TWM573252U - Shower curtain coating device and curtain coating system with the same - Google Patents

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TWM573252U
TWM573252U TW107214720U TW107214720U TWM573252U TW M573252 U TWM573252 U TW M573252U TW 107214720 U TW107214720 U TW 107214720U TW 107214720 U TW107214720 U TW 107214720U TW M573252 U TWM573252 U TW M573252U
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Taiwan
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slit
curtain coating
movable side
coating apparatus
curtain
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TW107214720U
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劉大佼
羅少軒
李念謙
張炤謙
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怡定興科技股份有限公司
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Abstract

本創作所提出的淋幕式塗佈系統具有一淋幕式塗佈裝置以及一輸送帶,輸送帶通過淋幕式塗佈裝置的狹縫的正下方。淋幕式塗佈裝置具有一供料頭、二固定邊桿、及二活動邊桿。供料頭具有一供料頭本體及一前述狹縫,狹縫形成於供料頭本體內。固定邊桿位於狹縫兩旁且二固定邊桿的距離等於狹縫的寬度。活動邊桿鄰接於狹縫並可沿狹縫的寬度方向移動,藉此可提供一寬度能隨時調整變化的淋幕。具體而言,藉由活動邊桿將淋幕分割成中間部分及兩側部分,而中間部分的之寬度能隨著活動邊桿的間距對應基材的形狀變化。

Description

淋幕式塗佈裝置及具有該淋幕式塗佈裝置的淋幕式塗佈系統
本創作是關於一種淋幕式的塗佈裝置,其能將液態材料塗佈於一基材。
晶圓上塗佈光阻劑(包含正、負二型光阻劑)為晶圓製造之關鍵技術,而現有技術中有許多對基材(可為晶圓)塗佈塗料的方法,例如旋轉式塗佈、噴霧式塗佈、或狹縫式塗佈等。其中,旋轉式塗佈最常被應用在對晶圓塗佈光阻劑,但旋轉式塗佈的過程中,僅有不到一成的塗料會真正被塗佈於基材,而損失九成以上的塗料,且若塗料的黏度較高時也無法使用旋轉式塗佈裝置進行塗佈。而狹縫式塗佈中,雖能減少塗液浪費,也能使基材上的塗層能均勻塗佈,但由於狹縫式塗佈裝置複雜,而有造成產品成本過高的缺點。
另外一種塗佈方法為淋幕式塗佈,其是將塗料由塗佈裝置的一狹縫排出,因而形成淋幕。而基材由淋幕下方通過,且在基材通過淋幕時淋幕即覆蓋於基材上。然而,現有技術的淋幕式塗佈裝置中,所形成的淋幕寬度是固定的,因此僅能適用於特定寬度的基材。具體而言,為了使基材能完整地被塗料覆蓋,淋幕的寬度是大於基材的寬度,但若淋幕的寬度大於基材過多時又會造成塗料不被用於塗佈於基材而形成浪費,因此較佳的是淋幕寬度略大於基材的寬度。然而,許多基材並非矩形,而可能是圓形或是其他形狀,因此淋幕的寬度僅能略大於基材的最大寬度,而在基材其他寬度的部分仍會發生塗料的浪費。
