JP7082859B2 - 可とう性基板水平ウェットプロセス方法 - Google Patents
可とう性基板水平ウェットプロセス方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7082859B2 JP7082859B2 JP2020117034A JP2020117034A JP7082859B2 JP 7082859 B2 JP7082859 B2 JP 7082859B2 JP 2020117034 A JP2020117034 A JP 2020117034A JP 2020117034 A JP2020117034 A JP 2020117034A JP 7082859 B2 JP7082859 B2 JP 7082859B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- flexible substrate
- arch
- wet process
- shaped flexible
- horizontal wet
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product
Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Nozzles (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Description
[ステップS10]
可とう性フラット基板を提供する。
引き続き、ステップS11において、アーチ表面を仕上げることができる治具3を提供する。
アーチ表面を仕上げることができる治具3を可とう性フラット基板2に固定し、可とう性フラット基板2をアーチ状可とう性基板4に形成する。そのうち、アーチ状可とう性基板4は第1側面41と、中央アーチ表面位置42及び第1側面41と対向する第2側面43とを含む。第1側面41と、第2側面43の隣接面に第1アーチ面44と、第2アーチ面45とを形成する。中央アーチ表面位置42の中心線421が最大湾曲位置であり、第1側面41と第2側面43に向かって高さが次第に下げていき、第1側面41と第2側面43がもっとも低い位置となる。
アーチ状可とう性基板4と、アーチ表面を仕上げることができる治具3を搬送装置11に取り付けた上、搬送装置11によって、水平にスプレー装置12の作業区域に搬送させる。
最後に、スプレー装置12のスプレーノズル121が垂直に薬液をアーチ状可とう性基板4にスプレーし、自重により、アーチ状可とう性基板4の中央アーチ表面位置から第1側面と第2側面に流せる。このように、薬液を均一にアーチ状可とう性基板4に分布させる。特に中央アーチ表面位置42が自重により、薬液が中央アーチ表面位置42の中心線421を最大湾曲位置として、次第に高さを下げて行き、第1側面41と第2側面42に向かって素早く流せる。このように、薬液を均一にアーチ状可とう性基板4の表面に分布させて、薬液がアーチ状可とう性基板4の一部区域に滞留するとこなく、アーチ状可とう性基板4の水だめ効果を有効に解決できる。同時に、第1押し当てローラー511をアーチ状可とう性基板4の第1側面41のもっとも低い位置に押し当て、第2押し当てローラー542をアーチ状可とう性基板4の第2側面のもっとも低い位置に押し当てることによって、薬液を第1側面41と第2側面43に向かって、素早く外部へ流す。
1 ウェットプロセス装置
11 搬送装置
12 液体スプレー装置
121 スプレーノズル
2 可撓性フラット基板
3 治具
4 アーチ状可とう性基板
41 第1側面
42 中央アーチ表面位置
421 中心線
43 第2側面
44 第1アーチ面
45 第2アーチ面
5 押し当て装置
51 押し当てローラー組
511 第1押し当てローラー
512 第2押し当てローラー
Claims (9)
- ウェットプロセス設備が、搬送装置と、前記搬送装置上方に取り付けられる液体スプレー装置と、を含み、
可とう性基板水平ウェットプロセスの方法は、
可とう性フラット基板を提供し、
アーチ表面を仕上げることができる治具を提供し、
前記アーチ表面を仕上げることができる治具を前記可とう性フラット基板に固定した上、前記可とう性フラット基板をアーチ状可とう性基板に形成し、
前記アーチ状可とう性基板が、第1側面と、中央アーチ表面位置と、前記第1側面に対向する第2側面と、を含み、
前記第1側面と前記第2側面との隣接面に第1アーチ面と、第2アーチ面とを形成し、
前記中央アーチ表面位置の中心線が最も高いアーチ位置となり、
前記第1側面と前記第2側面とに向かって、高さを次第に下げていき、
前記第1側面と前記第2側面がもっとも低い位置となり、
前記アーチ状可とう性基板と前記アーチ表面を仕上げることができる治具とを前記搬送装置に取り付けた上、前記搬送装置によって、水平に前記液体スプレー装置の作業区域に搬送させ、
前記液体スプレー装置の薬液を前記アーチ状可とう性基板にスプレーし、自重により、前記アーチ状可とう性基板の前記中央アーチ表面位置から前記第1側面と前記第2側面とに流す、を含む
ことを特徴とするウェットプロセス設備に適用する可とう性基板水平ウェットプロセスの方法。 - 請求項1に記載の可とう性基板水平ウェットプロセスの方法において、
前記液体スプレー装置に複数のスプレーノズルを配列していて、前記複数のスプレーノズルの配列方向と、前記搬送装置の搬送方向が垂直状を形成し、
