JP2016071157A - Low refractive index film-forming composition, low refractive index film, film with low refractive index film, and touch panel - Google Patents

Low refractive index film-forming composition, low refractive index film, film with low refractive index film, and touch panel Download PDF

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有紀 釘本
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有紀 釘本
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a low refractive index film-forming composition capable of providing a film with antiblocking property without having to coat a back surface with a special antiblocking agent, and to provide a low refractive index film, film with the low refractive index film, and a touch panel.SOLUTION: A low refractive index film-forming composition of the present invention contains silicon alkoxide, and a cross-linking compound having at least either of one or more methacryloyl groups and acryloyl groups in a molecule.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、低屈折率膜形成用組成物、低屈折率膜および低屈折率膜付きフィルム並びにタッチパネルに関する。   The present invention relates to a composition for forming a low refractive index film, a low refractive index film, a film with a low refractive index film, and a touch panel.

反射防止部材、特に反射防止フィルムは、一般に、陰極管表示装置(CRT)、プラズマディスプレイパネル(PDP)や液晶表示装置(LCD)のような画像表示装置において、外光の反射によるコントラストの低下や像の写り込みを防止するために、光学干渉の原理を用いて反射率を低減するように画像表示装置の最表面に配置される。
また、反射防止部材の1つであるインデックスマッチング(IM)(屈折率調整)フィルムは、静電容量式のタッチパネルを用いた携帯電話、携帯音楽端末等の各種モバイル機器に搭載されている。IMフィルムは、反射防止フィルムと同様に屈折率の異なる層を積層し、光の干渉を利用して透過率、色目を制御することで、導電性フィルムのパターン形状を見え難くして、視認性を向上させるために設けられている。
IMフィルムは、光学設計により様々の構成をなしているが、一般的に、高屈折率層と低屈折率層が積層された構成をなしている(例えば、特許文献1、2参照)。
Antireflection members, particularly antireflection films, are generally used in image display devices such as cathode ray tube display devices (CRT), plasma display panels (PDP), and liquid crystal display devices (LCD). In order to prevent image reflection, it is arranged on the outermost surface of the image display device so as to reduce the reflectance by using the principle of optical interference.
In addition, an index matching (IM) (refractive index adjustment) film, which is one of antireflection members, is mounted on various mobile devices such as a mobile phone and a portable music terminal using a capacitive touch panel. The IM film, like the antireflection film, is laminated with layers with different refractive indexes, and the transmittance and color are controlled using light interference, making the pattern shape of the conductive film difficult to see and visibility. It is provided to improve.
The IM film has various configurations depending on the optical design, but generally has a configuration in which a high refractive index layer and a low refractive index layer are laminated (see, for example, Patent Documents 1 and 2).

IMフィルム用の低屈折率層は、膜厚5nm〜200nmの超薄膜が設けられることが多く、精密な成膜制御が必要となる。そのため、IMフィルム用の低屈折率層は、成膜が非常に難しい層の1つである。このような事情から、従来、低屈折率層は、コーターによるウェットコーティング法ではなく、スパッタリング等のドライ法によって設けられることが多かった。しかしながら、近年、コーティング技術の進歩により、超薄膜であっても、ウェットコーティング法で膜厚制御できるようになった。
ウェットコーティング法により、PETフィルム等の熱可塑性フィルムに、低屈折率膜等の光学調整層を形成する場合、製造工程で、ロール状に巻回ししたフィルム(ロールフィルム)を巻き出して成膜し、再び、そのフィルムを巻回して保存することがある。
光学調整層を形成したPETフィルム等の基材層上に、別の層状体を重ねた場合、層間に粘着力や化学的な力が働いて付着状態になる。そのため、各層状体を利用するときに、各層状体を剥がすための力が必要であったり、付着力が強くなって剥がすのが困難になったり、あるいは、無理やり剥がそうとすると、各層状体が破壊したりする等のブロッキングトラブルを生じることがある。また、このようなブロッキングトラブルを起こしやすい塗膜は、成膜後の巻回しの際に塗膜同士が引っ掛かり、上手く巻き取れず、ロールフィルムに局部的に応力が生じたり、フィルムがいびつに巻き取られて、フィルムに皺が発生したりする等の不具合を起こすことがある。
The low refractive index layer for IM film is often provided with an ultrathin film having a thickness of 5 nm to 200 nm, and precise film formation control is required. Therefore, the low refractive index layer for IM film is one of the layers that are very difficult to form. Under these circumstances, conventionally, the low refractive index layer is often provided by a dry method such as sputtering, not by a wet coating method using a coater. However, due to advances in coating technology in recent years, it has become possible to control the film thickness by the wet coating method even for ultra-thin films.
When an optical adjustment layer such as a low refractive index film is formed on a thermoplastic film such as a PET film by a wet coating method, the film wound in a roll shape (roll film) is unwound and formed in the manufacturing process. Again, the film may be wound and stored.
When another layered body is stacked on a base material layer such as a PET film on which an optical adjustment layer is formed, an adhesive force or a chemical force acts between the layers to be in an attached state. Therefore, when using each layered body, it is necessary to have a force for peeling off each layered body, or it becomes difficult to peel off due to strong adhesion, or if it is forcibly removed, May cause blocking troubles such as breakage. In addition, such a coating film that is likely to cause blocking trouble is caught between the coating films when they are wound after film formation, so that the film cannot be wound well, and the roll film is locally stressed or the film is wound in an irregular manner. It may cause defects such as wrinkles on the film.

従来のドライ法によって形成された光学調整層は、層を構成する組成物中に有機成分を含んでおらず、無機成分のみで構成されているため、フィルムをロール状に巻回ししても、無機成分が粘弾性を有していないので、光学調整層とフィルムが付着状態になり難かった。しかし、ウェットコーティング法では、層を構成する組成物が、バインダーとして有機成分を含むことが多いため、その有機成分の粘弾性によって、光学調整層とフィルムの付着状態がより発生しやすくなる課題があった。また、ゾルゲル法によるコーティングにより、無機成分からなる低屈折率層を成膜する方法もある。この方法によれば、光学調整層とフィルムの付着状態を回避することができるものの、光学調整層は、下地の樹脂層(高屈折率層)に対する密着性が不良となる課題があった。   The optical adjustment layer formed by the conventional dry method does not contain an organic component in the composition constituting the layer, and is composed only of an inorganic component. Therefore, even if the film is wound in a roll shape, Since the inorganic component does not have viscoelasticity, the optical adjustment layer and the film are hardly attached. However, in the wet coating method, since the composition constituting the layer often contains an organic component as a binder, there is a problem that the adhesion state between the optical adjustment layer and the film is more likely to occur due to the viscoelasticity of the organic component. there were. There is also a method of forming a low refractive index layer made of an inorganic component by coating using a sol-gel method. According to this method, although the adhesion state of the optical adjustment layer and the film can be avoided, the optical adjustment layer has a problem that the adhesion to the underlying resin layer (high refractive index layer) becomes poor.

これまでに、光学調整層と基材を挟んで裏面にハードコート層を設け、そのハードコート層にシリコーン化合物を含有させて、フィルムの表面の滑り性を良くすることにより、アンチブロッキング性を向上する方法が開示されている(例えば、特許文献3参照)。また、ハードコート層に、有機微粒子を混合して、ハードコート層の表面に凹凸を形成して、鏡面密着を防ぎ、アンチブロッキング性を向上する方法が開示されている(例えば、特許文献4参照)。さらに、ハードコート層に、無機微粒子を混合して、ハードコート層の表面に凹凸を形成して、鏡面密着を防ぎ、アンチブロッキング性を向上する方法が開示されている(例えば、特許文献5参照)。   Up to now, a hard coat layer has been provided on the back side of the optical adjustment layer and the base material, and the hard coat layer contains a silicone compound to improve the anti-blocking property by improving the film surface slipperiness. Is disclosed (see, for example, Patent Document 3). In addition, a method is disclosed in which organic fine particles are mixed in a hard coat layer to form irregularities on the surface of the hard coat layer to prevent mirror surface adhesion and improve anti-blocking properties (see, for example, Patent Document 4). ). Furthermore, a method is disclosed in which inorganic fine particles are mixed in the hard coat layer to form irregularities on the surface of the hard coat layer to prevent mirror surface adhesion and improve anti-blocking properties (see, for example, Patent Document 5). ).

特開2011−142089号公報JP 2011-142089 A 特開2011−136562号公報JP 2011-136562 A 特開2007−224234号公報JP 2007-224234 A 特開2007−238732号公報JP 2007-238732 A 特開2004−042653号公報JP 2004-042653 A

しかしながら、特許文献3の方法では、フィルムの巻き取り後に、ハードコート層の表面にシリコーン化合物が染み出してしまい、それが巻き取り裏面(光学調整層)に移ってしまい、後加工の成膜の際にハジキが発生する等の不具合が生じるという課題があった。
一方、特許文献4のように有機微粒子を用いる方法は、アンチブロッキング性に優れるものの、耐溶剤性に優れる架橋タイプの有機微粒子は製造コストが高く、高価であるという課題があった。また、特許文献5のように無機微粒子を用いる方法は、アンチブロッキング性に優れ、製造コストも抑えられるが、無機微粒子の屈折率や粒径によりヘーズが高くなってしまうという課題があった。
However, in the method of Patent Document 3, after winding the film, the silicone compound oozes out on the surface of the hard coat layer, and it moves to the winding back surface (optical adjustment layer). There is a problem that a problem such as occurrence of repelling occurs.
On the other hand, although the method using organic fine particles as in Patent Document 4 is excellent in anti-blocking property, the cross-linked organic fine particles having excellent solvent resistance have a problem of high production cost and high cost. In addition, the method using inorganic fine particles as in Patent Document 5 is excellent in anti-blocking properties and can reduce the manufacturing cost, but has a problem that haze increases due to the refractive index and particle size of the inorganic fine particles.

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、密着性を有し、裏面に特別なアンチブロッキング剤を成膜することなく、フィルムにアンチブロッキング性を付与することが可能な低屈折率膜形成用組成物、低屈折率膜および低屈折率膜付きフィルム並びにタッチパネルを提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and has low adhesion that has adhesion and can impart anti-blocking properties to a film without forming a special anti-blocking agent on the back surface. An object of the present invention is to provide a composition for forming a refractive index film, a low refractive index film, a film with a low refractive index film, and a touch panel.

本発明は、低屈折率膜に、シリコンアルコキシドと、分子中に1個以上のメタクリロイル基およびアクリロイル基の少なくとも1種を有する架橋性化合物を重合させてなるガラス質の材料と、を含有させることにより、材料の粘弾性が有機材料のみで構成された場合よりも低くなるため、材料同士を接触させても、摩擦抵抗が大きくならず、密着性を有したままで低屈折率膜が設けられたフィルムのアンチブロッキング性を向上することができることを見出し、本発明を完成するに至った。   According to the present invention, a low refractive index film contains silicon alkoxide and a glassy material obtained by polymerizing a crosslinkable compound having at least one methacryloyl group and acryloyl group in the molecule. Therefore, the viscoelasticity of the material is lower than when the material is composed of only an organic material, so even if the materials are brought into contact with each other, the frictional resistance does not increase, and a low refractive index film is provided while maintaining adhesion. The present inventors have found that the antiblocking property of a film can be improved, and have completed the present invention.

すなわち、本発明の低屈折率膜形成用組成物は、シリコンアルコキシドと、分子中に1個以上のメタクリロイル基およびアクリロイル基の少なくとも1種を有する架橋性化合物と、を含有してなることを特徴とする。   That is, the composition for forming a low refractive index film of the present invention comprises silicon alkoxide and a crosslinkable compound having at least one methacryloyl group and acryloyl group in the molecule. And

本発明の低屈折率膜は、シロキサン結合を有する化合物およびアクリル樹脂を含有してなり、屈折率が1.37以上かつ1.51以下であり、膜面同士を接触させた場合の動摩擦係数と静摩擦係数が0.6以下であり、かつ表面の算術平均粗さRaが3nm以下であることを特徴とする。   The low refractive index film of the present invention comprises a compound having a siloxane bond and an acrylic resin, has a refractive index of 1.37 or more and 1.51 or less, and a dynamic friction coefficient when the film surfaces are brought into contact with each other. The static friction coefficient is 0.6 or less, and the arithmetic mean roughness Ra of the surface is 3 nm or less.

本発明の低屈折率膜付きフィルムは、基材フィルムの一主面上から順に、ハードコート膜と、低屈折率膜とが設けられてなる低屈折率膜付きフィルムであって、前記低屈折率膜が、本発明の低屈折率膜であり、前記低屈折率膜の表面の算術平均粗さRaが3nm以下であることを特徴とする。
前記ハードコート膜と前記低屈折率膜との間に、屈折率が1.51以上かつ1.85以下の高屈折率膜を有することが好ましい。
The film with a low refractive index film of the present invention is a film with a low refractive index film in which a hard coat film and a low refractive index film are provided in order from one main surface of the substrate film, The refractive index film is the low refractive index film of the present invention, and the arithmetic average roughness Ra of the surface of the low refractive index film is 3 nm or less.
It is preferable that a high refractive index film having a refractive index of 1.51 or more and 1.85 or less is provided between the hard coat film and the low refractive index film.

