、電極基板91及び電極パターン92の表面全体に、厚さが均一な皮膜を形成することができる。 As a method for applying the coating composition, it is preferable to use a spray coating method. The object to be coated is the touch panel substrate 9, and the electrode pattern 92 is present on the upper surface thereof. That is, a patterned convex portion exists on the surface of the object to be coated. Therefore, by using the spray coating method, it is possible to form a film having a uniform thickness on the entire surface of the electrode substrate 91 and the electrode pattern 92.

スプレーコート法を用いた塗布条件として、スプレーガンの口径は0.5~3.0mm、ニードル開度は0.05~0.30mm、吐出液量は0.10~3.00g/min、スプレーガンと基板との最短距離は50~300mm、塗布速度は100~2000mm/秒、重ねピッチは2~30mm、霧化エアーの圧力は0.05~0.50MPaが好ましい。スプレーガンの数として、単一ガンで運用する以外に、塗布効率化の観点から、基板サイズに合わせて、複数ガンを配置しても良い。 As the application conditions using the spray coating method, the diameter of the spray gun is 0.5 to 3.0 mm, the needle opening is 0.05 to 0.30 mm, the discharge liquid amount is 0.10 to 3.00 g / min, and the spray. The shortest distance between the gun and the substrate is preferably 50 to 300 mm, the coating speed is preferably 100 to 2000 mm / sec, the stacking pitch is 2 to 30 mm, and the pressure of atomized air is preferably 0.05 to 0.50 MPa. As for the number of spray guns, in addition to operating with a single gun, a plurality of guns may be arranged according to the substrate size from the viewpoint of improving coating efficiency.

コーティング組成物を電極基板91の上面に塗布した後、乾燥によって溶剤を除去して成膜させる。必要に応じて、塗膜にUV光やEB光を照射して塗膜を硬化させてもよい。例えば、本発明のコーティング組成物及びスプレーコート法を使用して塗膜を形成し、その塗膜を乾燥、要すれば硬化させて成膜した皮膜は、導電性スプレー皮膜と言うことができる。 After the coating composition is applied to the upper surface of the electrode substrate 91, the solvent is removed by drying to form a film. If necessary, the coating film may be irradiated with UV light or EB light to cure the coating film. For example, a film formed by forming a coating film using the coating composition of the present invention and the spray coating method, drying the coating film, and if necessary, curing the coating film can be said to be a conductive spray film.

本発明の導電性膜は、表面電気抵抗が1.0×10~1.0×1014Ω/スクエアである。導電性膜の表面電気抵抗が1.0×10Ω/スクエア未満であるとタッチ感度が低下し、1.0×1014Ω/スクエアを超えると帯電防止性能が低下する。導電性膜の表面電気抵抗は、好ましくは1.0×10~1.0×1013Ω/スクエアであり、より好ましくは7.0×1010~5.0×1012Ω/スクエアである。 The conductive film of the present invention has a surface electrical resistance of 1.0 × 10 9 to 1.0 × 10 14 Ω / square. If the surface electrical resistance of the conductive film is less than 1.0 × 10 9 Ω / square, the touch sensitivity is lowered, and if it exceeds 1.0 × 10 14 Ω / square, the antistatic performance is lowered. The surface electrical resistance of the conductive film is preferably 1.0 × 10 9 to 1.0 × 10 13 Ω / square, and more preferably 7.0 × 10 10 to 5.0 × 10 12 Ω / square. be.

本発明の導電性膜は、温度65℃、相対湿度90%の環境下で500時間保持した後の表面電気抵抗が1.0×10~1.0×1014Ω/スクエア、好ましくは1.0×10~1.0×1013Ω/スクエア、より好ましくは7.0×1010~5.0×1012Ω/スクエアである。尚、信頼性試験後もESD機能が高く、且つタッチ感度を低下させない導電性膜を提供するため、信頼性前後の表面電気抵抗の変化は、下降側または上昇側のどちらに変化しても1.0乗Ω/スクエアの範囲が好ましい。より好ましくは、0.5乗Ω/スクエアの範囲である。 The conductive film of the present invention has a surface electrical resistance of 1.0 × 10 9 to 1.0 × 10 14 Ω / square, preferably 1 after being held for 500 hours in an environment of a temperature of 65 ° C. and a relative humidity of 90%. It is 0.0 × 10 9 to 1.0 × 10 13 Ω / square, more preferably 7.0 × 10 10 to 5.0 × 10 12 Ω / square. In addition, in order to provide a conductive film having a high ESD function even after the reliability test and not deteriorating the touch sensitivity, the change in surface electrical resistance before and after the reliability is 1 regardless of whether the surface electrical resistance changes to the descending side or the ascending side. A range of .0 Ω / square is preferred. More preferably, it is in the range of 0.5 Ω / square.