前記アーチ状可とう性基板の前記第1側面と前記第2側面とが前記搬送装置の搬送方向と平行になるように前記アーチ状可とう性基板を前記搬送装置に設置し、
前記搬送装置によって、水平に保たれた前記アーチ状可とう性基板を前記搬送方向に沿って搬送する
ことを特徴とする可とう性基板水平ウェットプロセスの方法。 - 請求項2に記載の可とう性基板水平ウェットプロセスの方法において、
前記液体スプレー装置に前記スプレーノズルがアーチ状に配列していて、前記各スプレーノズルが液体を前記アーチ状可とう性基板に噴射する距離が同じである
ことを特徴とする可とう性基板水平ウェットプロセスの方法。 - 請求項1に記載の可とう性基板水平ウェットプロセスの方法において、
前記液体スプレー装置に複数のスプレーノズルを配列していて、前記複数のスプレーノズルの配列方向と、前記搬送装置の搬送方向が垂直状を形成し、
前記アーチ状可とう性基板の前記第1側面と前記第2側面とが前記搬送装置の搬送方向と垂直状になるように前記アーチ状可とう性基板を前記搬送装置に設置し、
前記搬送装置によって、水平に保たれた前記アーチ状可とう性基板を前記搬送方向に沿って搬送する
ことを特徴とする可とう性基板水平ウェットプロセスの方法。 - 請求項4に記載の可とう性基板水平ウェットプロセスの方法において、
前記液体スプレー装置に前記スプレーノズルを垂直状に配列していて、前記各スプレーノズルの液体が前記アーチ状可とう性基板に噴射する距離が同じである
ことを特徴とする可とう性基板水平ウェットプロセスの方法。 - 請求項1に記載の可とう性基板水平ウェットプロセスの方法において、
前記搬送装置の上方に押しあて装置を設け、
前記アーチ状可とう性基板の前記第1側面と前記第2側面とが前記搬送装置の搬送方向と平行になるように前記アーチ状可とう性基板を前記搬送装置に設置し、
前記搬送装置によって、水平に保たれた前記アーチ状可とう性基板と前記治具とを前記搬送方向に沿って搬送し、
前記アーチ状可とう性基板が前記作業区域を通過する際、前記押しあて装置が前記複数のアーチ状可とう性基板の前記複数の前記第1側面の表面と前記複数の第2側面の表面を同時に押し当てる
ことを特徴とする可とう性基板水平ウェットプロセスの方法。 - 請求項6に記載の可とう性基板水平ウェットプロセスの方法において、
前記押しあて装置が前記搬送装置の搬送方向に向かって、複数の押しあてローラー組を間隔置きに設け、前記各押しあてローラー組に第1押しあてローラーと、第2押しあてローラーとを有し、前記アーチ状可とう性基板が前記作業区域を通過する際、前記第1押しあてローラーが前記アーチ状可とう性基板の前記第1側面の表面に押しあて、前記第2押しあてローラーが前記アーチ状可とう性基板の前記第2側面の表面に押しあてる
ことを特徴とする可とう性基板水平ウェットプロセスの方法。 - 請求項1に記載の可とう性基板水平ウェットプロセスの方法において、
前記搬送装置の上方に押しあて装置を設け、
前記アーチ状可とう性基板の前記第1側面と前記第2側面とが前記搬送装置の搬送方向とを垂直状になるように前記アーチ状可とう性基板を前記搬送装置に設置し、
前記搬送装置によって、水平に保たれた前記アーチ状可とう性基板と前記治具とを前記搬送方向に沿って搬送し、
前記アーチ状可とう性基板が前記作業区域を通過する際、前記押しあて装置が前記アーチ状可とう性基板の前記第1アーチ面と前記第2アーチ面を同時に押し当てる
ことを特徴とする可とう性基板水平ウェットプロセスの方法。 - 請求項8に記載の可とう性基板水平ウェットプロセスの方法において、
前記押しあて装置が前記搬送装置の搬送方向に向かって、複数の弾性に上下移動する押しあてローラー組を間隔置きに設け、前記各押しあてローラー組に第1押しあてローラーと、第2押しあてローラーとを有し、前記アーチ状可とう性基板が前記作業区域を通過する際、前記第1押しあてローラーが前記アーチ状可とう性基板の前記第1アーチ面に押しあて、前記第2押しあてローラーが前記アーチ状可とう性基板の前記第2アーチ面に押しあてる
ことを特徴とする可とう性基板水平ウェットプロセスの方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020117034A JP7082859B2 (ja) | 2020-07-07 | 2020-07-07 | 可とう性基板水平ウェットプロセス方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020117034A JP7082859B2 (ja) | 2020-07-07 | 2020-07-07 | 可とう性基板水平ウェットプロセス方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2022022794A JP2022022794A (ja) | 2022-02-07 |
JP7082859B2 true JP7082859B2 (ja) | 2022-06-09 |
Family
ID=80225185
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020117034A Active JP7082859B2 (ja) | 2020-07-07 | 2020-07-07 | 可とう性基板水平ウェットプロセス方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7082859B2 (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3202751U (ja) | 2015-12-09 | 2016-02-18 | 金堂 義明 | スリットノズル及び薬液塗布装置 |
