JP7094594B2 - 処理条件推定装置、方法及びプログラム - Google Patents
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Description
図1は、本実施形態に係る処理条件推定装置を含む半導体製造システムの概略構成図である。半導体製造システム100は、露光装置200と、中央演算処理装置300と、形状測定装置400を備える。各装置は有線又は無線の通信ネットワークで接続されている。中央演算処理装置300が、本実施形態に係る処理条件推定装置に相当する。なお、半導体製造システム100は、本実施形態に係る処理条件推定装置が適用される一例である。本実施形態に係る処理条件推定装置は、例えば、マスク製造システムやFPD(Flat Panel Display)製造システムやプリント基板製造システムなどにも適用可能である。
図2は、本実施形態に係る(a)処理条件推定関数作成方法及び(b)処理条件推定方法に関するフローチャートである。
図2(a)は、処理条件推定関数作成方法のフローチャートである。ここで、処理条件推定関数とは、測定装置で取得した対象物の測定データから対象物を処理した処理条件を推定する関数、入力が対象物の測定データで出力が対象物を処理した処理条件の推定値である関数のことである。本実施形態では、対象物を露光装置で処理した処理条件(焦点位置と露光量)を走査型電子顕微鏡で測定した画像から推定している。
図2(b)は、処理条件推定方法のフローチャートである。
図2(b)で説明した2段階の次元削減(S230、S240)の場合の、確度算出(S260)方法について説明する。i番目の学習画像から求めた第1の次元削減(S230)の結果をPi,jとする。ここでは、jは第1の次元削減後の次元を表す。また、推定する対象物から求めた第1の次元削減結果をSjとする。
次元削減は、2段階で行うことが必須ではなく、1段階で行ってもよい。2段階次元削減のように次元削減の中間結果が存在しない場合、処理条件推定後に、確度Aを求めればよい。ここでは、推定する対象物から求めたj番目の特徴量をSjとする。また、推定した処理条件に最も近い学習画像のj番目の特徴量をPjとする。
上述した通り、本実施形態によれば、対象物の形状などを制限することなく、処理条件を推定することができる。
ここからは、他の処理条件推定方法について説明する。図7は、他の実施形態に係るニューラルネットワークを用いた(a)処理条件推定関数作成方法及び(b)処理条件推定方法に関するフローチャートである。
図7(a)は、ニューラルネットワークを用いた処理条件推定関数作成方法のフローチャートである。処理条件推定関数などについては、図2などで説明しているため、重複した説明は省略する。
図7(b)は、処理条件推定方法のフローチャートである。
次元削減をニューラルネットワークで行う場合、処理条件推定後に、式(2)で表される確度Aを求めればよい。ここでは、推定する対象物から取得した画像から求めたj番目の特徴量をSjとする。また、推定した処理条件からS440で推定したj番目の特徴量をPjとする。なお、σjは補正係数(定数)である。
このように、他の実施形態も、対象物の形状などを制限することなく、処理条件を推定することができる。
200 露光装置
300 中央演算処理装置(処理条件推定装置)
400 形状測定装置(CD-SEM)
Claims (15)
- 対象物を処理した処理条件を推定する処理条件推定装置であって、
処理後の前記対象物の所定の位置で取得した、前記処理条件の種類数よりも多い次元数である測定データを入力する入力部と、
測定データを入力して処理条件の推定値を出力する処理条件推定関数に基づいて、前記入力された測定データから、前記処理条件の種類数と同じ次元数まで前記測定データの次元削減を行うことによって、前記対象物を処理した1つの処理条件を推定する推定部と、
を備える処理条件推定装置。 - 前記処理条件の種類数は複数であり、前記対象物を処理した1つの処理条件は前記処理条件の種類数と同じ次元の座標空間の1点である請求項1に記載の処理条件推定装置。
- 前記推定部は、前記次元削減後の前記処理条件間の間隔を評価する請求項1に記載の処理条件推定装置。
- 前記推定部は、前記入力された測定データから特徴量を算出する請求項1に記載の処理条件推定装置。
- 前記推定部は、前記推定した処理条件の確度を算出する請求項1に記載の処理条件推定装置。
- 前記処理条件推定関数はニューラルネットワークで構成される請求項1に記載の処理条件推定装置。
- 前記入力部は、前記測定データの特定部分を設定し、
前記処理条件推定関数は、前記特定部分を入力して前記処理条件の推定値を出力する関数である、請求項1に記載の処理条件推定装置であって、
前記推定部は、前記処理条件推定関数に基づいて、前記特定部分から、前記処理条件を推定する請求項1に記載の処理条件推定装置。 - 前記特定部分は、前記処理条件に依存して変化する領域を含む請求項7に記載の処理条件推定装置。
- 前記処理条件推定関数を再学習する請求項1に記載の処理条件推定装置。
- 前記推定した処理条件を表示する表示部をさらに備える請求項1に記載の処理条件推定装置。
- 前記測定データが画像である請求項1に記載の処理条件推定装置。
- 前記処理条件は、露光装置の焦点位置及び露光量のいずれかまたは両方である請求項1に記載の処理条件推定装置。
- 前記処理条件は、前記対象物上に形成する薄膜の膜厚形成条件及びエッチング条件のいずれかまたは両方である請求項1に記載の処理条件推定装置。
- 対象物を処理した処理条件を推定する処理条件推定方法であって、
処理後の前記対象物の所定の位置で取得した、前記処理条件の種類数よりも多い次元数である測定データを入力し、
測定データを入力して処理条件の推定値を出力する処理条件推定関数に基づいて、前記入力された測定データから、前記処理条件の種類数と同じ次元数まで前記測定データの次元削減を行うことによって、前記対象物を処理した1つの処理条件を推定する処理条件推定方法。 - 対象物を処理した処理条件を推定する処理条件推定プログラムであって、
処理後の前記対象物の所定の位置で取得した、前記処理条件の種類数よりも多い次元数である測定データを入力するステップと、
測定データを入力して処理条件の推定値を出力する処理条件推定関数に基づいて、前記入力された測定データから、前記処理条件の種類数と同じ次元数まで前記測定データの次元削減を行うことによって、前記対象物を処理した1つの処理条件を推定するステップと、
をコンピュータに実行させる処理条件推定プログラム。
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