JP7026444B2 - 圧電振動片の製造方法 - Google Patents
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圧電振動子は年々小型化され、発振および周波数の安定化を図った、さらに小型のものが求められている。小型の圧電振動子に用いられる圧電振動片として、振動腕部と平行に延びた支持腕部を有し、振動腕部の先端部に錘部(ハンマーヘッド)が形成されたものが知られている(例えば、特許文献1参照)。
この圧電振動片の振動腕部は、例えば、ウエットエッチングで加工されている。
振動腕部の主面に溝部が形成されている場合、溝部をウエットエッチングで加工すると、水晶の異方性エッチング特有のV字溝形状に溝部が形成される。このため、溝部の電極と、振動腕部の側面の電極との間に発生する電界は、V字溝の形状に従い、それぞれが微妙に異なっていた。よって、安定した振動を得ることが非常に難しい。特に、溝部のアスペクト比が高くなるとV字溝形状が顕著になる。
この対策として、溝部をドライエッチングで加工する方法が挙げられるが、ドライエッチングでは溝部の溝深さ寸法の管理が困難になる。
平行部を主面から傾斜部まで振動腕部の側面に沿って平行に延ばすことにより、平行部から傾斜面までの肉厚は均等な厚さ寸法に形成されている。よって、側面に設けられた励振電極と、溝部に設けられた励振電極との間にかかる電界が一定になり、振動腕部は安定した振動が得られる。これにより、圧電振動片の発振および周波数を安定させることができる。
また、傾斜部を溝底部の側辺から側壁部まで傾斜状に延ばした。よって、平行部を溝底部に直接連結する場合と比べて、平行部の端部に応力が集中することを抑えることができる。これにより、振動腕部(すなわち、圧電振動片)の耐衝撃性を高めることができる。
この構成によれば、振動腕部の幅寸法を60μm以下とすることにより、小型の圧電振動片を得ることができる。
この構成によれば、振動腕部の主面に溝部を2本に形成することにより、Q値の低下を抑制しながら、CI値の低い圧電振動片を提供できる。
よって、第一傾斜部側の側壁部に設けられた励振電極と、振動腕部の一方側の側面に設けられた励振電極との間にかかる電界が一定になる。また、第二傾斜部側の側壁部に設けられた励振電極と、振動腕部の他方側の側面に設けられた励振電極との間にかかる電界が一定になる。これにより、振動腕部は安定した振動が得られ、圧電振動片の発振および周波数を安定させることができる。
溝部のアスペクト比が高い場合、ウエットエッチングでは、溝部の側壁部を振動腕部の側面に沿って平行に形成することが難しくなる。
さらに、第二溝加工工程において、途中の深さまで加工した溝部をウエットエッチングにより加工して溝部を形成するようにした。よって、溝部の溝深さ寸法の管理がドライエッチングに比べて容易になる。
また、溝部の側壁部(以下、平行部という)を振動腕部の側面に沿って平行に形成することができる。よって、振動腕部の側面に設けられた励振電極と、溝部に設けられた励振電極との間にかかる電界が一定になり、振動腕部は安定した振動が得られる。これにより、圧電振動片の発振および周波数を安定させることができる。
溝部に溝底部を形成することにより平行部を形成できる。これにより、振動腕部に高アスペクト比の溝部が形成されている場合でも、振動腕部は安定した振動が得られる。
また、溝部に傾斜部を形成することにより、平行部の端部に応力が集中することを抑えることができる。これにより、振動腕部(すなわち、圧電振動片)の耐衝撃性を高めることができる。
また、この発明の圧電振動片の製造方法の一態様によれば、ドライエッチングの後にウエットエッチングで溝部を形成するようにした。これにより、溝部の溝深さ寸法を容易に管理でき、さらに、圧電振動片の発振および周波数を安定させることができる。
[圧電振動子]
図1は本発明に係る圧電振動子1を分解した状態を示す斜視図である。
図1に示すように、圧電振動子1は、いわゆるセラミックパッケージタイプの表面実装型振動子である。圧電振動子1は、内部に気密封止されたキャビティCを有するパッケージ2と、キャビティC内に収容された圧電振動片3と、を備えている。