WO2020153497A1 (ja) | 2019-01-24 | 2020-07-30 | Agc株式会社 | 基材保持装置、基材保持方法、および、基材保持装置を備える曲面スクリーン印刷装置 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5247776B2 (ja) * | 1973-10-19 | 1977-12-05 | ||
JPS5830621Y2 (ja) * | 1976-07-31 | 1983-07-06 | 松下電工株式会社 | 吹付塗装装置 |
JPH07911A (ja) * | 1993-04-13 | 1995-01-06 | Ube Ind Ltd | 曲面化粧板の製造方法 |
JP3623094B2 (ja) * | 1998-01-30 | 2005-02-23 | セントラル硝子株式会社 | ガラス板面の酸処理方法およびその装置 |
-
2020
- 2020-07-07 JP JP2020117034A patent/JP7082859B2/ja active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3202751U (ja) | 2015-12-09 | 2016-02-18 | 金堂 義明 | スリットノズル及び薬液塗布装置 |
WO2020153497A1 (ja) | 2019-01-24 | 2020-07-30 | Agc株式会社 | 基材保持装置、基材保持方法、および、基材保持装置を備える曲面スクリーン印刷装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2022022794A (ja) | 2022-02-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5243550B2 (ja) | シリコンウエハを処理するための方法及びデバイス | |
KR101371818B1 (ko) | 얇은 평면 기판을 연속적으로 습식 화학적 가공하기 위한장치 및 방법 | |
KR102012893B1 (ko) | 실리콘 기판을 처리하기 위한 방법 및 장치 | |
CA2632912A1 (en) | Device, system and method for the surface treatment of substrates | |
CN105359259A (zh) | 线性马兰哥尼干燥器中的单次使用的冲洗 | |
JP3955937B2 (ja) | 基板の冷却方法およびその装置 | |
KR20080085646A (ko) | 기판이송장치 | |
JP7082859B2 (ja) | 可とう性基板水平ウェットプロセス方法 | |
WO2016161945A1 (zh) | 一种抛光方法 | |
KR20130110445A (ko) | 기판의 코팅 장치 및 코팅 방법 | |
KR101671496B1 (ko) | 약액 처리 장치 | |
JP3622842B2 (ja) | 搬送式基板処理装置 | |
KR102413110B1 (ko) | 가요성 기판 수평 습식공정 방법 | |
KR101237997B1 (ko) | 코팅장치 및 코팅방법 | |
TWI463560B (zh) | 濕式蝕刻方法與基板承載裝置 | |
CN113873757B (zh) | 可挠性基板水平湿制程方法 | |
TWI717294B (zh) | 可撓性基板水平濕製程方法 | |
JP2005019991A (ja) | 基板処理装置 | |
KR20210143958A (ko) | 기판 처리장치 | |
TWM573252U (zh) | Shower curtain coating device and curtain coating system with the same | |
CN212677459U (zh) | 水平湿制程装置 | |
TWI680807B (zh) | 淋幕式塗佈裝置及具有該淋幕式塗佈裝置的淋幕式塗佈系統 | |
KR102575905B1 (ko) | 도금 장치 | |
CN210085588U (zh) | 一种用于印制板加工的喷淋酸洗装置 | |
JP7105835B2 (ja) | 水平式ウェットプロセス治具 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20201105 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220111 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220410 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220513 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220528 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7082859 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |