JP7035722B2 - キャパシタ及びキャパシタの製造方法 - Google Patents

キャパシタ及びキャパシタの製造方法 Download PDF

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本発明は、薄膜キャパシタ及びその製造方法に関する。
従来より、電極層、誘電体層、及び、電極層をこの順に備える薄膜キャパシタが知られている。
特開2009-267376号公報
上述のような薄膜コンデンサの大量生産に当たっては、電極層、誘電体層、及び、電極層をこの順に備える大型のキャパシタシートを生産し、その後、このシートを所望の形状に切断する個片化処理を行って、多数のキャパシタを生産することが考えられる。
しかしながら、発明者らが検討したところ、キャパシタシートを個片化する際に、電極層の主面の縁にバリが生じることを見いだした。
基板への実装工程において電極層の主面にバリが残っていると、バリにより電極層の厚みが増えた部分に応力が集中し、誘電体に割れなどのダメージが与えられる可能性がある。
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、実装時の誘電体へのダメージを抑制できる、薄膜キャパシタ及びその製造方法を提供することを目的とする。
本発明に係るキャパシタは、第1電極層と、前記第1電極層の上面に設けられた誘電体層と、前記誘電体層の上面に設けられた第2電極層とを備えるキャパシタである。前記第1電極層及び前記第2電極層の少なくとも一方は、側面と、前記誘電体層とは反対側の主面と、を接続する曲面部を有する。前記誘電体層に垂直な断面において前記曲面部の曲率半径は10~100μmである。
ここで、前記第1電極層及び前記第2電極層の少なくとも一方は、Niを主成分として含むことができる。
また、前記第1電極層及び前記第2電極層の両方が、それぞれ前記曲率半径を有する前記曲面部を有することができる。
本発明に係るキャパシタの製造方法は、第1電極シートと、前記第1電極シートの上面に設けられた誘電体シートと、前記誘電体シートの上面に設けられた第2電極シートとを備えるキャパシタシートを所望の平面形状となるように厚み方向に切断して、第1電極層、誘電体層、及び、第2電極層をこの順に備えるキャパシタを得る工程であって、得られたキャパシタの前記第1電極層及び前記第2電極層の少なくとも一方の電極層は、前記誘電体層とは反対側の主面の外周部にバリを有する、工程と、
前記キャパシタを、前記少なくとも一方の電極層を溶解可能な液に接触させて、前記バリを除去し、さらに、前記少なくとも一方の電極層における前記誘電体層とは反対側の主面と、前記少なくとも一方の電極層における側面と、の間に曲面部を形成する工程と、を備え、
前記誘電体層に垂直な断面において前記曲面部の曲率半径は10~100μmである、る。
本発明によれば、実装時の誘電体へのダメージを抑制できる、薄膜キャパシタ及びその製造方法が提供される。
図1は、本発明の第1実施形態にかかる薄膜キャパシタの概略断面図である。 図2は、本発明の第2実施形態にかかる薄膜キャパシタの概略断面図である。 図3は、本発明の第3実施形態にかかる薄膜キャパシタの概略断面図である。 図4の(a)~(c)は、本発明の実施形態にかかる薄膜キャパシタの製造方法を順に示す概略断面図である。
[第一実施形態]
(薄膜キャパシタ)
第一実施形態の薄膜キャパシタ100は、図1に示すように、第1電極層10、第2電極層30及び、第1電極層10及び第2電極層30の間に設けられた誘電体層20と、を備える。
第1電極層10の厚みは0.01~100μmとすることができる。第2電極層30の厚みは0.01~100μmとすることができる。
第1電極層10及び第2電極層30は、金属層であることができる。本明細書において、金属とは合金を含む。金属層の主成分となる金属の例は、Ni,Cu、Pt等である。主成分とは、50at%以上の構成比率を占める金属成分である。主成分となる金属は、80質量%以上であることができ、90質量%以上であることができ、95質量%いじょうであることができる。
第1電極層10及び第2電極層30は2層以上の金属層が積層された構造であってよい。第1電極層10及び第2電極層30は、金属ではなく、例えば、IrO、RuO、SrRuO、およびLaNiOなどの導電性酸化物層であってもよい。第1電極層10及び第2電極層30の構造及び組成は互いに同一でも異なっていてもよい。
典型的には、第1電極層10がNiを主成分とする場合、第2電極層30はCuを主成分とすることができる。
第1電極層10は、側面10aと、誘電体層20とは反対側の主面10cと、を接続する曲面部10dを有する。図1に示すように、誘電体層20に垂直な断面において曲面部10dの曲率半径Rは10~100μmである。
誘電体層20の材料は、誘電体であればよいが、酸化物誘電体であることができる。なかでも、誘電率の大きいペロブスカイト型の酸化物誘電体であることが好ましく、チタン酸バリウム系の誘電体であることが特に好ましい。チタン酸バリウム系の誘電体は、Baサイトの一部をCa、Sr等のアルカリ土類金属原子で置換したものであってもよく、Tiサイトの一部をZr、Sn、Hf等の原子で置換したものであってもよい。さらに、これらの誘電体に希土類原子、Mn、V、Nb、Ta等の原子が添加されていてもよい。
誘電体層20の膜厚は100nm~1000nmとすることができる。100nmよりも薄いと、薄膜キャパシタにDCバイアスを加えた場合に過度な電界強度が印加され、絶縁抵抗が劣化し、キャパシタとしての機能を果たさなくなる場合がある。一方、1000nmを超える場合、単位面積あたりのキャパシタの容量が減少する傾向がある。