なお、圧電振動子1は、外形が概略直方体状に形成されている。以下、圧電振動子1の長手方向を長手方向Lといい、短手方向を幅方向Wという。さらに、長手方向Lおよび幅方向Wに対して直交する方向を厚み方向Tという。
パッケージ2は、圧電振動片3を収容する凹部17を有する。パッケージ2は、パッケージ本体5と、パッケージ本体5に対して接合されるとともに、パッケージ本体5との間にキャビティCを形成する封口板(リッド)6と、を備えている。
パッケージ本体5は、互いに重ね合わされた状態で接合された第1ベース基板10、第2ベース基板11および第3ベース基板12と、第3ベース基板12上に接合されたシールリング13と、を備えている。
HTCCは、High Temperature Co-Fired Ceramicの略記である。また、LTCCは、Low Temperature Co-Fired Ceramicの略記である。
第2ベース基板11には、貫通部11aが形成されている。貫通部11aの内側面は、キャビティCの側壁の一部を構成している。貫通部11aの幅方向W両側の内側面には、内方に突出するマウント部14A,14Bが設けられている。マウント部14A,14Bは、貫通部11aの長手方向Lの略中央に形成されている。
具体的には、シールリング13は、銀ロウ等のロウ材や半田材等による焼付けによって第3ベース基板12上に接合されている。あるいは、シールリング13は、第3ベース基板12上に形成(例えば、電解メッキや無電解メッキの他、蒸着やスパッタ等により)された金属接合層に対する溶着等によって接合されている。
図2は本発明に係るパッケージ本体5の凹部17に圧電振動片3を取り付けた状態を示す平面図である。
図2に示すように、圧電振動片3は、水晶やタンタル酸リチウム、ニオブ酸リチウム等の圧電材料から形成された振動片であり、所定の電圧が印加されたときに振動するものである。なお、以下の説明では、圧電材料として水晶を例に挙げて説明する。また、圧電振動子1の長手方向L、幅方向Wおよび厚み方向Tは、圧電振動片3の長手方向、幅方向および厚み方向と一致している。したがって、以下の説明では、圧電振動片3の長手方向、幅方向および厚み方向の各方向について、圧電振動子1の長手方向L、幅方向Wおよび厚み方向Tの各方向と同一の符号を付して説明する。
また、他方の振動腕部32には、第一溝部38および第二溝部39が形成されている。第一溝部38および第二溝部39は、他方の振動腕部32の両主面上において、厚み方向Tに凹むとともに、長手方向Lに沿って延在されている。第一溝部38および第二溝部39は、他方の振動腕部32の基端32bから、先端32a側の幅が拡大される部分に至る間に形成されている。
図3に示すように、振動腕部31は、第一主面41と、第一主面41と反対側に設けられた第二主面42と、第一主面41と第二主面42とを接続する第一側面43および第二側面44と、を備えている。第一主面41には、第一溝部36が形成されている。第二主面42には、第二溝部37が形成されている。よって、振動腕部31は断面H型に形成されている。
第一溝部36は、アスペクト比が0.7以上に設定された高アスペクト比の溝である。アスペクト比とは(溝深さ寸法D1/開口36aの溝幅寸法)である。第一溝部36は、第一主面41から溝底部55までの溝深さ寸法がD1に形成されている。
第一溝部36のアスペクト比を、0.7以上の高アスペクト比に設定した理由について後で詳しく説明する。
第一溝部36に溝幅寸法W1の溝底部55が形成されることにより、第一側壁部51が第一側面43に沿って平行に延ばされる。以下、第一側壁部51を第一平行部51という。
第一溝部36に溝幅寸法W1の溝底部55が形成されることにより、第二側壁部52が第二側面44に沿って平行に延ばされる。以下、第二側壁部52を第二平行部52という。
第一平行部51の深さ寸法D2は、例えば、第一溝部36の溝深さ寸法D1の75%以上に設定されている。また、第二平行部52の深さ寸法D3は、例えば、第一溝部36の溝深さ寸法D1の75%以上に設定されている。
