JP2009069317A

JP2009069317A - Antireflection film

Info

Publication number: JP2009069317A
Application number: JP2007236077A
Authority: JP
Inventors: Tokiko Tanaka; 淑希子田中
Original assignee: Toppan Printing Co Ltd
Current assignee: Toppan Inc
Priority date: 2007-09-12
Filing date: 2007-09-12
Publication date: 2009-04-02

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an antireflection film having excellent optical characteristics, transparency, surface hardness, close adhesion property, and charging prevention property. <P>SOLUTION: The antireflection film includes a transparent plastic film, a high refractive index layer having multifunctional monomer and metal oxide particulates formed on the transparent plastic film, and a low refractive index layer having an organic silicon compound, its hydrolysate, electrical conductive metal oxide particulates, and porous silica particulates. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、反射防止フィルムに関し、特に光学特性、透明性、表面硬度、密着性及び帯電防止性に優れた反射防止フィルムに関するものである。 The present invention relates to an antireflection film, and more particularly to an antireflection film excellent in optical properties, transparency, surface hardness, adhesion and antistatic properties.

視野性向上のため、画像表示用ディスプレイ装置の表示画面やそのカバー材料、ビデオ一体型カメラ、携帯用ハンディ端末表面などは、透明基材上への反射防止コートにより外光反射を抑えることが必須となっている。特に最近ではＯＡ機器の小型化に伴い屋外での利用が増える傾向にあり、反射防止フィルムへの要求が一層高まってきている。 In order to improve the field of view, it is indispensable to suppress external light reflection by using an anti-reflection coating on the transparent substrate on the display screen of the image display device and its cover material, video integrated camera, portable handheld terminal surface, etc. It has become. In particular, recently, with the miniaturization of OA equipment, there is a tendency to increase the use outdoors, and the demand for an antireflection film has further increased.

プラスチックフィルムの利点として、その加工性、透明性、軽量さに加え、また安価であることなどが挙げられる。その一方でガラス等と比較して柔らかく、表面にキズが付きやすい等の欠点も有している。そこで、プラスチックフィルムの少なくとも一方にアクリル系ＵＶ硬化型樹脂等をコーティングし、ハードコート性を付帯させている。しかしながら、アクリル特有の絶縁特性に優れるため帯電しやすく、その結果、ほこりが付着しやすくなるのに加え、透明性の低下がおこるという問題を抱えていた。 Advantages of the plastic film include not only its processability, transparency and light weight, but also its low cost. On the other hand, it also has disadvantages such as being softer than glass and being easily scratched. Therefore, an acrylic UV curable resin or the like is coated on at least one of the plastic films to add a hard coat property. However, since it has excellent insulating properties peculiar to acrylic, it is easy to be charged. As a result, in addition to dust being easily attached, there is a problem that transparency is lowered.

そこで近年、これらの欠点を改善するために、ハードコート層に導電材を練り混むか、基材とハードコート層の間やハードコート層と低屈折率層との間に導電層を設ける手法が用いられている。 Therefore, in recent years, in order to improve these disadvantages, there is a method in which a conductive material is mixed in the hard coat layer or a conductive layer is provided between the base material and the hard coat layer or between the hard coat layer and the low refractive index layer. It is used.

特許文献１に開示されているように、導電材として用いられる材料は、金属酸化物微粒子や、導電性ポリマー、各種活性剤、親水性化合物、イオン導電性化合物があげられる。この中で各種活性剤、親水性化合物、イオン導電性化合物を用いる方式は外気中の水分を媒体としてイオン伝導を行うために湿度依存性が大きく、さらには上層に反射防止層などの新たな層を形成する場合には、性能が安定しないという問題がある。 As disclosed in Patent Document 1, examples of the material used as the conductive material include metal oxide fine particles, conductive polymers, various activators, hydrophilic compounds, and ion conductive compounds. Among these, the method using various activators, hydrophilic compounds, and ion conductive compounds is highly dependent on humidity because it conducts ions using moisture in the outside air as a medium, and a new layer such as an antireflection layer on the upper layer. However, there is a problem that the performance is not stable.

一方、湿度環境による影響のない電子伝導性の微粒子を使用する技術では、層間に導電層を設ける方式とハードコート練り混み方式とが用いられている。 On the other hand, in a technique using electron conductive fine particles that are not affected by the humidity environment, a method of providing a conductive layer between layers and a hard coat kneading method are used.

特許文献２に開示されているように、基材とハードコート層間とに導電層を設ける方式では、導電層の上層に積層することにより、導電性を考慮して上層に特別な処理を行わなければ行けないことや、多層構成にすることにより、工程が増えて生産性が落ちることなどが問題となる。 As disclosed in Patent Document 2, in the method of providing a conductive layer between the base material and the hard coat layer, a special treatment must be performed on the upper layer in consideration of conductivity by laminating the conductive layer on the upper layer. There are problems such as inability to go, and a multi-layer structure that increases the number of processes and decreases productivity.

特許文献３に開示されているように、ハードコート層と反射防止層間とに導電層を設ける方式でも同様に、多層構成にすることにより、工程が増えて生産性が落ちることなどが問題となる。また、層間に導電層を設ける方式とハードコート練り混み方式の両者において、ハードコート層の上層に反射防止層を形成するために帯電防止性能が低下することも問題となる。 As disclosed in Patent Document 3, a method in which a conductive layer is provided between a hard coat layer and an antireflection layer similarly causes a problem in that the number of processes increases and productivity decreases due to the multilayer structure. . Further, in both the method of providing a conductive layer between the layers and the method of kneading the hard coat, the antistatic performance is lowered because the antireflection layer is formed on the hard coat layer.

さらに、特許文献４に開示されているように、最外層である反射防止層に多孔質導電性微粒子を添加する方式では、導電性を発現する為には微粒子の添加量を増やす必要があり、その弊害として表面硬度が低下してしまう。また導電層の屈折率が高く十分な反射防止性を得られないなどの問題があった。 Furthermore, as disclosed in Patent Document 4, in the method of adding porous conductive fine particles to the antireflection layer that is the outermost layer, it is necessary to increase the amount of fine particles added in order to develop conductivity, As a harmful effect, the surface hardness is lowered. In addition, there is a problem that the refractive index of the conductive layer is high and sufficient antireflection properties cannot be obtained.

これまで反射防止フィルムに帯電防止性を持たせる場合、ハードコート層に導電材を練り混むか、基材とハードコート層との間やハードコート層と低屈折率層との間に導電層を設ける手法が多く用いられてきた。しかしながら、多層構成にすることにより、工程が増えて生産性が落ちる点やハードコート層の上層に反射防止層を形成するために帯電防止性能が低下することが問題となっていた。
特開２００２−４０２０９号公報特開平１１−３２６６０２号公報特開２００１−３３０７０２号公報特開２００７−１０８７２６号公報 In the past, when an antireflection film has antistatic properties, a conductive material is kneaded and mixed in the hard coat layer, or a conductive layer is provided between the substrate and the hard coat layer, or between the hard coat layer and the low refractive index layer. Many methods have been used. However, the multi-layer structure has been problematic in that the number of processes is increased and productivity is lowered, and the antistatic performance is lowered because the antireflection layer is formed on the upper layer of the hard coat layer.
JP 2002-40209 A JP-A-11-326602 JP 2001-330702 A JP 2007-108726 A

本発明は、光学特性、透明性、表面硬度、密着性及び帯電防止性に優れた反射防止フィルムを提供する。 The present invention provides an antireflection film excellent in optical properties, transparency, surface hardness, adhesion and antistatic properties.

本発明の請求項１に係る発明は、透明プラスチックフィルムと、透明プラスチックフィルム上に形成された多官能性モノマーと金属酸化物微粒子とを有する高屈折率層と、高屈折率層上に形成された有機ケイ素化合物及びその加水分解物と導電性金属酸化物微粒子及び多孔質シリカ微粒子とを有する低屈折率層と、を備えたことを特徴とする反射防止フィルムとしたものである。 The invention according to claim 1 of the present invention is formed on a transparent plastic film, a high refractive index layer having a polyfunctional monomer and metal oxide fine particles formed on the transparent plastic film, and a high refractive index layer. And an organic silicon compound and a hydrolyzate thereof, and a low refractive index layer having conductive metal oxide fine particles and porous silica fine particles.