有鑑於此,提出一種更佳的改善方案,乃為此業界亟待解決的問題。
本創作的主要目的在於,提出一種淋幕式塗佈系統及淋幕式塗佈裝置,其所形成的淋幕的寬度能隨基材的寬度即時變化調整。
為達上述目的,本創作所提出的淋幕式塗佈系統具有一淋幕式塗佈裝置以及一輸送帶,其通過淋幕式塗佈裝置的狹縫的正下方。
本創作所提出的淋幕式塗佈裝置具有: 一供料頭,其具有: 一供料頭本體; 一前述之狹縫,其自該供料頭本體的一側面向該供料頭本體內延伸;及 一入料口,其自該供料頭本體的另一側面向該供料頭本體內延伸,並連通於該狹縫; 二固定邊桿,其固定於該供料頭本體形成有該狹縫的該側面,且位於該狹縫兩旁;該二固定邊桿的距離等於該狹縫的寬度;以及 二活動邊桿,其鄰接於該狹縫並可沿該狹縫的寬度方向移動。
如前所述之淋幕式塗佈裝置中,各該活動邊桿的頂部於該狹縫的寬度方向上為中央高且兩端低。
如前所述之淋幕式塗佈裝置中,各該活動邊桿的頂面包含: 一連接部,其為一平面;以及 二分流部,其分別鄰接於該連接部的相對兩側邊,且該二分流部分別自該連接部向下且向外延伸。
如前所述之淋幕式塗佈裝置中,各該活動邊桿的頂面包含二分流部,其上緣相鄰接,且該二連接部分別自相鄰接處向下且向外延伸。
如前所述之淋幕式塗佈裝置中,各該活動邊桿的頂部於垂直該狹縫的寬度方向上為中央低且兩端高。
如前所述之淋幕式塗佈裝置中,各該活動邊桿的頂面包含: 至少一分流部;以及 多個邊緣部;其中二該邊緣部分別鄰接於該至少一分流部的相對兩側邊,且該其中二邊緣部分別自該至少一分流部向上且向外延伸。
如前所述之淋幕式塗佈裝置中,各該活動邊桿於朝向另一該活動邊桿的一側面形成有一凸出邊,該凸出邊呈鉛直,且該凸出邊的延伸線與該狹縫寬度方向的延伸線相交。
如前所述之淋幕式塗佈裝置更具有二回收槽,其分別固設於該二活動邊桿,並分別隨該二活動邊桿移動;各該回收槽自所固設的該活動邊桿向遠離另一該活動邊桿的方向延伸,且各該回收槽於該狹縫的寬度方向上的長度不小於該狹縫的寬度的一半。
如前所述之淋幕式塗佈裝置中,各該回收槽於該狹縫的寬度方向上的長度不小於該狹縫的寬度。
本創作還提出一種淋幕式塗佈系統,其具有一如前所述的淋幕式塗佈裝置以及一承載台,其位於該狹縫的正下方。該淋幕式塗佈裝置可相對於該承載台移動。
基於上述技術手段,本創作的優點在於,淋幕式塗佈系統及淋幕式塗佈裝置可提供一寬度能隨時調整變化的淋幕。具體而言,藉由活動邊桿將淋幕分割成中間部分及兩側部分,而中間部分的淋幕為實際塗敷於基材的上淋幕,且中間部分的淋幕之寬度能隨著活動邊桿的間距對應基材的形狀變化。因此,本創作的淋幕式塗佈系統及淋幕式塗佈裝置能徹底減少塗料的浪費。
此外,本創作的淋幕式塗佈系統及淋幕式塗佈裝置還可透過設置回收槽並利用抽真空的方式回收多餘的塗料,不僅能徹底減少塗料的浪費,更能大幅提高塗料的使用率;且本創作的淋幕式塗佈系統及淋幕式塗佈裝置還可以適用於不同黏度塗液之塗佈,並能保持塗層之均勻性,並具有操作容易的優點。
首先請參考圖1至2。本創作提出一種淋幕式塗佈系統,其第一實施例中可具有一淋幕式塗佈裝置1及一輸送帶2,且輸送帶2通過淋幕式塗佈裝置1的下方,因此輸送帶2能用於承載並輸送基材A通過淋幕式塗佈裝置1的下方。