(作用)
このような薄膜キャパシタ100によれば、第1電極層10が、側面10aと主面10cとを接続する部分に、所定の曲率半径Rを有する曲面部10dを有している。したがって、第1電極層10に対して、バリなどによる厚みの不均一が生じにくい。したがって、薄膜キャパシタ100を、第1電極層10の主面10cが基板に接触するように基板に実装する際に、薄膜キャパシタ100の特に外周部に応力の集中が生じにくくなり、誘電体層20の割れなどのダメージを抑制できる。
特に、曲面部10dが、上記範囲の曲率半径を有していると、基板に搭載する際、薄膜キャパシタをピックアップしやすくなり、基板への搭載性能が大幅に向上できるという効果もある。
[第二実施形態]
(薄膜キャパシタ)
図2を参照して、第2実施形態にかかる薄膜キャパシタ150について説明する。本実施形態にかかる薄膜キャパシタ150が第一実施形態にかかる薄膜キャパシタ100と異なる点は、第2電極層30の形状である。具体的には、第2電極層30は、側面30aと、誘電体層20とは反対側の主面30cと、を接続する曲面部30dを有する。図2に示すように、誘電体層20に垂直な断面において曲面部30dの曲率半径Rは10~100μmである。
第2電極層30の曲面部30dの曲率半径Rと、第1電極層10の曲面部10dの曲率半径Rとは、互いに同一でも異なっていてもよい。
このような薄膜キャパシタにおいては、基板に搭載する際、薄膜キャパシタをピックアップしやすくなり、基板への搭載性能が大幅に向上できる。更に、薄膜キャパシタを基板の中に内蔵したとき、薄膜キャパシタ上に積層された絶縁樹脂層の平坦性を向上できるという効果もある。
[第3実施形態]
(薄膜キャパシタ)
図3を参照して、第3実施形態にかかる薄膜キャパシタ160について説明する。本実施形態にかかる薄膜キャパシタ160が第一実施形態にかかる薄膜キャパシタ100と異なる点は、第1電極層10の上に、誘電体層20及び第2電極層(内部電極)30を繰り返し積層され、第1電極層10、誘電体層20及び第2電極層30が容量部40を形成している点と、容量部40上に配線層50が形成され、配線層50上に外部電極端子60が形成されている点である。
配線層50は、容量部40の第2電極層30と個別に接続された導電層54、及び、導電層54同士、又は、導電層54と他の第2電極層30とを電気絶縁する絶縁層52を有しており、外部電極端子60は個別に導電層54と接続されている。
そして、本実施形態においても、第1電極層10は、側面10aと、容量部40とは反対側の主面10cと、を接続する曲面部10dを有する。図4に示すように、容量部40に垂直な断面において曲面部10dの曲率半径Rは10~100μmである。
(製造方法)
続いて、図4を参照して、このような薄膜キャパシタ100の製造方法について説明する。
まず、図4の(a)に示すように、第1電極シート10’、第1電極シート10’の上面に設けられた誘電体シート20’、及び、誘電体シート20’の上面に設けられた第2電極シート30’を備えるキャパシタシート100’を用意する。例えば、金属箔等の第1電極シート10’の表面に、SolGel法、MOD法(MetalOrganic Decomposition)などの溶液法;MOCVD法、CVD法、スパッタリング、PLD法(Pulse Laser Deposition)などの気相法;あるいは蒸着法等により、誘電体シート20’を形成することができる。さらに、誘電体シート20’の上に、スパッタリング、蒸着、メッキなどの方法により、第2電極シート30’を形成することができる。
つぎに、公知の個片化方法を用いて、図4の(b)に示すように、キャパシタシート100’を厚み方向に切断して、薄膜キャパシタ100を得る。個片化方法としては、レーザ、刃、回転砥石ブレード等が挙げられる。切断により得られるキャパシタの平面形状に限定はなく、例えば、矩形、正方形、円形等が挙げられる。
個片化に伴い、図4の(b)に示すように、第1電極層10の誘電体層20とは反対側の主面10cの外周部にバリBrが生じる場合がある。バリBrは、キャパシタの積層方向に伸びやすい。特に、電極層がNiである場合にバリBrが生じやすい。バリは、両方の電極層に生ずる場合もある。
続いて、図4の(c)に示すように、容器V内に第1電極層10を溶解可能な液Lを用意し、液L中に薄膜キャパシタ100を接触させる。特に、バリBrのある第1電極層10が容器の底部と接触せずに上向きとなるように、容器V内にキャパシタを沈めることが好ましい。
例えば、バリBrを有する電極がNiを主成分とする場合には、液Lとして硝酸水溶液を使用することができる。
液Lとキャパシタとの接触により、バリBrがエッチングにより除去され、さらに、第1電極層10の主面10cと側面10aとの角が面取りされて、図1に示す曲面部10dが形成される。曲面部10dの曲率半径Rは、接触時間、接触時の液の温度、液の組成や濃度等により調節できる。
第2電極層30が液Lに溶解可能な場合には、第2電極層30の角も面取りされて、図2に示す第2実施形態の薄膜キャパシタ150のような曲面部30dも形成される。
本実施形態によれば、上述のような薄膜キャパシタ100、150、160等を好適に製造することができる。
10…第1電極層、10a…側面、10c…主面、10d…曲面部、10’…第1電極シート、20…誘電体層、20’…誘電体シート、30…第2電極層、30’…第2電極シート、100,150,160…薄膜キャパシタ、100’…キャパシタシート、Br…バリ。