本発明の請求項２に係る発明は、高屈折率層は、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を含有する多官能性モノマーと粒子径１ｎｍ以上１００ｎｍ以下の金属酸化物微粒子とを有し、高屈折率層は多官能性モノマーと金属酸化物微粒子との合計１００重量部に対して多官能性モノマーは５０重量部以上９０重量部以下を含むことを特徴とする請求項１に記載の反射防止フィルムとしたものである。 In the invention according to claim 2 of the present invention, the high refractive index layer comprises a polyfunctional monomer containing two or more (meth) acryloyl groups in one molecule, metal oxide fine particles having a particle diameter of 1 nm or more and 100 nm or less. The high-refractive-index layer contains 50 parts by weight or more and 90 parts by weight or less of the multifunctional monomer with respect to 100 parts by weight of the total of the multifunctional monomer and the metal oxide fine particles. The antireflection film described in 1. is used.

本発明の請求項３に係る発明は、低屈折率層は、一般式（Ａ）Ｒ_ｘＳｉ（ＯＲ）_４−ｘ（但し、式中Ｒはアルキル基、ｘは０以上４以下の整数である。）で示される有機ケイ素化合物及びその加水分解物と、粒子径１ｎｍ〜１００ｎｍの導電性金属酸化物微粒子及び粒子径１ｎｍ以上１００ｎｍ以下の多孔質シリカ微粒子と、を含み、一般式（Ａ）で示される有機ケイ素化合物及びその加水分解物１００重量部に対し、導電性金属酸化物微粒子及び多孔質シリカ微粒子が４０重量部以上１５０重量部以下であることを特徴とする請求項１に記載の反射防止フィルムとしたものである。 In the invention according to claim 3 of the present invention, the low refractive index layer has the general formula (A) R _x Si (OR) _4-x (where R is an alkyl group, x is an integer of 0 or more and 4 or less). And a hydrolyzate thereof, conductive metal oxide fine particles having a particle size of 1 nm to 100 nm, and porous silica fine particles having a particle size of 1 nm to 100 nm, and having the general formula (A) The conductive metal oxide fine particles and the porous silica fine particles are 40 parts by weight or more and 150 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the organosilicon compound represented by the formula (1) and a hydrolyzate thereof. It is an antireflection film.

本発明の請求項４に係る発明は、低屈折率層の屈折率は１．４２以下であり、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍにおける前記低屈折率層の最小反射率が１．２％以下であることを特徴とする請求項１又は３に記載の反射防止フィルムとしたものである。 The invention according to claim 4 of the present invention is characterized in that the refractive index of the low refractive index layer is 1.42 or less, and the minimum reflectance of the low refractive index layer at 380 nm to 780 nm is 1.2% or less. The antireflection film according to claim 1 or 3.

本発明の請求項５に係る発明は、金属酸化物微粒子は、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、ＮｂＯ、ＩＴＯ、ＡＴＯ、ＳｂＯ_２、Ｓｂ_２Ｏ_３、ＳｎＯ_２、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＺｎＯから選ばれる１種類以上の材料を含有することを特徴とする請求項１又は２に記載の反射防止フィルムとしたものである。 In the invention according to claim 5 of the present invention, the metal oxide fine particles are selected from ZrO ₂ , TiO ₂ , NbO, ITO, ATO, SbO ₂ , Sb ₂ O ₃ , SnO ₂ , In ₂ O ₃ , ZnO 1 The antireflection film according to claim 1, wherein the antireflection film contains at least one kind of material.

本発明の請求項６に係る発明は、導電性金属酸化物微粒子は、ＡＴＯ（酸化アンチモン／酸化スズ）、ＩＴＯ（酸化インジウム／酸化スズ）、Ｓｂ_２Ｏ_５、ＴｉＯ_２、ＺｎＯ、ＺｎＯ_２、Ｃｅ_２Ｏ_３の金属酸化物粒子から選ばれる１種類以上の金属酸化物粒子を含有することを特徴とする請求項１、３及び４のいずれかに記載の反射防止フィルムとしたものである。 In the invention according to claim 6 of the present invention, the conductive metal oxide fine particles include ATO (antimony oxide / tin oxide), ITO (indium oxide / tin oxide), Sb ₂ O ₅ , TiO ₂ , ZnO, ZnO ₂ , 5. The antireflection film according to claim 1, comprising at least one type of metal oxide particles selected from Ce ₂ O ₃ metal oxide particles.

本発明によれば、光学特性、透明性、表面硬度、密着性及び帯電防止性に優れた反射防止フィルムを提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the antireflection film excellent in the optical characteristic, transparency, surface hardness, adhesiveness, and antistatic property can be provided.

以下、本発明の実施の形態を、図面を参照しつつ、説明する。実施の形態において、同一構成要素には同一符号を付け、実施の形態の間において重複する説明は省略する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the embodiments, the same components are denoted by the same reference numerals, and redundant description among the embodiments is omitted.

反射防止フィルム１０においては、（１）外光の映り込みを十分に抑制することができ、（２）光の干渉によりムラを抑制することができ、（３）帯電防止性を高め反射防止フィルム１０の表面についたほこりを容易に拭き取ることができ、且つ（４）耐擦傷性が高いことが要求されている。 In the antireflection film 10, (1) reflection of external light can be sufficiently suppressed, (2) unevenness can be suppressed by light interference, and (3) antireflection film can be improved in antistatic property. It is required that dust on the surface of 10 can be easily wiped off and (4) scratch resistance is high.

本発明者は、これら（１）〜（４）の特性を満たすためには、反射防止フィルム１０において以下の特性条件を満たすことが必要であることを見出した。 The present inventor has found that the following characteristic conditions must be satisfied in the antireflection film 10 in order to satisfy the characteristics (1) to (4).

（１）外光の映り込みの抑制
反射防止フィルム１０の外光の映り込みを十分に抑制するためには、反射防止フィルム１０の最小反射率を１．２％以下とする必要がある。
（２）光の干渉によるムラの抑制
透明プラスチックフィルム１上に形成された高屈折率層２と、高屈折率層２上に形成された低屈折率層３を含む本発明に係る反射防止フィルム１０においては、光の干渉によりムラを抑制するためには、高屈折率層２の屈折率と透明プラスチックフィルム１の屈折率との屈折率差を０．０３以下とする必要がある。
（３）帯電防止性の向上
反射防止フィルム１０の表面についたほこりを容易に拭き取るためには、反射防止フィルム１０の帯電防止性を高め、表面抵抗値を１．０×１０^１２（Ω／□）以下とする必要がある。
（４）耐擦傷性の向上
反射防止フィルム１０の耐擦傷性が低いと、反射防止フィルム１０表面に傷が発生しやすくなり、表面に発生した傷により反射防止フィルム１０の機能が発揮できなくなる。よって、反射防止フィルム１０には高い耐擦傷性が要求される。 (1) Suppression of reflection of external light In order to sufficiently suppress reflection of external light from the antireflection film 10, the minimum reflectance of the antireflection film 10 needs to be 1.2% or less.
(2) Suppression of unevenness due to light interference The antireflection film according to the present invention comprising a high refractive index layer 2 formed on the transparent plastic film 1 and a low refractive index layer 3 formed on the high refractive index layer 2. 10, the refractive index difference between the refractive index of the high refractive index layer 2 and the refractive index of the transparent plastic film 1 needs to be 0.03 or less in order to suppress unevenness due to light interference.
(3) Improvement of antistatic property In order to easily wipe off dust on the surface of the antireflection film 10, the antistatic property of the antireflection film 10 is increased and the surface resistance value is 1.0 × 10 ¹² (Ω / □ ) It is necessary to do the following.
(4) Improvement of scratch resistance When the scratch resistance of the antireflection film 10 is low, scratches are likely to occur on the surface of the antireflection film 10, and the function of the antireflection film 10 cannot be exhibited due to scratches generated on the surface. Therefore, the antireflection film 10 is required to have high scratch resistance.

本発明者は、上述した（１）〜（４）の特性条件の全てを満たす反射防止フィルム１０を見出した。以下、本発明の反射防止フィルム１０について説明する。 The inventor has found an antireflection film 10 that satisfies all of the above-described characteristic conditions (1) to (4). Hereinafter, the antireflection film 10 of the present invention will be described.

図１に示すように、本発明の実施の形態に係る反射防止フィルム１０は、透明プラスチック基板１と、高屈折率層２と、高屈折率層２に添加させた金属酸化物微粒子５と、高屈折率層２に添加させた多官能性モノマー（図示せず）と、低屈折率層３と、低屈折率層３に添加させた導電性金属酸化物微粒子６と、低屈折率層３に添加させた多孔質シリカ微粒子７と、を備えている。 As shown in FIG. 1, an antireflection film 10 according to an embodiment of the present invention includes a transparent plastic substrate 1, a high refractive index layer 2, a metal oxide fine particle 5 added to the high refractive index layer 2, A polyfunctional monomer (not shown) added to the high refractive index layer 2, a low refractive index layer 3, conductive metal oxide fine particles 6 added to the low refractive index layer 3, and a low refractive index layer 3 Porous silica fine particles 7 added to the above.