接著請一併參考圖3及圖4。淋幕式塗佈裝置1具有一供料頭10、二固定邊桿20、及二活動邊桿30,並選擇性具有二回收槽40及多個導引桿50。供料頭10具有一供料頭本體100、一狹縫11、及一入料口12。狹縫11自供料頭本體100的一側面向供料頭本體100內延伸,換言之,狹縫11於供料頭本體100的該側面形成有狹長形的開口。輸送帶2通過狹縫11的正下方(即開口的正下方),藉此當塗料由狹縫11的開口流出而形成淋幕B時,塗料能流至輸送帶2上的基材A。入料口12自供料頭本體100的另一側面向供料頭本體100內延伸,並連通於狹縫11,藉此塗料能由入料口12流入狹縫11。
本實施例中,供料頭10更可形成有一主流道13及一副流道14,但在其他實施例中也可形成有多個副流道14或不具有副流道14。具體而言,主流道13及副流道14皆位於供料頭本體100內部,且皆呈水平延伸。本實施例中狹縫11的寬度、主流道13及副流道14的長度皆相等,但主流道13的長度或截面面積大於副流道14的長度或截面面積。主流道13位於狹縫11及入料口12之間,並連通狹縫11及入料口12。副流道14位於主流道13及狹縫11的開口之間。
於其他實施例中,狹縫11不同部分可具有不同的寬度,且主流道13與副流道14的長度不同。具體而言,狹縫11可分為第一段及第二段,且主流道13與副流道14分別連接於狹縫11的第一段的相對兩側邊,而副流道14與狹縫11的開口分別連接於狹縫11的第二段的相對兩側邊。狹縫11的第一段水平方向上的寬度小於狹縫11的第二段水平方向上的寬度,狹縫11的第一段水平方向上的寬度與主流道13的長度相等,而狹縫11的第二段水平方向上的寬度與副流道14的長度相等,且開口寬度等於狹縫11的第二段的寬度。
於其他實施例中,狹縫11水平方向上的寬度可由上自下漸增。
固定邊桿20固定於供料頭本體100上,具體而言是固定於供料頭本體100形成有狹縫11的側面上。固定邊桿20分別位於狹縫11兩旁,且二固定邊桿20的距離等於狹縫11的開口的寬度。換言之,固定邊桿20位於狹縫11寬度方向的延伸線上。各固定邊桿20於朝向另一固定邊桿20的一側面形成有一凸出邊,凸出邊呈鉛直,且凸出邊的延伸線與狹縫11寬度方向的延伸線相交。狹縫11的左右側邊與凸出邊呈一直線,藉此淋幕B的左右側邊是沿著固定邊桿20的凸出邊流動。
接著請參考圖1、圖3、及圖5。二活動邊桿30鄰接於狹縫11並可沿狹縫11的寬度方向移動,且具體而言是鄰接於狹縫11的開口。於淋幕B所形成的假想平面上,各活動邊桿30的截面可為上窄下寬的楔形或錐形,藉此能分割淋幕B且減少淋幕B於活動邊桿30上端的積流。該截面也可為一左右兩側邊皆為鉛直而上邊為朝向另一活動邊桿30傾斜的斜邊的多邊形,但不以此為限,只要能達到即可。
接著請一併參考圖6及圖7。於本實施例中,於水平方向上,各活動邊桿30的頂部於平行狹縫11的寬度方向為中央高且兩端低,且垂直狹縫11的寬度方向上為中央低且兩端高。本實施例中,各活動邊桿30的頂面包含一連接部31、二分流部32、及四邊緣部33。
連接部31可包含相連的三個平面,並可被定義為一第一平面311及二第二平面312。第一平面311為水平面並連接二分流部32,而二第二平面312連接於第一平面311的相對兩側邊並朝向彼此傾斜。換言之,第二平面312自第一平面311向外且向上延伸。二第二平面312皆連接二個邊緣部33。二分流部32分別鄰接於連接部31的相對兩側邊,且是鄰接於第一平面311的另外相對兩側邊,且二分流部32分別自連接部31向下且向外延伸。分流部32可為平面或曲面。其中二邊緣部33分別鄰接於其中一分流部32的相對兩側邊,且該二邊緣部33分別自該分流部32向上且向外延伸。各邊緣部33可為平面或曲面。