本発明の低屈折率膜付きフィルムは、基材フィルムの一主面上から順に、屈折率が1.51以上かつ1.85以下の高屈折率ハードコート膜と、低屈折率膜とが設けられてなる低屈折率膜付きフィルムであって、前記低屈折率膜が、本発明の低屈折率膜であり、前記基材フィルムと前記高屈折率ハードコート膜との屈折率差の絶対値が0以上かつ0.48以下であり、前記低屈折率膜の表面の算術平均粗さRaが3nm以下であることを特徴とする。   The film with a low refractive index film of the present invention is provided with a high refractive index hard coat film having a refractive index of 1.51 or more and 1.85 or less and a low refractive index film in order from one main surface of the base film. A film with a low refractive index film, wherein the low refractive index film is the low refractive index film of the present invention, and an absolute value of a refractive index difference between the base film and the high refractive index hard coat film. Is 0 or more and 0.48 or less, and the arithmetic average roughness Ra of the surface of the low refractive index film is 3 nm or less.

本発明のタッチパネルは、本発明の低屈折率膜および本発明の低屈折率膜付きフィルムの少なくともいずれか一方を備えてなることを特徴とする。   The touch panel of the present invention comprises at least one of the low refractive index film of the present invention and the film with a low refractive index film of the present invention.

本発明の低屈折率膜形成用組成物によれば、シリコンアルコキシドと、分子中に1個以上のメタクリロイル基およびアクリロイル基の少なくとも1種を有する架橋性化合物と、を含有してなるので、アンチブロッキング性と密着性に優れた低屈折率膜が得られる。   The composition for forming a low refractive index film of the present invention contains silicon alkoxide and a crosslinkable compound having at least one methacryloyl group and acryloyl group in the molecule. A low refractive index film excellent in blocking property and adhesion can be obtained.

本発明の低屈折率膜は、シロキサン結合を有する化合物およびアクリル樹脂を含有しているので、基材フィルム上に設けた場合に、アンチブロッキング性と密着性に優れたフィルムが得られる。   Since the low refractive index film of the present invention contains a compound having a siloxane bond and an acrylic resin, a film excellent in antiblocking property and adhesion can be obtained when provided on a base film.

本発明の低屈折率膜付きフィルムは、本発明の低屈折率膜を備えているので、アンチブロッキング性と密着性に優れている。   Since the film with a low refractive index film of the present invention includes the low refractive index film of the present invention, it is excellent in anti-blocking property and adhesion.

本発明のタッチパネルは、本発明の低屈折率膜および本発明の低屈折率膜付きフィルムの少なくともいずれか一方を備えているので、電極部分が見える現象を抑制することができる。   Since the touch panel of the present invention includes at least one of the low refractive index film of the present invention and the film with the low refractive index film of the present invention, a phenomenon in which the electrode portion can be seen can be suppressed.

本発明の低屈折率膜形成用組成物、低屈折率膜および低屈折率膜付きフィルム並びにタッチパネルを実施するための形態について説明する。
なお、以下の実施の形態は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。
The form for implementing the composition for low refractive index film | membrane formation of this invention, the film with a low refractive index film, a film with a low refractive index film, and a touch panel is demonstrated.
The following embodiments are specifically described for better understanding of the gist of the invention, and do not limit the present invention unless otherwise specified.

[低屈折率膜形成用組成物]
本実施形態の低屈折率膜形成用組成物は、シリコンアルコキシドと、分子中に1個以上のメタクリロイル基およびアクリロイル基の少なくとも1種を有する架橋性化合物と、を含有してなる。
[Composition for forming low refractive index film]
The composition for forming a low refractive index film according to this embodiment contains silicon alkoxide and a crosslinkable compound having at least one methacryloyl group and acryloyl group in the molecule.

「シリコンアルコキシド」
本実施形態の低屈折率膜形成用組成物に用いられるシリコンアルコキシドは下記式(I)で表わされる化合物またはその加水分解物の少なくとも1種である。
Si(OR2n (I)
(式中、R、Rはアルキル基であり、mは1〜4の整数、nは0〜3の整数であり、m+n=4である。)
このようなシリコンアルコキシドとしては、例えば、テトラアルコキシシラン系化合物、アルキルトリアルコキシシラン系化合物、ジアルキルジアルコキシシラン系化合物、その他の有機ケイ素化合物等が用いられ、好ましくは、これら化合物を加水分解して得られるシリカゾルが用いられる。これらは、1種類を単独で用いてもよいし、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。このようなシリコンアルコキシドを用いる理由は、シリカの屈折率nがn=1.45と低く、また、前記の化合物を加水分解して得られたシリカゾルで形成された低屈折率膜は、膜強度が強く、低屈折率膜に必要な耐久性に優れるからである。
"Silicon alkoxide"
The silicon alkoxide used in the composition for forming a low refractive index film of the present embodiment is at least one compound represented by the following formula (I) or a hydrolyzate thereof.
Si (OR 1 ) m R 2n (I)
(In the formula, R 1 and R 2 are alkyl groups, m is an integer of 1 to 4, n is an integer of 0 to 3, and m + n = 4.)
Examples of such silicon alkoxides include tetraalkoxysilane compounds, alkyltrialkoxysilane compounds, dialkyldialkoxysilane compounds, and other organosilicon compounds. Preferably, these compounds are hydrolyzed. The resulting silica sol is used. These may be used alone or in combination of two or more. The reason why such a silicon alkoxide is used is that the refractive index n of silica is as low as n = 1.45, and the low refractive index film formed of silica sol obtained by hydrolyzing the above compound has a film strength. This is because it is strong and has excellent durability required for the low refractive index film.

シリコンアルコキシドの具体例としては、シリコン系カップリング剤、シリコーンオイル等が挙げられる。
シリコン系カップリング剤としては、例えば、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリエトキシシランメチルメトキシシラン、n−プロピルトリメトキシシラン、n−ブチルトリエトキシシラン、n−ヘキシルトリメトキシシラン、n−ヘキシルトリエトキシシラン、n−オクチルトリエトキシシラン、n−デシルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン等のシランカップリング剤、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン等のビニルシランカップリング剤、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−2(アミノエチル)3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン等のアミノシランカップリング剤、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等のアクリロキシシランカップリング剤、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン等のメタクロキシシランカップリング剤、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリエトキシシラン等のメルカプトシランカップリング剤、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
シリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイル、エポキシ変性シリコーンオイル、カルボキシル変性シリコーンオイル、ポリエーテル変性シリコーンオイル、アミノ変性シリコーンオイル等が挙げられる。
これらの中でも、特に、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等のアクリロキシシランカップリング剤、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン等のメタクリロキシシランカップリング剤およびγ-グリシドキシプロピルトリメトキシシランの群から選択される少なくとも1種を、シリコンアルコキシドの加水分解反応時に混合することにより、シリコンアルコキシドと、上記の架橋性化合物が硬化してなる樹脂との親和性が著しく向上し、密着性が増すので、低屈折率膜は高い膜強度を得ることができる。
Specific examples of the silicon alkoxide include a silicone coupling agent and silicone oil.
Examples of the silicon coupling agent include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, phenyltriethoxysilane, methylmethoxysilane, n-propyltrimethoxysilane, n-butyltriethoxysilane, n-hexyltrimethoxysilane, n -Hexyltriethoxysilane, n-octyltriethoxysilane, n-decyltrimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, diphenyldimethoxysilane and other silane coupling agents, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane and other vinylsilane coupling agents Aminosilane coupling agents such as 3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2 (aminoethyl) 3-aminopropylmethyldimethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane Acryloxysilane coupling agents, methacryloxysilane coupling agents such as 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, mercaptosilane coupling agents such as 3-mercaptopropyltrimethoxysilane and 3-mercaptopropyltriethoxysilane, γ- Examples thereof include glycidoxypropyltrimethoxysilane.
Examples of the silicone oil include dimethyl silicone oil, methyl hydrogen silicone oil, epoxy-modified silicone oil, carboxyl-modified silicone oil, polyether-modified silicone oil, and amino-modified silicone oil.
Among these, in particular, acryloxysilane coupling agents such as 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, methacryloxysilane coupling agents such as 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, and γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane By mixing at least one selected from the group during the hydrolysis reaction of the silicon alkoxide, the affinity between the silicon alkoxide and the resin obtained by curing the crosslinkable compound is significantly improved, and the adhesion is increased. Therefore, the low refractive index film can obtain a high film strength.

「架橋性化合物」
本実施形態の低屈折率膜形成用組成物に用いられる分子中に1個以上のメタクリロイル基およびアクリロイル基の少なくとも1種を有する架橋性化合物としては、分子中に1個以上のメタクリロイル基およびアクリロイル基の少なくとも1種を有していれば特に限定されないが、反応性、透明性、耐候性、硬度等に優れた多官能アクリレートが望ましい。多官能アクリレートの具体例としては、例えば、(メタ)トリメチロールプロパントリアクリレート、(メタ)ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、(メタ)ペンタエリスリトールトリアクリレート、(メタ)ペンタエリスリトールテトラアクリレート、(メタ)ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等のポリオールポリアクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、ウレタンアクリレート、ポリシロキサンアクリレート等が挙げられる。これらの多官能アクリレートは、1種類を単独で用いてもよいし、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。
"Crosslinkable compounds"
Examples of the crosslinkable compound having at least one methacryloyl group and acryloyl group in the molecule used in the composition for forming a low refractive index film of the present embodiment include one or more methacryloyl groups and acryloyl in the molecule. Although it will not specifically limit if it has at least 1 type of group, The polyfunctional acrylate excellent in reactivity, transparency, a weather resistance, hardness, etc. is desirable. Specific examples of the polyfunctional acrylate include, for example, (meth) trimethylolpropane triacrylate, (meth) ditrimethylolpropane tetraacrylate, (meth) pentaerythritol triacrylate, (meth) pentaerythritol tetraacrylate, (meth) dipenta Examples include polyol polyacrylates such as erythritol hexaacrylate, epoxy (meth) acrylates, polyester (meth) acrylates, urethane acrylates, and polysiloxane acrylates. These polyfunctional acrylates may be used alone or in combination of two or more.

シリコンアルコキシドと、架橋性化合物との配合比は、質量比で5:95〜90:10の範囲内であることが好ましい。シリコンアルコキシドの配合比が5質量%未満では、アンチブロッキング性が低下する。一方、シリコンアルコキシドの配合比が90質量%を超えると、本実施形態の低屈折率膜形成用組成物からなる低屈折率膜を基材に積層したとき、低屈折率膜と基材の密着性が保てない。
なお、本実施形態における密着性とは、JIS−K05600−5−6に基づき評価を行い、JIS評価分類結果が0〜2であることを意味する。
The compounding ratio of the silicon alkoxide and the crosslinkable compound is preferably in the range of 5:95 to 90:10 by mass ratio. When the compounding ratio of the silicon alkoxide is less than 5% by mass, the anti-blocking property is lowered. On the other hand, when the compounding ratio of the silicon alkoxide exceeds 90% by mass, the low refractive index film and the substrate are adhered when the low refractive index film made of the composition for forming a low refractive index film of the present embodiment is laminated on the substrate. Sex cannot be maintained.
In addition, the adhesiveness in this embodiment means that evaluation is performed based on JIS-K05600-5-6, and the JIS evaluation classification result is 0-2.

「無機微粒子」
本実施形態の低屈折率膜形成用組成物は、上記のシリコンアルコキシドと架橋性化合物のみで構成されていてもよいが、さらに、屈折率を低下させる場合には、低屈折率の無機微粒子を添加してもよい。
無機微粒子としては、平均一次粒子径が3nm〜100nmのものが好ましい。ここで、無機微粒子の平均一次粒子径の下限値を3nmとした理由は、平均一次粒子径が3nm未満の無機微粒子は現在の技術において安定に生産することが難しく、生産した場合でも特殊用途に限られており、非常に高価であるからである。また、平均一次粒子径が3nm未満の微小粒子は、比表面積が大きくなるため、分散剤量を多く用いなければならず、十分に屈折率を下げることができなくなるからである。一方、無機微粒子の平均一次粒子径の上限値を100nmとした理由は、特に分散粒子径が100nmを超えた無機微粒子により発生するミー散乱は散乱性が大きく、ミー散乱による透過光の損失が無視できなくなるからである。無機微粒子の平均一次粒子径の上限値を100nmとすることにより、ミー散乱による透過光の損失を抑えることができる。
"Inorganic fine particles"
The composition for forming a low refractive index film of the present embodiment may be composed only of the above silicon alkoxide and a crosslinkable compound. However, when the refractive index is further reduced, inorganic fine particles with a low refractive index are used. It may be added.
As the inorganic fine particles, those having an average primary particle diameter of 3 nm to 100 nm are preferable. Here, the reason why the lower limit of the average primary particle diameter of the inorganic fine particles is 3 nm is that it is difficult to stably produce inorganic fine particles having an average primary particle diameter of less than 3 nm in the current technology. This is because it is limited and very expensive. In addition, fine particles having an average primary particle diameter of less than 3 nm have a large specific surface area, so that a large amount of dispersant must be used, and the refractive index cannot be lowered sufficiently. On the other hand, the reason why the upper limit of the average primary particle size of the inorganic fine particles is 100 nm is that the Mie scattering generated by the inorganic fine particles having a dispersed particle size exceeding 100 nm is highly scattering, and the loss of transmitted light due to Mie scattering is ignored. Because it becomes impossible. By setting the upper limit of the average primary particle diameter of the inorganic fine particles to 100 nm, it is possible to suppress the loss of transmitted light due to Mie scattering.