本発明の実施の形態に係る透明プラスチックフィルム１としては、種々の有機高分子からなる基材をあげることができる。光学部材として使用される基材は、透明性、屈折率、分散などの光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性の点から選択することができる。例えば、ポリオレフィン系としてはポリエチレン、ポリプロピレン等を用いることができ、ポリエステル系としてはポリエチレンテレフタラート、ポリエチレンナフタレート等を用いることができ、ポリアミド系としてはナイロン−６、ナイロン６６を用いることができ、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール、アクリル、セルロース系としてはトリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等を用いることができるが本発明ではこれらに限定されるわけではない。あるいはこれらの有機高分子の共重合体などを用いることができる。これらの有機高分子の中から単層、あるいは複数の有機高分子を積層したものを使用することができる。 Examples of the transparent plastic film 1 according to the embodiment of the present invention include substrates made of various organic polymers. The substrate used as the optical member can be selected from the viewpoints of optical properties such as transparency, refractive index and dispersion, and various physical properties such as impact resistance, heat resistance and durability. For example, polyethylene, polypropylene or the like can be used as the polyolefin system, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate or the like can be used as the polyester system, and nylon-6 or nylon 66 can be used as the polyamide system. Examples of polystyrene, polyvinyl chloride, polyimide, polyvinyl alcohol, ethylene vinyl alcohol, acrylic, and cellulose may include triacetyl cellulose, diacetyl cellulose, cellophane, and the like, but the invention is not limited thereto. Alternatively, a copolymer of these organic polymers can be used. Among these organic polymers, a single layer or a laminate of a plurality of organic polymers can be used.

これらの透明プラスチックフィルム１の基材を構成する有機高分子に添加剤として、帯電防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等を含有させたものも使用することができる。 The organic polymer constituting the substrate of these transparent plastic films 1 is also used as an additive containing an antistatic agent, ultraviolet absorber, plasticizer, lubricant, colorant, antioxidant, flame retardant, etc. can do.

また、この透明プラスチックフィルム１の膜厚は、特に限定されるものではないが２０μｍ〜２００μｍが好ましい。 The film thickness of the transparent plastic film 1 is not particularly limited, but is preferably 20 μm to 200 μm.

高屈折率層２は、ウェットコーティング法としてディップコーティング法、スピンコーティング法、フローコーティング法、スプレーコーティング法、ロールコーティング法、グラビアロールコーティング法、エアドクターコーティング法、プレードコーティング法、ワイヤードクターコーティング法、ナイフコーティング法、リバースコーティング法、トランスファロールコーティング法、マイクログラビアコーティング法、キスコーティング法、キャストコーティング法、スロットオリフィスコーティング法、カレンダーコーティング法、ダイコーティング法等により透明プラスチックフィルム１の少なくとも片面に塗工させることができる。 The high refractive index layer 2 is a dip coating method, spin coating method, flow coating method, spray coating method, roll coating method, gravure roll coating method, air doctor coating method, plate coating method, wire doctor coating method, as a wet coating method. Coating on at least one side of transparent plastic film 1 by knife coating method, reverse coating method, transfer roll coating method, micro gravure coating method, kiss coating method, cast coating method, slot orifice coating method, calendar coating method, die coating method, etc. Can be made.

高屈折率層２を硬化させる方法としては、例えば、紫外線照射、加熱等を用いることができるが本発明ではこれらに限定されるわけではない。紫外線照射の場合、高圧水銀ランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ等の有電極ランプの他、フュージョンランプに代表される無電極ランプ等を使用することができる。紫外線照射量は、通常１００ｍＪ／ｃｍ^２〜８００ｍＪ／ｃｍ^２程度である。 As a method of curing the high refractive index layer 2, for example, ultraviolet irradiation, heating, or the like can be used, but the present invention is not limited to these. In the case of ultraviolet irradiation, an electrodeless lamp typified by a fusion lamp can be used in addition to an electroded lamp such as a high-pressure mercury lamp, a halogen lamp, or a xenon lamp. The amount of ultraviolet irradiation is usually about 100 mJ / cm ^{2 to} 800 mJ / cm ² .

高屈折率層２の膜厚は、塗工精度、取扱いの点で、膜厚は２０μｍ以下が好ましく、特に３μｍ〜１２μｍの範囲が好ましい。 The film thickness of the high refractive index layer 2 is preferably 20 μm or less, particularly preferably in the range of 3 μm to 12 μm from the viewpoint of coating accuracy and handling.

本発明の実施の形態に係る低屈折率層３に含まれる有機ケイ素化合物は、一般式（Ａ）Ｒ_ｘＳｉ（ＯＲ）_４−ｘを満たすものである。式中Ｒはアルキル基を示し、ｘは０≦ｘ≦４を満たす整数である。例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシランが挙げられるが本発明ではこれらに限定されるわけではない。これらは単独で使用しても良いし、２種類以上を併用することができる。 The organosilicon compound contained in the low refractive index layer 3 according to the embodiment of the present invention satisfies the general formula (A) R _x Si (OR) _4-x . In the formula, R represents an alkyl group, and x is an integer satisfying 0 ≦ x ≦ 4. For example, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetraisopropoxysilane, tetrabutoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, isobutyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane The present invention is not limited to these examples. These may be used alone or in combination of two or more.

さらに、一般式（Ｂ）Ｒ’_ｙＳｉ（ＯＲ）_４-ｙを満たす有機ケイ素化合物を添加することができる。式中Ｒはアルキル基を示し、Ｒ’は末端にアルキル基、フッ化アルキル基などの未反応性官能基やビニル基、アミノ基、エポキシ基、アリール基、（メタ）アクリロイル基などの反応性官能基を示し、ｙは１≦ｙ≦３を満たす整数である。例えば、オクチルトリメトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、３、３、３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、１Ｈ、１Ｈ、２Ｈ、２Ｈ−パープルオロヘキシルトリメトキシシラン、１Ｈ、１Ｈ、２Ｈ、２Ｈ−パープルオロデシルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロビルトリメトキシシラン、３−アミノプロビルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−イソシアナートプロピルトリメトキシシラン、３−イソシアナートプロピルトリエトキシシランが挙げられるが本発明ではこれらに限定されるわけではない。これらは単独で使用しても良いし、２種類以上を併用しても良い。 Furthermore, an organosilicon compound satisfying the general formula (B) R ′ _y Si (OR) _4-y can be added. In the formula, R represents an alkyl group, and R ′ represents an unreactive functional group such as an alkyl group or a fluorinated alkyl group at the terminal, or a reactivity such as a vinyl group, an amino group, an epoxy group, an aryl group, or a (meth) acryloyl group. A functional group is shown, and y is an integer satisfying 1 ≦ y ≦ 3. For example, octyltrimethoxysilane, octadecyltrimethoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, 1H, 1H, 2H, 2H-purple cyclohexyl trimethoxysilane, 1H, 1H, 2H, 2H-purple olo Decyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyl trimethoxysilane, 3-aminopropyl trimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxy B pills triethoxysilane, 3-isocyanate propyl trimethoxysilane, 3-isocyanate propyl triethoxysilane including but not limited to these in the present invention. These may be used alone or in combination of two or more.

低屈折率層３の膜厚は、一般式（Ｃ）ｎｄ＝λ／４（但し、ｎは層の屈折率、ｄは層厚を示し、λは光の波長を示し、４５０≦λ≦６５０を満たす整数である）を満たすことが望ましい。 The film thickness of the low refractive index layer 3 is represented by the general formula (C) nd = λ / 4 (where n is the refractive index of the layer, d is the layer thickness, λ is the wavelength of light, and 450 ≦ λ ≦ 650) It is desirable that

上記一般式（Ａ）または一般式（Ｂ）で表される有機ケイ素化合物を用いて重合体を作製する方法は限定されないが、加水分解によって作製する際の触媒としては、塩酸、シュウ酸、硝酸、酢酸、フッ酸、ギ酸、リン酸、アンモニア、アルミニウムアセトナート、ジブチルスズラウレート、オクチル酸スズ化合物、メタンスルホン酸、トリクロロメタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、トリフロロ酢酸等が挙げられるが本発明ではこれらに限定されるわけではない。これらを単独、もしくは２種類以上合わせて用いても良い。 The method for producing the polymer using the organosilicon compound represented by the general formula (A) or the general formula (B) is not limited, but as a catalyst for producing by hydrolysis, hydrochloric acid, oxalic acid, nitric acid , Acetic acid, hydrofluoric acid, formic acid, phosphoric acid, ammonia, aluminum acetonate, dibutyltin laurate, tin octylate compound, methanesulfonic acid, trichloromethanesulfonic acid, paratoluenesulfonic acid, trifluoroacetic acid, etc. However, it is not limited to these. You may use these individually or in combination of 2 or more types.

