JP7079463B2 - 透明な積層体及び透明ゲルアクチュエータ素子並びにその製造法 - Google Patents
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Description
項1. 透明なイオン伝導性薄膜層と酸化・還元機能を持つポリマーを含む透明な導電性薄膜層を有する透明な積層体であって、前記イオン伝導性薄膜が有機ケイ素系ポリマーおよびイオン液体から構成される、積層体。
項2. 有機ケイ素系ポリマーがポリジメチルシロキサン(PDMS)である、項1に記載の透明な積層体。
項3. 導電性薄膜層が酸化・還元機能を持つ導電性ポリマーおよび必要に応じてさらにイオン液体から構成される、項1又は2に記載の積層体。
項4. 導電性薄膜がPEDOT:PSSを含む、項3に記載の積層体。
項5. 項1~4のいずれか1項に記載の積層体を含むアクチュエータ素子。
項6. 透明なイオン伝導性薄膜層の表面に、導電性薄膜層が互いに絶縁状態で少なくとも2個形成され、当該導電性薄膜層に電位差を与えることにより変形可能に構成されている項5に記載のアクチュエータ素子
項7. 以下の工程を含むことを特徴とするアクチュエータ素子の製造法:
工程1:有機ケイ素系ポリマーおよび溶媒、必要に応じてさらにイオン液体を含む溶液を調製する工程;
工程2:導電性ポリマーおよび溶媒、必要に応じてさらにイオン液体を含む溶液を調製する工程;
工程3:工程1の溶液を用いキャスト後加熱により、イオン伝導性薄膜を形成する工程
工程4:工程2の溶液を用いキャスト後加熱により、導電性薄膜を形成する工程;
工程5:工程4で形成した導電性薄膜と工程3で形成したイオン伝導層を、圧着により積層し、積層体を形成する工程。
項8. 以下の工程を含むことを特徴とするアクチュエータ素子の製造法:
工程1:有機ケイ素系ポリマーおよび溶媒、必要に応じてさらにイオン液体を含む溶液を調製する工程;
工程2:導電性ポリマーおよび溶媒、必要に応じてさらにイオン液体を含む溶液を調製する工程;
工程3:工程1の溶液を用いキャスト後加熱により、イオン伝導性薄膜を形成する工程
工程4:工程2の溶液を用いスプレー法により、導電性薄膜を形成する工程;
工程5:工程3で形成したイオン伝導層に、工程4で形成したスプレー法により導電性薄膜を積層し、積層体を形成する工程。
ポリシロキサン系化合物は、有機基を有する化合物であり、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシランなどの有機基を有しない原料を使用する場合には、1個又は2個の有機基を有するアルコキシシランを少なくとも1種使用して得ることができる。具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトキエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ-アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ-アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン等の加水分解性シリル基を有するシラン化合物の部分加水分解物や、有機溶媒中に無水ケイ酸の微粒子を安定に分散させたオルガノシリカゾル、または該オルガノシリカゾルにラジカル重合性を有する上記シラン化合物を付加させたもの等を使用することができる。
ポリジオルガノシロキサン系化合物としては、ポリジメチルシロキサン、アルキル変性ポリジメチルシロキサン、カルボキシル変性ポリジメチルシロキサン、アミノ変性ポリジメチルシロキサン、エポキシ変性ポリジメチルシロキサン、フッ素変性ポリジメチルシロキサン、(メタ)アクリレート変性ポリジメチルシロキサンなどのポリジメチルシロキサン系化合物、ポリジエチルシロキサン、アルキル変性ポリジエチルシロキサン、カルボキシル変性ポリジエチルシロキサン、アミノ変性ポリジエチルシロキサン、エポキシ変性ポリジエチルシロキサン、フッ素変性ポリジエチルシロキサン、(メタ)アクリレート変性ポリジエチルシロキサンなどのポリジエチルシロキサン系化合物、ポリジフェニルシロキサン、アルキル変性ポリジフェニルシロキサン、カルボキシル変性ポリジフェニルシロキサン、アミノ変性ポリジフェニルシロキサン、エポキシ変性ポリジフェニルシロキサン、フッ素変性ポリジフェニルシロキサン、(メタ)アクリレート変性ポリジフェニルシロキサンなどのポリジフェニルシロキサン系化合物などが挙げられる。
オルガノシロキサン系共重合体は、ブロック共重合体、グラフト共重合体、ランダム共重合体のいずれであってもよいが、ブロック共重合体、グラフト共重合体が好ましい。
有機ケイ素系ポリマー:
1~98重量%、好ましくは12.5~75重量%、より好ましくは25~50重量%;
イオン液体:
1~98重量%、好ましくは25~87.5重量%、より好ましくは50~75重量%;
である。
<実験法の共通の説明>
1.使用した薬品、材料
エチルメチルイミダゾリウム トリフレート(EMICF3SO3、関東化学社製)、
エチルメチルイミダゾリウム フルオロメタンスルホニルイミド(EMIFSI、第一工業化学社製)
使用した酸化還元機能示すPEDOT:PSSは下記に示す構造である。(aldrich社製)
本発明の実施例で用いたアクチュエータ素子の構造と使用したイオン液体(IL)、有機ケイ素系ポリマー(Polymer; PDMS)の構造を図1に示す。
ジメチルアセトアミド(DMAc、キシダ化学社製)
ニトロメタン
2.PEDOT:PSS導電薄膜の一般的作製方法