本発明の導電性膜は、厚さが2~100nmである。導電性膜の厚さが2nm未満であると1次粒子自体のサイズを下回るため、皮膜表面の平滑性が損なわれ、表面電気抵抗の偏差が生じやすくなり、100nmを超えると皮膜の全光線透過率が悪化する。導電性膜の厚さは、好ましくは5~80nm、より好ましくは10~60nmである。 The conductive film of the present invention has a thickness of 2 to 100 nm. If the thickness of the conductive film is less than 2 nm, it is smaller than the size of the primary particles themselves, so that the smoothness of the film surface is impaired and the deviation of the surface electrical resistance is likely to occur. The rate gets worse. The thickness of the conductive film is preferably 5 to 80 nm, more preferably 10 to 60 nm.

本発明の導電性膜は、鉛筆硬度が3H~9H、好ましくは4H~7H、より好ましくは5H~6Hである。 The conductive film of the present invention has a pencil hardness of 3H to 9H, preferably 4H to 7H, and more preferably 5H to 6H.

本発明の導電性膜は、全光線透過率(JIS K7105準拠)が95.0%以上、好ましくは97.0~99.9%である。 The conductive film of the present invention has a total light transmittance (JIS K7105 compliant) of 95.0% or more, preferably 97.0 to 99.9%.

また、タッチパネルは、パネル製造工程において、一般に、ダイヤモンドカッターにて大判基板から小片基板へ分断される。そのため、本発明の導電性膜は、ガラス基板と一緒に切断した場合に、カッターに付着物を発生させず、平滑な切断面を提供することが好ましい。 Further, in the panel manufacturing process, the touch panel is generally divided from a large-sized substrate into a small-sized substrate by a diamond cutter. Therefore, it is preferable that the conductive film of the present invention provides a smooth cut surface without generating deposits on the cutter when cut together with the glass substrate.

<タッチパネル>
本発明のコーティング組成物が適用されるタッチパネルは、タッチパネル基板がカラーフィルタ基板の上に積層された層構造を有する型のタッチパネルである。かかるタッチパネルとしては、典型的には、オンセル型タッチパネルが例示される。本発明のコーティング組成物が適用されるタッチパネルは第二のタッチパネル基板を有していてもよい。第二のタッチパネル基板はカラーフィルタ基板と上部偏光板の間の適切な位置に積層されてよく、TFT基板とカラーフィルタ基板との間の適切な位置に積層されてもよい。
<Touch panel>
The touch panel to which the coating composition of the present invention is applied is a type of touch panel having a layered structure in which a touch panel substrate is laminated on a color filter substrate. As such a touch panel, an on-cell type touch panel is typically exemplified. The touch panel to which the coating composition of the present invention is applied may have a second touch panel substrate. The second touch panel substrate may be laminated at an appropriate position between the color filter substrate and the upper polarizing plate, or may be laminated at an appropriate position between the TFT substrate and the color filter substrate.

図1は、本発明の一実施形態であるオンセル型タッチパネルの構造を示す断面図である。オンセル型タッチパネル1の表示領域はAdと表示し、非表示領域をAsと表示している。一般に、周辺領域Asは、基板21の上面の領域であって、表示領域Adよりも基板21の外周側に位置する領域である。 FIG. 1 is a cross-sectional view showing the structure of an on-cell touch panel according to an embodiment of the present invention. The display area of the on-cell touch panel 1 is displayed as Ad, and the non-display area is displayed as As. Generally, the peripheral region As is a region on the upper surface of the substrate 21, and is a region located on the outer peripheral side of the substrate 21 with respect to the display region Ad.

オンセル型タッチパネル1は、下部偏光板2及び上部偏光板3の間に積層された、次の要素を有する。即ち、TFT基板4、コモン電極5、絶縁膜6、液晶表示パネル7(画素電極71、液晶層72、封止部73から構成されている。)、カラーフィルタ基板8、タッチパネル基板9(電極基板91、電極パターン92から構成されている。)、導電性膜10及び粘着剤層11である。上部偏光板3の上には、接着剤層12及びカバーガラス13が積層されている。 The on-cell touch panel 1 has the following elements laminated between the lower polarizing plate 2 and the upper polarizing plate 3. That is, a TFT substrate 4, a common electrode 5, an insulating film 6, a liquid crystal display panel 7 (composed of a pixel electrode 71, a liquid crystal layer 72, and a sealing portion 73), a color filter substrate 8, and a touch panel substrate 9 (electrode substrate). 91, the electrode pattern 92), the conductive film 10 and the pressure-sensitive adhesive layer 11. The adhesive layer 12 and the cover glass 13 are laminated on the upper polarizing plate 3.

尚、本願明細書において「積層」とは、層状物が重なった状態になっていることを意味する。積層される層は、例えば、間に別の層が存在する等により、相互に接触していなくてもよい。 In the specification of the present application, "laminated" means that the layered materials are in an overlapping state. The layers to be laminated may not be in contact with each other, for example, because another layer is present between them.

