JP7048420B2 - スパッタリング装置 - Google Patents
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- 真空チャンバ内に設けられるターゲットをスパッタリングし、これに対峙して真空チャンバ内に配置される基板表面に薄膜を成膜するスパッタリング装置であって、
基板面内で互いに直交する方向をX軸方向及びY軸方向、これらX軸方向及びY軸方向に直交する方向をZ軸方向とし、X軸方向において基板からターゲットまでの距離が変化するようにターゲットがX軸方向に対して傾斜した姿勢で設けられると共に、基板からターゲットまでのZ軸方向の距離が増加する方向をX軸前方としてターゲット中心を通るZ軸からX軸前方にオフセットさせて基板が配置され、この基板をその中心回りに回転駆動する駆動手段を更に有するものにおいて、
基板中心がX軸前方でY軸方向に所定間隔だけ離れて位置するように基板を更に偏心させ、
Y軸に対して線対称となるように2枚の基板が配置されることを特徴とするスパッタリング装置。
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JP2018103705A JP7048420B2 (ja) | 2018-05-30 | 2018-05-30 | スパッタリング装置 |
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JP2016108610A (ja) | 2014-12-05 | 2016-06-20 | 信越化学工業株式会社 | スパッタリング装置、スパッタリング方法及びフォトマスクブランク |
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