本実施形態において、「平均一次粒子径」とは、個々の粒子そのものの粒子径を意味する。平均一次粒子径の測定方法としては、走査型電子顕微鏡(SEM)や透過型電子顕微鏡(TEM)等を用いて、金属酸化物粒子それぞれの長径、例えば、100個以上の金属酸化物粒子、好ましくは500個の金属酸化物粒子それぞれの長径を測定し、その算術平均値を算出する方法が挙げられる。   In the present embodiment, the “average primary particle size” means the particle size of each particle itself. As a measuring method of the average primary particle diameter, the major axis of each metal oxide particle, for example, 100 or more metal oxide particles, preferably using a scanning electron microscope (SEM), a transmission electron microscope (TEM), etc. Includes a method of measuring the major axis of each of the 500 metal oxide particles and calculating the arithmetic average value thereof.

また、無機微粒子の屈折率は1.17以上かつ1.40以下であることが好ましく、より好ましくは1.17以上かつ1.35以下、さらに好ましくは1.17以上かつ1.30以下である。
無機微粒子としては、上記の屈折率を満たすものであれば特に限定されないが、特に、内側に空隙を有するメソポーラスシリカ微粒子が好ましい。なお、メソポーラスシリカ微粒子における屈折率は、粒子全体としての屈折率を表し、メソポーラスシリカ微粒子を形成している外殻のシリカのみの屈折率を表すものではない。このとき、メソポーラスシリカ微粒子内の空隙の半径をa、メソポーラスシリカ微粒子の外殻の半径をbとすると、下記数式(II)で表される空隙率xは、好ましくは10〜60%、より好ましくは20〜60%、さらに好ましくは30〜60%である。
数式(II):x=(4πa/3)/(4πb/3)×100
中空のシリカ微粒子をより低屈折率に、より空隙率を大きくしようとすると、外殻の厚みが薄くなり、粒子の強度が低くなるため、耐擦傷性の観点から1.17未満の低屈折率の粒子は成り立たない。メソポーラスシリカ微粒子の製造方法は、例えば、特開2001−233611号公報や特開2002−79616号公報に記載されている。
The refractive index of the inorganic fine particles is preferably 1.17 or more and 1.40 or less, more preferably 1.17 or more and 1.35 or less, and further preferably 1.17 or more and 1.30 or less. .
The inorganic fine particles are not particularly limited as long as the above refractive index is satisfied, but mesoporous silica fine particles having voids on the inner side are particularly preferable. Note that the refractive index of the mesoporous silica fine particles represents the refractive index of the entire particles, and does not represent the refractive index of only the outer shell silica forming the mesoporous silica fine particles. At this time, when the radius of the void in the mesoporous silica fine particles is a and the radius of the outer shell of the mesoporous silica fine particles is b, the porosity x represented by the following formula (II) is preferably 10 to 60%, more preferably Is 20 to 60%, more preferably 30 to 60%.
Formula (II): x = (4πa 3/3) / (4πb 3/3) × 100
If the hollow silica fine particles are made to have a lower refractive index and a higher porosity, the outer shell thickness is reduced and the strength of the particles is reduced. Therefore, from the viewpoint of scratch resistance, the low refractive index is less than 1.17. The particles do not hold. A method for producing mesoporous silica fine particles is described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2001-233611 and 2002-79616.

本実施形態の低屈折率膜形成用組成物中における無機微粒子の含有量は、目的とする屈折率に応じて適宜調整すればよいが、0質量%以上かつ90質量%以下が好ましく、0質量%以上かつ70質量%以下がより好ましい。   The content of the inorganic fine particles in the composition for forming a low refractive index film of the present embodiment may be appropriately adjusted according to the target refractive index, but is preferably 0% by mass or more and 90% by mass or less, and 0% by mass. % To 70% by mass is more preferable.

「開始剤、添加剤」
本実施形態の低屈折率膜形成用組成物には、光重合開始剤、官能基が1個または2個のモノマー等が適宜含有されていてもよい。
光重合開始剤の種類や量は、使用する架橋性化合物に応じて適宜選択される。光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン系、ジケトン系、アセトフェノン系、ベンゾイン系、チオキサントン系、キノン系、ベンジルジメチルケタール系、アルキルフェノン系、アシルフォスフィンオキサイド系、フェニルフォスフィンオキサイド系等の公知の光重合開始剤が挙げられる。
また、本実施形態の低屈折率膜形成用組成物には、低屈折率膜形成用組成物および低屈折率膜の特性改善のために、発明の効果を阻害しない範囲内で、消泡剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、重合禁止剤等の一般的な各種添加剤が適宜含有されていてもよい。
ただし、シリコーン化合物は、塗膜表面に移行して、フィルム巻き取り後に裏面に裏移りして、後加工に悪影響を及ぼすおそれがあるので、使用しないことが望ましい。
"Initiator, additive"
The composition for forming a low refractive index film of the present embodiment may appropriately contain a photopolymerization initiator, a monomer having one or two functional groups, and the like.
The kind and amount of the photopolymerization initiator are appropriately selected according to the crosslinkable compound used. As the photopolymerization initiator, for example, benzophenone, diketone, acetophenone, benzoin, thioxanthone, quinone, benzyldimethyl ketal, alkylphenone, acylphosphine oxide, phenylphosphine oxide, and the like are known. The photoinitiator of this is mentioned.
In addition, the composition for forming a low refractive index film of the present embodiment includes an antifoaming agent within a range that does not impair the effects of the invention in order to improve the characteristics of the composition for forming a low refractive index film and the low refractive index film. In addition, various general additives such as an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, and a polymerization inhibitor may be appropriately contained.
However, it is desirable not to use the silicone compound because it moves to the surface of the coating film and moves back to the back surface after winding the film, which may adversely affect post-processing.

「希釈剤」
本実施形態の低屈折率膜形成用組成物は、下記の粘度を満たすために、希釈剤として有機溶媒が適宜含有されていてもよい。
有機溶媒としては、本実施形態の低屈折率膜形成用組成物の他の成分との相溶性がよいものであれば特に限定されず、例えば、アルコール系溶媒、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族系溶媒、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒、エーテル系溶媒、エステル系溶媒、アミド系溶媒、セロソルブ系溶媒、エーテルエステル系溶媒等が挙げられる。これらの有機溶媒は、1種類を単独で用いてもよいし、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。
"Diluent"
In order to satisfy the following viscosity, the composition for forming a low refractive index film of the present embodiment may appropriately contain an organic solvent as a diluent.
The organic solvent is not particularly limited as long as it has good compatibility with the other components of the composition for forming a low refractive index film of the present embodiment. For example, an aromatic solvent such as an alcohol solvent, toluene, xylene, etc. Examples include solvents, aliphatic solvents such as hexane and heptane, ketone solvents such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, ether solvents, ester solvents, amide solvents, cellosolve solvents, ether ester solvents and the like. These organic solvents may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more types.

本実施形態の低屈折率膜形成用組成物の粘度は、0.2mPa・s以上かつ500mPa・s以下であることが好ましく、0.5mPa・s以上かつ200mPa・s以下であることがより好ましい。
低屈折率膜形成用組成物の粘度が0.2mPa・s未満では、この低屈折率膜形成用組成物を用いて塗膜を形成したとき、塗膜の膜厚が薄くなりすぎて、膜厚の制御が困難であるため好ましくない。一方、低屈折率膜形成用組成物の粘度が500mPa・sを超えると、粘度が高すぎて、塗工時における低屈折率膜形成用組成物の取扱いが難しくなるため好ましくない。
The viscosity of the composition for forming a low refractive index film of the present embodiment is preferably 0.2 mPa · s or more and 500 mPa · s or less, and more preferably 0.5 mPa · s or more and 200 mPa · s or less. .
When the viscosity of the composition for forming a low refractive index film is less than 0.2 mPa · s, when the coating film is formed using this composition for forming a low refractive index film, the film thickness of the coating film becomes too thin. It is not preferable because it is difficult to control the thickness. On the other hand, when the viscosity of the composition for forming a low refractive index exceeds 500 mPa · s, the viscosity is too high, and handling of the composition for forming a low refractive index film at the time of coating becomes difficult.

本実施形態において、低屈折率膜形成用組成物の粘度の測定方法としては、日本工業規格JIS Z8803のウベローデ法が挙げられる。   In this embodiment, as a method for measuring the viscosity of the composition for forming a low refractive index film, the Ubbelohde method of Japanese Industrial Standard JIS Z8803 can be mentioned.

本実施形態の低屈折率膜形成用組成物の製造方法としては、シリコンアルコキシドと、分子中に1個以上のメタクリロイル基およびアクリロイル基の少なくとも1種を有する架橋性化合物とを含む硬化性樹脂組成物に、光重合開始剤、希釈剤、および、必要に応じて添加剤等を均一に混合できる方法であれば特に限定されない。
本実施形態の低屈折率膜形成用組成物の製造方法において、上記の成分を混合するために用いられる混合装置としては、例えば、撹拌機、自公転式ミキサー、ホモジナイザー、超音波ホモジナイザー等が挙げられる。
As a method for producing the composition for forming a low refractive index film of the present embodiment, a curable resin composition comprising silicon alkoxide and a crosslinkable compound having at least one methacryloyl group and acryloyl group in the molecule. There is no particular limitation as long as it is a method that can uniformly mix a photopolymerization initiator, a diluent, and, if necessary, an additive and the like.
In the method for producing the composition for forming a low refractive index film of the present embodiment, examples of the mixing device used for mixing the above components include a stirrer, a self-revolving mixer, a homogenizer, an ultrasonic homogenizer, and the like. It is done.

本実施形態の低屈折率膜形成用組成物によれば、シリコンアルコキシドと、分子中に1個以上のメタクリロイル基およびアクリロイル基の少なくとも1種を有する架橋性化合物と、を含有してなるので、低屈折率膜を形成した場合、低屈折率膜におけるにおけるガラス質の材料(アクリル樹脂)の占める割合を高くすることができるため、アンチブロッキング性と密着性に優れた低屈折率膜が得られる。   According to the composition for forming a low refractive index film of the present embodiment, it contains silicon alkoxide and a crosslinkable compound having at least one methacryloyl group and acryloyl group in the molecule. When the low refractive index film is formed, the proportion of the glassy material (acrylic resin) in the low refractive index film can be increased, so that a low refractive index film excellent in antiblocking property and adhesion can be obtained. .

[低屈折率膜]
本実施形態の低屈折率膜は、シロキサン結合を有する化合物およびアクリル樹脂を含有してなり、屈折率が1.37以上かつ1.51以下であり、膜面同士を接触させた場合の動摩擦係数と静摩擦係数が0.6以下であり、かつ表面の算術平均粗さRaが3nm以下である。
[Low refractive index film]
The low refractive index film of this embodiment contains a compound having a siloxane bond and an acrylic resin, has a refractive index of 1.37 or more and 1.51 or less, and a dynamic friction coefficient when the film surfaces are brought into contact with each other. And the coefficient of static friction is 0.6 or less, and the arithmetic average roughness Ra of the surface is 3 nm or less.

本実施形態の低屈折率膜は、屈折率が1.37以上かつ1.51以下であり、1.40以上かつ1.50以下であることがより好ましい。
屈折率を上記の範囲内とすることにより、本実施形態の低屈折率膜は、光学調整膜としての機能を有し、画像表示装置に適用した場合、表示画面の視認性を良好なものとすることができる。低屈折率膜の屈折率が1.37未満まで屈折率を下げた場合、組成中の無機微粒子の割合が高くなり過ぎて、成膜性および膜強度に問題が生じる。一方、低屈折率膜の屈折率が1.51を超えると、低屈折率膜として機能しない。
The low refractive index film of the present embodiment has a refractive index of 1.37 or more and 1.51 or less, and more preferably 1.40 or more and 1.50 or less.
By making the refractive index within the above range, the low refractive index film of the present embodiment has a function as an optical adjustment film, and when applied to an image display device, the visibility of the display screen is good. can do. If the refractive index of the low refractive index film is lowered to less than 1.37, the proportion of inorganic fine particles in the composition becomes too high, causing problems in film formability and film strength. On the other hand, when the refractive index of the low refractive index film exceeds 1.51, it does not function as a low refractive index film.