Claims (4)

  1. 第1電極層と、前記第1電極層の上面に設けられた誘電体層と、前記誘電体層の上面に設けられた第2電極層とを備えるキャパシタであって、
    前記第1電極層及び前記第2電極層の少なくとも一方の電極層は、側面と、前記誘電体層とは反対側の主面と、を接続する曲面部を有し、
    前記誘電体層に垂直な断面において前記曲面部の曲率半径は10~100μmであり、
    前記誘電体層に垂直な断面において、前記誘電体層の側面と、前記誘電体層の主面のうちの前記少なくとも一方の電極層と接する主面と、の接続部は角張っていて面取りされていない、キャパシタ。
  2. 前記第1電極層及び前記第2電極層の少なくとも一方は、Niを主成分として含む請求項1記載のキャパシタ。
  3. 前記第1電極層及び前記第2電極層の両方が、それぞれ前記曲率半径を有する前記曲面部を有する、請求項1又は2に記載のキャパシタ。
  4. 第1電極シートと、前記第1電極シートの上面に設けられた誘電体シートと、前記誘電体シートの上面に設けられた第2電極シートとを備えるキャパシタシートを所望の平面形状となるように厚み方向に切断して、第1電極層、誘電体層、及び、第2電極層をこの順に備えるキャパシタを得る工程であって、得られたキャパシタの前記第1電極層及び前記第2電極層の少なくとも一方の電極層は、前記誘電体層とは反対側の主面の外周部にバリを有する、工程と、
    前記キャパシタを、前記少なくとも一方の電極層を溶解可能な液に接触させて、前記バリを除去し、さらに、前記少なくとも一方の電極層における前記誘電体層とは反対側の主面と、前記少なくとも一方の電極層における側面と、の間に曲面部を形成する工程と、を備え、
    前記誘電体層に垂直な断面において前記曲面部の曲率半径は10~100μmである、キャパシタの製造方法。
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008034417A (ja) 2006-07-26 2008-02-14 Tdk Corp キャパシタの製造方法
JP2015523705A (ja) 2012-06-04 2015-08-13 Tdk株式会社 誘電体デバイス
JP2017028096A (ja) 2015-07-22 2017-02-02 Tdk株式会社 薄膜キャパシタ及び半導体装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1022160A (ja) * 1996-07-04 1998-01-23 Murata Mfg Co Ltd ワイヤボンディング用セラミック電子部品

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008034417A (ja) 2006-07-26 2008-02-14 Tdk Corp キャパシタの製造方法
JP2015523705A (ja) 2012-06-04 2015-08-13 Tdk株式会社 誘電体デバイス
JP2017028096A (ja) 2015-07-22 2017-02-02 Tdk株式会社 薄膜キャパシタ及び半導体装置

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