低屈折率層３は、揮発性溶媒に希釈して塗布される。希釈溶媒として用いられるものは、組成物の安定性、高屈折率層４に対する濡れ性、揮発性などを考慮して、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、２−メトキシエタノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、エチレングリコール、プロピレングリコール、へキシレングリコール等のグリコール類、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、エチルカルビトール、ブチルカルビトール等のグリコールエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド等が挙げられるが本発明ではこれらに限定されるわけではない。これらを単独、もしくは２種類以上合わせて用いても良い。 The low refractive index layer 3 is applied after being diluted in a volatile solvent. In consideration of stability of the composition, wettability to the high refractive index layer 4, volatility, etc., alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol, 2-methoxyethanol, acetone, Ketones such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl, esters such as methyl acetate, ethyl acetate and butyl acetate, ethers such as diisopropyl ether, glycols such as ethylene glycol, propylene glycol and hexylene glycol, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, and ethyl carb Glycol ethers such as tol and butyl carbitol, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane and octane, aromatic hydrocarbons such as halogenated hydrocarbons, benzene, toluene and xylene, N-methylpyrrolidone, dimethyl Although formamide and the like but are not limited to these. You may use these individually or in combination of 2 or more types.

低屈折率層３は、高屈折率層２と同様に前述したウェットコーティング法により塗布され、加熱乾燥により塗膜中の溶媒を揮発させ、その後、加熱、加湿、紫外線照射、電子線照射等により塗膜を硬化させることができる。 The low refractive index layer 3 is applied by the wet coating method described above as in the case of the high refractive index layer 2, and the solvent in the coating film is volatilized by heating and drying, and then heated, humidified, irradiated with ultraviolet rays, irradiated with electron beams, etc. The coating film can be cured.

本発明の実施の形態に係る多官能性モノマーは、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を分子中に含有する多官能性モノマーを主成分とする。多官能性モノマーとしては、１、４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１、６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、３−メチルペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールビスβ−（メタ）アクリロイルオキシプロピネート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリ（２−ヒドロキシエチル）イソシアネートジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、２、３−ビス（メタ）アクリロイルオキシエチルオキシメチル［２．２．１］ヘプタン、ポリ１、２−ブタジエンジ（メタ）アクリレート、１、２−ビス（メタ）アクリロイルオキシメチルヘキサン、ノナエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラデカンエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１０−デカンジオール（メタ）アクリレート、３、８−ビス（メタ）アクリロイルオキシメチルトリシクロ［５.２.１０］デカン、水素添加ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、２、２−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシジエトキシフェニル）プロパン、１、４−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）シクロヘキサン、ヒドロキシピバリンサンエステルネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、エポキシ変成ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート等を挙げることができるが本発明ではこれらに限定されるわけではない。多官能性モノマーは、単独で使用しても良いし、２種類以上を併用しても良い。また、必要で有れば単官能モノマーと併用して共重合させることもできる。 The polyfunctional monomer which concerns on embodiment of this invention has as a main component the polyfunctional monomer which contains two or more (meth) acryloyl groups in 1 molecule. As polyfunctional monomers, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol Di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, 3-methylpentanediol di (meth) acrylate, diethylene glycol bis β- (meth) acryloyloxypropionate, trimethylolethane Tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, tri (2-H Roxyethyl) isocyanate di (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, 2,3-bis (meth) acryloyloxyethyloxymethyl [2.2.1] heptane, poly 1,2-butadiene di (meth) acrylate 1,2-bis (meth) acryloyloxymethylhexane, nonaethylene glycol di (meth) acrylate, tetradecanethylene glycol di (meth) acrylate, 10-decanediol (meth) acrylate, 3,8-bis (meth) acryloyl Oxymethyltricyclo [5.2.10] decane, hydrogenated bisphenol A di (meth) acrylate, 2,2-bis (4- (meth) acryloyloxydiethoxyphenyl) propane, 1,4-bis ((meta ) Acryloyloxymethyl Examples include cyclohexane, hydroxypivalin sun ester neopentyl glycol di (meth) acrylate, bisphenol A diglycidyl ether di (meth) acrylate, and epoxy-modified bisphenol A di (meth) acrylate, but the present invention is limited thereto. Do not mean. A polyfunctional monomer may be used independently and may use 2 or more types together. Further, if necessary, it can be copolymerized in combination with a monofunctional monomer.

高屈折率層２において、前述した多官能性モノマーは、多官能性モノマーと金属酸化物微粒子５との合計１００重量部に対し、５０重量部以上９０重量部以下含まれていることが好ましく、特に７０重量部以上８５重量部以下が好ましい。多官能性モノマーが５０重量部より少ないと硬度低下や面性悪化、９０重量部より多いと密着性の低下や屈折率低下が生じる。 In the high refractive index layer 2, the polyfunctional monomer described above is preferably contained in an amount of 50 parts by weight or more and 90 parts by weight or less with respect to a total of 100 parts by weight of the polyfunctional monomer and the metal oxide fine particles 5. Particularly preferred is 70 to 85 parts by weight. When the amount of the polyfunctional monomer is less than 50 parts by weight, the hardness is lowered and the surface quality is deteriorated. When the amount is more than 90 parts by weight, the adhesion is lowered and the refractive index is lowered.

更に光重合開始剤として、例えば、２、２−エトキシアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ジベンゾイル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ｐ−クロロベンゾフェノン、ｐ−メトキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、アセトフェノン、２−クロロチオキサントン等が挙げられるが本発明ではこれらに限定されるわけではない。これらを単独、もしくは２種類以上合わせて用いても良い。 Furthermore, as a photopolymerization initiator, for example, 2,2-ethoxyacetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, dibenzoyl, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, p-chlorobenzophenone, p-methoxybenzophenone, Michler ketone, acetophenone, 2 -Chlorothioxanthone and the like may be mentioned, but the invention is not limited thereto. You may use these individually or in combination of 2 or more types.

また、光増感剤としてトリエチルアミン、トリエタノールアミン、２−ジメチルアミノエタノール等の３級アミン、トリフェニルホスフィン等のアルキルフォスフィン系、β−チオジグリコール等のチオエーテル系を挙げられるが本発明ではこれらに限定されるわけではない。これらを１種類あるいは２種類以上を混合して使用することができる。 Examples of the photosensitizer include tertiary amines such as triethylamine, triethanolamine and 2-dimethylaminoethanol, alkylphosphine such as triphenylphosphine, and thioethers such as β-thiodiglycol. However, it is not limited to these. These can be used alone or in combination of two or more.

さらに、性能改良のため、泡消剤、レベリング剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、重合禁止剤等を含有することができる。 Furthermore, for performance improvement, an anti-foaming agent, a leveling agent, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, a polymerization inhibitor and the like can be contained.

また、前記多官能性モノマーの希釈溶媒としては、非重合性のものであれば特に限定されるものではないが、例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、メチルエチルケトン、アセトン等のケトン類、トルエン、キシレン等の芳香族化合物、ジエチルエーテル、メチルエチルエーテル類のエーテル類、メタノール、エタノール、イソプロパノール類のアルコール類等が挙げられるが本発明ではこれらに限定されるわけではない。これらは高屈折率剤に対し、１０重量部以上７０重量部以下が望ましく、特に３０重量部以上５０重量部以下が好ましい。 The diluting solvent for the polyfunctional monomer is not particularly limited as long as it is non-polymerizable, and examples thereof include esters such as methyl acetate, ethyl acetate, and butyl acetate, methyl ethyl ketone, and acetone. Examples include ketones, aromatic compounds such as toluene and xylene, ethers such as diethyl ether and methyl ethyl ether, alcohols such as methanol, ethanol, and isopropanol, but the present invention is not limited thereto. These are preferably 10 to 70 parts by weight, particularly preferably 30 to 50 parts by weight, based on the high refractive index agent.