本実施形態の低屈折率膜は、膜面同士を接触させた場合、より詳細には、膜面同士を擦り合わせた時の動摩擦係数が0.6以下であり、0.4以下であることが好ましい。
動摩擦係数が0.6を超えると、低屈折率膜が設けられたフィルムの巻き出し時や、巻き取り時に低屈折率膜同士が引っ掛かって、ロールフィルムに局部的に応力が生じたり、フィルムがいびつに巻き取られて、フィルムに皺が発生したりする等の不具合を起こすことがある。また、動摩擦係数が0.6を超えると、保管後の巻き出し時にブロッキングが発生して、フィルム同士が貼り付き、層破壊する可能性が高くなる。
In the low refractive index film of the present embodiment, when the film surfaces are brought into contact with each other, the dynamic friction coefficient when the film surfaces are rubbed together is 0.6 or less and 0.4 or less. Is preferred.
When the dynamic friction coefficient exceeds 0.6, the low refractive index film is caught when unwinding or winding the film provided with the low refractive index film. The film may be wound up by a crack and cause defects such as wrinkles on the film. Moreover, when a dynamic friction coefficient exceeds 0.6, blocking will generate | occur | produce at the time of unwinding after storage, films will stick, and possibility that a layer breaks will become high.

また、本実施形態の低屈折率膜は、膜面同士を接触させた場合の静摩擦係数が0.6以下であり、0.5以下であることが好ましい。
静摩擦係数が0.6を超えると、フィルム同士を擦り合わせた場合にタック感を持つようになり、塗布フィルムをロールで巻き取った際にキシつきや貼りつきを生じてしまう。そのため、フィルム巻き取り時に引っ掛かりが生じて均一にフィルムが巻き取れなくなったり、フィルムの巻き出し時にフィルムが破断したりして、歩留りが低下する場合があるため好ましくない。
Moreover, the low-refractive-index film of this embodiment has a static friction coefficient of 0.6 or less and preferably 0.5 or less when the film surfaces are brought into contact with each other.
When the coefficient of static friction exceeds 0.6, the film has a tackiness when the films are rubbed together, and when the coated film is wound up with a roll, it becomes sticky or stuck. Therefore, the film may be caught when the film is wound and the film cannot be wound uniformly, or the film may be broken when the film is unwound.

本実施形態の低屈折率膜は、表面の算術平均粗さRaが3nm以下であり、2nm以下であることが好ましく、1nm以下であることがより好ましい。
低屈折率膜の表面の算術平均粗さRaが3nmを超えると、この低屈折率膜の上に電極を成膜する際、凹凸が影響して最適な膜を成膜できず、電極性能が悪化する場合があるため好ましくない。
また、本実施形態の低屈折率膜は、原子間力顕微鏡で20μm×20μmの範囲をスキャンした時のピークトゥバレー値が30nm以下であることが好ましく、20nm以下であることがより好ましく、15nm以下であることがさらに好ましい。ピークトゥバレー値が小さいほど、膜面に凹凸がないため好ましい。
The low refractive index film of the present embodiment has a surface arithmetic average roughness Ra of 3 nm or less, preferably 2 nm or less, and more preferably 1 nm or less.
If the arithmetic average roughness Ra of the surface of the low refractive index film exceeds 3 nm, when an electrode is formed on the low refractive index film, unevenness cannot be applied to form an optimum film, and the electrode performance is reduced. Since it may deteriorate, it is not preferable.
Further, the low refractive index film of the present embodiment preferably has a peak-to-valley value of 30 nm or less, more preferably 20 nm or less, when scanning a 20 μm × 20 μm range with an atomic force microscope. More preferably, it is as follows. A smaller peak-to-valley value is preferable because there is no unevenness on the film surface.

本実施形態の低屈折率膜は、膜厚が5nm以上かつ100nm以下であることが好ましく、10nm以上かつ150nm以下であることがより好ましい。
低屈折率膜の膜厚を上記の範囲内とすることにより、本実施形態の低屈折率膜は、可視光波長域の反射光を低減することができ、例えば、画像表示装置に適用した場合、表示画面の視認性を向上することができる。低屈折率膜の膜厚が5nm未満では、低屈折率膜を形成することが難しい。一方、低屈折率膜の膜厚が100nmを超えると、低屈折率膜の表面にギラツキを生じて好ましくない。
The low refractive index film of this embodiment preferably has a film thickness of 5 nm to 100 nm, more preferably 10 nm to 150 nm.
By setting the film thickness of the low refractive index film within the above range, the low refractive index film of the present embodiment can reduce the reflected light in the visible light wavelength region, for example, when applied to an image display device The visibility of the display screen can be improved. If the film thickness of the low refractive index film is less than 5 nm, it is difficult to form the low refractive index film. On the other hand, when the film thickness of the low refractive index film exceeds 100 nm, the surface of the low refractive index film is unclear, which is not preferable.

本実施形態の低屈折率膜は、ヘーズ値が1.5%以下であることが好ましく、1.0%以下であることがより好ましい。
本実施形態において「ヘーズ値」とは、全光線透過光に対する拡散透過光の割合(%)のことであり、空気を基準として、ヘーズメーターNDH−2000(日本電色社製)を用い、日本工業規格JIS−K−7136に基づいて測定した値を意味する。
具体的には、低屈折率膜が設けられている基材のヘーズ値をブランクとして測定し、この基材に低屈折率膜を設けた試験片のヘーズ値との差分を取ることで、低屈折率膜のみのヘーズ値を測定する。
The low refractive index film of the present embodiment preferably has a haze value of 1.5% or less, and more preferably 1.0% or less.
In the present embodiment, the “haze value” is a ratio (%) of diffuse transmitted light to total light transmitted light, and a haze meter NDH-2000 (manufactured by Nippon Denshoku Co., Ltd.) is used on the basis of air. It means a value measured based on the industrial standard JIS-K-7136.
Specifically, the haze value of the base material provided with the low refractive index film is measured as a blank, and the difference from the haze value of the test piece in which the low refractive index film is provided on the base material is low. The haze value of only the refractive index film is measured.

本実施形態の低屈折率膜の製造方法は、上述の実施形態の低屈折率膜形成用組成物を基材等の被塗布物上に塗工することで塗膜を形成する工程と、この塗膜を硬化させる工程とを有する。
塗膜を形成する工程における塗工方法としては、例えば、バーコート法、フローコート法、ディップコート法、スピンコート法、ロールコート法、スプレーコート法、メニスカスコート法、グラビアコート法、吸上げ塗工法、はけ塗り法等、通常のウェットコーティング法が用いられる。
The method for producing a low refractive index film according to the present embodiment includes a step of forming a coating film by applying the composition for forming a low refractive index film according to the above-described embodiment onto an object to be coated such as a base material, And a step of curing the coating film.
Examples of the coating method in the step of forming the coating film include bar coating, flow coating, dip coating, spin coating, roll coating, spray coating, meniscus coating, gravure coating, and suction coating. A normal wet coating method such as a construction method or a brush coating method is used.

塗膜を硬化させる工程における硬化方法としては、塗膜にエネルギー線を照射して光硬化させる方法が用いられる。
光硬化に用いるエネルギー線としては、塗膜が硬化すれば、特に限定されないが、例えば、紫外線、遠赤外線、近紫外線、赤外線、X線、γ線、電子線、プロトン線、中性子線等のエネルギー線が用いられる。これらのエネルギー線の中でも、硬化速度が速く、装置の入手および取り扱いが容易である点から、紫外線を用いることが好ましい。
塗膜を光硬化させることにより、架橋性化合物が重合して、アクリル樹脂を生成し、アンチブロッキング性および耐擦傷性等の強度に優れた低屈折率膜を得ることができる。
As a curing method in the step of curing the coating film, a method of irradiating the coating film with energy rays and photocuring is used.
The energy ray used for photocuring is not particularly limited as long as the coating is cured. For example, energy such as ultraviolet rays, far infrared rays, near ultraviolet rays, infrared rays, X rays, γ rays, electron beams, proton rays, neutron rays, etc. A line is used. Among these energy rays, it is preferable to use ultraviolet rays because the curing speed is fast and the device is easily available and handled.
By photocuring the coating film, the crosslinkable compound is polymerized to produce an acrylic resin, and a low refractive index film excellent in strength such as anti-blocking property and scratch resistance can be obtained.

紫外線照射による硬化の場合、200nm〜500nmの波長帯域の紫外線を発生する高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカルランプ等を用いて、100〜3,000mJ/cmのエネルギーにて、紫外線を照射する方法等が挙げられる。 In the case of curing by ultraviolet irradiation, ultraviolet rays are applied at an energy of 100 to 3,000 mJ / cm 2 using a high-pressure mercury lamp, metal halide lamp, xenon lamp, chemical lamp, etc. that generates ultraviolet rays in a wavelength band of 200 nm to 500 nm. The method of irradiating etc. is mentioned.

本実施形態の低屈折率膜によれば、本実施形態の低屈折率膜形成用組成物を用いて形成されているので、アクリル樹脂(ガラス質の材料)の占める割合を高くすることができるため、アクリル樹脂により、塗膜の粘弾性を下げることができ、アンチブロッキング性と密着性に優れている。   According to the low refractive index film of this embodiment, since it is formed using the composition for forming a low refractive index film of this embodiment, the proportion of acrylic resin (glassy material) can be increased. Therefore, the acrylic resin can lower the viscoelasticity of the coating film and is excellent in anti-blocking property and adhesion.

[低屈折率膜付きフィルム]
(第一実施形態)
本実施形態の低屈折率膜付きフィルムは、基材フィルムと、その基材フィルムの一主面上から順に設けられた、ハードコート膜と、低屈折率膜と、を有し、低屈折率膜が、上述の実施形態の低屈折率膜であり、低屈折率膜の表面の算術平均粗さRaが3nm以下である。
ここで、低屈折率膜の表面とは、低屈折率膜におけるハードコート膜と接している面とは反対側の面である。
[Film with low refractive index film]
(First embodiment)
The film with a low refractive index film of the present embodiment has a base film and a hard coat film and a low refractive index film provided in this order from one main surface of the base film, and has a low refractive index. The film is the low refractive index film of the above-described embodiment, and the arithmetic average roughness Ra of the surface of the low refractive index film is 3 nm or less.
Here, the surface of the low refractive index film is a surface opposite to the surface in contact with the hard coat film in the low refractive index film.

本実施形態の低屈折率膜付きフィルムは、その低屈折率膜の表面の算術平均粗さRaが3nm以下であり、2nm以下であることが好ましく、1nm以下であることがより好ましい。
低屈折率膜の表面の算術平均粗さRaが3nmを超えると、この低屈折率膜の表面に電極を成膜する際、低屈折率膜の表面の凹凸が影響して最適な成膜ができず、電極性能が悪化する場合があるため好ましくない。
In the film with a low refractive index film of the present embodiment, the arithmetic average roughness Ra of the surface of the low refractive index film is 3 nm or less, preferably 2 nm or less, and more preferably 1 nm or less.
When the arithmetic average roughness Ra of the surface of the low refractive index film exceeds 3 nm, when forming an electrode on the surface of the low refractive index film, the unevenness on the surface of the low refractive index film affects the optimum film formation. This is not preferable because the electrode performance may be deteriorated.

本実施形態の低屈折率膜付きフィルムでは、上述の実施形態の低屈折率膜形成用組成物を、公知の塗工法を用いて基材フィルムの一主面上(基材フィルムの一主面上に形成されたハードコート膜上)に塗工することで塗膜を形成し、その塗膜を光硬化させることにより、低屈折率膜が形成される。   In the film with a low refractive index film of the present embodiment, the composition for forming a low refractive index film of the above-described embodiment is formed on one main surface of the base film (one main surface of the base film using a known coating method). A low-refractive-index film is formed by forming a coating film on the hard coat film formed on) and photocuring the coating film.

基材フィルムは、プラスチック製の基材であれば特に限定されず、例えば、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、アクリル、アクリル−スチリル共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、塩化ビニル等から形成されたものが用いられる。
基材フィルムは、シート状であってもよく、フィルム状であってもよいが、フィルム状であることが好ましい。
The substrate film is not particularly limited as long as it is a plastic substrate. For example, polyethylene terephthalate, triacetyl cellulose, acrylic, acrylic-styryl copolymer, acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer, polystyrene, polyethylene, polypropylene , Polycarbonate, vinyl chloride and the like are used.
The base film may be in the form of a sheet or film, but is preferably in the form of a film.

ハードコート膜は、基材フィルムの傷付きを防止するために、低屈折率膜の下層、すなわち、基材フィルムの一主面(基材フィルムと低屈折率膜との間)に設けられる。
ハードコート膜は、基材フィルムの傷付き防止性能を有していれば特に限定されず、紫外線硬化型のハードコート膜形成用組成物で形成されたものであっても、熱硬化型のハードコート膜形成用組成物で形成されたものであってもよい。また、ハードコート膜は粒子を含んでいてもよい。
The hard coat film is provided on the lower layer of the low refractive index film, that is, one main surface of the base film (between the base film and the low refractive index film) in order to prevent the base film from being damaged.
The hard coat film is not particularly limited as long as it has the ability to prevent the base film from being scratched. Even if the hard coat film is formed of a composition for forming an ultraviolet curable hard coat film, It may be formed of a composition for forming a coat film. The hard coat film may contain particles.

ハードコート膜の屈折率は、1.51以上かつ1.85以下であることが好ましく、1.51以上かつ1.70以下であることがより好ましい。
ハードコート膜の屈折率を上記の範囲内とすることにより、ハードコート膜の屈折率が、成膜する基材フィルムの屈折率に近くなり、基材フィルムとハードコート膜の間における光学干渉が抑えられ、視認性のよいハードコート膜が得られる。
The refractive index of the hard coat film is preferably 1.51 or more and 1.85 or less, and more preferably 1.51 or more and 1.70 or less.
By setting the refractive index of the hard coat film within the above range, the refractive index of the hard coat film becomes close to the refractive index of the base film to be formed, and optical interference between the base film and the hard coat film is reduced. A hard coat film that is suppressed and has good visibility can be obtained.

ハードコート膜は、膜厚が100nm以上かつ10μm以下であることが好ましく、300nm以上かつ5μm以下であることがより好ましい。
ハードコート膜の膜厚を上記の範囲内とすることにより、ハードコート性能と生産安定性を得ることができる。ハードコート膜の膜厚が100nm未満では、ハードコート性能が不足する。一方、ハードコート膜の膜厚が10μmを超えると、硬化収縮によりフィルムがカールしてうまく巻き取れない場合がある。
The hard coat film preferably has a thickness of 100 nm to 10 μm, more preferably 300 nm to 5 μm.
By setting the film thickness of the hard coat film within the above range, hard coat performance and production stability can be obtained. When the thickness of the hard coat film is less than 100 nm, the hard coat performance is insufficient. On the other hand, if the thickness of the hard coat film exceeds 10 μm, the film may curl due to curing shrinkage and may not be wound well.

本実施形態の低屈折率膜付きフィルムでは、ハードコート膜と低屈折率膜との間に、高屈折率膜を有することが好ましく、その高屈折率膜の屈折率は、1.51以上かつ1.85以下であり、かつ、ハードコート膜の屈折率よりも0.1以上大きいことが好ましい。
高屈折率膜の屈折率を上記の範囲内とすることにより、本実施形態の低屈折率膜付きフィルムは、光学特性が良好であり、表示装置の視認性を良好なものとすることができる。例えば、タッチパネルに適用した場合には、骨見え現象を抑制し、表示画面の視認性を良好なものとすることができる。
なお、高屈折率膜の屈折率は、低屈折率膜の屈折率より大きくなければならないが、光学設計に応じて適宜設定される。
The film with a low refractive index film of the present embodiment preferably has a high refractive index film between the hard coat film and the low refractive index film, and the refractive index of the high refractive index film is 1.51 or more and It is preferably 1.85 or less and 0.1 or more larger than the refractive index of the hard coat film.
By setting the refractive index of the high refractive index film within the above range, the film with a low refractive index film of the present embodiment has good optical characteristics and good visibility of the display device. . For example, when applied to a touch panel, the bone appearance phenomenon can be suppressed and the visibility of the display screen can be improved.
Note that the refractive index of the high refractive index film must be larger than the refractive index of the low refractive index film, but is appropriately set according to the optical design.

高屈折率膜は、例えば、高屈折率の粒子を含有する高屈折率膜形成用組成物を基材フィルムの一主面上に塗布することにより得られる。
高屈折率の粒子としては、特に限定されるものではないが、例えば、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化錫、アンチモンドープ酸化錫、錫ドープ酸化インジウムなどの粒子が用いられる。
高屈折率膜形成用組成物の溶媒としては、特に限定されず、有機溶媒および水を単独または混合して用いることができる。
高屈折率膜形成用組成物には、必要に応じて、コロイダルシリカ、無機高分子、樹脂、レベリング剤、界面活性剤等の添加剤を加えてもよい。
A high refractive index film | membrane is obtained by apply | coating the composition for high refractive index film | membrane containing the particle | grains of a high refractive index on one main surface of a base film, for example.
The high refractive index particles are not particularly limited. For example, particles such as zirconium oxide, titanium oxide, aluminum oxide, zinc oxide, tin oxide, antimony-doped tin oxide, and tin-doped indium oxide are used.
The solvent for the composition for forming a high refractive index film is not particularly limited, and an organic solvent and water can be used alone or in combination.
If necessary, additives such as colloidal silica, inorganic polymers, resins, leveling agents, and surfactants may be added to the high refractive index film forming composition.

高屈折率膜は、膜厚が5nm以上かつ200nm以下であることが好ましく、10nm以上かつ100nm以下であることがより好ましい。
高屈折率膜の膜厚を上記の範囲内とすることにより、光学特性が良好となり、例えば、インデックスマッチング等の効果を発現することができる。
The high refractive index film preferably has a thickness of 5 nm to 200 nm, more preferably 10 nm to 100 nm.
By setting the film thickness of the high refractive index film within the above range, the optical characteristics are improved and, for example, effects such as index matching can be exhibited.

本実施形態の低屈折率膜付きフィルムは、空気を基準として測定した場合に、ヘーズ値が2.0%以下であることが好ましく、1.1%以下であることがより好ましく、1.0%以下であることがさらに好ましい。
本実施形態において「ヘーズ値」は、上述の実施形態の低屈折率膜と同様の値を意味する。
The film with a low refractive index film of the present embodiment preferably has a haze value of 2.0% or less, more preferably 1.1% or less, when measured on the basis of air. More preferably, it is% or less.
In the present embodiment, the “haze value” means a value similar to that of the low refractive index film of the above-described embodiment.

本実施形態の低屈折率膜付きフィルムによれば、上述の実施形態の低屈折率膜を備えているので、アンチブロッキング性と密着性に優れている。   According to the film with a low refractive index film of the present embodiment, since the low refractive index film of the above-described embodiment is provided, the anti-blocking property and the adhesiveness are excellent.

(第二実施形態)
本実施形態の低屈折率膜付きフィルムは、基材フィルムと、その基材フィルムの一主面上から順に設けられた、屈折率が1.51以上かつ1.85以下の高屈折率ハードコート膜と、低屈折率膜と、を有し、低屈折率膜が、上述の実施形態の低屈折率膜であり、基材フィルムと高屈折率ハードコート膜との屈折率差の絶対値が0以上かつ0.48以下であり、低屈折率膜の表面の算術平均粗さRaが3nm以下である。
ここで、低屈折率膜の表面とは、低屈折率膜における高屈折率ハードコート膜と接している面とは反対側の面である。
(Second embodiment)
The film with a low refractive index film of the present embodiment is a base film and a high refractive index hard coat having a refractive index of 1.51 or more and 1.85 or less provided in order from one main surface of the base film. A low refractive index film is the low refractive index film of the above-described embodiment, and the absolute value of the refractive index difference between the base film and the high refractive index hard coat film is It is 0 or more and 0.48 or less, and the arithmetic average roughness Ra of the surface of the low refractive index film is 3 nm or less.
Here, the surface of the low refractive index film is a surface on the opposite side to the surface in contact with the high refractive index hard coat film in the low refractive index film.

基材フィルムとしては、上述の第一実施形態と同様のものが用いられる。   As a base film, the thing similar to the above-mentioned 1st embodiment is used.

高屈折率ハードコート膜は、基材フィルムの傷付きを防止するために、低屈折率膜の下層、すなわち、基材フィルムの一主面(基材フィルムと低屈折率膜との間)に設けられる。
高屈折率ハードコート膜は、基材フィルムの傷付き防止性能を有していれば特に限定されず、紫外線硬化型の高屈折率ハードコート膜形成用組成物で形成されたものであっても、熱硬化型の高屈折率ハードコート膜形成用組成物で形成されたものであってもよい。また、高屈折率ハードコート膜は粒子を含んでいてもよい。
In order to prevent the base film from being damaged, the high refractive index hard coat film is formed on the lower layer of the low refractive index film, that is, on one main surface of the base film (between the base film and the low refractive index film). Provided.
The high refractive index hard coat film is not particularly limited as long as it has the ability to prevent damage to the base film, and even if it is formed of an ultraviolet curable high refractive index hard coat film forming composition. Further, it may be formed of a thermosetting high refractive index hard coat film forming composition. The high refractive index hard coat film may contain particles.

高屈折率ハードコート膜の屈折率は、1.51以上かつ1.85以下であることが好ましい。また、上述した基材フィルムとの屈折率差が小さいことが好ましい。
高屈折率ハードコート膜の屈折率を上記の範囲内とすることにより、基材フィルムとハードコート膜との間における光学干渉が抑制され、視認性のよい高屈折率ハードコート膜が得られる。
The refractive index of the high refractive index hard coat film is preferably 1.51 or more and 1.85 or less. Moreover, it is preferable that a refractive index difference with the base film mentioned above is small.
By setting the refractive index of the high refractive index hard coat film within the above range, optical interference between the base film and the hard coat film is suppressed, and a high refractive index hard coat film with good visibility is obtained.

また、基材フィルムと高屈折率ハードコート膜との屈折率差の絶対値は0以上かつ0.48以下であり、0.1以上かつ0.3以下であることが好ましい。
基材フィルムと高屈折率ハードコート膜との屈折率差の絶対値を上記の範囲内とすることにより、所望の光学特性を得ることができ、例えば、良好なインデックスマッチング層が得られる。基材フィルムと高屈折率ハードコート膜との屈折率差の絶対値が0.48を超えると、屈折率が1.37未満の低屈折率膜を形成しなければならない。しかし、そのような低屈折率膜を形成するためには、低屈折率膜形成用組成物中のシリコンアルコキシドの割合が多くなり過ぎるため、成膜性および膜強度が劣るため好ましくない。
The absolute value of the difference in refractive index between the base film and the high refractive index hard coat film is 0 or more and 0.48 or less, and preferably 0.1 or more and 0.3 or less.
By setting the absolute value of the difference in refractive index between the base film and the high refractive index hard coat film within the above range, desired optical characteristics can be obtained, for example, a good index matching layer can be obtained. When the absolute value of the refractive index difference between the base film and the high refractive index hard coat film exceeds 0.48, a low refractive index film having a refractive index of less than 1.37 must be formed. However, in order to form such a low refractive index film, since the ratio of silicon alkoxide in the composition for forming a low refractive index film is excessively increased, film formability and film strength are inferior.

高屈折率ハードコート膜は、膜厚が100nm以上かつ10μm以下であることが好ましく、0.5μm以上かつ5μm以下であることがより好ましい。
高屈折率ハードコート膜の膜厚を上記の範囲内とすることにより、ハードコート性能と生産安定性を得ることができる。高屈折率ハードコート膜の膜厚が100nm未満では、ハードコート性能が不足する。一方、高屈折率ハードコート膜の膜厚が10μmを超えると、硬化収縮によりフィルムがカールしてうまく巻き取れない場合がある。
The high refractive index hard coat film preferably has a film thickness of 100 nm or more and 10 μm or less, and more preferably 0.5 μm or more and 5 μm or less.
By setting the film thickness of the high refractive index hard coat film within the above range, hard coat performance and production stability can be obtained. When the film thickness of the high refractive index hard coat film is less than 100 nm, the hard coat performance is insufficient. On the other hand, if the film thickness of the high refractive index hard coat film exceeds 10 μm, the film may curl due to curing shrinkage and may not be wound well.

本実施形態の低屈折率膜付きフィルムでは、上述の実施形態の低屈折率膜形成用組成物を、公知の塗工法を用いて基材フィルムの一主面上(基材フィルムの一主面上に形成された高屈折率ハードコート膜上)に塗工することで塗膜を形成し、その塗膜を光硬化させることにより、低屈折率膜が形成される。   In the film with a low refractive index film of the present embodiment, the composition for forming a low refractive index film of the above-described embodiment is formed on one main surface of the base film (one main surface of the base film using a known coating method). A low-refractive-index film is formed by forming a coating film on the high-refractive-index hard coat film formed above) and photocuring the coating film.

本実施形態の低屈折率膜付きフィルムは、その低屈折率膜の表面の算術平均粗さRaが3nm以下であり、2nm以下であることが好ましく、1nm以下であることがより好ましい。
低屈折率膜の表面の算術平均粗さRaが3nmを超えると、この低屈折率膜の表面に電極を成膜する際、低屈折率膜の表面の凹凸が影響して最適な膜が成膜できず、電極性能が悪化する場合がある。
In the film with a low refractive index film of the present embodiment, the arithmetic average roughness Ra of the surface of the low refractive index film is 3 nm or less, preferably 2 nm or less, and more preferably 1 nm or less.
If the arithmetic average roughness Ra of the surface of the low refractive index film exceeds 3 nm, the surface of the low refractive index film is affected by the unevenness of the surface of the low refractive index film, so that an optimum film is formed. The film cannot be formed, and the electrode performance may deteriorate.

本実施形態の低屈折率膜付きフィルムは、空気を基準として測定した場合に、ヘーズ値が2.0%以下であることが好ましく、1.1%以下であることがより好ましく、1.0%以下であることがさらに好ましい。
本実施形態において「ヘーズ値」は、上述の実施形態の低屈折率膜と同様の値を意味する。
The film with a low refractive index film of the present embodiment preferably has a haze value of 2.0% or less, more preferably 1.1% or less, when measured on the basis of air. More preferably, it is% or less.
In the present embodiment, the “haze value” means a value similar to that of the low refractive index film of the above-described embodiment.