因此,平行狹縫11的寬度方向上,活動邊桿30通過邊緣部33的截面也是中央高且兩端低,且垂直狹縫11的寬度方向上,通過連接部31及分流部32的截面都是中央低且兩端高。
本實施例中,活動邊桿30於平行狹縫11的寬度方向上呈左右對稱,然而,於其他實施例中可僅具有前述形狀的一半而不呈對稱狀。於其他實施例中,活動邊桿30可不具有連接部31,而二分流部32的上緣相互連接。二連接部31分別自相鄰接處向下且向外延伸。於其他實施例中,活動邊桿30可不具有邊緣部33。
本實施例中,各活動邊桿30於朝向另一活動邊桿30的一側面形成有一凸出邊300,活動邊桿30的凸出邊300呈鉛直,且凸出邊300的延伸線與狹縫11寬度方向的延伸線相交。藉此,當淋幕B自狹縫11的開口流出時,淋幕B會沿著活動邊桿30的凸出邊300流動,保持淋幕B的穩定。此外,各活動邊桿30於遠離另一活動邊桿30的另一側面也可形成有一凸出邊300。
接著請再次參考圖1及圖2。二回收槽40分別固設於二活動邊桿30,並分別隨二活動邊桿30移動;各回收槽40自所固設的活動邊桿30向遠離另一活動邊桿30的方向延伸,且各回收槽40於狹縫11的寬度方向上的長度不小於狹縫11的寬度的一半,且本實施例中可不小於狹縫11的寬度。
本實施例中,活動邊桿30可移動地設置於導引桿50上,因此動力機構(圖未繪示)推動回收槽40時,回收槽40可帶動活動邊桿30於導引桿50上移動。
接著請參考圖1至圖3、圖8、及圖9。透過上述結構,當塗料由入料口12流入供料頭10後,會於主流道13上橫向流動而使塗料流動的寬度增加。接著,主流道13內的塗料再沿狹縫11流至副流道14,且於副流道14內再次橫向流動而使流動路徑上的塗料更均勻或能有更大的寬度。最後,塗料便由狹縫11的開口流出而形成淋幕B。藉由二活動邊桿30,淋幕B會被分割成三部分,中間部分的淋幕B為實際塗佈於基材A的淋幕B,且活動邊桿30移動後即能改變淋幕B的寬度,因此淋幕B的寬度能隨著基材A的寬度隨時調整。而兩側部分的淋幕B則會流入回收槽40而能再次利用。
於淋幕式塗佈系統之第一實施例,基材A放置於輸送帶2上而被輸送帶2帶動通過淋幕B,因此基材A能被塗佈塗料。
接著請參考圖10。本創作所提出淋幕式塗佈系統之第二實施例中,其技術特徵與第一實施例相似,差異僅在於第二實施例中不具有輸送帶,而是具有一承載台3及一移動機構(圖未繪示)。移動機構連接於淋幕式塗佈裝置1,藉此使淋幕式塗佈裝置1可相對於承載台3移動。換言之,於使用時,在基材放置於承載台3後,承載台3不移動,而是由淋幕式塗佈裝置1被移動機構所帶動而相對承載台3移動,並使塗料淋於承載台3上的基材,且淋幕B的寬度會隨著淋幕式塗佈裝置1的移動以及基材的形狀而變化。
綜上所述,透過本創作的淋幕式塗佈系統及淋幕式塗佈裝置1,可提供一寬度能隨時調整變化的淋幕B。具體而言,藉由活動邊桿30將淋幕B分割成中間部分及兩側部分,而中間部分的淋幕B為實際塗敷於基材A的上淋幕B,且中間部分的淋幕B之寬度能隨著活動邊桿30的間距對應基材A的形狀變化,而兩側部分的淋幕B能被回收再次利用。因此,本創作的淋幕式塗佈系統及淋幕式塗佈裝置1能徹底減少塗料的浪費。
舉例而言,本創作可應用於對晶圓塗佈光阻材料,即,基材A為晶圓而淋幕B為光阻材料。由於光阻材料的黏度外高,因此光阻材料是透過一高壓泵打入供料頭10的入料口12。而供料頭10內部為密閉,因此除了能維持光阻材料的壓力外,還能防止光阻材料內揮發性的成份揮發。藉此,光阻材料經高壓打入供料頭10後,能填滿主流道13或副流道14而平均分散在狹縫11內,保持塗佈於晶圓上的塗料厚度的穩定,並確保其均勻性。