本発明の実施の形態に係る金属酸化物微粒子５は、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、ＮｂＯ、ＩＴＯ、ＡＴＯ、ＳｂＯ_２、Ｓｂ_２Ｏ_３、ＳｎＯ_２、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＺｎＯのうち少なくとも１種類以上の材料を用いることができるが本発明ではこれらに限定されるわけではない。 The metal oxide fine particles 5 according to the embodiment of the present invention include at least one of ZrO ₂ , TiO ₂ , NbO, ITO, ATO, SbO ₂ , Sb ₂ O ₃ , SnO ₂ , In ₂ O ₃ , and ZnO. However, the present invention is not limited to these materials.

金属酸化物微粒子５の添加により高屈折率層２の表面に微細な凹凸が生じ、表面積が増大する。よって高屈折率層２と低屈折率層３との間で物理的吸着力が増大し、密着性が向上する。その結果、低屈折率層の耐擦傷性を向上させることができる。 The addition of the metal oxide fine particles 5 causes fine irregularities on the surface of the high refractive index layer 2 and increases the surface area. Therefore, the physical adsorption force increases between the high refractive index layer 2 and the low refractive index layer 3, and the adhesion is improved. As a result, the scratch resistance of the low refractive index layer can be improved.

これらの金属酸化物微粒子５の粒径は１００ｎｍ以下であることが望ましく、１００ｎｍより大きくなるとヘイズが高くなり反射防止フィルムの透過率が低下してしまう。 The particle diameter of these metal oxide fine particles 5 is desirably 100 nm or less. If the particle diameter is larger than 100 nm, the haze increases and the transmittance of the antireflection film decreases.

高屈折率層２において、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を分子中に含有する多官能性モノマーと金属酸化物微粒子５との合計１００重量部に対し、金属酸化物微粒子５は１０重量部以上５０重量部以下が望ましく、特に１５重量部以上３０重量部以下が好ましい。金属酸化物微粒子５が１０重量部より少ないと密着性の低下や屈折率低下、５０重量部より多いと硬度低下や面性悪化が生じる。 In the high refractive index layer 2, the metal oxide fine particles 5 are used with respect to a total of 100 parts by weight of the polyfunctional monomer containing two or more (meth) acryloyl groups in one molecule and the metal oxide fine particles 5. Is preferably from 10 to 50 parts by weight, particularly preferably from 15 to 30 parts by weight. When the amount of the metal oxide fine particles 5 is less than 10 parts by weight, the adhesiveness and the refractive index are lowered, and when it is more than 50 parts by weight, the hardness is lowered and the surface property is deteriorated.

本発明の実施の形態に係る導電性金属酸化物微粒子６はＡＴＯ（酸化アンチモン／酸化スズ）、ＩＴＯ（酸化インジウム／酸化スズ）、Ｓｂ_２Ｏ_５、ＴｉＯ_２、ＺｎＯ、ＺｎＯ_２、Ｃｅ_２Ｏ_３の金属酸化物粒子のうち少なくとも１種類以上を用いることができるが本発明ではこれらに限定されるわけではない。その中でも白色で透明性の優れたＳｂ_２Ｏ_５の使用が望ましい。 The conductive metal oxide fine particles 6 according to the embodiment of the present invention include ATO (antimony oxide / tin oxide), ITO (indium oxide / tin oxide), Sb ₂ O ₅ , TiO ₂ , ZnO, ZnO ₂ , and Ce ₂ O. _At least one of the _three metal oxide particles can be used, but the present invention is not limited to these. Among them, it is desirable to use Sb ₂ O ₅ which is white and excellent in transparency.

これらの導電性金属酸化物微粒子６の粒径は１００ｎｍ以下であることが望ましく、１００ｎｍより大きくなるとヘイズが高くなり、反射防止フィルム１０の透過率が低下する。 The particle diameter of these conductive metal oxide fine particles 6 is desirably 100 nm or less. When the particle diameter is larger than 100 nm, the haze increases and the transmittance of the antireflection film 10 decreases.

本発明の実施の形態に係る多孔質シリカ微粒子７は、内部に空気を含有しているために、それ自身の屈折率は通常のシリカの屈折率が１．４６と比較して著しく低い屈折率が１．２０以上１．３０以下である。また、この多孔質シリカ微粒子７をマトリックス中に添加した場合、多孔質シリカ微粒子７は多孔質であるため、マトリックスがシリカ微粒子内部に浸漬することが無く、屈折率の上昇を防ぐことができる。 Since the porous silica fine particles 7 according to the embodiment of the present invention contain air inside, the refractive index of the porous silica fine particles 7 is remarkably lower than that of ordinary silica, which is 1.46. Is 1.20 or more and 1.30 or less. Further, when the porous silica fine particles 7 are added to the matrix, the porous silica fine particles 7 are porous, so that the matrix is not immersed in the silica fine particles, and an increase in the refractive index can be prevented.

多孔質シリカ微粒子７の平均粒径は、１ｎｍ以上１００ｎｍ以下の範囲内であれば良い。この平均粒径が１００ｎｍよりも大きくなると、低屈折率層３の表面においてレイリー散乱によって光が散乱され、白っぽく見え、その透明性が低下する。また、この平均粒径が１ｎｍ未満であると、多孔質シリカ微粒子７が凝集しやすくなってしまう。 The average particle diameter of the porous silica fine particles 7 may be in the range of 1 nm to 100 nm. When this average particle diameter is larger than 100 nm, light is scattered by Rayleigh scattering on the surface of the low refractive index layer 3, and it looks whitish and its transparency is lowered. If the average particle size is less than 1 nm, the porous silica fine particles 7 are likely to aggregate.

導電性金属酸化物微粒子６及び多孔質シリカ微粒子７は、低屈折率層３のバインダーに１００重量部に対し４０重量部以上１５０重量部以下が望ましく、特に１００重量部に対し４０重量部以上１００重量部以下が好ましい。１５０重量部より多すぎると低屈折率層３の耐擦傷性が低下し、４０重量部より少なすぎると導電性が得られなくなる。 The conductive metal oxide fine particles 6 and the porous silica fine particles 7 are preferably 40 parts by weight or more and 150 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight in the binder of the low refractive index layer 3, and particularly 40 parts by weight or more and 100 parts by weight or more with respect to 100 parts by weight. Part by weight or less is preferred. When the amount is more than 150 parts by weight, the scratch resistance of the low refractive index layer 3 is lowered, and when the amount is less than 40 parts by weight, conductivity cannot be obtained.

また、低屈折率層３において、導電性金属酸化物微粒子６及び多孔質シリカ微粒子７の配合比によって、低屈折率層３の屈折率を制御することができる。導電性金属酸化物微粒子６と多孔質シリカ微粒子７の合計１００重量部に対し、多孔質シリカ微粒子７の６０重量部以上８０重量部以下が好ましく、特に６５重量部以上７５重量部以下が望ましい。 In the low refractive index layer 3, the refractive index of the low refractive index layer 3 can be controlled by the blending ratio of the conductive metal oxide fine particles 6 and the porous silica fine particles 7. The amount of the porous silica fine particles 7 is preferably 60 parts by weight or more and 80 parts by weight or less, and particularly preferably 65 parts by weight or more and 75 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the total of the conductive metal oxide fine particles 6 and the porous silica fine particles 7.

上述したとおり、本発明の反射防止フィルム１０にあっては、高屈折率層２と低屈折率層３とを設けた側の波長３６０ｎｍ〜８００ｎｍにおける最小反射率を１．２％以下とする必要がある。最小反射率が１．２％を超えるような場合、得られる反射防止フィルム１０は外光の映り込みを十分に抑制することができず、反射防止機能が不十分となる。なお、さらには最小反射率が１．０％以下であることが好ましい。 As described above, in the antireflection film 10 of the present invention, the minimum reflectance at a wavelength of 360 nm to 800 nm on the side where the high refractive index layer 2 and the low refractive index layer 3 are provided needs to be 1.2% or less. There is. When the minimum reflectance exceeds 1.2%, the resulting antireflection film 10 cannot sufficiently suppress the reflection of external light, and the antireflection function becomes insufficient. Furthermore, it is preferable that the minimum reflectance is 1.0% or less.

また、上述したとおり、本発明の低屈折率層３の屈折率は、１．４２以下とすることが好ましい。また、本発明の高屈折率層２は、低屈折率層３の屈折率と比較して０．２０以上高い屈折率を有することが好ましい。本発明の低屈折率層３の屈折率を１．４２以下とし、高屈折率層２の屈折率を低屈折率層３の屈折率よりも０．２０以上大きくすることにより、得られる反射防止フィルム１０の最小反射率を１．２％以下とすることができる。 Further, as described above, the refractive index of the low refractive index layer 3 of the present invention is preferably 1.42 or less. The high refractive index layer 2 of the present invention preferably has a refractive index higher by 0.20 or more than the refractive index of the low refractive index layer 3. Antireflection obtained by setting the refractive index of the low refractive index layer 3 of the present invention to 1.42 or less and the refractive index of the high refractive index layer 2 to be 0.20 or more larger than the refractive index of the low refractive index layer 3 The minimum reflectance of the film 10 can be 1.2% or less.