本実施形態の低屈折率膜付きフィルムによれば、上述の実施形態の低屈折率膜を備えているので、アンチブロッキング性と密着性に優れている。   According to the film with a low refractive index film of the present embodiment, since the low refractive index film of the above-described embodiment is provided, the anti-blocking property and the adhesiveness are excellent.

[タッチパネル]
本実施形態のタッチパネルは、上述の実施形態の低屈折率膜および上述の実施形態の低屈折率膜付きフィルムの少なくともいずれか一方を備えてなる。
[Touch panel]
The touch panel of this embodiment includes at least one of the low refractive index film of the above-described embodiment and the film with a low refractive index film of the above-described embodiment.

タッチパネルはITO電極と透明基材(ポリエチレンテレフタレート等のプラスチック基材)との屈折率差が大きい場合には、ITO電極部分が見え易くなる、いわゆる骨見え現象が起こる。
そのため、屈折率が1.37以上かつ1.51以下の本実施形態の低屈折率膜、屈折率が1.51以上かつ1.85以下の高屈折率膜を有する低屈折率膜付きフィルム、または、屈折率が1.51以上かつ1.85以下の高屈折率ハードコート膜を有する低屈折率膜付きフィルムを、透明基材とITO電極の間の層として設けることにより、透明基材とITO電極の屈折率差を緩和して、骨見え現象を抑制することができる。
In the touch panel, when the refractive index difference between the ITO electrode and the transparent base material (plastic base material such as polyethylene terephthalate) is large, a so-called bone appearance phenomenon occurs in which the ITO electrode portion is easily visible.
Therefore, the low refractive index film of this embodiment having a refractive index of 1.37 or more and 1.51 or less, a film with a low refractive index film having a high refractive index film having a refractive index of 1.51 or more and 1.85 or less, Alternatively, by providing a film with a low refractive index film having a high refractive index hard coat film having a refractive index of 1.51 or more and 1.85 or less as a layer between the transparent substrate and the ITO electrode, The difference in refractive index of the ITO electrode can be relaxed to suppress the bone appearance phenomenon.

上述の実施形態の低屈折率膜および上述の実施形態の低屈折率膜付きフィルムの少なくともいずれか一方をタッチパネルに設ける方法は、特に限定されず、公知の方法により実装すればよい。例えば、上述の実施形態の低屈折率膜付きフィルムの塗膜面に、ITO電極をパターニングし、配向膜、液晶層を積層した構造等が挙げられる。   The method for providing at least one of the low refractive index film of the above-described embodiment and the film with the low refractive index film of the above-described embodiment on the touch panel is not particularly limited, and may be implemented by a known method. For example, the structure etc. which patterned the ITO electrode on the coating-film surface of the film with a low refractive index film | membrane of the above-mentioned embodiment, and laminated | stacked the alignment film and the liquid crystal layer etc. are mentioned.

以下、実施例および比較例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example demonstrate this invention further more concretely, this invention is not limited to a following example.

[実施例1]
「シロキサン結合形成物質の作製」
テトラエトキシシラン25質量部と、硝酸1.5質量部と、水1.5質量部と、イソプロピルアルコール72質量部と、を混合し、常温にて6時間撹拌して、実施例1のシロキサン結合形成物質(シリカゾル)を得た。
[Example 1]
"Production of siloxane bond-forming substances"
25 parts by mass of tetraethoxysilane, 1.5 parts by mass of nitric acid, 1.5 parts by mass of water, and 72 parts by mass of isopropyl alcohol are mixed and stirred at room temperature for 6 hours to obtain the siloxane bond of Example 1 A forming material (silica sol) was obtained.

「低屈折率膜形成用組成物の作製」
得られたシロキサン結合形成物質10質量部と、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート1質量部と、2−ヒドロキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オン0.05質量部と、1−ブタノール29.65質量部と、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGM)29.65質量部と、ブチルセロソルブ29.65質量部と、を混合し、実施例1の低屈折率膜形成用組成物を得た。
"Preparation of a composition for forming a low refractive index film"
10 parts by mass of the resulting siloxane bond-forming substance, 1 part by mass of dipentaerythritol hexaacrylate, 2-hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] phenyl} 2-methyl-propan-1-one 0.05 parts by mass, 1-butanol 29.65 parts by mass, propylene glycol monomethyl ether (PGM) 29.65 parts by mass, and butyl cellosolve 29.65 parts by mass By mixing, the composition for forming a low refractive index film of Example 1 was obtained.

「ハードコート膜付きプラスチック基材の作製」
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート30質量部と、メチルイソブチルケトン69質量部と、2−ヒドロキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オン1質量部と、を混合し、ハードコート膜形成用組成物を得た。
"Production of plastic substrate with hard coat film"
30 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate, 69 parts by mass of methyl isobutyl ketone, 2-hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] phenyl} -2-methyl -Propan-1-one 1 mass part was mixed, and the composition for hard-coat film formation was obtained.

得られたハードコート膜形成用組成物を、100μm厚のポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム上に、乾燥膜厚が1〜2μmとなるように、バーコーティング法で塗布し、80℃で加熱して乾燥した。
次いで、高圧水銀灯(120W/cm)を用い、塗膜に紫外線を300mJ/cmのエネルギーとなるように露光し、塗膜を硬化させて、ハードコート膜付きプラスチック基材を得た。
The obtained composition for forming a hard coat film was applied on a 100 μm-thick polyethylene terephthalate (PET) film by a bar coating method so as to have a dry film thickness of 1 to 2 μm, and dried by heating at 80 ° C. did.
Next, using a high pressure mercury lamp (120 W / cm), the coating film was exposed to ultraviolet rays so as to have an energy of 300 mJ / cm 2 , and the coating film was cured to obtain a plastic substrate with a hard coat film.

「低屈折率膜の形成」
得られたハードコート膜付きプラスチック基材に、実施例1の低屈折率膜形成用組成物を、乾燥膜厚が30nmとなるように、バーコーティング法で塗布し、80℃で加熱して乾燥した。
次いで、高圧水銀灯(120W/cm)を用い、塗膜に紫外線を300mJ/cmのエネルギーとなるように露光し、塗膜を硬化させて低屈折率膜を形成し、実施例1の低屈折率膜およびそれを備えた低屈折率膜付きフィルムを得た。
"Formation of low refractive index film"
The composition for forming a low refractive index film of Example 1 was applied to the obtained plastic substrate with a hard coat film by a bar coating method so as to have a dry film thickness of 30 nm, and dried by heating at 80 ° C. did.
Next, using a high pressure mercury lamp (120 W / cm), the coating film was exposed to ultraviolet rays with an energy of 300 mJ / cm 2 , and the coating film was cured to form a low refractive index film. An index film and a film with a low refractive index film provided with the index film were obtained.

[実施例2]
「低屈折率膜形成用組成物の作製」
実施例1のシロキサン結合形成物質16質量部と、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート0.4質量部と、2−ヒドロキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オン0.02質量部と、1−ブタノール27.86質量部と、プロピレングリコールモノメチルエーテル27.86質量部と、ブチルセロソルブ27.86質量部と、を混合し、実施例2の低屈折率膜形成用組成物を得た。
[Example 2]
"Preparation of a composition for forming a low refractive index film"
16 parts by mass of the siloxane bond-forming substance of Example 1, 0.4 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate, and 2-hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl ] 0.02 parts by weight of phenyl} -2-methyl-propan-1-one, 27.86 parts by weight of 1-butanol, 27.86 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether, and 27.86 parts by weight of butyl cellosolve. By mixing, the composition for forming a low refractive index film of Example 2 was obtained.

「ハードコート膜付きプラスチック基材の作製、低屈折率膜の形成」
実施例2の低屈折率膜形成用組成物を用いた以外は、実施例1と全く同様にして、ハードコート膜付きプラスチック基材に低屈折率膜を形成し、実施例2の低屈折率膜およびそれを備えた低屈折率膜付きフィルムを得た。
"Production of plastic substrate with hard coat film, formation of low refractive index film"
A low refractive index film was formed on a plastic substrate with a hard coat film in the same manner as in Example 1 except that the composition for forming a low refractive index film in Example 2 was used. A film and a film with a low refractive index film provided with the film were obtained.

[実施例3]
「低屈折率膜形成用組成物の作製」
実施例1のシロキサン結合形成物質4質量部と、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート1.6質量部と、2−ヒドロキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オン0.08質量部と、1−ブタノール31.44質量部と、プロピレングリコールモノメチルエーテル31.44質量部と、ブチルセロソルブ31.44質量部と、を混合し、実施例3の低屈折率膜形成用組成物を得た。
[Example 3]
"Preparation of a composition for forming a low refractive index film"
4 parts by mass of the siloxane bond-forming substance of Example 1, 1.6 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate, and 2-hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl ] 0.08 parts by mass of phenyl} -2-methyl-propan-1-one, 31.44 parts by mass of 1-butanol, 31.44 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether, and 31.44 parts by mass of butyl cellosolve. By mixing, the composition for forming a low refractive index film of Example 3 was obtained.

「ハードコート膜付きプラスチック基材の作製、低屈折率膜の形成」
実施例3の低屈折率膜形成用組成物を用いた以外は、実施例1と全く同様にして、ハードコート膜付きプラスチック基材に低屈折率膜を形成し、実施例3の低屈折率膜およびそれを備えた低屈折率膜付きフィルムを得た。
"Production of plastic substrate with hard coat film, formation of low refractive index film"
A low refractive index film was formed on a plastic substrate with a hard coat film in the same manner as in Example 1 except that the composition for forming a low refractive index film of Example 3 was used. A film and a film with a low refractive index film provided with the film were obtained.

[実施例4]
「シロキサン結合形成物質の作製」
テトラエトキシシラン20質量部と、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン3質量部と、硝酸1.5質量部と、水1.5質量部と、イソプロピルアルコール74質量部と、を混合し、常温にて6時間撹拌して、実施例4のシロキサン結合形成物質(シリカゾル)を得た。
[Example 4]
"Production of siloxane bond-forming substances"
20 parts by mass of tetraethoxysilane, 3 parts by mass of 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 1.5 parts by mass of nitric acid, 1.5 parts by mass of water, and 74 parts by mass of isopropyl alcohol are mixed and brought to room temperature. The mixture was stirred for 6 hours to obtain the siloxane bond-forming substance (silica sol) of Example 4.

「低屈折率膜形成用組成物の作製」
実施例4のシロキサン結合形成物質を用いた以外は、実施例1と全く同様にして、実施例4の低屈折率膜形成用組成物を得た。
"Preparation of a composition for forming a low refractive index film"
A composition for forming a low refractive index film of Example 4 was obtained in the same manner as in Example 1, except that the siloxane bond-forming substance of Example 4 was used.

「ハードコート膜付きプラスチック基材の作製、低屈折率膜の形成」
実施例4の低屈折率膜形成用組成物を用いた以外は、実施例1と全く同様にして、ハードコート膜付きプラスチック基材に低屈折率膜を形成し、実施例4の低屈折率膜およびそれを備えた低屈折率膜付きフィルムを得た。
"Production of plastic substrate with hard coat film, formation of low refractive index film"
A low refractive index film was formed on a plastic substrate with a hard coat film in the same manner as in Example 1 except that the composition for forming a low refractive index film of Example 4 was used. A film and a film with a low refractive index film provided with the film were obtained.

[実施例5]
「低屈折率膜形成用組成物の作製」
実施例4のシロキサン結合形成物質16質量部と、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート0.4質量部と、2−ヒドロキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オン0.02質量部と、1−ブタノール27.86質量部と、プロピレングリコールモノメチルエーテル27.86質量部と、ブチルセロソルブ27.86質量部と、を混合し、実施例5の低屈折率膜形成用組成物を得た。
[Example 5]
"Preparation of a composition for forming a low refractive index film"
16 parts by mass of the siloxane bond-forming substance of Example 4, 0.4 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate, and 2-hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl ] 0.02 parts by weight of phenyl} -2-methyl-propan-1-one, 27.86 parts by weight of 1-butanol, 27.86 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether, and 27.86 parts by weight of butyl cellosolve. By mixing, the composition for forming a low refractive index film of Example 5 was obtained.

「ハードコート膜付きプラスチック基材の作製、低屈折率膜の形成」
実施例5の低屈折率膜形成用組成物を用いた以外は、実施例1と全く同様にして、ハードコート膜付きプラスチック基材に低屈折率膜を形成し、実施例5の低屈折率膜およびそれを備えた低屈折率膜付きフィルムを得た。
"Production of plastic substrate with hard coat film, formation of low refractive index film"
A low refractive index film is formed on a plastic substrate with a hard coat film in the same manner as in Example 1 except that the composition for forming a low refractive index film of Example 5 is used. A film and a film with a low refractive index film provided with the film were obtained.