タッチパネル基板9を構成する電極パターン92は、電極基板91の上面に設けられている導電線から成る。導電線の太さは、一般に数μm、例えば5μmである。電極パターン92のパターン形状は、一般に、平面視において、ジグザグ形状、メッシュ形状である。つまり、タッチパネル基板9の上面には、パターン状の凸部が存在する。 The electrode pattern 92 constituting the touch panel substrate 9 is composed of a conductive wire provided on the upper surface of the electrode substrate 91. The thickness of the conductive wire is generally several μm, for example, 5 μm. The pattern shape of the electrode pattern 92 is generally a zigzag shape or a mesh shape in a plan view. That is, a patterned convex portion exists on the upper surface of the touch panel substrate 9.

タッチパネル基板9の上面には、導電性膜10が設けられる。導電性膜10が設けられない場合には、オンセル型タッチパネル1の外部から加えられた静電気により、例えば偏光板5の表面が帯電し、その静電気に起因する電界により、液晶層6の液晶分子の配向状態が乱れ、画像の表示が乱れるおそれがある。 A conductive film 10 is provided on the upper surface of the touch panel substrate 9. When the conductive film 10 is not provided, the surface of the polarizing plate 5, for example, is charged by static electricity applied from the outside of the on-cell touch panel 1, and the electric field caused by the static electricity causes the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer 6 to be charged. The orientation may be disturbed and the image display may be disturbed.

一方、導電性膜10が設けられることにより、オンセル型タッチパネル1の外部から加えられた静電気を外部に逃がすことができるので、オンセル型タッチパネル1に静電気が加えられたときの画像の表示の乱れを低減することができる。 On the other hand, by providing the conductive film 10, static electricity applied from the outside of the on-cell touch panel 1 can be released to the outside, so that the image display is disturbed when static electricity is applied to the on-cell touch panel 1. Can be reduced.

好適には、導電性膜10は、表示領域Adの全領域で、タッチパネル基板9の上面に、電極パターンを覆うように、配置されている。導電性膜10は本発明のコーティング組成物を使用して成膜される。つまり、導電性膜10は接着層を使用すること無く、タッチパネル基板の上面に直接設けられる。 Preferably, the conductive film 10 is arranged on the upper surface of the touch panel substrate 9 so as to cover the electrode pattern in the entire display region Ad. The conductive film 10 is formed by using the coating composition of the present invention. That is, the conductive film 10 is directly provided on the upper surface of the touch panel substrate without using an adhesive layer.

これにより、タッチ検出感度、動作の信頼性及び安定性等のタッチパネル性能が向上したオンセル型タッチパネルが提供される。その理由は明確でないが、次の通り考えられる。一般に、タッチパネルの構成要素を接着する用途には、粘着剤が使用される。強力な接着力は不要であり、また、粘着剤は貼り合わせて直ぐに一定の接着力が得られるからである。 This provides an on-cell touch panel with improved touch panel performance such as touch detection sensitivity, operation reliability and stability. The reason is not clear, but it can be considered as follows. Generally, an adhesive is used for adhering components of a touch panel. This is because a strong adhesive force is not required, and a constant adhesive force can be obtained immediately after the adhesive is bonded.

例えば、特許文献1、図6のオンセル型タッチパネルでは、導電層52と導電パターンCB1の間に接着層51が設けられている。また、帯電防止用導電性膜の別の形態として、粘着剤層の中に導電性無機粒子を分散させたものがある。 For example, in the on-cell touch panel of Patent Documents 1 and 6, an adhesive layer 51 is provided between the conductive layer 52 and the conductive pattern CB1. Further, as another form of the antistatic conductive film, there is one in which conductive inorganic particles are dispersed in the pressure-sensitive adhesive layer.

他方、粘着剤は貼り合わせた後も柔軟性である。そのため、粘着剤を介して積層された要素はその位置に完全に固定されることはない。例えば、貼り合わせてから時間が経過した場合に粘着剤が徐々に流動して、又は周囲環境の温度が高い場合に粘着剤が軟化して、被着物の位置が変化する可能性がある。 On the other hand, the pressure-sensitive adhesive is flexible even after being bonded. Therefore, the elements laminated via the adhesive are not completely fixed in that position. For example, the pressure-sensitive adhesive may gradually flow when a lapse of time has passed since the bonding, or the pressure-sensitive adhesive may soften when the temperature of the ambient environment is high, and the position of the adherend may change.

オンセル型タッチパネル1に加えられた静電気は帯電防止用導電性膜及び配線を通じてTFT基板に放出されるが、帯電防止用導電性膜の積層が粘着剤を介して行われた場合は、帯電防止用導電性膜の位置が変化する結果、帯電防止用導電性膜とTFT基板の間の距離も変化するので、導電性が変化する。また、粘着剤層の中に導電性無機粒子を分散させた帯電防止用導電性膜では、粘着剤層の中で導電性無機粒子の位置が変化し、導電性が変化する。 The static electricity applied to the on-cell touch panel 1 is released to the TFT substrate through the antistatic conductive film and wiring, but when the antistatic conductive film is laminated via the adhesive, it is for antistatic. As a result of the change in the position of the conductive film, the distance between the antistatic conductive film and the TFT substrate also changes, so that the conductivity changes. Further, in the antistatic conductive film in which the conductive inorganic particles are dispersed in the pressure-sensitive adhesive layer, the position of the conductive inorganic particles changes in the pressure-sensitive adhesive layer, and the conductivity changes.

これに対し、本発明の導電性膜はタッチパネル基板の上面に形成する際に粘着剤を使用しない。本発明の導電性膜は鉛筆硬度3H~9Hという高い硬度を有する。従って、導電性無機粒子は導電性膜の中で固定され、導電性膜とTFT基板の間の距離は変化しない。しかも導電性膜とTFT基板の間の距離は粘着剤層を省略した分短くなり、導電性が高くなる。 On the other hand, the conductive film of the present invention does not use an adhesive when it is formed on the upper surface of the touch panel substrate. The conductive film of the present invention has a high pencil hardness of 3H to 9H. Therefore, the conductive inorganic particles are fixed in the conductive film, and the distance between the conductive film and the TFT substrate does not change. Moreover, the distance between the conductive film and the TFT substrate is shortened by the amount that the adhesive layer is omitted, and the conductivity is increased.

その結果、本発明のタッチパネルは、タッチ検出感度、動作の信頼性及び安定性等のタッチパネル性能が向上すると考えられる。 As a result, the touch panel of the present invention is considered to improve touch panel performance such as touch detection sensitivity, operation reliability and stability.

図2は、本発明のコーティング組成物を適用することができるオンセル型タッチパネルの層構造を模式的に示す断面図である。上記オンセル型タッチパネルは、図2aに示すように、カラーフィルタ基板8とタッチパネル基板9の間に積層された第二のタッチパネル基板9’を有していてもよい。第二のタッチパネル基板は、図2bに示すように、液晶層72とカラーフィルタ基板8の間に積層されてもよい。 FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing a layer structure of an on-cell touch panel to which the coating composition of the present invention can be applied. As shown in FIG. 2a, the on-cell touch panel may have a second touch panel substrate 9'stacked between the color filter substrate 8 and the touch panel substrate 9. As shown in FIG. 2b, the second touch panel substrate may be laminated between the liquid crystal layer 72 and the color filter substrate 8.

図3は、本発明のコーティング組成物を適用することができるインセル型タッチパネルの層構造を模式的に示す断面図である。図3のインセル型タッチパネルでは、TFT基板4上に、タッチ検出機能も持たせたコモン電極、即ち、コモン電極兼タッチ電極5’が積層されている。また、タッチパネル基板9がカラーフィルタ基板8と上部偏光板の間に積層されている。コモン電極兼タッチ電極5’は第二のタッチパネル基板に相当する。インセル型タッチパネルであっても、タッチパネル基板がカラーフィルタ基板の上に積層された層構造を有するものであれば、カラーフィルタ基板の上に積層されたタッチパネル基板のパターン電極上に本発明のコーティング組成物を適用することができる。 FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing a layer structure of an in-cell type touch panel to which the coating composition of the present invention can be applied. In the in-cell touch panel of FIG. 3, a common electrode having a touch detection function, that is, a common electrode and a touch electrode 5'is laminated on the TFT substrate 4. Further, the touch panel substrate 9 is laminated between the color filter substrate 8 and the upper polarizing plate. The common electrode and touch electrode 5'corresponds to the second touch panel substrate. Even if it is an in-cell type touch panel, if the touch panel substrate has a layered structure laminated on the color filter substrate, the coating composition of the present invention is on the pattern electrode of the touch panel substrate laminated on the color filter substrate. Things can be applied.

以下、実施例に基づいて本発明を具体的に説明する。但し、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。また、以下で「部」及び「%」は、特に断らない限り質量基準である。尚、実施例1及び2、実施例4、5及び6は参考例である。 Hereinafter, the present invention will be specifically described based on examples. However, the present invention is not limited to the following examples. In the following, "part" and "%" are based on mass unless otherwise specified. Examples 1 and 2 and Examples 4, 5 and 6 are reference examples.

<鎖状アンチモン含有酸化スズ(ATO)粒子分散液>
鎖状ATO粒子分散液として、日揮触媒化成社製“ELCOM V-3560”を準備した。鎖状ATO粒子分散液“ELCOM V-3560”は、鎖状ATO粒子:20.8部と、エチルアルコール:70.0部、イソプロピルアルコール9.2部との混合分散液である。
<Tin (ATO) particle dispersion containing chain antimony>
"ELCOM V-3560" manufactured by JGC Catalysts and Chemicals Co., Ltd. was prepared as a chain ATO particle dispersion. The chain ATO particle dispersion "ELCOM V-3560" is a mixed dispersion of chain ATO particles: 20.8 parts, ethyl alcohol: 70.0 parts, and isopropyl alcohol 9.2 parts.