また、第一肉厚の厚さ寸法T1と、第二肉厚の厚さ寸法T2とは、同じ寸法に形成されている。
振動腕部31の第1励振電極57と第2励振電極58とは互いに電気的に絶縁された状態でパターニングされている。第1励振電極57と第2励振電極58に電位をかけることにより、第一溝部36の第一平行部51から第一側面43に電界が生じ、第一溝部36の第二平行部52から第二側面44に電界が生じる。
振動腕部31は、一定の方向に電界が生じると一定の方向に伸縮する特性(電歪特性と称する。)を有する。これにより、電歪特性により振動腕部31を歪ませて振動を発生させて、一対の振動腕部31,32を幅方向Wに振動させることができる。
これにより、第1励振電極57と第2励振電極58との間にかかる電界は一定になり、振動腕部31は安定した振動が得られる。
これにより、圧電振動片3の発振および周波数を安定させることができる。
よって、第一平行部51および第二平行部52を溝底部55に直接連結する場合と比べて、第一平行部51の基端51aと、第二平行部52の基端52aとに応力が集中することを抑えることができる。
これにより、振動腕部31(すなわち、圧電振動片3)の耐衝撃性を高めることができる。
なお、図5、図6の圧電振動片3の製造方法において、一対の振動腕部31,32は同様に製造される。よって、圧電振動片3の製造方法の理解を容易にするために、一対の振動腕部31,32のうち一方の振動腕部31について詳しく説明して、他方の振動腕部32の詳しい説明を省略する。
図5(a)のマスキング工程において、圧電材料からなる基板61の表面61aと裏面61bとにCr(クロム)でマスキング処理を施してエッチング保護膜63を成膜する。以下、Crでマスキング処理が施されたエッチング保護膜63をCrマスク63という。
Crマスク63、およびCrマスク63とCrマスク63との間の基板61にAu(金)のマスキング処理を施してエッチング保護膜64を成膜する。以下、Auでマスキング処理が施されたエッチング保護膜64をAuマスク64という。
例えば、一対の振動腕部31,32を四フッ化炭素などのフッ素系ガスを用いてドライエッチングをおこなう。
これにより、第一平行部51は途中まで、一方の振動腕部31の第一側面43に沿って平行に加工される。また、第二平行部52は途中まで、一方の振動腕部31の第二側面44に沿って平行に加工される。
これにより、第一平行部51は途中まで、一方の振動腕部31の第一側面43に沿って平行に加工される。また、第二平行部52は途中まで、一方の振動腕部31の第二側面44に沿って平行に加工される。
第一溝部36および第二溝部37は、一例として、ドライエッチングにより、溝深さ寸法D1(図3参照)の70%の深さまで加工される。
ウエットエッチングにより、第一溝部36の第一平行部51および第二平行部52のうち残りの部位を形成する。さらに、ウエットエッチングにより、第一傾斜部53と、第二傾斜部54と、溝底部55とを加工して第一溝部36を形成する。
これにより、第一平行部51のうち残りの部位を、ウエットエッチングにより、第一側面43に沿って平行に形成できる。また、第二平行部52のうち残りの部位を、ウエットエッチングにより、第二側面44に沿って平行に形成できる。
これにより、第一平行部51のうち残りの部位を、ウエットエッチングにより、第一側面43に沿って平行に形成できる。また、第二平行部52のうち残りの部位を、ウエットエッチングにより、第二側面44に沿って平行に形成できる。
このように、途中の深さまで加工した第一溝部36および第二溝部37をウエットエッチングにより加工することにより、第一溝部36および第二溝部37の溝深さ寸法D1の管理がドライエッチングに比べて容易になる。
第一傾斜部53と第二傾斜部54との幅寸法について説明する。
第二傾斜部54の幅寸法とは、第二傾斜部54の上端(すなわち、第二側壁部52の基端52a)から第二傾斜部54の下端(すなわち、溝底部55の他方の側辺55b)間において溝底部55に沿った溝幅方向の寸法である。