[実施例6]
「低屈折率膜形成用組成物の作製」
実施例4のシロキサン結合形成物質4質量部と、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート1.6質量部と、2−ヒドロキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オン0.08質量部と、1−ブタノール31.44質量部と、プロピレングリコールモノメチルエーテル31.44質量部と、ブチルセロソルブ31.44質量部と、を混合し、実施例6の低屈折率膜形成用組成物を得た。
[Example 6]
"Preparation of a composition for forming a low refractive index film"
4 parts by mass of the siloxane bond-forming substance of Example 4, 1.6 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate, 2-hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl ] 0.08 parts by mass of phenyl} -2-methyl-propan-1-one, 31.44 parts by mass of 1-butanol, 31.44 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether, and 31.44 parts by mass of butyl cellosolve. By mixing, the composition for forming a low refractive index film of Example 6 was obtained.

「ハードコート膜付きプラスチック基材の作製、低屈折率膜の形成」
実施例6の低屈折率膜形成用組成物を用いた以外は、実施例1と全く同様にして、ハードコート膜付きプラスチック基材に低屈折率膜を形成し、実施例6の低屈折率膜およびそれを備えた低屈折率膜付きフィルムを得た。
"Production of plastic substrate with hard coat film, formation of low refractive index film"
A low refractive index film is formed on a plastic substrate with a hard coat film in the same manner as in Example 1 except that the composition for forming a low refractive index film of Example 6 is used. A film and a film with a low refractive index film provided with the film were obtained.

[実施例7]
「シロキサン結合形成物質の作製」
テトラエトキシシラン20質量部と、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン3質量部と、硝酸1.5質量部と、水1.5質量部と、イソプロピルアルコール74質量部とを混合し、常温にて6時間撹拌して、実施例7のシロキサン結合形成物質(シリカゾル)を得た。
[Example 7]
"Production of siloxane bond-forming substances"
20 parts by mass of tetraethoxysilane, 3 parts by mass of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 1.5 parts by mass of nitric acid, 1.5 parts by mass of water, and 74 parts by mass of isopropyl alcohol are mixed at room temperature. The mixture was stirred for 6 hours to obtain the siloxane bond-forming substance (silica sol) of Example 7.

「低屈折率膜形成用組成物の作製」
実施例7のシロキサン結合形成物質を用いた以外は、実施例1と全く同様にして、実施例7の低屈折率膜形成用組成物を得た。
"Preparation of a composition for forming a low refractive index film"
A composition for forming a low refractive index film of Example 7 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the siloxane bond-forming substance of Example 7 was used.

「ハードコート膜付きプラスチック基材の作製、低屈折率膜の形成」
実施例7の低屈折率膜形成用組成物を用いた以外は、実施例1と全く同様にして、ハードコート膜付きプラスチック基材に低屈折率膜を形成し、実施例7の低屈折率膜およびそれを備えた低屈折率膜付きフィルムを得た。
"Production of plastic substrate with hard coat film, formation of low refractive index film"
A low refractive index film was formed on a plastic substrate with a hard coat film in the same manner as in Example 1 except that the composition for forming a low refractive index film of Example 7 was used. A film and a film with a low refractive index film provided with the film were obtained.

[実施例8]
「低屈折率膜形成用組成物の作製」
実施例4のシロキサン結合形成物質20質量部と、1−ブタノール26.67質量部と、プロピレングリコールモノメチルエーテル26.67質量部と、ブチルセロソルブ26.66質量部と、を混合し、実施例8の低屈折率膜形成用組成物を得た。
[Example 8]
"Preparation of a composition for forming a low refractive index film"
20 parts by mass of the siloxane bond-forming substance of Example 4, 26.67 parts by mass of 1-butanol, 26.67 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether, and 26.66 parts by mass of butyl cellosolve were mixed. A composition for forming a low refractive index film was obtained.

「ハードコート膜付きプラスチック基材の作製、低屈折率膜の形成」
実施例8の低屈折率膜形成用組成物を用いた以外は、実施例1と全く同様にして、ハードコート膜付きプラスチック基材に低屈折率膜を形成し、実施例8の低屈折率膜およびそれを備えた低屈折率膜付きフィルムを得た。
"Production of plastic substrate with hard coat film, formation of low refractive index film"
A low refractive index film is formed on a plastic substrate with a hard coat film in the same manner as in Example 1 except that the composition for forming a low refractive index film of Example 8 is used. A film and a film with a low refractive index film provided with the film were obtained.

[実施例9]
「シロキサン結合形成物質の作製」
3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン4質量部と、硝酸0.5質量部と、水0.5質量部と、イソプロピルアルコール72質量部と、を混合し、常温にて6時間撹拌して、実施例9のシロキサン結合形成物質(シリカゾル)を得た。
[Example 9]
"Production of siloxane bond-forming substances"
4 parts by mass of 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 0.5 parts by mass of nitric acid, 0.5 parts by mass of water and 72 parts by mass of isopropyl alcohol were mixed and stirred at room temperature for 6 hours. The siloxane bond-forming substance (silica sol) of Example 9 was obtained.

「低屈折率膜形成用組成物の作製」
得られたシロキサン結合形成物質5質量部と、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート1質量部と、メソポーラスシリカ微粒子(商品名:SI−01、1次粒子径5nm〜15nm、住友大阪セメント社製)をホモジナイザーにてイソプロピルアルコールに分散した分散液(固形分20質量%)2.5質量部と、2−ヒドロキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オン0.05質量部と、1−ブタノール30.48質量部と、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGM)30.48質量部と、ブチルセロソルブ30.48質量部と、を混合し、実施例9の低屈折率膜形成用組成物を得た。
"Preparation of a composition for forming a low refractive index film"
5 parts by mass of the resulting siloxane bond-forming substance, 1 part by mass of dipentaerythritol hexaacrylate, and mesoporous silica fine particles (trade name: SI-01, primary particle diameter of 5 nm to 15 nm, manufactured by Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd.) are used as a homogenizer. 2.5 parts by mass of a dispersion (solid content 20% by mass) dispersed in isopropyl alcohol and 2-hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] phenyl} 2-methyl-2-propan-1-one 0.05 parts by mass, 1-butanol 30.48 parts by mass, propylene glycol monomethyl ether (PGM) 30.48 parts by mass, and butyl cellosolve 30.48 parts by mass. By mixing, the composition for forming a low refractive index film of Example 9 was obtained.

「ハードコート膜付きプラスチック基材の作製、低屈折率膜の形成」
実施例9の低屈折率膜形成用組成物を用いた以外は、実施例1と全く同様にして、ハードコート膜付きプラスチック基材に低屈折率膜を形成し、実施例9の低屈折率膜およびそれを備えた低屈折率膜付きフィルムを得た。
"Production of plastic substrate with hard coat film, formation of low refractive index film"
A low refractive index film was formed on a plastic substrate with a hard coat film in the same manner as in Example 1 except that the composition for forming a low refractive index film of Example 9 was used. A film and a film with a low refractive index film provided with the film were obtained.

[比較例1]
「低屈折率膜形成用組成物の作製」
実施例1のシロキサン結合形成物質19.9質量部と、1−ブタノール26.7質量部と、プロピレングリコールモノメチルエーテル26.7質量部と、ブチルセロソルブ26.7質量部と、を混合し、比較例1の低屈折率膜形成用組成物を得た。
[Comparative Example 1]
"Preparation of a composition for forming a low refractive index film"
Comparative Example 19.9 parts by weight of the siloxane bond-forming substance of Example 1, 26.7 parts by weight of 1-butanol, 26.7 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether, and 26.7 parts by weight of butyl cellosolve were mixed. 1, a composition for forming a low refractive index film was obtained.

「ハードコート膜付きプラスチック基材の作製、低屈折率膜の形成」
比較例1の低屈折率膜形成用組成物を用いた以外は、実施例1と全く同様にして、ハードコート膜付きプラスチック基材に低屈折率膜を形成し、比較例1の低屈折率膜およびそれを備えた低屈折率膜付きフィルムを得た。
"Production of plastic substrate with hard coat film, formation of low refractive index film"
A low refractive index film was formed on a plastic substrate with a hard coat film in the same manner as in Example 1 except that the composition for forming a low refractive index film of Comparative Example 1 was used. A film and a film with a low refractive index film provided with the film were obtained.

[比較例2]
「低屈折率膜形成用組成物の作製」
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート2質量部と、2−ヒドロキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オン0.1質量部と、1−ブタノール32.64質量部と、プロピレングリコールモノメチルエーテル32.63質量部と、ブチルセロソルブ32.63質量部と、を混合し、比較例2の低屈折率膜形成用組成物を得た。
[Comparative Example 2]
"Preparation of a composition for forming a low refractive index film"
2 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate and 2-hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] phenyl} -2-methyl-propan-1-one 1 part by mass, 32.64 parts by mass of 1-butanol, 32.63 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether, and 32.63 parts by mass of butyl cellosolve are mixed, and the composition for forming a low refractive index film of Comparative Example 2 Got.

「ハードコート膜付きプラスチック基材の作製、低屈折率膜の形成」
比較例2の低屈折率膜形成用組成物を用いた以外は、実施例1と全く同様にして、ハードコート膜付きプラスチック基材に低屈折率膜を形成し、比較例2の低屈折率膜およびそれを備えた低屈折率膜付きフィルムを得た。
"Production of plastic substrate with hard coat film, formation of low refractive index film"
A low refractive index film was formed on a plastic substrate with a hard coat film in the same manner as in Example 1 except that the composition for forming a low refractive index film of Comparative Example 2 was used. A film and a film with a low refractive index film provided with the film were obtained.

[比較例3]
「低屈折率膜形成用組成物の作製」
実施例7のシロキサン結合形成物質20質量部と、1−ブタノール26.66質量部と、プロピレングリコールモノメチルエーテル26.67質量部と、ブチルセロソルブ26.67質量部と、を混合し、比較例3の低屈折率膜形成用組成物を得た。
[Comparative Example 3]
"Preparation of a composition for forming a low refractive index film"
20 parts by mass of the siloxane bond-forming substance of Example 7, 26.66 parts by mass of 1-butanol, 26.67 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether, and 26.67 parts by mass of butyl cellosolve were mixed. A composition for forming a low refractive index film was obtained.

「ハードコート膜付きプラスチック基材の作製、低屈折率膜の形成」
比較例3の低屈折率膜形成用組成物を用いた以外は、実施例1と全く同様にして、ハードコート膜付きプラスチック基材に低屈折率膜を形成し、比較例3の低屈折率膜およびそれを備えた低屈折率膜付きフィルムを得た。
"Production of plastic substrate with hard coat film, formation of low refractive index film"
A low refractive index film was formed on a plastic substrate with a hard coat film in the same manner as in Example 1 except that the composition for forming a low refractive index film of Comparative Example 3 was used. A film and a film with a low refractive index film provided with the film were obtained.

[比較例4]
「低屈折率膜形成用組成物の作製」
実施例1で作製したシロキサン結合形成物質15質量部と、中空シリカIPA分散液(一次粒子径100nm〜120nm、固形分20質量%)2.5質量部と、1−ブタノール27.5質量部と、プロピレングリコールモノメチルエーテル27.5質量部と、ブチルセロソルブ27.5質量部と、を混合し、比較例4の低屈折率膜形成用組成物を得た。
[Comparative Example 4]
"Preparation of a composition for forming a low refractive index film"
15 parts by mass of the siloxane bond-forming substance prepared in Example 1, 2.5 parts by mass of a hollow silica IPA dispersion (primary particle size 100 nm to 120 nm, solid content 20% by mass), 27.5 parts by mass of 1-butanol Then, 27.5 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether and 27.5 parts by mass of butyl cellosolve were mixed to obtain a composition for forming a low refractive index film of Comparative Example 4.

「ハードコート膜付きプラスチック基材の作製、低屈折率膜の形成」
比較例4の低屈折率膜形成用組成物を用いた以外は、実施例1と全く同様にして、ハードコート膜付きプラスチック基材に低屈折率膜を形成し、比較例4の低屈折率膜およびそれを備えた低屈折率膜付きフィルムを得た。
"Production of plastic substrate with hard coat film, formation of low refractive index film"
A low refractive index film was formed on a plastic substrate with a hard coat film in the same manner as in Example 1 except that the composition for forming a low refractive index film of Comparative Example 4 was used. A film and a film with a low refractive index film provided with the film were obtained.

実施例1〜9および比較例1〜4で得られた低屈折率膜付きフィルムについて、動摩擦係数、アンチブロッキング性、ヘーズ値、耐擦傷性、密着性、屈折率および算術平均粗さRaを、下記の方法により評価した。評価結果を表1および表2に示す。   About the film with a low refractive index film obtained in Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 4, the dynamic friction coefficient, anti-blocking property, haze value, scratch resistance, adhesion, refractive index, and arithmetic average roughness Ra, Evaluation was made by the following method. The evaluation results are shown in Tables 1 and 2.

(1)動摩擦係数
日本工業規格JIS−K−7125に基づいて動摩擦係数を測定した。
動摩擦係数が0.5未満の場合を「◎」、0.5以上かつ0.6未満の場合を「○」、0.6以上の場合を「×」として評価した。
(1) Dynamic friction coefficient The dynamic friction coefficient was measured based on Japanese Industrial Standard JIS-K-7125.
The case where the dynamic friction coefficient was less than 0.5 was evaluated as “◎”, the case where 0.5 or more and less than 0.6 was evaluated as “◯”, and the case where 0.6 or more was evaluated as “×”.