また、上述したとおり、高屈折率層２の屈折率と透明プラスチックフィルム１の屈折率との屈折率差は光の干渉を低減するために０．０３以下とすることが好ましい。両者の屈折率差が０．０３を超える場合には、得られる反射防止フィルム１０は光の干渉によりムラが発生する傾向にある。本発明にあっては、高屈折率層２の屈折率との屈折率差が小さいポリエチレンテレフタラートフィルムを好適に用いることができる。 Further, as described above, the refractive index difference between the refractive index of the high refractive index layer 2 and the refractive index of the transparent plastic film 1 is preferably 0.03 or less in order to reduce light interference. When the refractive index difference between the two exceeds 0.03, the resulting antireflection film 10 tends to be uneven due to light interference. In the present invention, a polyethylene terephthalate film having a small refractive index difference from the refractive index of the high refractive index layer 2 can be suitably used.

また、上述したとおり、本発明の反射防止フィルム１０にあっては、高屈折率層２と低屈折率層３とを設けた側の表面抵抗値が１．０×１０^１２（Ω／□）以下とすることが好ましい。表面抵抗値が１．０×１０^１２（Ω／□）以下とすることにより、反射防止フィルム１０表面についたほこりを容易に拭き取ることができる。表面抵抗値が１．０×１０^１２（Ω／□）を超えるような場合、反射防止フィルム１０表面に付着したほこりを容易に拭き取ることが困難となる。なお、さらには、表面抵抗値が１．０×１０^１１（Ω／□）以下とすることが好ましい。 Further, as described above, in the antireflection film 10 of the present invention, the surface resistance value on the side where the high refractive index layer 2 and the low refractive index layer 3 are provided has a surface resistance value of 1.0 × 10 ¹² (Ω / □). The following is preferable. When the surface resistance value is 1.0 × 10 ¹² (Ω / □) or less, dust on the surface of the antireflection film 10 can be easily wiped off. When the surface resistance value exceeds 1.0 × 10 ¹² (Ω / □), it becomes difficult to easily wipe off dust adhering to the surface of the antireflection film 10. Furthermore, it is preferable that the surface resistance value is 1.0 × 10 ¹¹ (Ω / □) or less.

以下、本発明の実施例について詳細に説明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。 Examples of the present invention will be described in detail below, but the present invention is not limited to the examples.

実施例及び比較例で得られた反射防止フィルム１０の性能を下記の方法に従って評価した。 The performance of the antireflection film 10 obtained in Examples and Comparative Examples was evaluated according to the following method.

（ａ）光学特性
（１）反射率測定
実施例及び比較例で得られた反射防止フィルム１０をフィルム面に艶消しの黒色塗料を塗布した後、波長３６０ｎｍ〜８００ｎｍの光を入射角５゜とした場合の片面の反射率を測定した。 (A) Optical characteristics (1) Reflectance measurement After coating the antireflection film 10 obtained in the examples and comparative examples with a matte black paint on the film surface, light with a wavelength of 360 nm to 800 nm is incident at an incident angle of 5 °. The reflectance on one side was measured.

（２）ヘイズ値
実施例及び比較例で得られた反射防止フィルム１０を日本電色工業（株）製、製品名「ＮＤＨ−２０００」の写像性測定器を使用して測定した。 (2) Haze value The antireflection film 10 obtained by the Example and the comparative example was measured using the Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. product name "NDH-2000" image clarity measuring device.

（３）干渉ムラ
実施例及び比較例で得られた反射防止フィルム１０をフィルム面に艶消しの黒色塗料を塗布した後、片面の干渉ムラの有無を目視判定した。判定基準を以下に示す。
○：干渉ムラを確認することが出来ない。
×：干渉ムラが確認できる。 (3) Interference unevenness After applying the matte black paint to the film surface of the antireflection film 10 obtained in Examples and Comparative Examples, the presence or absence of interference unevenness on one side was visually determined. Judgment criteria are shown below.
○: Interference unevenness cannot be confirmed.
X: Interference unevenness can be confirmed.

（ｂ）表面抵抗値
実施例及び比較例で得られた反射防止フィルム１０をＪＩＳＫ６９１１に準拠して行った。 (B) Surface resistance value The antireflection film 10 obtained by the Example and the comparative example was performed based on JISK6911.

（ｃ）機械強度
（１）耐擦傷性
実施例及び比較例で得られた反射防止フィルム１０の表面をスチールウール、日本スチールウール（株）製、製品名「ボンスター＃００００」により２５０ｇ／ｃｍ^２で１０回擦り、傷の有無を目視判定した（スチールウール試験）。判定基準を以下に示す。
○：傷を確認することが出来ない。
△：数本傷を確認できる。
×：傷が多数確認できる。 (C) Mechanical strength (1) Scratch resistance The surface of the antireflection film 10 obtained in Examples and Comparative Examples was 250 g / cm ^{2 according} to steel wool, manufactured by Nippon Steel Wool Co., Ltd., product name “Bonster # 0000”. Were rubbed 10 times, and the presence or absence of scratches was visually judged (steel wool test). Judgment criteria are shown below.
○: Scratches cannot be confirmed.
Δ: Several scratches can be confirmed.
X: Many scratches can be confirmed.

（２）密着性
実施例及び比較例で得られた反射防止フィルム１０の表面を１ｍｍ角１００点カット後、粘着セロハンテープ、ニチバン（株）製、工業用２４ｍｍ巾セロテープ（登録商標）による剥離の有無を目視判定した（クロスカットテープピール試験）。 (2) Adhesion After the surface of the antireflection film 10 obtained in Examples and Comparative Examples was cut at 100 points of 1 mm square, peeling with an adhesive cellophane tape, manufactured by Nichiban Co., Ltd., industrial 24 mm width cello tape (registered trademark) The presence or absence was visually determined (cross-cut tape peel test).

［実施例１］
＜高屈折率層２の形成＞屈折率＝１．６５６
ＰＥ−３Ａ（共栄社化学（株）製）８０重量部
ＺｒＯ_２（屈折率ｎ＝２．２、東洋インキ（株）製）２０重量部
イルガキュア−１８４（チバ・スペシャリティケミカルズ（株）製）５重量部
メチルエチルケトン１００重量部 [Example 1]
<Formation of High Refractive Index Layer 2> Refractive index = 1.656
PE-3A (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 80 parts by weight ZrO ₂ (refractive index n = 2.2, manufactured by Toyo Ink Co., Ltd.) 20 parts by weight Irgacure-184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 5 weights Methyl ethyl ketone 100 parts by weight

上記材料を撹拌混合して作製した高屈折率剤を厚み１００μｍ、屈折率ｎ＝１．６６のポリエチレンテレフタレート（全光線透過率：８８％、ヘイズ値：０．５％）上にバーコーターを用いて塗布し、５０度で１分間乾燥後、フュージョンＵＶシステムズ・ジャパン（株）製、「無電極Ｈバルブランプ」を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ^２、照射量２８０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して塗布層を硬化させた。硬化後の高屈折率層２の厚みは約５μｍであった。 Using a bar coater on a polyethylene terephthalate (total light transmittance: 88%, haze value: 0.5%) having a thickness of 100 μm and a refractive index n = 1.66, a high refractive index agent prepared by stirring and mixing the above materials After coating at 50 ° C. for 1 minute, using an “electrodeless H bulb lamp” manufactured by Fusion UV Systems Japan Co., Ltd., irradiating ultraviolet rays with an illuminance of 400 mW / cm ² and an irradiation amount of 280 mJ / cm ² The coating layer was cured. The thickness of the high refractive index layer 2 after curing was about 5 μm.

＜低屈折率層３の形成＞屈折率＝１．４１９
Ｓｉ（ＯＣ_２Ｈ_５）_４を９５ｍｏｌ％、ＣＦ_３（ＣＦ_２）_７（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３を５ｍｏｌ％混合したマトリックス１００重量部に対して、平均粒径６０ｎｍの多孔質シリカ微粒子７及び導電性酸化物微粒子６が６５重量部となるように添加し、１．０Ｎ−ＨＣｌを触媒に用いた低屈折率コーティング剤を作製した。なお、多孔質シリカ微粒子７及び導電性酸化物微粒子６は、以下の割合とした。 <Formation of Low Refractive Index Layer 3> Refractive index = 1.419
Porous having an average particle diameter of 60 nm with respect to 100 parts by weight of a matrix in which 95 mol% of Si (OC ₂ H ₅ ) ₄ and ₅ mol% of CF ₃ (CF ₂ ) ₇ (CH ₂ ) ₂ Si (OCH ₃ ) ₃ are mixed. Silica fine particles 7 and conductive oxide fine particles 6 were added in an amount of 65 parts by weight to prepare a low refractive index coating agent using 1.0 N HCl as a catalyst. In addition, the porous silica fine particles 7 and the conductive oxide fine particles 6 have the following ratios.

多孔質シリカ微粒子７（触媒化成工業（株）製、屈折率ｎ＝１．２３）６５重量部
五酸化アンチモン（触媒化成工業（株）製、屈折率ｎ＝１．６４）３５重量部 Porous silica fine particles 7 (manufactured by Catalyst Chemical Industry Co., Ltd., refractive index n = 1.23) 65 parts by weight Antimony pentoxide (catalyst chemical industry Co., Ltd., refractive index n = 1.64) 35 parts by weight

これらを上記で作製した高屈折率層２へバーコーターを用いて乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるよう塗布し、１２０℃で１分間乾燥し、低屈折率層３を形成した。このフィルムの性能評価結果を図２に示す。 These were applied to the high refractive index layer 2 produced above using a bar coater so that the film thickness after drying was 100 nm, and dried at 120 ° C. for 1 minute to form the low refractive index layer 3. The performance evaluation results of this film are shown in FIG.

［実施例２］
＜高屈折率層２の形成＞屈折率＝１．６６７
ＰＥ−３Ａ（共栄社化学（株）製）８５重量部
ＴｉＯ_２（屈折率ｎ＝２．５、東洋インキ（株）製）１５重量部
イルガキュア−１８４（チバ・スペシャリティケミカルズ（株）製）５重量部
メチルエチルケトン１００重量部 [Example 2]
<Formation of High Refractive Index Layer 2> Refractive index = 1.667
PE-3A (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 85 parts by weight TiO ₂ (refractive index n = 2.5, manufactured by Toyo Ink Co., Ltd.) 15 parts by weight Irgacure-184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 5 weights Methyl ethyl ketone 100 parts by weight

＜低屈折率層の形成＞屈折率＝１．４０２
マトリックス１００重量部に対して、平均粒径６０ｎｍの多孔質シリカ微粒子７及び導電性酸化物微粒子６が１００重量部となるように添加し、低屈折率コーティング剤を作製した。なお、多孔質シリカ微粒子７及び導電性酸化物微粒子６は以下の割合とした。 <Formation of Low Refractive Index Layer> Refractive index = 1.402
The porous silica fine particles 7 and the conductive oxide fine particles 6 having an average particle diameter of 60 nm were added to 100 parts by weight of the matrix so as to be 100 parts by weight, thereby preparing a low refractive index coating agent. In addition, the porous silica fine particles 7 and the conductive oxide fine particles 6 have the following ratios.

多孔質シリカ微粒子７（触媒化成工業（株）製、屈折率ｎ＝１．２３）７０重量部
五酸化アンチモン（触媒化成工業（株）製、屈折率ｎ＝１．６４）３０重量部 Porous silica fine particles 7 (manufactured by Catalytic Chemical Industry Co., Ltd., refractive index n = 1.23) 70 parts by weight Antimony pentoxide (catalyst chemical industry Co., Ltd., refractive index n = 1.64) 30 parts by weight

上記のようにした以外は実施例１と同様にして反射防止フィルム１０を作製した。このフィルムの性能評価結果を図２に示す。 An antireflection film 10 was produced in the same manner as in Example 1 except for the above. The performance evaluation results of this film are shown in FIG.

［比較例１］
＜高屈折率層２の形成＞屈折率＝１．５５
ＰＥ−３Ａ（共栄社化学（株）製）９５重量部
ＺｎＯ（屈折率ｎ＝１．９、東洋インキ（株）製）５重量部
イルガキュア−１８４（チバ・スペシャリティケミカルズ（株）製）５重量部
メチルエチルケトン１００重量部 [Comparative Example 1]
<Formation of High Refractive Index Layer 2> Refractive index = 1.55
PE-3A (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 95 parts by weight ZnO (refractive index n = 1.9, manufactured by Toyo Ink Co., Ltd.) 5 parts by weight Irgacure-184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 5 parts by weight 100 parts by weight of methyl ethyl ketone

＜低屈折率層３の形成＞屈折率＝１．３９１
マトリックス１００重量部に対して、平均粒径６０ｎｍの多孔質シリカ微粒子７及び導電性酸化物微粒子６が１００重量部となるように添加し、低屈折率コーティング剤を作製した。なお、多孔質シリカ微粒子７及び導電性酸化物微粒子６は以下の割合とした。 <Formation of Low Refractive Index Layer 3> Refractive index = 1.391
The porous silica fine particles 7 and the conductive oxide fine particles 6 having an average particle diameter of 60 nm were added to 100 parts by weight of the matrix so as to be 100 parts by weight, thereby preparing a low refractive index coating agent. In addition, the porous silica fine particles 7 and the conductive oxide fine particles 6 have the following ratios.

多孔質シリカ微粒子７（触媒化成工業（株）製、屈折率ｎ＝１．２３）７５重量部
五酸化アンチモン（触媒化成工業（株）製、屈折率ｎ＝１．６４）２５重量部 75 parts by weight of porous silica fine particles 7 (catalyst chemical industry Co., Ltd., refractive index n = 1.23) 25 parts by weight of antimony pentoxide (catalyst chemical industry Co., Ltd., refractive index n = 1.64)

［比較例２］
＜高屈折率層２の形成＞屈折率＝１．６５６
ＰＥ−３Ａ（共栄社化学（株）製）８０重量部
ＺｒＯ_２（屈折率ｎ＝２．２、東洋インキ（株）製）２０重量部
イルガキュア−１８４（チバ・スペシャリティケミカルズ（株）製）５重量部
メチルエチルケトン１００重量部 [Comparative Example 2]
<Formation of High Refractive Index Layer 2> Refractive index = 1.656
PE-3A (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 80 parts by weight ZrO ₂ (refractive index n = 2.2, manufactured by Toyo Ink Co., Ltd.) 20 parts by weight Irgacure-184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 5 weights Methyl ethyl ketone 100 parts by weight

＜低屈折率層３の形成＞屈折率＝１．４４６
マトリックス１００重量部に対して、平均粒径６０ｎｍの多孔質シリカ微粒子７及び導電性酸化物微粒子６が３５重量部となるように添加し、低屈折率コーティング剤を作製した。なお、多孔質シリカ微粒子７及び導電性酸化物微粒子６は以下の割合とした。 <Formation of Low Refractive Index Layer 3> Refractive index = 1.446
A low-refractive-index coating agent was prepared by adding 35 parts by weight of porous silica fine particles 7 and conductive oxide fine particles 6 having an average particle diameter of 60 nm to 100 parts by weight of the matrix. In addition, the porous silica fine particles 7 and the conductive oxide fine particles 6 have the following ratios.

多孔質シリカ微粒子７（触媒化成工業（株）製、屈折率ｎ＝１．２３）５０重量部
五酸化アンチモン（触媒化成工業（株）製、屈折率ｎ＝１．６４）５０重量部 Porous silica fine particles 7 (manufactured by Catalyst Chemical Industry Co., Ltd., refractive index n = 1.23) 50 parts by weight Antimony pentoxide (catalyst chemical industry Co., Ltd., refractive index n = 1.64) 50 parts by weight

［比較例３］
＜高屈折率層２の形成＞屈折率＝１．６５６
ＰＥ−３Ａ（共栄社化学（株）製）８０重量部
ＺｒＯ_２（屈折率ｎ＝２．２、東洋インキ（株）製）２０重量部
イルガキュア−１８４（チバ・スペシャリティケミカルズ（株）製）５重量部
メチルエチルケトン１００重量部 [Comparative Example 3]
<Formation of High Refractive Index Layer 2> Refractive index = 1.656
PE-3A (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 80 parts by weight ZrO ₂ (refractive index n = 2.2, manufactured by Toyo Ink Co., Ltd.) 20 parts by weight Irgacure-184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 5 weights Methyl ethyl ketone 100 parts by weight

＜低屈折率層３の形成＞屈折率＝１．３６
マトリックス１００重量部に対して、平均粒径６０ｎｍの多孔質シリカ微粒子７が４０重量部となるように添加し、低屈折率コーティング剤を作製した。なお、多孔質シリカ微粒子７は以下の割合とした。 <Formation of Low Refractive Index Layer 3> Refractive index = 1.36
A porous silica fine particle 7 having an average particle diameter of 60 nm was added to 100 parts by weight of the matrix so as to be 40 parts by weight to prepare a low refractive index coating agent. The porous silica fine particles 7 had the following ratio.