第一傾斜部53と第二傾斜部54との幅寸法を同一にすることにより、第一傾斜部53と第二傾斜部54との形状も近似する。第一平行部51は、第一傾斜部53までの肉厚が均等な厚さ寸法T1に形成されている。第二平行部52は、第二傾斜部54までの肉厚が均等な厚さ寸法T2に形成されている。
これにより、圧電振動片3の製造方法により、圧電振動片3の一方の振動腕部31に第一溝部36および第二溝部37を形成できる。
同様に、圧電振動片3の他方の振動腕部32に第一溝部38および第二溝部39を形成できる。
アスペクト比が0.7以上の高アスペクト比の第一溝部36、第二溝部37などを、ドライエッチングとウエットエッチングとを組み合わせて加工する理由を図3も参照にして説明する。
このため、第一平行部51と溝底部55との連結部や、第二平行部52と溝底部55との連結部に応力が集中し、耐衝撃性を確保する工夫が要求される。
さらに、溝部をドライエッチングのみで加工する場合、溝部の深さ寸法の管理が難しい。
これにより、アスペクト比が0.7以上の高アスペクト比の溝部に、第一平行部51や第二平行部52を形成でき、圧電振動片3の発振および周波数を安定させることができる。これにより、例えば、振動腕部の幅寸法を60μm以下とすることが可能となり、小型の圧電振動片を得ることができる。
また、第一傾斜部53や第二傾斜部54を形成でき、振動腕部31(すなわち、圧電振動片3)の耐衝撃性を高めることができる。さらに、第一溝部36および第二溝部37の溝深さ寸法D1の管理がドライエッチングに比べて容易になる。
例えば、前記実施形態では、いわゆるサイドアーム型の圧電振動片3について説明したが、これに限らない。その他の例として、いわゆるセンタアーム型の圧電振動片に本発明を適用することも可能である。さらに、圧電振動片の基部をパッケージに接合する型の圧電振動片に本発明を適用することも可能である。
この場合、溝部の幅寸法はさらに小さくなり、溝部のアスペクト比は一層高くなる。一例として、各溝部のアスペクト比は4以上と高くなる。アスペクト比が4以上の溝部でも、ドライエッチングの後にウエットエッチングで加工することが可能になり、実施形態の製造方法をより効果的に用いることができる。
振動腕部31の第一主面41に溝部を2本に形成することにより、Q値の低下を抑制しながら、CI値の低い圧電振動片を提供できる。
2………パッケージ
3………圧電振動片
31,32…一対の振動腕部
33,34…一対の支持腕部
35……基部
36,38……第一溝部(溝部)
37,39……第二溝部(溝部)
41……第一主面(主面)
42……第二主面(主面)
43……第一側面(側面)
44……第二側面(側面)
51……第一平行部(平行部)
52……第二平行部(平行部)
51a,52a…端部(平行部の端部)
53……第一傾斜部(傾斜部)
54……第二傾斜部(傾斜部)
55……溝底部
55a…溝底部の一方の側辺
55b…溝底部の他方の側辺
61……基板
D1……溝深さ寸法
W1……溝深さ寸法
Claims (2)
- 圧電材料からなる基板から、振動腕部を有する圧電振動片を分離する圧電振動片の製造方法であって、
前記圧電振動片の外形をドライエッチングにより加工して、前記基板から前記振動腕部を分離する分離加工工程と、
前記振動腕部の主面に開口する溝部をドライエッチングにより途中の深さまで加工する第一溝加工工程と、
前記途中の深さまで加工した溝部を、ウエットエッチングにより加工して前記溝部を形成する第二溝加工工程と、を備え、
前記溝部は、
前記主面の幅方向に所定の溝幅寸法に形成された溝底部と、
前記溝底部の側辺から開口側に向けて前記溝部の側壁部まで傾斜状に延びる傾斜部と、を有することを特徴とする圧電振動片の製造方法。 - 前記溝部は前記主面の幅方向における開口幅寸法に対する溝深さ寸法のアスペクト比が0.7以上に設定されていることを特徴とする請求項1に記載の圧電振動片の製造方法。
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