1‧‧‧淋幕式塗佈裝置
10‧‧‧供料頭
100‧‧‧料頭本體
11‧‧‧狹縫
12‧‧‧入料口
13‧‧‧主流道
14‧‧‧副流道
20‧‧‧固定邊桿
30‧‧‧活動邊桿
300‧‧‧凸出邊
31‧‧‧連接部
311‧‧‧第一平面
312‧‧‧第二平面
32‧‧‧分流部
33‧‧‧邊緣部
40‧‧‧回收槽
3‧‧‧承載台
50‧‧‧導引桿
2‧‧‧輸送帶
A‧‧‧基材
B‧‧‧淋幕
圖1為本創作第一實施例的立體示意圖。 圖2為本創作第一實施例另一角度的立體示意圖。 圖3為本創作第一實施例的剖面示意圖。 圖4為本創作第一實施例另一角度的剖面示意圖。 圖5為本創作第一實施例的活動邊桿的立體示意圖。 圖6為本創作第一實施例的活動邊桿的剖面示意圖。 圖7為本創作第一實施例的活動邊桿的另一角度的剖面示意圖。 圖8及圖9為本創作第一實施例的連續動作圖。 圖10為本創作第二實施例的立體示意圖。

Claims (11)

  1. 一種淋幕式塗佈裝置,其具有: 一供料頭,其具有: 一供料頭本體; 一狹縫,其自該供料頭本體的一側面向該供料頭本體內延伸;及 一入料口,其自該供料頭本體的另一側面向該供料頭本體內延伸,並連通於該狹縫; 二固定邊桿,其固定於該供料頭本體形成有該狹縫的該側面,且位於該狹縫兩旁;該二固定邊桿的距離等於該狹縫的寬度;以及 二活動邊桿,其鄰接於該狹縫並可沿該狹縫的寬度方向移動。
  2. 如請求項1所述之淋幕式塗佈裝置,其中,各該活動邊桿的頂部於該狹縫的寬度方向上為中央高且兩端低。
  3. 如請求項2所述之淋幕式塗佈裝置,其中,各該活動邊桿的頂面包含: 一連接部,其為一平面;以及 二分流部,其分別鄰接於該連接部的相對兩側邊,且該二分流部分別自該連接部向下且向外延伸。
  4. 如請求項2所述之淋幕式塗佈裝置,其中,各該活動邊桿的頂面包含二分流部,其上緣相鄰接,且該二連接部分別自相鄰接處向下且向外延伸。
  5. 如請求項1所述之淋幕式塗佈裝置,其中,各該活動邊桿的頂部於垂直該狹縫的寬度方向上為中央低且兩端高。
  6. 如請求項5所述之淋幕式塗佈裝置,其中,各該活動邊桿的頂面包含: 至少一分流部;以及 多個邊緣部;其中二該邊緣部分別鄰接於該至少一分流部的相對兩側邊,且該二邊緣部分別自該至少一分流部向上且向外延伸。
  7. 如請求項1所述之淋幕式塗佈裝置,其中,各該活動邊桿於朝向另一該活動邊桿的一側面形成有一凸出邊,該凸出邊呈鉛直,且該凸出邊的延伸線與該狹縫寬度方向的延伸線相交。
  8. 如請求項1至7中任一項所述之淋幕式塗佈裝置,其更具有二回收槽,其分別固設於該二活動邊桿,並分別隨該二活動邊桿移動;各該回收槽自所固設的該活動邊桿向遠離另一該活動邊桿的方向延伸,且各該回收槽於該狹縫的寬度方向上的長度不小於該狹縫的寬度的一半。
  9. 如請求項8所述之淋幕式塗佈裝置,其中,各該回收槽於該狹縫的寬度方向上的長度不小於該狹縫的寬度。
  10. 一種淋幕式塗佈系統,其具有: 一如請求項1至9中任一項所述的淋幕式塗佈裝置;以及 一輸送帶,其通過該狹縫的正下方。
  11. 一種淋幕式塗佈系統,其具有: 一如請求項1至9中任一項所述的淋幕式塗佈裝置;以及 一承載台,其位於該狹縫的正下方; 其中,該淋幕式塗佈裝置可相對於該承載台移動。
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