図3及び図4は、上記鎖状ATO粒子分散液に用いた鎖状ATO粒子の透過型電子顕微鏡(TEM)写真である。図2及び図3を参照して、上記ATO粒子は、粒子径が2~30nmの一次粒子が2~50個連接して形成された鎖状ATO粒子(鎖状導電性無機粒子)であることが分かる。実施例に使用した主要な材料を表1に示す。 3 and 4 are transmission electron microscope (TEM) photographs of the chain ATO particles used in the above chain ATO particle dispersion. With reference to FIGS. 2 and 3, the ATO particles are chain ATO particles (chain conductive inorganic particles) formed by connecting 2 to 50 primary particles having a particle size of 2 to 30 nm. I understand. The main materials used in the examples are shown in Table 1.

[表1]

Figure 0007096656000001
[Table 1]
Figure 0007096656000001

(製造例)
<分散液Aの製造>
プラスチック製ビンに、石原産業(株)製の導電性ATO粒子「SN100P」(商品名)20.8部、ビックケミー・ジャパン社製の分散剤「BYK180」(商品名)2.0部、及びイソブチルアルコール(溶剤)77.2部を仕込み、直径0.3mmのジルコニアビーズを用いて、ペイントコンディショナー(東洋精機(株)製)により2時間分散した後、攪拌して分散液Aを製造した。
(Manufacturing example)
<Manufacturing of dispersion A>
In a plastic bottle, 20.8 parts of conductive ATO particles "SN100P" (trade name) manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd., 2.0 parts of dispersant "BYK180" (trade name) manufactured by Big Chemie Japan, and isobutyl 77.2 parts of alcohol (solvent) was charged, and the mixture was dispersed with a paint conditioner (manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd.) for 2 hours using zirconia beads having a diameter of 0.3 mm, and then stirred to produce a dispersion liquid A.

(実施例1~6及び比較例1~3)
<コーティング組成物の製造>
プラスチック製ビンに、各成分を所定の含有量になる量で仕込み、攪拌してコーティング組成物を調製した。但し、アルコキシシランは、アルコールの一部を用いて希釈し、水と酸触媒を加えてあらかじめシラノール化させて使用した。
(Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 3)
<Manufacturing of coating composition>
A coating composition was prepared by charging each component into a plastic bottle in an amount having a predetermined content and stirring the mixture. However, the alkoxysilane was diluted with a part of alcohol, and water and an acid catalyst were added to make silanol in advance before use.

得られたコーティング組成物の粘度を東機産業社製のTV25型粘度計を使用して測定した。成分の種類、配合量、コーティング組成物の不揮発固形分含有量及び粘度を表2及び3に示す。 The viscosity of the obtained coating composition was measured using a TV25 type viscometer manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd. Tables 2 and 3 show the types of components, the blending amounts, the non-volatile solid content and the viscosities of the coating composition.

[表2]

Figure 0007096656000002
[Table 2]
Figure 0007096656000002

[表3]

Figure 0007096656000003
[Table 3]
Figure 0007096656000003

<導電性膜の製造>
サイズ10cm四方、厚み0.7mmの無アルカリガラスの基板に、上記コーティング組成物をスプレーコート法によって塗布して塗膜を形成した。スプレーコーターには、ノードソン社製のスプレーガン(スワールノズル、口径:1.0mm)を用いた。塗布条件は次の通りとした。即ち、ニードル開度:0.10mm、吐出液量:0.60g/min、スプレーガンと基板との最短距離:100mm、塗布速度:300mm/秒、重ねピッチ:10mm、アトマイズエアー及びスワールエアーの圧力:0.25MPa。形成された塗膜を120℃で1時間加熱して導電性膜を作製した。
<Manufacturing of conductive film>
The above coating composition was applied to a non-alkali glass substrate having a size of 10 cm square and a thickness of 0.7 mm by a spray coating method to form a coating film. A spray gun (swirl nozzle, caliber: 1.0 mm) manufactured by Nordson was used as the spray coater. The application conditions were as follows. That is, needle opening: 0.10 mm, discharge amount: 0.60 g / min, shortest distance between spray gun and substrate: 100 mm, coating speed: 300 mm / sec, stacking pitch: 10 mm, atomizing air and swirl air pressure. : 0.25 MPa. The formed coating film was heated at 120 ° C. for 1 hour to prepare a conductive film.

また、実施例6の場合は、上記と同様にして実施例6のコーティング液をガラス基板の上にスプレーコーターにて塗布した後、80℃で5分乾燥後、高圧水銀灯にて紫外線を300mJ/cmの光量で照射し硬化させて、実施例6の導電性膜を形成した。 In the case of Example 6, the coating liquid of Example 6 was applied onto a glass substrate with a spray coater in the same manner as above, dried at 80 ° C. for 5 minutes, and then irradiated with ultraviolet rays at 300 mJ / with a high-pressure mercury lamp. The conductive film of Example 6 was formed by irradiating with a light amount of cm 2 and curing.

次に、下記の通り、得られた導電性膜の特性を試験した。結果を表4及び5に示す。 Next, the characteristics of the obtained conductive film were tested as follows. The results are shown in Tables 4 and 5.