(2)アンチブロッキング性
低屈折率膜付きフィルムの低屈折率膜同士を擦り合わせ、官能評価を行った。低屈折率膜付きフィルム同士を擦り合わせた際に、滑るものを「○」、滑らないものを「×」として評価した。
(2) Anti-blocking property The low refractive index films of the film with a low refractive index film were rubbed together to perform sensory evaluation. When the films with low refractive index films were rubbed together, the slippery film was evaluated as “◯”, and the non-slipable film was evaluated as “x”.

(3)ヘーズ値
低屈折率膜付きフィルムのヘーズ値を、空気を基準として、ヘーズメーターNDH−2000(日本電色社製)を用い、日本工業規格JIS−K−7136に基づいて測定した。
ヘーズ値の測定には、作製した低屈折率膜付きフィルムから100mm×100mmの試験片を作製し、その試験片を用いた。
評価結果がAであるものが良品であり、評価結果がBからDになるに従い、透明性が悪化しているものであることを示している。
A:1.0%未満
B:1.0%以上かつ1.5%未満
C:1.5%以上かつ2.0%以下
D:2.0%より大きい
(3) Haze value The haze value of a film with a low refractive index film was measured based on Japanese Industrial Standards JIS-K-7136 using a haze meter NDH-2000 (manufactured by Nippon Denshoku) with air as a reference.
For the measurement of the haze value, a test piece of 100 mm × 100 mm was produced from the produced film with a low refractive index film, and the test piece was used.
The evaluation result of A is a non-defective product, and as the evaluation result changes from B to D, the transparency is deteriorated.
A: Less than 1.0% B: 1.0% or more and less than 1.5% C: 1.5% or more and 2.0% or less D: Greater than 2.0%

(4)耐擦傷性
低屈折率膜付きフィルムの低屈折率膜上で、#0000のスチールウールを250g/cmの加重下にて10往復摺動させた。往復後のハードコート膜の表面を目視により観察し、次の基準で耐擦傷性の評価を行った。
評価結果がAであるものが良品であり、評価結果がBからEとなるに従い、ハードコート性が低いものであることを示している。
A:傷0本
B:傷1−10本
C:傷11−20本
D:傷20−30本
E:傷31本以上
(4) Scratch resistance On a low refractive index film of a film with a low refractive index film, # 0000 steel wool was slid 10 times under a load of 250 g / cm 2 . The surface of the hard coat film after reciprocation was visually observed, and the scratch resistance was evaluated according to the following criteria.
The evaluation result of A is a non-defective product, and as the evaluation result changes from B to E, the hard coat property is low.
A: 0 scratches B: 1-10 scratches C: 11-20 scratches D: 20-30 scratches E: 31 or more scratches

(5)密着性
日本工業規格:JIS−K−5600−5−6「塗料一般試験方法−第5部:塗膜の機械的性質−第6節:付着性(クロスカット法)」に基づき密着性の評価を行った。ここでは、JIS評価結果分類0であるものを「◎」、JIS評価結果分類1であるものを「○」、JIS評価結果分類2であるものを「△」、JIS評価結果分類3〜5であるものを「×」とした。
(5) Adhesion Adherence based on Japanese Industrial Standards: JIS-K-5600-5-6 "General coating test methods-Part 5: Mechanical properties of coating films-Section 6: Adhesion (cross-cut method)" Sexuality was evaluated. Here, “◎” indicates a JIS evaluation result classification 0, “◯” indicates a JIS evaluation result classification 1, “△” indicates a JIS evaluation result classification 2, and JIS evaluation result classification 3-5. Some were marked as “x”.

(6)屈折率
プリズムカプラ モデル2010(メリコン社製)を用い、低屈折率膜付きフィルムの低屈折率膜の屈折率を測定した。
(6) Refractive index The refractive index of the low refractive index film | membrane of the film with a low refractive index film | membrane was measured using the prism coupler model 2010 (made by Merikon).

(7)算術平均粗さRa
原子間力顕微鏡(Atomic Force Microscope;AFM)(商品名:SPA300/SPI3700、SII社製)で20μm×20μmの範囲をスキャンし、算術平均粗さRaを算出し、次の基準で表面粗さの評価を行った。
×:算術平均粗さRaが3nm以上
△:算術平均粗さRaが2nm以上3nm未満
○:算術平均粗さRaが2nm未満
(7) Arithmetic mean roughness Ra
The range of 20 μm × 20 μm was scanned with an atomic force microscope (AFM) (trade name: SPA300 / SPI3700, manufactured by SII), the arithmetic average roughness Ra was calculated, and the surface roughness was measured according to the following criteria. Evaluation was performed.
×: Arithmetic average roughness Ra is 3 nm or more Δ: Arithmetic average roughness Ra is 2 nm or more and less than 3 nm ○: Arithmetic average roughness Ra is less than 2 nm

Figure 2016071157
Figure 2016071157

Figure 2016071157
Figure 2016071157

表1および表2の結果から、実施例1〜9と、比較例1〜4とを比較すると、実施例1〜9の低屈折率膜付きフィルムは、アンチブロッキング性、透明性、耐擦傷性、低屈折率膜の密着性および算術平均粗さRaに優れていることが確認できた。
表1および表2の結果から、実施例1〜3と、比較例1とを比較すると、実施例1〜3の低屈折率膜付きフィルムは、低屈折率膜の密着性が向上していることが確認できた。
表1および表2の結果から、実施例1〜9と、比較例2とを比較すると、実施例1〜9の低屈折率膜付きフィルムは、アンチブロッキング性が向上していることが確認できた。
表1および表2の結果から、実施例4〜6と、比較例3とを比較すると、実施例4〜6の低屈折率膜付きフィルムは、アンチブロッキング性、耐擦傷性および低屈折率膜の密着性が向上していることが確認できた。
表1および表2の結果から、実施例7と、比較例4とを比較すると、実施例7の低屈折率膜付きフィルムは、アンチブロッキング性、耐擦傷性および低屈折率膜の密着性が向上していることが確認できた。
From the results in Table 1 and Table 2, when Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 4 are compared, the films with a low refractive index film of Examples 1 to 9 are anti-blocking, transparent, and scratch resistant. It was confirmed that the low refractive index film was excellent in adhesion and arithmetic average roughness Ra.
From the results of Table 1 and Table 2, when Examples 1 to 3 and Comparative Example 1 are compared, the low refractive index film-attached films of Examples 1 to 3 have improved adhesion of the low refractive index film. I was able to confirm.
From the results of Table 1 and Table 2, when Examples 1 to 9 and Comparative Example 2 are compared, it can be confirmed that the anti-blocking properties of the films with low refractive index films of Examples 1 to 9 are improved. It was.
From the results of Table 1 and Table 2, when Examples 4 to 6 and Comparative Example 3 are compared, the films with low refractive index films of Examples 4 to 6 are anti-blocking, scratch resistant, and low refractive index films. It was confirmed that the adhesion was improved.
From the results of Tables 1 and 2, when Example 7 and Comparative Example 4 are compared, the film with a low refractive index film of Example 7 has anti-blocking properties, scratch resistance, and adhesion of the low refractive index film. It was confirmed that there was an improvement.

実施例1〜9で得られた低屈折率膜付きフィルムについて、原子間力顕微鏡(Atomic Force Microscope;AFM)(商品名:SPA300/SPI3700、SII社製)で20μm×20μmの範囲をスキャンし、ピークトゥバレー値(P−V値)を算出した。
AFMでスキャンした結果、実施例1〜8のメソポーラスシリカ等の粒子を含まない低屈折率膜は20μm×20μmの全面にわたって目立った凹凸は観察されず、均一な膜が得られていた。これに対して、メソポーラスシリカ粒子を含む実施例9の低屈折率膜は、膜全面にわたって凹凸が観察された。
また、実施例1〜8のP−V値は30nm以下であり、実施例9のP−V値は76.4nmであった。また、実施例8のP−V値は11.5nmであった。
この結果から、無機微粒子を混合していない本実施例の低屈折率膜は、膜表面が均一であることが確認された。
About the film with a low refractive index film obtained in Examples 1 to 9, a 20 μm × 20 μm range was scanned with an atomic force microscope (AFM) (trade name: SPA300 / SPI3700, manufactured by SII). Peak-to-valley value (PV value) was calculated.
As a result of scanning by AFM, the low refractive index film containing no particles such as mesoporous silica of Examples 1 to 8 showed no noticeable irregularities over the entire surface of 20 μm × 20 μm, and a uniform film was obtained. On the other hand, in the low refractive index film of Example 9 containing mesoporous silica particles, unevenness was observed over the entire film surface.
Moreover, the PV value of Examples 1-8 was 30 nm or less, and the PV value of Example 9 was 76.4 nm. The PV value of Example 8 was 11.5 nm.
From this result, it was confirmed that the film surface of the low refractive index film of this example in which inorganic fine particles were not mixed was uniform.

本発明の低屈折率膜形成用組成物は、シリコンアルコキシドと、分子中に1個以上のメタクリロイル基およびアクリロイル基の少なくとも1種を有する架橋性化合物と、を含有してなるので、アンチブロッキング性に優れた低屈折率膜を形成することが可能であり、その低屈折率膜をタッチパネル等に適用することができる。   Since the composition for forming a low refractive index film of the present invention contains silicon alkoxide and a crosslinkable compound having at least one methacryloyl group and acryloyl group in the molecule, anti-blocking properties It is possible to form an excellent low refractive index film, and the low refractive index film can be applied to a touch panel or the like.

Claims (6)

シリコンアルコキシドと、分子中に1個以上のメタクリロイル基およびアクリロイル基の少なくとも1種を有する架橋性化合物と、を含有してなることを特徴とする低屈折率膜形成用組成物。   A composition for forming a low refractive index film, comprising a silicon alkoxide and a crosslinkable compound having at least one methacryloyl group and acryloyl group in a molecule. シロキサン結合を有する化合物およびアクリル樹脂を含有してなり、屈折率が1.37以上かつ1.51以下であり、膜面同士を接触させた場合の動摩擦係数と静摩擦係数が0.6以下であり、かつ表面の算術平均粗さRaが3nm以下であることを特徴とする低屈折率膜。   It contains a compound having a siloxane bond and an acrylic resin, has a refractive index of 1.37 or more and 1.51 or less, and has a dynamic friction coefficient and a static friction coefficient of 0.6 or less when the film surfaces are brought into contact with each other. A low refractive index film having a surface arithmetic average roughness Ra of 3 nm or less. 基材フィルムの一主面上から順に、ハードコート膜と、低屈折率膜とが設けられてなる低屈折率膜付きフィルムであって、
前記低屈折率膜が、請求項2に記載の低屈折率膜であり、
前記低屈折率膜の表面の算術平均粗さRaが3nm以下であることを特徴とする低屈折率膜付きフィルム。
A film with a low refractive index film in which a hard coat film and a low refractive index film are provided in order from one main surface of the base film,
The low refractive index film is the low refractive index film according to claim 2,
A film with a low refractive index film, wherein the arithmetic average roughness Ra of the surface of the low refractive index film is 3 nm or less.
前記ハードコート膜と前記低屈折率膜との間に、屈折率が1.51以上かつ1.85以下の高屈折率膜を有することを特徴とする請求項3に記載の低屈折率膜付きフィルム。   The low refractive index film according to claim 3, further comprising a high refractive index film having a refractive index of 1.51 or more and 1.85 or less between the hard coat film and the low refractive index film. the film. 基材フィルムの一主面上から順に、屈折率が1.51以上かつ1.85以下の高屈折率ハードコート膜と、低屈折率膜とが設けられてなる低屈折率膜付きフィルムであって、
前記低屈折率膜が、請求項2に記載の低屈折率膜であり、
前記基材フィルムと前記高屈折率ハードコート膜との屈折率差の絶対値が0以上かつ0.48以下であり、
前記低屈折率膜の表面の算術平均粗さRaが3nm以下であることを特徴とする低屈折率膜付きフィルム。
A film with a low refractive index film in which a high refractive index hard coat film having a refractive index of 1.51 or more and 1.85 or less and a low refractive index film are provided in order from one main surface of the base film. And
The low refractive index film is the low refractive index film according to claim 2,
The absolute value of the refractive index difference between the base film and the high refractive index hard coat film is 0 or more and 0.48 or less,
A film with a low refractive index film, wherein the arithmetic average roughness Ra of the surface of the low refractive index film is 3 nm or less.
請求項2に記載の低屈折率膜および請求項3ないし5のいずれか1項に記載の低屈折率膜付きフィルムの少なくともいずれか一方を備えてなることを特徴とするタッチパネル。   A touch panel comprising at least one of the low refractive index film according to claim 2 and the film with a low refractive index film according to any one of claims 3 to 5.
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WO2019049579A1 (en) * 2017-09-08 2019-03-14 株式会社ダイセル Anti-reflection film
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