多孔質シリカ微粒子７（触媒化成工業（株）製、屈折率ｎ＝１．２３）１００重量部 Porous silica fine particles 7 (manufactured by Catalyst Chemical Industry Co., Ltd., refractive index n = 1.23) 100 parts by weight

上記のようにした以外は実施例１と同様にして反射防止フィルムを作製した。このフィルムの性能評価結果を図２に示す。 An antireflection film was produced in the same manner as in Example 1 except for the above. The performance evaluation results of this film are shown in FIG.

［比較例４］
＜高屈折率層２の形成＞屈折率＝１．６５６
ＰＥ−３Ａ（共栄社化学（株）製）８０重量部
ＺｒＯ_２（屈折率ｎ＝２．２、東洋インキ（株）製）２０重量部
イルガキュア−１８４（チバ・スペシャリティケミカルズ（株）製）５重量部
メチルエチルケトン１００重量部 [Comparative Example 4]
<Formation of High Refractive Index Layer 2> Refractive index = 1.656
PE-3A (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 80 parts by weight ZrO ₂ (refractive index n = 2.2, manufactured by Toyo Ink Co., Ltd.) 20 parts by weight Irgacure-184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 5 weights Methyl ethyl ketone 100 parts by weight

＜低屈折率層３の形成＞屈折率＝１．４２
マトリックス１００重量部に対して、平均粒径６０ｎｍの多孔質シリカ微粒子７及び導電性酸化物微粒子６が３０重量部となるように添加し、低屈折率コーティング剤を作製した。なお、多孔質シリカ微粒子７及び導電性酸化物微粒子６は以下の割合とした。 <Formation of Low Refractive Index Layer 3> Refractive index = 1.42
A low refractive index coating agent was prepared by adding 30 parts by weight of porous silica fine particles 7 and conductive oxide fine particles 6 having an average particle diameter of 60 nm to 100 parts by weight of the matrix. In addition, the porous silica fine particles 7 and the conductive oxide fine particles 6 have the following ratios.

［比較例５］
＜高屈折率層２の形成＞屈折率＝１．６５６
ＰＥ−３Ａ（共栄社化学（株）製）８０重量部
ＺｒＯ_２（屈折率ｎ＝２．２、東洋インキ（株）製）２０重量部
イルガキュア−１８４（チバ・スペシャリティケミカルズ（株）製）５重量部
メチルエチルケトン１００重量部 [Comparative Example 5]
<Formation of High Refractive Index Layer 2> Refractive index = 1.656
PE-3A (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 80 parts by weight ZrO ₂ (refractive index n = 2.2, manufactured by Toyo Ink Co., Ltd.) 20 parts by weight Irgacure-184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 5 weights Methyl ethyl ketone 100 parts by weight

＜低屈折率層３の形成＞屈折率＝１．３８０
マトリックス１００重量部に対して、平均粒径６０ｎｍの多孔質シリカ微粒子７及び導電性酸化物微粒子６が１５０重量部となるように添加し、低屈折率コーティング剤を作製した。なお、多孔質シリカ微粒子７及び導電性酸化物微粒子６は以下の割合とした。 <Formation of Low Refractive Index Layer 3> Refractive index = 1.380
A low refractive index coating agent was prepared by adding 150 parts by weight of porous silica fine particles 7 and conductive oxide fine particles 6 having an average particle diameter of 60 nm to 100 parts by weight of the matrix. In addition, the porous silica fine particles 7 and the conductive oxide fine particles 6 have the following ratios.

実施例１及び２に係る本発明の反射防止フィルム１０並びに比較例１乃至５に係る反射防止フィルム１０の物性値などをまとめた表を図２に示す。図２の評価結果より、実施例１及び２に係る本発明の反射防止フィルム１０は、反射防止フィルム１０に必要とされる特性条件（１）外光の映り込みの抑制、（２）光の干渉によるムラの抑制、（３）帯電防止性の向上、（４）耐擦傷性の向上の全ての特性条件を満たしていることがわかる。 The table | surface which put together the physical-property value etc. of the antireflection film 10 of this invention which concerns on Example 1 and 2 and the antireflection film 10 which concerns on Comparative Examples 1 thru | or 5 is shown in FIG. From the evaluation results of FIG. 2, the antireflection film 10 of the present invention according to Examples 1 and 2 has the characteristic conditions required for the antireflection film 10 (1) suppression of reflection of external light, (2) light It can be seen that all the characteristic conditions of suppression of unevenness due to interference, (3) improvement of antistatic property, and (4) improvement of scratch resistance are satisfied.

一方、比較例１乃至５に係る反射防止フィルム１０においては、反射防止フィルム１０に必要とされる特性条件（１）外光の映り込みの抑制、（２）光の干渉によるムラの抑制、（３）帯電防止性の向上、（４）耐擦傷性の向上の特性条件の全てを満たしているものは無かった。 On the other hand, in the antireflection film 10 according to Comparative Examples 1 to 5, the characteristic conditions required for the antireflection film 10 (1) suppression of reflection of external light, (2) suppression of unevenness due to light interference, None of them satisfied all of the characteristic conditions of 3) improvement of antistatic properties and (4) improvement of scratch resistance.

本発明の実施の形態に係る反射防止フィルムを示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the antireflection film which concerns on embodiment of this invention. 実施例１及び２に係る本発明の反射防止フィルム並びに比較例１乃至５に係る反射防止フィルムの物性値などをまとめた表である。It is the table | surface which put together the physical property value etc. of the antireflection film of this invention which concerns on Example 1 and 2, and the antireflection film which concerns on Comparative Examples 1 thru | or 5.

Explanation of symbols

１透明プラスチックフィルム
２高屈折率層
３低屈折率層
５金属酸化物微粒子
６導電性金属酸化物微粒子
７多孔質シリカ微粒子
１０反射防止フィルム DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transparent plastic film 2 High refractive index layer 3 Low refractive index layer 5 Metal oxide fine particle 6 Conductive metal oxide fine particle 7 Porous silica fine particle 10 Antireflection film

Claims

Transparent plastic film,
A high refractive index layer having a polyfunctional monomer and metal oxide fine particles formed on the transparent plastic film;
A low refractive index layer having an organosilicon compound formed on the high refractive index layer and a hydrolyzate thereof, conductive metal oxide fine particles and porous silica fine particles;
An antireflection film characterized by comprising:

The high refractive index layer has the polyfunctional monomer containing two or more (meth) acryloyl groups in one molecule and the metal oxide fine particles having a particle diameter of 1 nm to 100 nm,
The high-refractive index layer includes the polyfunctional monomer in an amount of 50 parts by weight to 90 parts by weight with respect to a total of 100 parts by weight of the polyfunctional monomer and the metal oxide fine particles. The antireflection film as described in 1.

The low refractive index layer includes an organosilicon compound represented by the general formula (A) R _x Si (OR) _4-x (wherein R is an alkyl group, and x is an integer of 0 or more and 4 or less). The hydrolyzate,
The conductive metal oxide fine particles having a particle diameter of 1 nm to 100 nm and the porous silica fine particles having a particle diameter of 1 nm to 100 nm,
The conductive metal oxide fine particles and the porous silica fine particles are 40 to 150 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the organosilicon compound represented by the general formula (A) and a hydrolyzate thereof. The antireflection film according to claim 1.

The refractive index of the low refractive index layer is 1.42 or less, and the minimum reflectance of the low refractive index layer at 380 nm to 780 nm is 1.2% or less. Antireflection film.

The metal oxide fine particles contain one or more materials selected from ZrO ₂ , TiO ₂ , NbO, ITO, ATO, SbO ₂ , Sb ₂ O ₃ , SnO ₂ , In ₂ O ₃ , and ZnO. The antireflection film according to any one of claims 1, 2, and 4.

The conductive metal oxide fine particles are composed of metal oxide particles of ATO (antimony oxide / tin oxide), ITO (indium oxide / tin oxide), Sb ₂ O ₅ , TiO ₂ , ZnO, ZnO ₂ , and Ce ₂ O _3. The antireflection film according to claim 1, comprising at least one selected metal oxide particle.