<膜厚>
導電性膜をガラス基板ごと切断し、走査型電子顕微鏡(SEM、日立製作所社製“S-4500”)にて断面観察して、膜厚を測定した。
<Film thickness>
The conductive film was cut together with the glass substrate, and the film thickness was measured by observing the cross section with a scanning electron microscope (SEM, "S-4500" manufactured by Hitachi, Ltd.).

<表面電気抵抗>
表面抵抗計(三菱化学社製“ハイレスタMCP-HT450”、印加電圧:10V)を用いて、導電性膜の表面電気抵抗を測定し、通常の表面電気抵抗とした。
<Surface electrical resistance>
The surface electrical resistance of the conductive film was measured using a surface resistance meter (“Highresta MCP-HT450” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, applied voltage: 10V) and used as a normal surface electrical resistance.

また、導電性膜付ガラス基板を温度65℃、相対湿度90%の環境下で500時間保持した後の導電性膜の表面電気抵抗を上記と同様にして測定して、高温高湿試験後の表面電気抵抗とした。 Further, the surface electrical resistance of the conductive film after holding the glass substrate with the conductive film at a temperature of 65 ° C. and a relative humidity of 90% for 500 hours was measured in the same manner as above, and after the high temperature and high humidity test. The surface electrical resistance was used.

<全光線透過率>
先ず、日本電色工業社製の光度計“ヘイズメーターNDH2000”を用い、導電性膜付ガラス基板の全光線透過率を測定した。数値は塗膜のみの値を示す。
<Total light transmittance>
First, the total light transmittance of the glass substrate with a conductive film was measured using a photometer "Haze Meter NDH2000" manufactured by Nippon Denshoku Kogyo Co., Ltd. The numerical value shows the value of only the coating film.

<鉛筆硬度>
導電性膜の鉛筆硬度を新東科学社製の表面性試験機“HEIDON-14DR”を用いて測定した。
<Pencil hardness>
The pencil hardness of the conductive film was measured using a surface tester "HEIDON-14DR" manufactured by Shinto Kagaku Co., Ltd.

<ガラス切断性>
三星ダイヤモンド工業株式会社製の簡易スラクイバー“Linear Cutter LC200AHH”、及びスクライブホイール“APIO φ3mm TYPEA”を用いて導電性膜を付与したガラス基板を切断し、ガラス切断性を評価した。
<Glass cutting property>
A glass substrate to which a conductive film was applied was cut using a simple slick bar "Linear Cutter LC200AHH" manufactured by Samsung Diamond Industry Co., Ltd. and a scribe wheel "APIO φ3 mm TYPE A", and the glass cutting property was evaluated.

切断時の条件は次の通り設定した。即ち、荷重10N、切り込み量0.15μm、スクライブ長100mmの条件にて、100回繰り返した。その後、ホイール付着物、切断面の状況を目視にて確認した。評価基準は次の通り規定した。 The conditions for disconnection were set as follows. That is, it was repeated 100 times under the conditions of a load of 10 N, a depth of cut of 0.15 μm, and a scribe length of 100 mm. After that, the condition of the wheel deposits and the cut surface was visually confirmed. The evaluation criteria are specified as follows.

ガラス切断性評価基準
○:付着物なし、切断面良好、△:付着物少しあり、切断面に少しカケあり、×:付着物あり、切断面のカケあり
Glass cutability evaluation criteria ○: No deposits, good cut surface, △: There are some deposits, there are some chips on the cut surface, ×: There are deposits, there are chips on the cut surface

[表4]

Figure 0007096656000004
[Table 4]
Figure 0007096656000004

[表5]

Figure 0007096656000005
[Table 5]
Figure 0007096656000005

<オンセル型タッチパネルの製造>
画面サイズが4インチ、液晶表示装置のトータルの厚みが1mmの図1に示す構成の液晶表示装置を作製した。
<Manufacturing of on-cell touch panel>
A liquid crystal display device having a configuration shown in FIG. 1 having a screen size of 4 inches and a total thickness of the liquid crystal display device of 1 mm was produced.

導電性膜は、タッチパネル基板の上面上に上記コーティング液を前述と同様の条件でスプレーコーターを用いて塗布した後、120℃の乾燥機で1時間乾燥させて形成した。次に、この導電性膜の端部に銀ペースト(藤倉化成社製“ドータイトD-362”)にてアース線を取り付けた後、導電性膜の上に偏光板を貼り付けた。また、画素電極及びコモン電極を設け、下部ガラス基板のバックライト側にも偏光板を貼り付けた。 The conductive film was formed by applying the above coating liquid on the upper surface of the touch panel substrate using a spray coater under the same conditions as described above, and then drying the film in a dryer at 120 ° C. for 1 hour. Next, a ground wire was attached to the end of the conductive film with a silver paste (“Dotite D-362” manufactured by Fujikura Kasei Co., Ltd.), and then a polarizing plate was attached on the conductive film. In addition, a pixel electrode and a common electrode were provided, and a polarizing plate was also attached to the backlight side of the lower glass substrate.