市販のPEDOT:PSS ニトロメタン分散液(商品名AedotronTM C3-NM、Aldrich社製)をスプレー法でイオン伝導性薄膜に吹き付け、透明アクチュエータフィルムを得る。導電薄膜の厚みは約1μm程度である。乾燥は、50℃、1時間行った。
特許文献1に記載のレーザー変位計を用い、素子を2mmx10mmの短冊状に切り取り、電圧を加えた時の4mmの位置の変位を測定した。
また伸縮率(ε)は、以下の式(1)に従い計算した。
d:素子の厚さ
δ:変位
3.キャパシタンス測定
作成した電極フィルムを直径7mmに切り取り、ステンレス製の電極で挟み込んで、
装置名:ポテンショスタットHSV-100
装置の製造会社名:北斗電工社製
を用いたサイクリックボルタンメトリ法により、±0.5V、0.001V/sの条件で測定を行った。測定値は電極フィルム中のカーボンナノチューブのグラム当りの容量値として(Fg-1)表した。
4.ゲル電解質フィルム厚測定
作成した電極フィルム、ゲル電解質フィルム、およびそれらの積層体からなるアクチュエータ素子フィルムの厚みは、マイクロメーター(Mitsutoya株式会社製)を用いて測定した。
実施例1
イオン伝導膜の作製
以下の薬品を用いた。
EMICF3SO3(関東化学社製)
PDMS(ポリジメチルシロキサン、aldrich社製)
DMAc(ジメチルアセトアミド、キシダ化学社製)
IL(EMICF3SO3)100mg、PDMS 200mg、DMAc 3mlを、室温で1時間以上撹拌し、作製したキャスト液3mlを25mmx25mmのキャスト枠中にキャストし、溶媒を蒸発させて、ゲル電解質フィルムを得る。厚みは約300μm程度である。
また上記の2.PEDOT:PSS導電薄膜の一般的作製方法による方法により透明アクチュエータフィルムを作成した。電極膜、電解質膜及びアクチュエータ素子の特性の結果を表1に示す。また電極間に周波数の異なる±2.0Vの矩形波電圧を加えた時に観測された変位を表2に示す。曲げ(伸縮率)の大きい透明高性能のアクチュエータ素子であることがわかる。
電解質膜の作製
実施例1のうち、ゲル電解質膜(IL; EMIFSI)に変更して行った。
Claims (10)
- 透明なイオン伝導性薄膜層と酸化・還元機能を持つポリマーを含む透明な導電性薄膜層を有する透明な積層体であって、
前記イオン伝導性薄膜が有機ケイ素系ポリマーおよびイオン液体から構成され、
前記有機ケイ素系ポリマーが、ポリジメチルシロキサン(PDMS)と、
アクリル酸、メタクリル酸、炭素数1~4のアルキル基を有するアクリレート、炭素数1~4のアルキル基を有するメタクリレートからなる群から選択される1種以上の(メタ)アクリレート
からなるグラフト共重合体を含み、
0.5~6Vの直流電圧によって変位を得ることができる、積層体。 - 導電性薄膜層がイオン液体をさらに含む、請求項1に記載の積層体。
- 前記イオン液体が、1-エチル-3-メチルイミダゾリウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、及び1-エチル-3-メチルイミダゾリウムトリフルオロメタンスルホン酸からなる群から選択される少なくとも一つを含む、請求項1又は2に記載の積層体。
- 導電性薄膜がPEDOT:PSSを含む、請求項1~3のいずれか1項に記載の積層体。
- 請求項1~4のいずれか1項に記載の積層体を含むアクチュエータ素子。
- 透明なイオン伝導性薄膜層の表面に、導電性薄膜層が互いに絶縁状態で少なくとも2個形成され、当該導電性薄膜層に電位差を与えることにより変形可能に構成されている請求項5に記載のアクチュエータ素子。
- 0.5~6Vの直流電圧によって変位を得ることができる、請求項5又は6に記載のアクチュエータ素子。
- 可視光線透過率が80%以上である、請求項5~7のいずれか1項に記載のアクチュエータ素子。
- 以下の工程を含むことを特徴とする、請求項5~8のいずれか1項に記載のアクチュエータ素子の製造法:
工程1:ポリジメチルシロキサン(PDMS)と、
アクリル酸、メタクリル酸、炭素数1~4のアルキル基を有するアクリレート、炭素数1~4のアルキル基を有するメタクリレートからなる群から選択される1種以上の(メタ)アクリレートからなるグラフト共重合体、溶媒、及びイオン液体を含む溶液を調製する工程;
工程2:導電性ポリマーおよび溶媒を含む溶液を調製する工程;
工程3:工程1の溶液を用いキャスト後加熱により、イオン伝導性薄膜を形成する工程;
工程4:工程2の溶液を用いキャスト後加熱により、導電性薄膜を形成する工程;
工程5:工程4で形成した導電性薄膜と工程3で形成したイオン伝導層を、圧着により積層し、積層体を形成する工程。 - 以下の工程を含むことを特徴とする、請求項5~8のいずれか1項に記載のアクチュエータ素子の製造法:
工程1:ポリジメチルシロキサン(PDMS)と、
アクリル酸、メタクリル酸、炭素数1~4のアルキル基を有するアクリレート、炭素数1~4のアルキル基を有するメタクリレートからなる群から選択される1種以上の(メタ)アクリレートからなるグラフト共重合体、溶媒、及びイオン液体を含む溶液を調製する工程;
工程2:導電性ポリマーおよび溶媒を含む溶液を調製する工程;
工程3:工程1の溶液を用いキャスト後加熱により、イオン伝導性薄膜を形成する工程;
工程4:工程2の溶液を用いスプレー法により、導電性薄膜を形成する工程;
工程5:工程3で形成したイオン伝導層に、工程4で形成したスプレー法により導電性薄膜を積層し、積層体を形成する工程。
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