次に、上記各液晶表示装置のタッチ感度及び静電気放電(ESD)性を下記のとおり確認した。 Next, the touch sensitivity and electrostatic discharge (ESD) property of each of the above liquid crystal display devices were confirmed as follows.

<タッチ感度>
上記液晶表示装置を指でタッチし、タッチ感度を確認した。その結果、指のタッチに反応した場合を○、指のタッチに反応しなかった場合を×と評価した。
<Touch sensitivity>
The touch sensitivity was confirmed by touching the liquid crystal display device with a finger. As a result, the case of responding to the touch of the finger was evaluated as ◯, and the case of not responding to the touch of the finger was evaluated as x.

また、導電性膜付ガラス基板を温度65℃、相対湿度90%の環境下で500時間保持した後の導電性膜のタッチ感度を上記と同様にして測定して、高温高湿試験後のタッチ感度とした。 Further, the touch sensitivity of the conductive film after holding the glass substrate with the conductive film at a temperature of 65 ° C. and a relative humidity of 90% for 500 hours is measured in the same manner as above, and the touch after the high temperature and high humidity test is performed. The sensitivity was set.

<ESD性>
下部ガラス基板側からバックライトにより光を照射し、上記液晶表示装置が無通電状態で黒表示であることを確認した後、上部ガラス基板に静電印加装置にて電圧±12kVにて静電を印加した。その後、導電性膜のアース線を接地してから、無通電状態の表示を目視により確認した。その結果、上記液晶表示装置が黒表示を維持していた場合を○、光抜けによる白浮きが認められた場合を×と評価した。
<ESD property>
After irradiating light from the lower glass substrate side with a backlight and confirming that the liquid crystal display device is black in the non-energized state, static electricity is applied to the upper glass substrate with an electrostatic application device at a voltage of ± 12 kV. Applied. Then, after grounding the ground wire of the conductive film, the display of the non-energized state was visually confirmed. As a result, the case where the liquid crystal display device maintained the black display was evaluated as ◯, and the case where whitening due to light leakage was observed was evaluated as x.

また、導電性膜付ガラス基板を温度65℃、相対湿度90%の環境下で500時間保持した後の導電性膜のESD性を上記と同様にして測定して、高温高湿試験後のESD性とした。 Further, the ESD property of the conductive film after holding the glass substrate with the conductive film at a temperature of 65 ° C. and a relative humidity of 90% for 500 hours is measured in the same manner as above, and the ESD after the high temperature and high humidity test is performed. I made it sex.

以上の結果を表6及び表7に示した。 The above results are shown in Tables 6 and 7.

[表6]

Figure 0007096656000006
[Table 6]
Figure 0007096656000006

[表7]

Figure 0007096656000007
[Table 7]
Figure 0007096656000007

1… オンセル型タッチパネル、
2…下部偏光板、
3…上部偏光板、
4…TFT基板、
5…コモン電極、
5’…コモン電極兼タッチ検出電極、
6…絶縁膜、
72…液晶層、
8…カラーフィルタ基板、
9…タッチパネル基板、
9’ …第二のタッチパネル基板、
10…導電性膜、
11…粘着剤層、
12…接着剤層、
13…カバーガラス。
1 ... On-cell touch panel,
2 ... Lower polarizing plate,
3 ... Upper polarizing plate,
4 ... TFT substrate,
5 ... Common electrode,
5'... Common electrode and touch detection electrode,
6 ... Insulating film,
72 ... Liquid crystal layer,
8 ... Color filter board,
9 ... Touch panel board,
9'... Second touch panel board,
10 ... Conductive film,
11 ... Adhesive layer,
12 ... Adhesive layer,
13 ... Cover glass.

Claims (12)

鎖状導電性無機粒子と、バインダと、高沸点溶剤と、低沸点溶剤とを含むコーティング組成物であって、
該コーティング組成物は、鎖状導電性無機粒子の含有量が鎖状導電性無機粒子及びバインダの合計量に対して10~30質量%であり、
2枚の偏光板の間に順番に積層された、TFT基板、液晶層、カラーフィルタ基板、及びタッチパネル基板を有するタッチパネルにおいて、該タッチパネル基板の電極パターンが存在する表面に、2~60nmの膜厚を有する導電性膜を形成する用途に使用されるものであり、
該バインダは、アルコキシシランから成るものである、コーティング組成物。
A coating composition containing chain conductive inorganic particles, a binder, a high boiling point solvent, and a low boiling point solvent.
The coating composition has a content of the chain conductive inorganic particles of 10 to 30 % by mass with respect to the total amount of the chain conductive inorganic particles and the binder.
In a touch panel having a TFT substrate, a liquid crystal layer, a color filter substrate, and a touch panel substrate, which are sequentially laminated between two polarizing plates, the surface on which the electrode pattern of the touch panel substrate is present has a film thickness of 2 to 60 nm. It is used for the purpose of forming a conductive film, and is used.
The binder is a coating composition comprising alkoxysilane.
前記鎖状導電性無機粒子と前記バインダから成る固形分を0.1~5.0質量%の量で含有し、7.0mPa・s以下の粘度を有する請求項1に記載のコーティング組成物。 The coating composition according to claim 1, which contains a solid content composed of the chain conductive inorganic particles and the binder in an amount of 0.1 to 5.0% by mass and has a viscosity of 7.0 mPa · s or less. 前記鎖状導電性無機粒子は、粒子径が2~30nmの一次粒子が2~50個連接してなる請求項1又は2に記載のコーティング組成物。 The coating composition according to claim 1 or 2, wherein the chain conductive inorganic particles are formed by connecting 2 to 50 primary particles having a particle size of 2 to 30 nm. 前記鎖状導電性無機粒子は、アンチモン含有酸化スズ粒子、スズ含有酸化インジウム粒子及びリン含有酸化スズ粒子からなる群から選ばれる少なくとも1種の粒子を含む請求項1~3のいずれか一項に記載のコーティング組成物。 13. The coating composition described. 前記タッチパネルは、TFT基板とカラーフィルタ基板との間に積層された第二のタッチパネル基板を有するタッチパネルである、請求項1~4のいずれか一項に記載のコーティング組成物。 The coating composition according to any one of claims 1 to 4, wherein the touch panel is a touch panel having a second touch panel substrate laminated between a TFT substrate and a color filter substrate. 2枚の偏光板の間に順番に積層された、TFT基板、液晶層、カラーフィルタ基板、及びタッチパネル基板を有するタッチパネルのタッチパネル基板の上面に、請求項1~5のいずれか一項に記載のコーティング組成物を使用して形成された、2~60nmの膜厚を有する導電性膜。
導電性膜。
The coating composition according to any one of claims 1 to 5 on the upper surface of a touch panel substrate of a touch panel having a TFT substrate, a liquid crystal layer, a color filter substrate, and a touch panel substrate, which are sequentially laminated between two polarizing plates. A conductive film having a film thickness of 2 to 60 nm , which is formed by using an object.
Conductive membrane.
温度65℃、相対湿度90%の環境下で500時間保持した後の表面電気抵抗が1.0×10以上8.5×1011Ω/スクエア未満である請求項に記載の導電性膜。 The conductive film according to claim 6 , wherein the surface electrical resistance after holding for 500 hours in an environment of a temperature of 65 ° C. and a relative humidity of 90% is 1.0 × 10 9 or more and 8.5 × 10 11 Ω / square. .. 5H~9Hの鉛筆硬度を有する請求項6又は7に記載の導電性膜。 The conductive film according to claim 6 or 7 , which has a pencil hardness of 5H to 9H. 前記タッチパネルは、TFT基板とカラーフィルタ基板との間に積層された第二のタッチパネル基板を有するタッチパネルである、請求項6~のいずれか一項に記載の導電性膜。 The conductive film according to any one of claims 6 to 8 , wherein the touch panel is a touch panel having a second touch panel substrate laminated between the TFT substrate and the color filter substrate. 2枚の偏光板の間に順番に積層された、TFT基板、液晶層、カラーフィルタ基板、タッチパネル基板、及び請求項6~9のいずれか一項に記載の導電性膜を有するタッチパネル。 The touch panel having the TFT substrate, the liquid crystal layer, the color filter substrate, the touch panel substrate, and the conductive film according to any one of claims 6 to 9, which are sequentially laminated between two polarizing plates. TFT基板とカラーフィルタ基板との間に積層された第二のタッチパネル基板を有する請求項10に記載のタッチパネル。 The touch panel according to claim 10 , further comprising a second touch panel substrate laminated between the TFT substrate and the color filter substrate. 2枚の偏光板の間に順番に積層された、TFT基板、液晶層、カラーフィルタ基板、及びタッチパネル基板を有するタッチパネルにおいて、該タッチパネル基板の電極パターンが存在する表面にコーティング組成物を塗布し乾燥させる工程を包含する、2~60nmの膜厚を有する導電性膜を形成する方法であって、
該コーティング組成物は、鎖状導電性無機粒子と、バインダと、高沸点溶剤と、低沸点溶剤とを含み、
該鎖状導電性無機粒子の含有量が鎖状導電性無機粒子及びバインダの合計量に対して10~30質量%であり、
該塗布はスプレーコート法を使用して行われ、
該バインダは、アルコキシシランから成るものである方法。
In a touch panel having a TFT substrate, a liquid crystal layer, a color filter substrate, and a touch panel substrate, which are sequentially laminated between two polarizing plates, a step of applying a coating composition to the surface of the touch panel substrate on which an electrode pattern is present and drying the coating composition. A method for forming a conductive film having a film thickness of 2 to 60 nm, which comprises .
The coating composition comprises chain conductive inorganic particles, a binder, a high boiling point solvent, and a low boiling point solvent.
The content of the chain conductive inorganic particles is 10 to 30 % by mass with respect to the total amount of the chain conductive inorganic particles and the binder.
The application is made using the spray coat method and
A method in which the binder is made of alkoxysilane.
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